NO851213L - Fremgangsmaate til fremstilling av silisiumtetrafluorid. - Google Patents
Fremgangsmaate til fremstilling av silisiumtetrafluorid.Info
- Publication number
- NO851213L NO851213L NO851213A NO851213A NO851213L NO 851213 L NO851213 L NO 851213L NO 851213 A NO851213 A NO 851213A NO 851213 A NO851213 A NO 851213A NO 851213 L NO851213 L NO 851213L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- silicon
- fluoride
- silicon tetrafluoride
- fluorine
- acid
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 16
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Inorganic materials [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N [F].[Si] Chemical compound [F].[Si] VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Inorganic materials [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000004761 hexafluorosilicates Chemical class 0.000 description 9
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 9
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 hexafluorosilicic acid Chemical compound 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 5
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- JTDPJYXDDYUJBS-UHFFFAOYSA-N quinoline-2-carbohydrazide Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)NN)=CC=C21 JTDPJYXDDYUJBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 4
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000209 wet digestion Methods 0.000 description 3
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 210000004127 vitreous body Anatomy 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910021652 non-ferrous alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001766 physiological effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10B—DESTRUCTIVE DISTILLATION OF CARBONACEOUS MATERIALS FOR PRODUCTION OF GAS, COKE, TAR, OR SIMILAR MATERIALS
- C10B33/00—Discharging devices; Coke guides
- C10B33/08—Pushers, e.g. rams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10705—Tetrafluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
Oppfinnelsen angår en fremgangsmåte til fremstilling av rent silisiumtetrafluorid av silisiumfluorholdige gasser slik de for eksempel opptrer ved våt oppslutning av råfosfater eller ved beising av glasslegemer med en blanding av flussyre og svovelsyre. Disse gasser inneholder overveiende silisiumtetraf luorid, eventuelt inneholder de også heksafluorsiloksan, fluorkiselsyrer og hydrogenfluorid.
Silisiumtetraf luorid (SiF^). finner mangfoldig anvendelse.
Den tjener for eksempel til behandling av tørkede betong-deler ned avgjørende forbedring av deres vanntetthet og mot-standsdyktighet overfor korrosjon og abrasjon (G. Roederer, Chim.Ind. (Paris) 84, 912-924, 1960).
Den finner også anvendelse til forøkelse av krystallinske molekylsikters hydrofobe karakter (europeisk patentsøknad nr. 83107533.8).
Den tjener til fremstilling av høydispergert kiselsyre
og hydrogenfluorid (US-patent 3 96 9 485, tysk off.skrift 2132426, tysk off.skrift 2132428, tysk off.skrift 2132429).
Den egner seg til fremstilling av ortokiselsyreestere
(tysk patent 2609767) .
Det kan utvinnes silisium med meget høy renhet fra den (tysk off.skrift 3206766, A. Sanjurjo et al, J. Electrochem. Soc. 128 (1981) 179-184).
Den egner seg videre til utvinning av amorft silisium
for fotoelektriske celler (sml. for eksempel Makoto Konagai et al, Appl.Phys. Lett. 36 (1980) 599 og A. Madan, S.R. Ovshins-ky, E. Benn, Phil.Mag. B 40,-259 (1979).
Den tjener videre til utvinning av silan (D.K. Padma et
al, J. Fluorine Chem. 1979, 14(4), 327-9, tysk patent 1034159, tysk patent 1080077, US-patent 2 933 374).
Den egner seg også som etsemiddel for silisiumholdige materialer i halvlederindustrien (US-patent 4 264 409).
Det er allerede kjent (Proe.-Fert.Soc. (PFRSAZ) V 163, 1977). å fremstille silisiumtetraf luorid av avgasser som frem-kommer ved våt oppslutning av råfosfater, idet disse hydrolyseres og omsettes til oppløsning av utfelt ... kiselsyre med hydrogenf ]iio rid-holdige avgasser til en ca. 20%-ig heksafluor-kiselsyreoppløsning. Denne spaltes ved 100-110°C i reaktorer av nikkellegeringer med konsentrert svovelsyre under dan- neise av silisiumtetrafluorid, som er flyktig under disse betingelser. Heksafluorkiselsyreløsningens oppgave kan foregå inntil konsentrasjonen av svovelsyre er sunket til 70-75%.
Store materialproblemer i betraktning av syreblandinge-nes korrosivitet ved den nødvendige høye reaksjonstemperatur og dannelsen av store mengder avfallssvovelsyre som er forurenset med fluorforbindelser, er en ulempe ved anvendelsen av denne fremgangsmåte.
Det er en oppgave ved oppfinnelsen å tilveiebringe en fremgangsmåte til fremstilling av rent silisiumtetrafluorid uten at det samtidig resulterer i biprodukter som neppe er anvendbare.
Til grunn for oppfinnelsen ligger den erkjennelse at denne oppgave kan løses ved at det ved omsetning av et hydrolysat som er oppnådd ved hydrolyse av silisiumfluorholdige gasser, med natrium-, kalium- eller bariumfluorid, oppnås et eneste produkt, nemlig et tilsvarende alkali- eller jordalkali-heksafluorsilikat, skjønt hydrolysatet inneholder komplekse forbindelser. Heksafluorsilikatet kan deretter på enkel måte viderebearbeides til rent silisiumtetrafluorid.
Gjenstanden for oppfinnelsen er en fremgangsmåte til fremstilling av silisiumtetrafluorid, som erkarakterisertved at silisiumfluorholdige gasser hydrolyseres, hydrolysatet omsettes med natrium-, kalium- eller bariumfluorid og det oppnådde reaksjonsprodukt spaltes termisk under dannelse av silisiumtetrafluoridet.
Det er spesielt fordelaktig at det metallfluorid som likeså er et resultat av den termiske spaltning, kan tilbake-føres i kretsen.
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen kan illustreres ved hjelp av de nedenstående ligninger.
M<1>= Na, K
M<11>= Ba
x = 0,5-2
Ifølge ligning (1) skjer hydrolysen med vann. Systemet heksafluorkiselsyre (H2SiFg). og hydratisert kiselsyre (Si02 ) står i likevekt med enkjernede komplekser med den generelle formel ExSiF4+x, hvorved x oppnår verdier på fra ca. 0,5 til maksimalt 2, avhengig av totalkonsentrasjonen av heksafluor-kiselsyren. Således er forhdldet for eksempel for 30%-ig H2SiF5: x = 1,1 (sml. Ullmann 4. oppi., bd. 11, s.614)..
For øyeblikket er det riktiknok ennå uklart i hvilken grad
enda andre ligander enn F, såsom f.eks. OH eller OE2, er ko-ordinert i de enkjernede komplekser.
Det er nå blitt funnet at ved omrøring av denne suspensjon av kiselsyregel i fluorkiselsyrer med natrium-, kalium-eller bariumfluorid forskyves likevekten igjen fullstendig til de tilsvarende heksafluorsilikaters side, og disse faller ut som tungtløselige forbindelser, hvorved fluoridene fortrinnsvis anvendes i støkiometriske mengder ifølge ligning (2).
Med heksafluorsilikatet dannes det en enkelt ..defi-
nert silisium-fluor-forbindelse. Heksafluorsilikatet fraskilles, tørkes og spaltes deretter termisk, hvorved det oppnås rent silisiumtetrafluorid og det innførte metallfluorid til-bakevinnes, idet sistnevnte kan tilbakeføres i prosessen.
Utførelsen av fremgangsmåten belyses nærmere ved hjelp
av det flytskjema som er vist på tegningen.
Den silisiumfluorholdige gass hydrolyseres i avgassvaske-innretninger med vann. Den silisiumf luorholdige .gass1 opprinnelse er i og for seg likegyldig. Gassenes Si/F-forhold skal fortrinnsvis ligge mellom 1/4 og 1/5 foråt flussyrekonsentrasjonen i hydrolysatet ikke skal kunne stige for mye. I avgasser fra syrepoleringer, hvor glasslegemer beises med en blanding av flussyre og svovelsyre, kan verdiene av fluorinnholdet nå
fra 50 g/Nm 3 , eventuelt opp til 100 g/Nm 3> Si/F-forholdet ligger i det ønskede område. I anlegg for våt oppslutning av råfosfater er fluor-andelen i avgassen avhengig av den
anvendte råfosfatkvalitet. Som rettesnor kan det angis ca.
20 g fluor pr. Nm 3. Silisium-andelen er på samme måte, avhengig av den anvendte råfosfatkvalitet, hyppig mindre enn 1/4 eller 1/5 av mengden fluor i gramatomer. Hensiktsmessig til-settes det så kvarts- eller kiselsyreholdig materiale til oppslutningsmaterialet.
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen kan anvendes med silisiumtetrafluorid-kvaliteter av en hver konsentrasjon og følgelig anvendes ved høye konsentrasjoner som "rensnings-fremgangsmåte".
Det oppnådde hydrylosat omrøres kraftig i korrosjons-motstandsdyktige rørekjeier med den støkiometriske mengde av
metallfluorid som kommer ut av reaktoren for termisk spaltning av heksafluorsilikat, fortrinnsvis i 1/2 - 4 timer. Metall-fluoridet kan herved anvendes i pulverform, i oppløsning eller spesielt fordelaktig som suspensjon. Det heksafluorsilikat
som oppnås i rørekjelen, fraskilles og tørkes. Det filtrat man får ved fraskillelsen og den avluft som er et resultat av tørkingen, kan tilbakeføres i avgassvaskeren. Herved oppnås det ved anvendelse av natrium- og kaliumfluorid heksafluorsilikat-utbytter på over 90% og ved anvendelse av bariumfluorid utbytter på ca. 85%, basert på anvendt metallfluorid.
Renheten av de utvinnbare alkaliheksafluorsilikater er større enn 99%, og renheten av bariumheksafluorsilikatet ca. 90%. Alkaliheksafluorsilikatene er i det vesentlige forurenset med kiselsyre og vann, og bariumheksafluorsilikatet er i tillegg først og fremst forurenset med bariumfluorid.
De tørkede heksafluorsilikater spaltes, under oppretthol-delse av et tilsvarende undertrykk, termisk til silisiumtetrafluorid og metallfluorid. Dette trykk opprettholdes ved avpumping av det silisiumtetrafluorid som dannes. Herved har følgende spaltningsbetingelser vist seg å være riktige:
for Na2SiF6100 mbar ved 600°C,
for K2SiF6100 mbar ved 550°C,
for BaSiFc 6 100 mbar ved 500°C.
Felles kan det anvendes betingelser med 0,1-500 mbar og 400-800°C. Det erholdte silisiumtetrafluorid har i det minste en renhet på mer enn 90 vol%, fortrinnsvis 95 vol% og spesielt større enn 99 vol%, og dessuten avhenger renheten av det
*
erholdte silisiumtetrafluorid i det vesentlige av spaltnings-anleggets lekkasje-rate, hvorved det lett oppnås SiF4~kvaliteter med en renhet som er større enn 99 vol%. Forurensningene er i det vesentlige luft og spor av heksafluorsiloksan, hydrogenf luorid og svoveldioksyd. Det metallfluorid som erholdes ved den termiske spaltning, tilbakeføres igjen i prosessen og doseres i hydrolysatet av de silisiumfluor-holdige avgasser i rørekjelen.
De spesielle fordeler ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen ligger i dens økonomiske fordel og miljøvennlignet. Fremgangsmåten er økonomisk fordi den går ut fra praktisk talt verdiløse avgassvaskevæsker som fås i meget store mengder og som av miljøvern-årsaker ikke i noe tilfelle bør ledes ut i kloakken.
Hele fremgangsmåten kan utføres i i og for seg kjente
og driftsmessig prøvede anlegg. Reaktorer av dyre ikkejern-legeringer er ikke nødvendig.
Fremgangsmåten er miljøvennlig fordi den muliggjør utvinning av rent silisiumtetrafluorid av avgasser, hvorved alle de hjelpestoffer som er nødvendige for utvinningen, ledes i en kretsprosess. Substanser som ville måtte bortskaffes, erholdes ikke, hvilket er av spesiell fordel ved den fysiolo-giske virksomhet av fluorforbindelser.
Oppfinnelsen vil nå bli belyst nærmere ved det etterføl-gende eksempel.
Eksempel
Avgasser fra et syrepoleringsanlegg hvor.glasslegemer beises med en blanding av flussyre og svovelsyre, ble hydroly-sert i en virvelvasker. 800 1 av dette hydrolysat, en suspensjon av geléaktig kiselsyre i fluorkiselsyrer med et totalt innhold på 94,68 g F pr. liter og 33,34 g Si pr. liter ble overført til en rørebeholder, tilsatt 80 kg malt natriumfluorid, omrørt kraftig i 2 timer og frafiltrert. Filtratet ble tilbakeledet til avgassvaskeren og filterkaken kjørt gjennom et virvelsjikts-tørkeanlegg. Det ble erholdt 169 kg pulver-formig natriumheksafluorsilikat i et utbytte på 94% av det teo-retiske, basert på anvendt natriumfluorid, og med et innhold på 99,5% natriumheksafluorsilikat. Avluften fra tørkeanlegget ble ledet inn i virvelvaskeren. 40 kg av det erholdte natriumheksafluorsilikat ble fylt i en brannmotstandsdyktig stål-trommel og termisk, spaltet i løpet av 2 timer ved 620°C og et trykk på under 200 mbar, som ble opprettholdt ved avpumping, til natriumfluorid og SiF4-
Det ble erholdt 21,7 kg SiF4, det vil si 98% av det teo-retiske, basert på anvendt natriumheksafluorsilikat, med et innhold på 99 vol%. Av forurensninger ble det funnet:
Claims (2)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av silisiumtetrafluorid,karakterisert vedat silisiumfluorholdige gasser hydrolyseres, hydrolysatet omsettes med natrium-, kalium-eller bariumfluorid,og det erholdte reaksjonsprodukt spaltes termisk under dannelse av silisiumtetrafluoridet.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1,karakterisertved at det metallfluorid.som er et resultat av den termiske spaltning, tilbakeføres i kretsen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3432678A DE3432678C2 (de) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrafluorid |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO851213L true NO851213L (no) | 1986-03-06 |
Family
ID=6244730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO851213A NO851213L (no) | 1984-09-05 | 1985-03-26 | Fremgangsmaate til fremstilling av silisiumtetrafluorid. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4615872A (no) |
EP (1) | EP0173793A3 (no) |
JP (1) | JPS6168315A (no) |
KR (1) | KR860002419A (no) |
CA (1) | CA1220322A (no) |
DD (1) | DD236511A5 (no) |
DE (1) | DE3432678C2 (no) |
DK (1) | DK133585A (no) |
ES (1) | ES8606828A1 (no) |
FI (1) | FI75330C (no) |
IN (1) | IN162367B (no) |
NO (1) | NO851213L (no) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8614539D0 (en) * | 1986-06-14 | 1986-07-23 | Renishaw Plc | Coordinate positioning apparatus |
US5165534A (en) * | 1989-11-13 | 1992-11-24 | Lauren Kaufman | Packaging cases incorporating elevating mechanism for displaying contents |
US5242670A (en) * | 1992-07-02 | 1993-09-07 | Gehringer Ronald C | Method for hydrofluoric acid digestion of silica/alumina matrix material for the production of silicon tetrafluoride, aluminum fluoride and other residual metal fluorides and oxides |
US5901338A (en) * | 1998-06-05 | 1999-05-04 | Starmet Corporation | Method for producing uranium oxide and silicon tetrafluoride from uranium tetrafluoride, silicon, and a gaseous oxide |
US5918106A (en) * | 1998-06-05 | 1999-06-29 | Starmet Corp. | Method for producing uranium oxide and a non-radioactive fluorine compound from uranium tetrafluoride and a solid oxide compound |
US5888468A (en) * | 1998-06-05 | 1999-03-30 | Starmet Corp. | Method for producing silicon tetrafluoride from uranium tetrafluoride |
US6096281A (en) * | 1999-03-29 | 2000-08-01 | Starmet Corporation | Method for producing uranium oxide from uranium oxyfluoride |
US6033642A (en) * | 1999-03-29 | 2000-03-07 | Starmet Corporation | Method for producing silicon tetrafluoride from uranium oxyfluoride |
US6086836A (en) * | 1999-03-29 | 2000-07-11 | Starmet Corporation | Method for producing uranium oxide from uranium oxyfluoride and silicon |
JP3909385B2 (ja) * | 2001-07-12 | 2007-04-25 | 昭和電工株式会社 | テトラフルオロシランの製造方法およびその用途 |
US7666379B2 (en) * | 2001-07-16 | 2010-02-23 | Voltaix, Inc. | Process and apparatus for removing Bronsted acid impurities in binary halides |
JP4014451B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2007-11-28 | セントラル硝子株式会社 | 四フッ化珪素の製造法 |
TW200512159A (en) * | 2003-09-25 | 2005-04-01 | Showa Denko Kk | Method for producing tetrafluorosilane |
US20110101273A1 (en) * | 2005-09-16 | 2011-05-05 | Robert Rewick | Process and Composition for Making Rare Earth Doped Particles and Methods of Using Them |
KR100831060B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-05-20 | 대일개발 주식회사 | 실리콘이 함유된 반도체 에칭 폐액의 재생방법 |
US8709370B2 (en) * | 2008-08-28 | 2014-04-29 | Sri International | Method and system for producing fluoride gas and fluorine-doped glass or ceramics |
KR20110110196A (ko) * | 2008-12-17 | 2011-10-06 | 엠이엠씨 일렉트로닉 머티리얼즈, 인크. | 유동층 반응기에서 불화규산염으로부터 사불화규소를 제조하기 위한 방법 및 시스템 |
RU2549415C2 (ru) * | 2012-12-05 | 2015-04-27 | Открытое акционерное общество "Ведущий научно-исследовательский институт химической технологии" (ОАО "ВНИИХТ") | Способ получения тетрафторида кремния и октаоксида триурана из тетрафторида урана |
DE102013104398A1 (de) * | 2013-04-30 | 2014-10-30 | Spawnt Private S.À.R.L. | Verfahren zur Herstellung von Siliziumtetrafluorid |
CN114380304B (zh) * | 2022-01-21 | 2023-05-30 | 云南磷化集团有限公司 | 一种对氟硝基苯用原料氟化钾的短流程制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD67408A (no) * | ||||
US1247165A (en) * | 1917-03-17 | 1917-11-20 | Karl F Stahl | Method of making sodium silicofluorid. |
US2833628A (en) * | 1954-06-09 | 1958-05-06 | Grace W R & Co | Manufacture of silicon tetrafluoride |
US2933374A (en) * | 1955-03-29 | 1960-04-19 | Gen Electric | Process of treating fluorosilanes to form monosilane |
GB1254785A (en) * | 1968-03-28 | 1971-11-24 | Degussa | A process for the production of silicon tetrahalides |
US3674431A (en) * | 1970-07-01 | 1972-07-04 | Cities Service Co | Generation of silicon tetrafluoride |
US3969485A (en) * | 1971-10-28 | 1976-07-13 | Flemmert Goesta Lennart | Process for converting silicon-and-fluorine-containing waste gases into silicon dioxide and hydrogen fluoride |
US4262409A (en) * | 1978-04-24 | 1981-04-21 | Robroy Industries | Cable connector |
US4282196A (en) * | 1979-10-12 | 1981-08-04 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of preparing optical fibers of silica |
-
1984
- 1984-09-05 DE DE3432678A patent/DE3432678C2/de not_active Expired
-
1985
- 1985-03-20 EP EP85103264A patent/EP0173793A3/de not_active Withdrawn
- 1985-03-25 DK DK133585A patent/DK133585A/da not_active Application Discontinuation
- 1985-03-26 FI FI851215A patent/FI75330C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-03-26 NO NO851213A patent/NO851213L/no unknown
- 1985-03-27 US US06/716,390 patent/US4615872A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-28 KR KR1019850002064A patent/KR860002419A/ko not_active Application Discontinuation
- 1985-04-04 IN IN256/CAL/85A patent/IN162367B/en unknown
- 1985-04-11 ES ES542159A patent/ES8606828A1/es not_active Expired
- 1985-04-15 DD DD85275177A patent/DD236511A5/de unknown
- 1985-05-29 CA CA000482735A patent/CA1220322A/en not_active Expired
- 1985-06-21 JP JP60134400A patent/JPS6168315A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES8606828A1 (es) | 1986-05-01 |
IN162367B (no) | 1988-05-14 |
DE3432678C2 (de) | 1986-11-20 |
EP0173793A2 (de) | 1986-03-12 |
FI851215A0 (fi) | 1985-03-26 |
KR860002419A (ko) | 1986-04-26 |
US4615872A (en) | 1986-10-07 |
DK133585D0 (da) | 1985-03-25 |
ES542159A0 (es) | 1986-05-01 |
DD236511A5 (de) | 1986-06-11 |
FI75330B (fi) | 1988-02-29 |
FI75330C (fi) | 1988-06-09 |
DK133585A (da) | 1986-03-06 |
FI851215L (fi) | 1986-03-06 |
JPS6168315A (ja) | 1986-04-08 |
CA1220322A (en) | 1987-04-14 |
EP0173793A3 (de) | 1989-03-22 |
DE3432678A1 (de) | 1986-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO851213L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av silisiumtetrafluorid. | |
US5266289A (en) | Process for producing high-purity silica by reacting crude silica with ammonium fluoride | |
CN104843712B (zh) | 一种工业氟硅酸的提纯并联产白炭黑的方法 | |
CA1308232C (en) | Method for the continuous chemical reduction and removal of mineral matter contained in carbon structures | |
US5180569A (en) | Process for the production of phosphoric acid and hydrogen fluoride from phosphate rock and fluosilicic acid | |
CA2633073A1 (en) | Extraction and purification of minerals from aluminium ores | |
EP0094139A1 (en) | Process for the preparation of pure silicon dioxide | |
US6217840B1 (en) | Production of fumed silica | |
WO2009129458A2 (en) | Silicon production process | |
US3840639A (en) | Method for the production of fluoride-free potassium phosphates | |
CN1234596C (zh) | 以氟硅酸钠为原料制取氟化合物和二氧化硅的生产方法 | |
GB2178021A (en) | Preparation of calcium fluosilicate for use in obtaining calcium fluoride and pure fluosilicic acid | |
JP3264677B2 (ja) | フッ化水素の製造方法 | |
US3021194A (en) | Production of ammonium hydrogen fluoride | |
US4067957A (en) | Process for producing hydrogen fluoride from an aqueous hydrofluorosilicic acid solution | |
US2886414A (en) | Process for producing finely-divided silica | |
US3689216A (en) | Production of hydrogen fluoride from fluosilicic acid | |
US3755532A (en) | Method of making naf or naf/aif3involving the reaction of sodium sulfate with fluosilicic acid | |
EP0460524B1 (en) | Process for preparing hydrogen fluoride | |
JPH0692247B2 (ja) | 珪弗化マグネシウムの製造方法 | |
US3021193A (en) | Production of sodium fluoride | |
US4830842A (en) | Preparation of pure boron trifluoride | |
US3486845A (en) | Beneficiation of cryolite material | |
CN85102344A (zh) | 生产四氟化硅的方法 | |
US3704092A (en) | Manufacture of naf/aif3 double salt |