ES2261991T3 - Dispersion fotosensible de viscosidad ajustable para el deposito de un metal sobre un sustrato aislante y su utilizacion. - Google Patents

Dispersion fotosensible de viscosidad ajustable para el deposito de un metal sobre un sustrato aislante y su utilizacion.

Info

Publication number
ES2261991T3
ES2261991T3 ES03782026T ES03782026T ES2261991T3 ES 2261991 T3 ES2261991 T3 ES 2261991T3 ES 03782026 T ES03782026 T ES 03782026T ES 03782026 T ES03782026 T ES 03782026T ES 2261991 T3 ES2261991 T3 ES 2261991T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
dispersion according
dispersion
concentration
mixture
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES03782026T
Other languages
English (en)
Inventor
Olivier Dupuis
Mary-Helene Delvaux
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semika SA
Original Assignee
Semika SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semika SA filed Critical Semika SA
Application granted granted Critical
Publication of ES2261991T3 publication Critical patent/ES2261991T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/14Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation or by mixed irradiation sources
    • C23C18/143Radiation by light, e.g. photolysis or pyrolysis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • C25D5/56Electroplating of non-metallic surfaces of plastics

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)

Abstract

Dispersión fotosensible con viscosidad ajustable para el depósito de un metal sobre un substrato aislante, caracterizado porque comprende, en combinación, un pigmento que confiere propiedades de oxidoreducción bajo la irradiación luminosa, una sal metálica, un formador de complejo para la sal metálica, una formulación de polímero filmógeno líquido, un compuesto básico, un disolvente orgánico y agua.

Description

Dispersión fotosensible de viscosidad ajustable para el depósito de un metal sobre un sustrato aislante y su utilización.
La presente invención se refiere a una dispersión fotosensible con viscosidad ajustable para el depósito de un metal sobre un sustrato aislante y se refiere también a su utilización.
La patente EP 0 687 311 de la propia solicitante se refiere a una resina de polímero con viscosidad y pH ajustables para el depósito de paladio catalítico sobre un sustrato, que comprende, en combinación, una sal de paladio, un formador de complejo de tipo de ácido carboxílico o cloruro, un polímero que contiene grupos hidróxilo y/o carbóxilo soluble en agua, un compuesto básico y un disolvente escogido entre agua, metanol y etanol, cuyo valor de pH está comprendido entre 1 y 10, haciendo referencia también a sus aplicaciones para el depósito de paladio catalítico sobre la superficie de un sustrato y para la metalización de estas superficies. Si bien este tipo de resina de polímero al paladio se ha mostrado ventajosa en un gran número de aplicaciones de metalización de sustratos de polímeros y otros, esencialmente la razón de su estabilidad a lo largo del tiempo y de la capacidad de ajuste de su viscosidad y pH, presenta, no obstante, un cierto número de inconvenientes, entre los cuales se pueden citar la utilización forzada de paladio que es un metal noble, costoso y extremadamente fluctuable en el mercado y el paso obligatorio por un baño autocatalítico (electroless) para la metalización del sustrato no conductor, e igualmente por el hecho de que la fotosensibilidad de la resina se reduce a una gama de longitudes de onda estrecha, comprendida entre 190 y 300 nm, limitando así fuertemente el tipo de aplicaciones previsibles y la fuente de radiación utilizable a este respecto.
Uno de los objetivos esenciales de la presente invención consiste, por consiguiente, en solucionar los inconvenientes antes citados y en presentar una dispersión fotosensible con viscosidad ajustable que no requiere de manera forzada la utilización de un metal noble tal como el paladio, y recurriendo igualmente a otros metales más comunes y menos costosos, y cuya fotosensibilidad está ampliada a una gama de longitudes de onda entre 190 y 450 nm, y requiriendo una irradiación de energía mucho más reducida que las resinas de polímeros conocidas hasta el momento, inferior a 100 mJ/cm^{2} y que no requiere el paso forzoso por un baño autocatalítico para la metalización del sustrato, permitiendo por lo tanto una metalización electrolítica directa.
A estos efectos, según la invención, la dispersión fotosensible comprende, en combinación, un pigmento que confiere características de oxidorreducción bajo la acción de la irradiación luminosa, una sal metálica, un formador de complejo para la sal metálica, una formulación de polímero filmógena líquida, un compuesto básico, un disolvente orgánico y agua.
Según una forma de realización ventajosa de la invención, el pigmento es dióxido de titanio y se encuentra en forma de un polvo fino.
Según otra forma de realización ventajosa, la sal metálica es una sal de metal de transición y, en especial, es escogida dentro del grupo que comprende cobre, oro, platino, paladio, níquel, cobalto, plata, hierro, zinc, cadmio, rutenio y rodio, y preferentemente es el cloruro de cobre (II), el sulfato de cobre (II), el cloruro de paladio (II), el cloruro de níquel (II) o una mezcla de dos, como mínimo, de sus sales.
Asimismo, según otra forma de realización ventajosa de la invención, la formulación de polímero filmógeno líquido adopta forma de una solución o emulsión, y especialmente una solución de tipo alquílica, acrílica, poliéster o epoxi, una emulsión acrílica o una mezcla de éstas.
La presente invención se refiere igualmente a un procedimiento para el depósito de un metal sobre la superficie de un sustrato aislante, con ayuda de la dispersión fotosensible, que consiste en aplicar dicha dispersión en forma de una película sobre el sustrato, de manera selectiva o no, en secar la película aplicada sobre dicho sustrato e irradiar con ayuda de una radiación ultravioleta y/o láser de una gama de longitudes de onda comprendidas entre 190 y 450 nm y una energía comprendida entre 25 mJ/cm^{2} y 100 mJ/cm^{2} hasta la obtención de una capa de metal selectiva o no sobre el sustrato.
Otros detalles y particularidades de la invención se deducirán de la siguiente descripción, que tiene carácter de ejemplo no limitativo, de dispersiones fotosensibles según la invención y de sus aplicaciones para el depósito de un metal sobre la superficie de un sustrato aislante y así como para la metalización de estas superficies.
Tal como ya se ha precisado anteriormente, el objetivo de las dispersiones fotosensibles con viscosidad variable de la invención es el de sustituir las soluciones y resinas de polímeros al paladio conocidas en el momento, cuyos inconvenientes principales han sido indicados, y desarrollar dispersiones fotosensibles con viscosidad ajustable y de una capacidad de aplicación mucho más extensa que las resinas conocidas, comprendiendo, en combinación, un pigmento que confiere propiedades de oxidorreducción bajo irradiación luminosa, una sal metálica, un formador de complejo para la sal metálica, una formulación de polímero de tipo filmógeno líquido, un compuesto básico, un disolvente orgánico y agua.
Se comprenderá por la expresión "pigmento que confiere propiedades de oxidorreducción sin irradiación luminosa" cualquier pigmento capaz de formar en la superficie un sistema oxidorreductor bajo irradiación luminosa. En realidad, una partícula de pigmento es un semiconductor y cuando ésta está sometida a la radiación escogida, la energía de estas radiaciones permite la formación de una partícula de pigmentación oxidorreductora. Es de este modo que la partícula formada de esta manera puede efectuar simultáneamente las dos reacciones siguientes, es decir, la reducción de una especie catiónica adsorbida en la superficie y la oxidación de una especie iónica adsorbida en la superficie. Estos pigmentos son utilizados en forma de polvo finamente dividido, en general con una dimensión de partículas comprendida entre 10 nanómetros y 10 micrómetros, ventajosamente una dimensión de partículas de 15 nanómetros a 1 micrómetro. El dióxido de titanio es el pigmento más conveniente a estos efectos.
El metal de la sal metálica es ventajosamente un metal de transición y, más particularmente, cobre, oro, platino, paladio, níquel, cobalto, plata, hierro, zinc, cadmio, rutenio o rodio, o bien una mezcla de un mínimo de dos de éstos. Son sales metálicas particularmente ventajosas el cloruro de cobre (II), el sulfato de cobre (II), el cloruro de paladio (II), el cloruro de níquel (II) y mezclas de un mínimo de dos de sus sales.
Según la presente invención, se comprende por la expresión "formulación de polímero filmógeno líquido" que el polímero adopta forma de una solución o emulsión o cualquier compuesto análogo, y sirve en realidad de agente de regulación de la viscosidad de la dispersión fotosensible, de manera que se obtiene, de este modo, una película continua y homogénea en la superficie del sustrato con ayuda de diferentes medios de aplicación tales como pulverización, pintado, aplicación con rodillo, serigrafía, tempografía o análogo. Además, este polímero participa igualmente en la reacción de óxidorreducción. En realidad, el pigmento que se hace semiconductor bajo la irradiación luminosa reduce los cationes metálicos de la sal metálica pero, para que esta reacción sea eficaz, el pigmento debe igualmente oxidar otro compuesto, papel que es desempeñado en el caso presente por una película sólida, de la que todos los disolventes han sido evaporados en el secado después de la aplicación. De este modo, el pigmento reduce, por una parte, los cationes metálicos pero, por otra parte, oxida el sustrato, para las partículas de pigmento que se encuentran en contacto con éste, asegurando de este modo una buena adherencia, así como la matriz de polímero filmógeno para las partículas que no se encuentran en contacto con el sustrato, asegurando de esta manera una buena eficacia de la reacción de la película "sólida". Son ejemplos de formulaciones las soluciones de polímeros filmógenos de tipo alquílico, acrílico, poliéster y epoxi, y las emulsiones acrílicas tales como las habitualmente utilizadas en la preparación de alcalinos, detergentes, pinturas y tintas, y mezclas de estas soluciones y/o emulsiones.
El formador de complejo para sal metálica es ventajosamente del tipo de ácido carboxílico, cloruro o sulfato. Este formador de complejo, que se coordina a la sal metálica, tiene por objetivo solubilizar esta última. Son ejemplos de formadores de complejo del tipo de ácido carboxílico el ácido tártrico, ácido cítrico, sus derivados y las mezclas por lo menos de dos de estos compuestos.
El compuesto básico utilizado dentro del marco de la dispersión fotosensible sirve para neutralizar todos los ácidos presentes en el mismo y para regular el pH más allá de 7. El hidróxido potásico, hidróxido sódico, amoníaco y sus mezclas son ejemplos de bases utilizables. Se podría igualmente prever la utilización de una sal básica tal como carbonato sódico, carbonato potásico, carbonato cálcico y sus mezclas. Se puede prever igualmente mezclas de una base y una sal básica.
El disolvente orgánico y el agua tienen un papel importante en el marco de la dispersión fotosensible de la invención. El disolvente orgánico será escogido entre los éteres, ésteres, cetonas, alcoholes, sales o en mezcla. El papel de los disolventes orgánicos es múltiple. Aseguran esencialmente una buena adherencia de la película sobre el sustrato aislante y, de esta manera, un buen acoplamiento del pigmento sobre el sustrato, una buena formación de las películas, un secado rápido o incluso una buena dispersión de los diferentes componentes en la pintura catalítica. Los disolventes son utilizados ventajosamente en mezcla de forma que se dosifique la propiedad relativa a cada uno con respecto a su papel respectivo en el producto, para la formación de la película o sobre el sustrato. Son ejemplos de disolventes utilizados de forma aislada o en mezcla el dioxano, ciclohexanona, acetato de 2-metoxi-1-metiletilo, mezcla de isómeros de éter metílico de dipropilén glicol, mezclas de isómeros de éter metílico de dipropilén glicol, y mezclas de, como mínimo, dos de éstos. El agua es ventajosamente agua desionizada. La presencia del agua en cantidad reducida es igualmente importante. En efecto, ésta hace la dispersión fotosensible menos corrosiva que la mayor parte de las formulaciones de la técnica anterior y permite la facilidad de aplicación en todas circunstancias por su formulación próxima a la de una pintura. La presencia de disolventes orgánicos permite igualmente evitar los pre-tratamientos químicos y/o mecánicos de la superficie del sustrato y un mejor control de la temperatura de evaporación que en el caso de las soluciones acuosas que contienen una proporción mucho más importante de agua.
Como añadidos compatibles con la dispersión fotosensible de la invención, se añadirán ventajosamente, tal como ya se ha indicado anteriormente, un agente humectante y/o dispersante o mezcla de dichos agentes. El agente humectante es un agente modificador de la tensión superficial y tiene por objetivo reducir ésta formando una capa adsorbida que tiene una tensión superficial intermedia entre las fases de líquido/líquido o líquido/sólido. Son agentes humectantes interesantes los silanos, los ésteres de polímeros fluoroalifáticos o incluso los productos con elevado porcentaje de 2-butoxietanol. Son productos comerciales típicos el Dapro U99 fabricado por la sociedad Daniel Product y el Schwego-wett (marcas registradas). El agente dispersante es ventajosamente un dispersante para pigmento compatible con los polímeros acrílicos, poliésteres y epóxidos. Mejora la dispersión de las partículas sólidas de pigmento que se pueden encontrar presentes en la pintura catalítica. Son ejemplos de agentes dispersantes el Disperse-AYD W-33 (mezcla de agentes tensoactivos, no iónico y aniónico en solución en el agua) y el Deuteron ND 953 (solución acuosa de polialdehído carbonato de sodio) (marcas registradas), respectivamente fabricadas por las sociedades Elementis y Deuteron.
En lo que respecta a las concentraciones de los diferentes compuestos de la dispersión fotosensible o pintura catalítica de la invención, éstas dependerán de la naturaleza de los componentes y del disolvente utilizado. No obstante, se utilizará de manera general, de acuerdo con la invención, el pigmento y, más particularmente, el dióxido de titanio en una concentración, en porcentaje en peso, de 1 a 50%, y preferentemente de 5 a 25%, encontrándose la sal metálica en una concentración, en porcentaje en peso, de 0,01 al 5% y preferentemente de 0,05 a 1%, el formador de complejo en una concentración, en porcentaje en peso, de 0,01 al 10% y preferentemente de 0,1 a 1%, la solución y/o emulsión de polímero filmógeno en una concentración, en porcentaje en peso, de 1 a 50% y preferentemente de 5 a 25%, la base en una concentración, en porcentaje en peso, de 0,01 al 5% y preferentemente de 0,1 a 1%, el disolvente orgánico en una concentración, en porcentaje en peso, de 0,1 al 55% y preferentemente de 1 a 40%, y el agua en una concentración, en porcentaje en peso, de 1 al 15%. La concentración de agente humectante, en porcentaje en peso, es de 0,1 a 5% y preferentemente de 0,25 a 1,0%, y la concentración de agente dispersante, en porcentaje en peso, es de 0,1 a 15% y preferentemente de 0,2 a 2%.
La preparación de las dispersiones fotosensibles de la invención se hace según un simple proceso de mezcla de la totalidad de los diferentes componentes que contiene. El orden de adición de cada uno de esos componentes no tiene importancia y no tiene, por lo tanto, consecuencias sobre las características intrínsecas de la dispersión. En realidad, se mezclan todos los componentes que constituyen la dispersión fotosensible, es decir, el pigmento, la sal metálica, el formador de complejo, la formulación de polímero filmógeno líquido, el compuesto básico, el disolvente orgánico y el agua, así como los eventuales añadidos, y se aplica dicha dispersión en forma de una película sobre el substrato, de manera selectiva o no, en función de la aplicación prevista. A continuación, se seca la película aplicada sobre el sustrato y se irradia con ayuda de una radiación ultravioleta y/o láser de una gama de longitudes de onda comprendida entre 190 y 450 nm y de una energía comprendida entre 25 mJ/cm^{2} y 100 mJ/cm^{2}, hasta la obtención de una capa de metal, selectiva o no, sobre el sustrato.
Se indican a continuación ejemplos de dispersiones fotosensibles de la invención, así como sus técnicas de utilización.
Ejemplo 1 Pintura catalítica al paladio para la metalización, selectiva o no, de un sustrato de polímero
Composición de la dispersión Concentración en % en peso
Dióxido de titanio en polvo finamente dividido 5 a 25
Dioxano 10 a 30
Acetato de 2-metoxi-1-metiletileno 25 a 40
Mezcla de isómeros de éter metílico de dipropilén glicol 1 a 15
Disperso-AYD® W33 ^{1)} 0,2 a 2
Joncryl® 537 ^{2)} 5 a 25
Mezcla de isómeros de éter metílico de tripropilén glicol 1 a 5
Dapro® U99 ^{3)} 0,25 a 1
Cloruro de paladio (II) (sal metálica) 0,05 a 1
Ácido tártrico (formador de complejo) 0,1 a 1
Amoníaco (base) 0,1 a 1
Agua desionizada 1 a 15
1) \begin{minipage}[t]{155mm} Agente dispersante fabricado por la sociedad Elementis: mezcla de agentes tensoactivos no iónico y aniónico en el agua. \end{minipage}
2) \begin{minipage}[t]{155mm} Emulsión de polímero acrílico filmógeno, fabricado por la sociedad Johnson Polymer, marca registrada. \end{minipage}
3) \begin{minipage}[t]{155mm} Agente humectante fabricado por la sociedad Daniel Product: modificador de tensión interfacial sin silicona. \end{minipage}
\newpage
\global\parskip0.990000\baselineskip
La pintura o dispersión catalítica es aplicada sobre un substrato de polímero, sin ningún tratamiento previo a este último, por pintura, pulverización, aplicación con rodillo o tampografía, y a continuación se efectúa el secado con aire durante unos segundos. La película obtenida de este modo es irradiada con ayuda de lámparas UV, habitualmente utilizadas, y/o láser con un espectro comprendido entre 250 y 450 nm, el tiempo necesario para que la película reciba una energía mínima de 25 mJ/cm^{2}. Si se desea una metalización selectiva, esta irradiación se hará a través de una pantalla o máscara. Resulta de ello el depósito de una capa de paladio catalítico, selectivo o no. En el caso de una metalización selectiva, las partes no irradiadas son solubilizadas en agua. Una sobrecarga metálica por galvanoplastia resulta entonces posible, haciéndose conductor el substrato.
Ejemplo 2 Pintura catalítica al cobre para la metalización, selectiva o no, de un sustrato polímero
Composición de la dispersión Concentración en % en peso
Dióxido de titanio en polvo finamente dividido 5 a 25
Dioxano 10 a 30
Acetato de 2-metoxi-1-metiletileno 25 a 40
Mezcla de isómeros de éter metílico de dipropilén glicol 1 a 15
Disperso-AYD® W33 ^{1)} 0,2 a 2
Joncry® 537 ^{2)} 5 a 25
Mezcla de isómeros de éter metílico de tripropilén glicol 1 a 5
Dapro® U99 ^{3)} 0,25 a 1
Cloruro de paladio (II) (sal metálica) 0,05 a 1
Ácido cítrico (formador de complejo) 0,1 a 1
Amoníaco (base) 0,1 a 1
Agua desionizada 1 a 15
1) \begin{minipage}[t]{155mm} Agente dispersante fabricado por la sociedad Elementis: mezcla de agentes tensoactivos no iónico y aniónico en el agua. \end{minipage}
2) \begin{minipage}[t]{155mm} Emulsión de polímero acrílico filmógeno, fabricado por la sociedad Johnson Polymer, marca registrada. \end{minipage}
3) \begin{minipage}[t]{155mm} Agente humectante fabricado por la sociedad Daniel Product: modificador de tensión interfacial sin silicona. \end{minipage}
Se procede como en el Ejemplo 1. Resulta de ello el depósito de una capa de paladio catalítico, selectiva o no. En el caso de una metalización selectiva, las partes no irradiadas son solubilizadas en el agua. Resulta entonces posible una sobrecarga metálica por galvanoplastia.
En realidad, la sal metálica podría ser substituida en las concentraciones indicadas por todas las sales citadas específicamente, a saber, sulfato de cobre (II) y cloruros de paladio y níquel (II).
Los substratos sometidos a prueba en el marco de los ejemplos precitados son materias plásticas corrientes, tales como ABS, ABS-PC (policarbonato), ciertas poliamidas, materiales epoxi, policarbonatos y análogos.
Además de las ventajas claramente definidas de la dispersión fotosensible de la invención, en comparación con las resinas polímeras u otras formulaciones conocidas, se observará que la dispersión es una formulación extremadamente próxima a una pintura, lo que la hace fácilmente aplicable en cualquier circunstancia. Además, aparte del hecho de que no es necesario recurrir a un pretratamiento químico y/o mecánico del sustrato aislante para obtener una buena adherencia del depósito metálico final por la oxidación selectiva controlada de la superficie del substrato por el pigmento, la dispersión o pintura catalítica fotosensible de la invención no presenta ningún carácter corrosivo, al revés que las formulaciones de técnica anterior, todas las cuales son muy corrosivas.
Se deberá comprender que la presente invención no está limitada en modo alguno a las formas de realización descritas anteriormente, y que otras modificaciones pueden ser aportadas sin salir del marco de la presente patente.

Claims (24)

1. Dispersión fotosensible con viscosidad ajustable para el depósito de un metal sobre un substrato aislante, caracterizado porque comprende, en combinación, un pigmento que confiere propiedades de oxidoreducción bajo la irradiación luminosa, una sal metálica, un formador de complejo para la sal metálica, una formulación de polímero filmógeno líquido, un compuesto básico, un disolvente orgánico y agua.
2. Dispersión, según la reivindicación 1, caracterizada porque dicho pigmento es dióxido de titanio.
3. Dispersión, según la reivindicación 2, caracterizada porque el pigmento de óxido de titanio adopta forma de polvo con un tamaño de partículas comprendido entre 10 nanómetros y 10 micras, ventajosamente de 15 nanómetros a 1 micra.
4. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizada porque la sal metálica es una sal de un metal de transición.
5. Dispersión, según la reivindicación 4, caracterizada porque el metal de transición es escogido dentro del grupo que comprende cobre, oro, platino, paladio, níquel, cobalto, plata, hierro, zinc, cadmio, rutenio y rodio.
6. Dispersión, según la reivindicación 5, caracterizada porque la sal de metal de transición es escogida entre el cloruro de cobre (II), sulfato de cobre (II), cloruro de paladio (II), cloruro de níquel (II) y mezclas, como mínimo, de dos de éstos.
7. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizada porque el formador de complejo para la sal metálica es del tipo de ácido carboxílico, cloruro o sulfato.
8. Dispersión, según la reivindicación 7, caracterizada porque el formador de complejo del tipo de ácido carboxídico es ácido tártrico, ácido cítrico, un derivado de éstos o su mezcla.
9. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizada porque la formación de polímero filmógeno líquido es una solución o emulsión.
10. Dispersión, según la reivindicación 9, caracterizada porque comprende como formulación de polímero filmógeno, una solución de tipo alquilo, acrílico, poliéster o epoxi, una emulsión acrílica o una mezcla de éstas.
11. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizada porque el compuesto básico es una base, una sal básica o una mezcla de éstas.
12. Dispersión, según la reivindicación 11, caracterizada porque el compuesto básico es una base escogida entre hidróxido potásico, hidróxido sódico y amoníaco.
13. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, caracterizada porque el disolvente orgánico se escoge dentro del grupo que comprende éteres, ésteres, cetonas, alcoholes y sus mezclas.
14. Dispersión, según la reivindicación 13, caracterizada porque el disolvente orgánico es escogido entre dioxano, ciclohexanona, acetato de 2-metoxi-1-metiletilo, mezcla de isómeros de éter metílico de dipropilén glicol, mezcla de isómeros de éter metílico de tripropilén glicol, y mezclas, como mínimo, de dos de éstos.
15. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 14, caracterizada porque comprende agua desionizada.
16. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 15, caracterizada porque comprende, además, y como mínimo, un agente humectante, un agente dispersante o una mezcla de éstos.
17. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 2 a 16, caracterizada porque la concentración en dióxido de titanio, en porcentaje en peso, es de 1 a 50%, y preferentemente de 5 a 25%.
18. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17, caracterizada porque la concentración en sal metálica, en porcentaje en peso, es de 0,01 a 5%, y preferentemente de 0,05 a 1%.
19. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 18, caracterizada porque la concentración en producto formador de complejo, en porcentaje en peso, es de 0,01 a 10%, y preferentemente de 0,1 a 1%.
20. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 19, caracterizada porque la concentración en formulación de polímero filmógeno, en porcentaje en peso, es de 1 a 50%, y preferentemente de 5 a 25%.
\newpage
21. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 12 a 20, caracterizada porque la concentración de base, en porcentaje en peso, es de 0,01 a 5%, y preferentemente de 0,1 a 1%.
22. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 21, caracterizada porque la concentración de disolvente orgánico, en porcentaje en peso, es de 0,1 a 55%, preferentemente de 1 a 40%.
23. Dispersión, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 22, caracterizada porque la concentración de agua, en porcentaje en peso, es de 1 a 15%.
24. Procedimiento para un depósito de un metal sobre una superficie de un sustrato aislante, con ayuda de la dispersión fotosensible, según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 23, caracterizado porque comprende la aplicación de dicha dispersión en forma de una película sobre el sustrato, de manera selectiva o no, el secado de la película aplicada sobre dicho sustrato y la irradiación con ayuda de radiación ultravioleta y/o láser, con una gama de longitudes de onda comprendida entre 190 y 450 nm y de una energía comprendida entre 25 mJ/cm^{2} y 100 mJ/cm^{2} hasta la obtención de una capa de metal, selectivo o no, sobre el sustrato.
ES03782026T 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion fotosensible de viscosidad ajustable para el deposito de un metal sobre un sustrato aislante y su utilizacion. Expired - Lifetime ES2261991T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE2003/0007A BE1015271A3 (fr) 2003-01-03 2003-01-03 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation.
BE2003/0007 2003-01-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2261991T3 true ES2261991T3 (es) 2006-11-16

Family

ID=32686676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES03782026T Expired - Lifetime ES2261991T3 (es) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion fotosensible de viscosidad ajustable para el deposito de un metal sobre un sustrato aislante y su utilizacion.

Country Status (19)

Country Link
US (2) US20060122297A1 (es)
EP (1) EP1587967B1 (es)
JP (1) JP4621505B2 (es)
KR (1) KR100777033B1 (es)
CN (1) CN100587110C (es)
AT (1) ATE325907T1 (es)
AU (1) AU2003289778B2 (es)
BE (1) BE1015271A3 (es)
BR (1) BR0317897B1 (es)
CA (1) CA2512202C (es)
DE (1) DE60305213T2 (es)
DK (1) DK1587967T3 (es)
ES (1) ES2261991T3 (es)
IL (1) IL169463A (es)
MX (1) MXPA05007256A (es)
PT (1) PT1587967E (es)
RU (1) RU2301846C2 (es)
WO (1) WO2004061157A1 (es)
ZA (1) ZA200505512B (es)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009056348A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Sumitomo Chemical Co Ltd 光触媒分散液
RU2462537C2 (ru) * 2010-11-11 2012-09-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный университет Раствор для лазерно-индуцированной металлизации диэлектриков и способ лазерно-индуцированной металлизации диэлектриков с его использованием
JP2013000673A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 光触媒高機能化技術
RU2491306C2 (ru) * 2011-07-20 2013-08-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный университет тонких химических технологий имени М.В. Ломоносова" (МИТХТ им. М.В.Ломоносова) Резиновые смеси на основе диеновых и этиленпропиленовых каучуков, наполненные белой сажей
US10049881B2 (en) * 2011-08-10 2018-08-14 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for selective nitridation process
WO2014017575A1 (ja) * 2012-07-26 2014-01-30 株式会社サクラクレパス 光触媒塗布液およびその製造方法並びに光触媒体
DE102013114572A1 (de) * 2013-12-19 2015-06-25 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Verfahren zur Herstellung strukturierter metallischer Beschichtungen
CN104329597B (zh) * 2014-09-10 2016-11-23 广东中塑新材料有限公司 一种无基板led灯及其制备方法
CN111575097B (zh) * 2020-06-15 2021-04-16 清华大学 具有光致变粘度的溶液及调控流体粘度的方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3719490A (en) * 1967-07-13 1973-03-06 Eastman Kodak Co Photosensitive element containing a photoreducible palladium compound and the use thereof in physical development
US3950290A (en) * 1973-05-01 1976-04-13 A. E. Staley Manufacturing Company Aqueous coating and printing compositions
JPS60155678A (ja) * 1984-01-24 1985-08-15 Toshiba Corp 金属イオンの還元方法
JPS60195077A (ja) * 1984-03-16 1985-10-03 奥野製薬工業株式会社 セラミツクスの無電解めつき用触媒組成物
JPS62109393A (ja) * 1985-11-07 1987-05-20 カルソニックカンセイ株式会社 電気回路基板製造方法
JPH02205388A (ja) * 1989-02-03 1990-08-15 Hitachi Chem Co Ltd 半導体光触媒を用いた無電解めっきによるプリント回路の製造法
US5075039A (en) * 1990-05-31 1991-12-24 Shipley Company Inc. Platable liquid film forming coating composition containing conductive metal sulfide coated inert inorganic particles
CA2065100A1 (en) * 1991-04-05 1992-10-06 Masami Uemae Aqueous dispersion of acrylic polymer
US5264466A (en) * 1992-05-28 1993-11-23 Showa Highpolymer Co., Ltd. Stainproofing paint composition and method for producing same
BE1007879A3 (fr) * 1994-01-05 1995-11-07 Blue Chips Holding Resine polymerique a viscosite ajustable pour le depot de palladium catalytique sur un substrat, son procede de preparation et son utilisation.
EP0756609A4 (en) * 1994-04-19 1998-12-02 Univ Lehigh PRINTING INK COMPOSITIONS, METHODS OF MAKING AND USES THEREOF
US6183944B1 (en) * 1995-11-30 2001-02-06 Eastman Kodak Company Aggregated dyes for radiation-sensitive elements
JP3384544B2 (ja) * 1997-08-08 2003-03-10 大日本印刷株式会社 パターン形成体およびパターン形成方法
US6291025B1 (en) * 1999-06-04 2001-09-18 Argonide Corporation Electroless coatings formed from organic liquids
DE19957130A1 (de) * 1999-11-26 2001-05-31 Infineon Technologies Ag Metallisierungsverfahren für Dielektrika
JP2001152362A (ja) * 1999-11-30 2001-06-05 Nisshin Steel Co Ltd 光触媒被覆金属板
JP3449617B2 (ja) * 2000-09-26 2003-09-22 日本カーリット株式会社 金属酸化物薄膜及びその形成方法
GB0025989D0 (en) * 2000-10-24 2000-12-13 Shipley Co Llc Plating catalysts
FR2824846B1 (fr) * 2001-05-16 2004-04-02 Saint Gobain Substrat a revetement photocatalytique
JP2004136644A (ja) * 2002-08-20 2004-05-13 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録用紙

Also Published As

Publication number Publication date
AU2003289778A1 (en) 2004-07-29
KR20050089087A (ko) 2005-09-07
ZA200505512B (en) 2007-02-28
CA2512202A1 (fr) 2004-07-22
CN100587110C (zh) 2010-02-03
US7731786B2 (en) 2010-06-08
JP4621505B2 (ja) 2011-01-26
US20090017221A1 (en) 2009-01-15
AU2003289778B2 (en) 2009-06-04
DK1587967T3 (da) 2006-08-28
MXPA05007256A (es) 2005-09-08
IL169463A (en) 2009-12-24
BE1015271A3 (fr) 2004-12-07
CA2512202C (fr) 2010-11-09
DE60305213D1 (de) 2006-06-14
CN1735712A (zh) 2006-02-15
PT1587967E (pt) 2006-08-31
EP1587967B1 (fr) 2006-05-10
BR0317897B1 (pt) 2012-07-10
JP2006515388A (ja) 2006-05-25
KR100777033B1 (ko) 2007-11-16
DE60305213T2 (de) 2007-03-01
WO2004061157A1 (fr) 2004-07-22
BR0317897A (pt) 2005-12-06
EP1587967A1 (fr) 2005-10-26
ATE325907T1 (de) 2006-06-15
RU2005124683A (ru) 2006-02-10
RU2301846C2 (ru) 2007-06-27
US20060122297A1 (en) 2006-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7731786B2 (en) Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for the deposition of metal on an insulating substrate and use thereof
JP6557317B2 (ja) 導電性銀構造を形成するためのインク組成物
Shi et al. Aggregation‐induced emission of copper nanoclusters
US3964906A (en) Method of forming a hydrophobic surface by exposing a colloidal sol to UV radiation
TW201701067A (zh) 獲具沉積至基材上圖案化金屬氧化物薄膜半導體奈米元件之方法,及其半導體奈米元件
ES2859497T3 (es) Composiciones de tinta que comprenden nanopartículas
ES2878427T3 (es) Método para mejorar la resistencia a la corrosión de superficies metálicas
ES2739126T3 (es) Procedimiento para la producción de recubrimientos metálicos estructurados
Brezhneva et al. Importance of buffering nanolayer position in Layer-by-Layer assembly on titania based hybrid photoactivity
Nakamura et al. Fabrication of solid-solution gold–platinum nanoparticles with controllable compositions by high-intensity laser irradiation of solution
EP0934553A1 (de) Verfahren zur vorbereitung der erzeugung strukturierter metallschichten mit hilfe von proteinen
JP2019052298A (ja) 光開始剤を用いる導電性金属印刷のための分子有機反応性インク
CN109563106A (zh) 银离子羧酸根烷基伯胺络合物
JP3261909B2 (ja) 金属微粒子を含む触媒を有する部材及びその作製方法
Rocha et al. Eu (III) as a probe in titânia thin films: the effect of temperature
JPH08245827A (ja) ナノメータ範囲の粒度を示す金属微細粉を含有する組成物
CN109562628A (zh) 银离子羧酸根n-杂芳香族络合物和用途
Amin et al. A comprehensive investigation of structural, optical, morphological, and electrical properties of CuO-NPs synthesized by pulsed laser ablation in water: Effect of laser fluence
CN107754784B (zh) 涂装体及其制备方法、以及水系涂装液及其制备方法
WO2019126884A1 (es) Método secuencial para la construcción de nanopartículas de cobre metálico y su posterior decoración o revestimiento con nanopartículas mas pequeñas del metal secundario
WO2023234239A1 (ja) 抗ウイルス性組成物及び該組成物を表面に有する部材
JP2014067567A (ja) 導電ペースト
JP2533842B2 (ja) 着色方法
Takahashi¹ et al. Laser deposition and transformation of gold nanospheres and nanorods
JP4747007B2 (ja) 光化学的回路形成方法及び光化学的回路形成用の銅溶液