BE1015271A3 - Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation. - Google Patents

Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation. Download PDF

Info

Publication number
BE1015271A3
BE1015271A3 BE2003/0007A BE200300007A BE1015271A3 BE 1015271 A3 BE1015271 A3 BE 1015271A3 BE 2003/0007 A BE2003/0007 A BE 2003/0007A BE 200300007 A BE200300007 A BE 200300007A BE 1015271 A3 BE1015271 A3 BE 1015271A3
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
dispersion according
sep
dispersion
percentage
concentration
Prior art date
Application number
BE2003/0007A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Semika S A
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to BE2003/0007A priority Critical patent/BE1015271A3/fr
Application filed by Semika S A filed Critical Semika S A
Priority to BRPI0317897-8A priority patent/BR0317897B1/pt
Priority to PT03782026T priority patent/PT1587967E/pt
Priority to US10/541,210 priority patent/US20060122297A1/en
Priority to MXPA05007256A priority patent/MXPA05007256A/es
Priority to CA2512202A priority patent/CA2512202C/fr
Priority to AT03782026T priority patent/ATE325907T1/de
Priority to RU2005124683/02A priority patent/RU2301846C2/ru
Priority to KR1020057012582A priority patent/KR100777033B1/ko
Priority to SI200330267T priority patent/SI1587967T1/sl
Priority to CN200380108171A priority patent/CN100587110C/zh
Priority to DK03782026T priority patent/DK1587967T3/da
Priority to EP03782026A priority patent/EP1587967B1/fr
Priority to ES03782026T priority patent/ES2261991T3/es
Priority to PCT/BE2003/000229 priority patent/WO2004061157A1/fr
Priority to AU2003289778A priority patent/AU2003289778B2/en
Priority to DE60305213T priority patent/DE60305213T2/de
Priority to JP2004564089A priority patent/JP4621505B2/ja
Publication of BE1015271A3 publication Critical patent/BE1015271A3/fr
Application granted granted Critical
Priority to IL169463A priority patent/IL169463A/en
Priority to ZA200505512A priority patent/ZA200505512B/xx
Priority to US12/222,965 priority patent/US7731786B2/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/14Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation or by mixed irradiation sources
    • C23C18/143Radiation by light, e.g. photolysis or pyrolysis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • C25D5/56Electroplating of non-metallic surfaces of plastics

Abstract

Dispersion photosensible à viscosité ajustable pour le dépôt de métal sur un substrat isolant, comprenant, en combinaison, un pigment conférant des propriétés d'oxydoréduction sous irradiation lumineuse, un sel métallique, un complexant pour le sel métallique, une formulation polymérique filmogène liquide, un composé basique, un solvant organique et de l'eau, et son utilisation.

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   "Dispersion photosensible à viscosité aiustable pour le dépôt de métal sur un substrat isolant et son utilisation" 
La présente invention est relative à une dispersion photosensible à viscosité ajustable pour le dépôt de métal sur un substrat isolant et à son utilisation. 



   Le brevet EP 0 687 311 de la déposante concerne une résine polymérique à viscosité et pH ajustables pour le dépôt de palladium catalytique sur un substrat, comprenant, en combinaison, un sel de palladium, un complexant du type acide carboxylique ou chlorure, un polymère contenant des groupes hydroxyle et/ou carboxyle soluble dans l'eau, un composé basique et un solvant choisi parmi l'eau, le méthanol et l'éthanol, la valeur de pH étant comprise entre 1 et 10, ainsi qu'à ses applications pour le dépôt de palladium catalytique sur la surface de substrat et pour la métallisation de ces surfaces.

   Bien que ce type de résine polymérique au palladium se soit révélée avantageuse dans un grand nombre d'applications de métallisation de substrats polymériques et autres, notamment en raison de sa stabilité dans le temps et de l'ajustabilité de ses viscosité et pH, elle présente cependant un certain nombre d'inconvénients, parmi lesquels, l'utilisation obligatoire de palladium qui est un métal noble à la fois coûteux et extrêmement fluctuable sur le marché et le passage obligatoire par un bain auto- catalytique (electroless) pour la métallisation du substrat non conducteur et également en raison du fait que la photosensibilité de la résine est réduite à une gamme de longueurs d'onde étroite comprises entre 190 et 300 nm, limitant ainsi fortement le type d'applications envisageables et la source de rayonnement utilisable à cet égard.

   

 <Desc/Clms Page number 2> 

 



   Un des buts essentiels de la présente invention consiste, par conséquent, à remédier aux inconvénients précités et à présenter une dispersion photosensible à viscosité ajustable ne nécessitant plus obligatoirement l'utilisation d'un métal noble tel que le palladium et faisant appel également à d'autres métaux plus communs et moins coûteux et dont la photosensibilité est élargie à une gamme de longueurs d'onde entre 190 et 450 nm et demandant une énergie d'irradiation beaucoup plus faible que les résines polymériques connues jusqu'ici, inférieure à 100 mJ/cm2 et ne nécessitant pas le passage obligatoire par un bain autocatalytique pour la métallisation du substrat, permettant dès lors une métallisation électrolytique directe. 



   A cet effet, suivant l'invention, la dispersion photosensible comprend, en combinaison, un pigment conférant des propriétés d'oxydoréduction sous irradiation lumineuse, un sel métallique, un complexant pour le sel métallique, une formulation polymérique filmogène liquide, un composé basique, un solvant organique et de l'eau. 



   Suivant une forme de réalisation avantageuse de l'invention, le pigment est du dioxyde de titane et est sous la forme d'une fine poudre. 



   Suivant une autre forme de réalisation avantageuse, le sel métallique est un sel de métal de transition et notamment choisi dans le groupe comprenant le cuivre, l'or, le platine, le palladium, le nickel, le cobalt, l'argent, le fer, le zinc, le cadmium, le ruthénium et le rhodium, et est préférentiellement le chlorure de cuivre (II), le sulfate de cuivre (II), le chlorure de palladium (II), le chlorure de nickel (II) ou un mélange d'au moins deux de ces sels. 



   Suivant encore une autre forme de réalisation avantageuse de l'invention, la formulation polymérique filmogène liquide est sous la forme d'une solution ou émulsion, et notamment d'une solution du type alkyle, acrylique, polyester ou époxy, d'une émulsion acrylique ou d'un mélange de celles-ci. 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 



   La présente invention concerne également un procédé de dépôt de métal sur la surface d'un substrat isolant, à l'aide de la dispersion photosensible, qui consiste à appliquer ladite dispersion sous la forme d'un film sur le substrat d'une manière sélective ou non, à sécher le film appliqué sur ledit substrat et à irradier à l'aide d'un rayonnement ultraviolet et/ou laser d'une gamme de longueurs d'onde comprises entre 190 et 450 nm et d'une énergie comprise entre 25 mJ/cm2 et 100 mJ/cm2 jusqu'à l'obtention d'une couche de métal sélective ou non sur le substrat. 



   D'autres détails et particularités de l'invention ressortiront de la description ci-après, à titre d'exemple non limitatif, de dispersions photosensibles suivant l'invention et de leurs applications pour le dépôt de métal sur la surface de substrat isolant ainsi que pour la métallisation de ces surfaces. 



   Comme on l'a déjà précisé précédemment, le but des dispersions photosensibles à viscosité variable de l'invention est de remplacer les solutions et résines polymériques au palladium connues jusqu'à présent, dont les inconvénients principaux ont été précisés, et de développer des dispersions photosensibles à viscosité ajustable et d'une applicabilité beaucoup plus étendue que les résines connues, comprenant, en combinaison, un pigment conférant des propriétés d'oxydoréduction sous irradiation lumineuse, un sel métallique, un complexant pour le sel métallique, une formulation polymérique filmogène liquide, un composé basique, un solvant organique et de l'eau. 



   On entend par l'expression "pigment conférant des propriétés d'oxydoréduction sous irradiation lumineuse" tout pigment capable de former en surface un système oxydoréducteur sous irradiation lumineuse. En fait, une particule de pigment est un semi- conducteur et lorsque celle-ci est soumise à un rayonnement choisi, l'énergie de ces rayonnements va permettre la formation d'une particule pigmentaire oxydoréductrice. C'est ainsi que la particule formée de la 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 sorte va pouvoir effectuer simultanément les deux réactions suivantes, à savoir la réduction d'une espèce cationique adsorbée en surface et l'oxydation d'une espèce ionique adsorbée en surface.

   Ces pigments sont utilisés sous la forme de poudres finement divisées, généralement d'une taille de particule allant de 10 nanomètres à 10 micromètres, avantageusement d'une taille de particule de 15 nanomètres à 1 micromètre. Le dioxyde de titane est le pigment convenant le mieux à cet effet. 



   Le métal du sel métallique est avantageusement- un métal de transition, et est plus particulièrement, le cuivre, l'or, le platine, le palladium, le nickel, le cobalt, l'argent, le fer, le zinc, le cadmium, le ruthénium ou le rhodium ou un mélange d'au moins deux de ceux-ci. Des sels métalliques particulièrement avantageux sont le chlorure de cuivre (II), le sulfate de cuivre (II), le chlorure de palladium (II), le chlorure de nickel (II) et les mélanges d'au moins deux de ces sels. 



   Suivant l'invention, on entend par l'expression "formulation polymérique filmogène liquide" que le polymère est sous la forme d'une solution ou émulsion ou de toute composition analogue et sert en fait d'agent de réglage de la viscosité de la dispersion photosensible de manière à obtenir ainsi un film continu et homogène à la surface du substrat à l'aide de différents moyens d'enduction tels que pulvérisation, trempage, application au rouleau, sérigraphie, tempographie ou analogue. De plus, ce polymère participe également à la réaction d'oxydoréduction.

   En fait, le pigment rendu semi-conducteur sous l'irradiation lumineuse réduit les cations métalliques du sel métallique mais, pour que cette réaction soit efficace, le pigment doit également oxyder un autre composé, rôle qui est tenu dans le cas présent par un film solide duquel tous .les solvants ont été évaporés lors du séchage après enduction. Dès lors, le pigment d'une part réduit les cations métalliques mais d'autre part oxyde le substrat, pour les particules de pigment qui sont en contact avec celui-ci, assurant ainsi une bonne 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 adhérence, ainsi que la matrice polymérique filmogène pour les particules qui ne sont pas en contact avec le substrat, assurant ainsi une bonne efficacité de la réaction en film "solide".

   Des exemples de formulations sont les solutions polymériques filmogènes du type alkyle, acrylique, polyester et époxy, et les émulsions acryliques telles que celles habituellement utilisées dans la préparation d'alcalins, de détergents, de peintures et d'encres, et les mélanges de ces solutions et/ou émulsions. 



   Le complexant pour sel métallique est avantageusement du type acide carboxylique, chlorure ou sulfate. Ce complexant, en se coordinant au sel métallique, a pour but de solubiliser celui-ci. Des exemples de complexants du type acide carboxylique sont l'acide tartrique, l'acide citrique, leurs dérivés et les mélanges d'au moins deux de ces composés. 



   Le composé basique utilisé dans le cadre de la dispersion photosensible sert à neutraliser tous les acides présents dans celle-ci et à régler le pH au-delà de 7. L'hydroxyde de potassium, l'hydroxyde de sodium, l'ammoniaque et leurs mélanges sont des exemples de bases utilisables. On pourrait également envisager l'utilisation d'un sel basique tel que le carbonate de sodium, le carbonate de potassium, le carbonate de calcium et leurs mélanges. Des mélanges d'une base et d'un sel basique sont également envisageables. 



   Le solvant organique et l'eau ont un rôle important à jouer dans le cadre de la dispersion photosensible de l'invention. Le solvant organique sera choisi parmi les éthers, esters, cétones, alcools, seuls ou en mélange. Le rôle des solvants organique est multiple. Ils assurent notamment une bonne adhérence du film sur le substrat isolant et ainsi un bon accrochage du pigment sur le substrat, une bonne formation des films, un séchage rapide ou encore une bonne dispersion des différents composants dans la peinture catalytique. Les solvants sont avantageusement utilisés en mélange de manière à doser la propriété 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 relative à chacun vis-à-vis de leur rôle respectif dans le produit, pour la formation du film ou sur le substrat.

   Des exemples de solvants utilisés isolément ou en mélange sont le dioxanne, la cyclohexanone, l'acétate de 2-méthoxy-1-méthyléthyle, les mélanges d'isomères d'éther méthylique de dipropylène glycol, les mélanges d'isomères d'éther méthylique de dipropylène glycol, et les mélanges d'au moins deux de ceux-ci. L'eau est avantageusement de l'eau désionisée. La présence de l'eau en quantité plutôt faible est également importante. En effet, celle-ci rend la dispersion photosensible moins corrosive que la plupart des formulations de la technique antérieure et permet une facilité d'application en toutes circonstances par sa formulation proche d'une peinture.

   La présence de solvant(s) organique(s) permet également d'éviter les prétraitements chimiques et/ou mécaniques de la surface du substrat et un meilleur contrôle sur la température d'évaporation que dans le cas des solutions aqueuses contenant une proportion beaucoup plus importante d'eau. 



   Comme ajouts compatibles avec la dispersion photo- sensible de l'invention, on ajoutera avantageusement ainsi qu'on l'a déjà précisé précédemment, un ou des mélanges d'agents mouillant et/ou dispersant. L'agent mouillant est un agent modificateur de la tension de surface et a pour but de réduire celle-ci en formant une couche adsorbée ayant une tension de surface intermédiaire entre les phases liquide/liquide ou liquide/solide. Des agents mouillants intéressants sont les silanes, les esters de polymères fluoroaliphatiques ou encore les produits à haut pourcentage en 2-butoxyéthanol. Des produits du commerce typiques sont le Dapro U99 fabriqué par la société Daniel Product et le Schwego-wett (marques déposées). L'agent dispersant est avantageusement un dispersant pour pigment compatible avec les polymères acryliques, polyesters et époxydes.

   Il améliore la dispersion des particules solides de pigment pouvant être présentes dans la peinture catalytique. Des exemples d'agents dispersants sont le 

 <Desc/Clms Page number 7> 

 Disperse-AYD W-33 (mélange d'agents tensioactifs non ionique et anionique en solution dans de l'eau) et le Deuteron ND 953 (solution aqueuse de polyaldéhydocarbonate de sodium) (marques déposées), respectivement fabriqués par les sociétés Elementis et Deuteron. 



   En ce qui concerne les concentrations des différents composants de la dispersion photosensible ou peinture catalytique de l'invention, celles-ci dépendront bien entendu de la nature de ces composants et du solvant utilisé. Toutefois, on utilisera d'une manière générale, suivant l'invention, le pigment et plus particulièrement le dioxyde de titane en une concentration, en pourcentage en poids, de 1 à 50 % et de préférence de 5 à 25 %, le sel métallique en une concentration, en pourcentage en poids, de 0,01 à 5 % et de préférence de 0,05 à 1 %, le complexant en une concentration, en pourcentage en poids, de 0,01 à 10 % et de préférence de 0,1 à 1 %, la solution et/ou émulsion polymérique filmogène en une concentration, en pourcentage en poids, de 1 à 50 % et de préférence de 5 à 25 %, la base en une concentration, en pourcentage en poids, de 0,

  01 à 5 % et de préférence de 0,1 à 1 %, le solvant organique en une concentration, en pourcentage en poids, de 0,1 à 55 % et de préférence de 1 à 40 % et l'eau en une concentration, en pourcentage en poids, de 1 à 15 %. La concentration en agent mouillant, en pourcentage en poids, est de 0,1 à 5 % et de préférence de 0,25 à 1,0 %, et la concentration en agent dispersant, en pourcentage en poids, est de 0,1 à 15 % et de préférence de 0,2 à 2 %. 



   La préparation des dispersions photosensibles de l'invention se fait suivant un simple processus de mélange de la totalité des différents constituants qu'elle contient. L'ordre d'addition de chacun de ces constituants est sans importance et n'a pas de conséquence sur les propriétés intrinsèques de la dispersion. En fait, on mélange tous les composants constituant la dispersion photosensible, à savoir le pigment, le sel métallique, le complexant, la formulation polymérique filmogène liquide, le composé basique, le solvant organique et l'eau ainsi que les 

 <Desc/Clms Page number 8> 

 éventuels ajouts et on applique ladite dispersion sous la forme d'un film sur le substrat d'une manière sélective ou non en fonction de l'application envisagée.

   Ensuite, on sèche le film appliqué sur le substrat et on irradie à l'aide d'un rayonnement ultraviolet et/ou laser d'une gamme de longueurs d'onde comprises entre 190 et 450 nm et d'une énergie comprise entré 25 mJ/cm 2 et   100 mJ/cm 2   jusqu'à l'obtention d'une couche de métal sélective ou non sur le substrat. 



   On donne ci-après des exemples de dispersions photo- sensibles de l'invention ainsi que leurs techniques de mise en oeuvre. 



   Exemple 1 
Peinture catalytique au palladium pour la métallisation sélective ou non d'un substrat polymérique. 
 EMI8.1 
 
<tb> 



  Composition <SEP> de <SEP> la <SEP> dispersion <SEP> Concentration <SEP> en <SEP> %'en <SEP> poids
<tb> 
<tb> Dioxyde <SEP> de <SEP> titane <SEP> en <SEP> poudre <SEP> finement <SEP> divisée <SEP> 5 <SEP> à <SEP> 25
<tb> 
<tb> Dioxanne <SEP> 10 <SEP> à <SEP> 30 <SEP> 
<tb> 
<tb> Acétate <SEP> de <SEP> 2-méthoxy-1-méthyléthyle <SEP> 25 <SEP> à <SEP> 40
<tb> 
<tb> Mélange <SEP> d'isomères <SEP> d'éther <SEP> méthylique <SEP> de <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 15
<tb> 
<tb> dipropylène <SEP> glycol
<tb> 
<tb> Disperse-AYD <SEP> W33 <SEP> 1) <SEP> 0.2 <SEP> à <SEP> 2
<tb> 
<tb> Joncryl <SEP> 537 <SEP> 2) <SEP> 5 <SEP> à <SEP> 25
<tb> 
<tb> Mélange <SEP> d'isomères <SEP> d'éther <SEP> méthylique <SEP> de <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 5
<tb> 
<tb> tripropylène <SEP> glycol
<tb> 
<tb> Dapro <SEP> U99 <SEP> 3)

   <SEP> 0.25 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Chlorure <SEP> de <SEP> palladium <SEP> (II) <SEP> (sel <SEP> métallique) <SEP> 0,05 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Acide <SEP> tartrique <SEP> (complexant) <SEP> 0,1 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Ammoniaque <SEP> (base) <SEP> 0,1 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Eau <SEP> désionisée <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 15 <SEP> 
<tb> 
 1) Agent dispersant fabriqué par la société Elementis : mélange d'agents tensioactifs non ionique et anionique dans de l'eau. 



  2) Emulsion polymérique acrylique filmogène, fabriquée par la société 
Johnson Polymer, marque déposée. 

 <Desc/Clms Page number 9> 

 3) Agent mouillant fabriqué par la société Daniel Product : modificateur de tension interfaciale sans silicone. 



   La peinture ou dispersion catalytique est appliquée sur un substrat polymérique, sans aucun prétraitement préalable de ce dernier, par trempage, pulvérisation, application au rouleau ou tampographie et est ensuite séchée à l'air pendant quelques secondes. Le film ainsi obtenu est irradié à l'aide de lampes UV communément utilisées et/ou de laser et ayant un spectre compris entre 250 et 450 nm, le temps nécessaire pour que le film reçoive une énergie minimale de 25 mJ/cm2. 



  Si une métallisation sélective est désirée, cette irradiation se fera au travers d'un masque. Il en résulte le dépôt d'une couche de palladium catalytique sélective ou non. Dans le cas d'une métallisation sélective, les parties non irradiées sont solubilisées dans de l'eau. Une surcharge métallique par galvanoplastie est alors rendue possible, le substrat étant rendu conducteur. 



   Exemple 2 
Peinture catalytique au cuivre pour la métallisation sélective ou non d'un substrat polymérique. 
 EMI9.1 
 
<tb> 



  Composition <SEP> de <SEP> la <SEP> dispersion <SEP> Concentration <SEP> en <SEP> % <SEP> en <SEP> poids
<tb> 
<tb> Dioxyde <SEP> de <SEP> titane <SEP> en <SEP> poudre <SEP> finement <SEP> divisée <SEP> 5 <SEP> à <SEP> 25
<tb> 
<tb> Dioxanne <SEP> 10 <SEP> à <SEP> 30 <SEP> 
<tb> 
<tb> Acétate <SEP> de <SEP> 2-méthoxy-1-méthyléthyle <SEP> 25 <SEP> à <SEP> 40
<tb> 
<tb> Mélange <SEP> d'isomères <SEP> d'éther <SEP> méthylique <SEP> de <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 15
<tb> 
<tb> dipropylène <SEP> glycol
<tb> 
<tb> Disperse-AYD <SEP> W33 <SEP> 1) <SEP> 0,2 <SEP> à <SEP> 2
<tb> 
<tb> Joncryl <SEP> 537 <SEP> 2) <SEP> 5 <SEP> à <SEP> 25
<tb> 
<tb> Mélange <SEP> d'isomères <SEP> d'éther <SEP> méthylique <SEP> de <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 5
<tb> 
<tb> tripropylène <SEP> glycol
<tb> 
<tb> Dapro <SEP> U99 <SEP>  ' <SEP> 0,

  25 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Chlorure <SEP> de <SEP> palladium <SEP> (II) <SEP> (sel <SEP> métallique) <SEP> 0,05 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Acide <SEP> citrique <SEP> (complexant) <SEP> 0,1 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Ammoniaque <SEP> (base) <SEP> 0,1 <SEP> à <SEP> 1
<tb> 
<tb> Eau <SEP> désionisée <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 15
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 10> 

 1) Agent dispersant fabriqué par la société Elementis : mélange d'agents tensioactifs non ionique et anionique dans de l'eau. 



  2) Emulsion polymérique acrylique filmogène, fabriquée par la société 
Johnson Polymer, marque déposée. 



  3) Agent mouillant fabriqué par la société Daniel Product : modificateur de tension interfaciale sans silicone. 



   On procède comme dans l'Exemple 1. Il en résulte le dépôt d'une couche de palladium catalytique sélective ou non. Dans le cas d'une métallisation sélective, les parties non irradiées sont solubilisées dans de l'eau. Une surcharge métallique par galvanoplastie est alors rendue possible. 



   En fait, le sel métallique pourrait être remplacé dans les concentrations indiquées par tous les sels cités spécifiquement, à savoir le sulfate de cuivre (II) et les chlorures de palladium et nickel (II). 



   Les substrats testés dans le cadre des exemples précités sont des matières plastiques courantes telles que l'ABS, l'ABS-PC (polycarbonate), certains polyamides, les matières époxy, les polycarbonates et analogue. 



   Outre les avantages clairement définis de la dispersion photosensible de l'invention comparativement aux résines polymériques ou autres formulations connues on notera que la dispersion est une formulation extrêmement proche d'une peinture la rendant facilement applicable en toutes circonstances. De plus, outre le fait qu'il n'est plus nécessaire de recourir à un prétraitement chimique et/ou mécanique du substrat isolant de manière à obtenir une bonne adhérence du dépôt métallique final de par l'oxydation sélective contrôlée de la surface du substrat par le pigment, la dispersion ou peinture catalytique photosensible de l'invention ne présente aucune corrosivité à l'inverse des formulations de la technique antérieure qui sont toutes très corrosives. 

 <Desc/Clms Page number 11> 

 



   Il doit être entendu que la présente invention n'est en aucune façon limitée aux formes de réalisation décrites ci-dessus et que bien des modifications peuvent être apportées sans sortir du cadre du présent brevet.

Claims (24)

  1. REVENDICATIONS 1. Dispersion photosensible à viscosité ajustable pour le dépôt de métal sur un substrat isolant, caractérisée en ce qu'elle comprend, en combinaison, un pigment conférant des propriétés d'oxydoréduction sous irradiation lumineuse, un sel métallique, un complexant pour le sel métallique, une formulation polymérique filmogène liquide, un composé basique, un solvant organique et de l'eau.
  2. 2. Dispersion suivant la revendication 1, caractérisée en ce que ledit pigment est du dioxyde de titane.
  3. 3. Dispersion suivant la revendication 2, caractérisée en ce que le pigment d'oxyde de titane est sous la forme de poudre d'une taille de particule de 10 nanomètres à 10 micromètres, avantageusement de 15 nanomètres à 1 micromètre.
  4. 4. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que le sel métallique est un sel de métal de transition.
  5. 5. Dispersion suivant la revendication 4, caractérisée en ce que le métal de transition est choisi dans le groupe comprenant le cuivre, l'or, le platine, le palladium, le nickel, le cobalt, l'argent, le fer, le zinc, le cadmium, le ruthénium et le rhodium.
  6. 6. Dispersion suivant la revendication 5, caractérisée en ce que le sel de métal de transition est choisi parmi le chlorure de cuivre (II), le sulfate de cuivre (II), le chlorure de palladium (II), le chlorure de nickel (II) et les mélanges d'au moins deux de ceux-ci.
  7. 7. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée en ce que le complexant pour le sel métallique est du type acide carboxylique, chlorure ou sulfate.
  8. 8. Dispersion suivant la revendication 7, caractérisée en ce que le complexant du type acide carboxylique est de l'acide tartrique, de l'acide citrique, un dérivé de ceux-ci ou leur mélange. <Desc/Clms Page number 13>
  9. 9. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisée en ce que la formulation polymérique filmogène liquide est une solution ou émulsion.
  10. 10. Dispersion suivant la revendication 9, caractérisée en ce qu'elle comprend comme formulation polymérique filmogène, une solution du type alkyle, acrylique, polyester ou époxy, une émulsion acrylique ou un mélange de celles-ci.
  11. 11. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce que le composé basique est une base, un sel basique ou un mélange de ceux-ci.
  12. 12. Dispersion suivant la revendication 11, caractérisée en ce que le composé basique est une base choisie parmi l'hydroxyde de potassium, l'hydroxyde de sodium et l'ammoniaque.
  13. 13. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisée en ce que le solvant organique est choisi dans le groupe comprenant les éthers, les esters, les cétones, les alcools et leurs mélanges.
  14. 14. Dispersion suivant la revendication 13, caractérisée en ce que le solvant organique est choisi parmi le dioxanne, la cyclohexanone, l'acétate de 2-méthoxy-1-méthyléthyle, un mélange d'isomères d'éther méthylique de dipropylène glycol, un mélange d'isomères d'éther méthylique de tripropylène glycol et les mélanges d'au moins deux de ceux-ci.
  15. 15. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 14, caractérisée en ce qu'elle comprend de l'eau désionisée.
  16. 16. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 15, caractérisée en ce qu'elle comprend de plus au moins un agent mouillant, un agent dispersant ou un mélange de ceux-ci.
  17. 17. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 2 à 16, caractérisée en ce que la concentration en dioxyde de titane, en pourcentage en poids, est de 1 à 50 % et de préférence de 5 à 25 %. <Desc/Clms Page number 14>
  18. 18. Dispersion suivant une quelconque des revendications 1 à 17, caractérisée en ce que la concentration en sel métallique, en pourcentage en poids, est de 0,01 à 5 % et de préférence de 0,05 à 1 %.
  19. 19. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 18, caractérisé en ce que la concentration en complexant, en pourcentage en poids, est de 0,01 à 10 % et de préférence de 0,1à 1 %.
  20. 20. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 19, caractérisée en ce que la concentration en formulation polymérique filmogène, en pourcentage en poids, est de 1 à 50 % et de préférence de 5 à 25 %.
  21. 21. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 12 à 20, caractérisée en ce que la concentration en base, en pourcentage en poids, est de 0,01 à 5 % et de préférence de 0,1 à 1 %.
  22. 22. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 21, caractérisée en ce que la concentration en solvant organique, en pourcentage en poids, est de 0,1 à 55 % et de préférence de 1 à 40 %.
  23. 23. Dispersion suivant l'une quelconque des revendications 1 à 22, caractérisée en ce que la concentration en eau, en pourcentage en poids, est de 1 à 15 %.
  24. 24. Procédé de dépôt de métal sur la surface d'un substrat isolant, à l'aide de la dispersion photosensible suivant l'une quelconque des revendications 1 à 23, caractérisé en ce qu'il comprend l'application de ladite dispersion sous la forme d'un film sur le substrat d'une manière sélective ou non, le séchage du film appliqué sur ledit substrat et l'irradiation à l'aide d'un rayonnement ultraviolet et/ou laser d'une gamme de longueurs d'onde comprises entre 190 et 450 nm et d'une énergie comprise entre 25 mJ/cm2 à 100 mJ/cm2 jusqu'à l'obtention d'une couche de métal sélective ou non sur le substrat.
BE2003/0007A 2003-01-03 2003-01-03 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation. BE1015271A3 (fr)

Priority Applications (21)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE2003/0007A BE1015271A3 (fr) 2003-01-03 2003-01-03 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation.
EP03782026A EP1587967B1 (fr) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation
PT03782026T PT1587967E (pt) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersao fotossensivel com viscosidde ajustavel para deposicao de metal sobre um substrato isolante e sua utilizacao
MXPA05007256A MXPA05007256A (es) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion fotosensible con viscosidad ajustable para deposicion de metal en un substrato aislante y uso del mismo.
CA2512202A CA2512202C (fr) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation
AT03782026T ATE325907T1 (de) 2003-01-03 2003-12-24 Photosensitive dispersion mit einstellbarer viskosität für die abscheidung vom metall auf einem nichtleitenden substrat und ihre verwendung
RU2005124683/02A RU2301846C2 (ru) 2003-01-03 2003-12-24 Светочувствительная дисперсия с регулируемой вязкостью для нанесения металлического покрытия на изоляционную подложку и ее использование
KR1020057012582A KR100777033B1 (ko) 2003-01-03 2003-12-24 절연기판에 금속 침착을 위한 조절가능한 점성을 가진감광성 분산물 및 그 사용방법
ES03782026T ES2261991T3 (es) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion fotosensible de viscosidad ajustable para el deposito de un metal sobre un sustrato aislante y su utilizacion.
CN200380108171A CN100587110C (zh) 2003-01-03 2003-12-24 用于在绝缘基底上沉积金属的具有可调节粘度的光敏分散体和其用途
BRPI0317897-8A BR0317897B1 (pt) 2003-01-03 2003-12-24 dispersão fotossensìvel de viscosidade ajustável para a colocação de metal sobre a superfìcie de um substrato isolante e processo de colocação de metal sobre a superfìcie de um substrato isolante.
US10/541,210 US20060122297A1 (en) 2003-01-03 2003-12-24 Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for metal deposition on an insulating substrate and use of same
SI200330267T SI1587967T1 (sl) 2003-01-03 2003-12-24 Fotosenzibilna disperzija z nastavljivo viskoznostjo za nanasanje kovine na izolirno podlago in njena uporaba
PCT/BE2003/000229 WO2004061157A1 (fr) 2003-01-03 2003-12-24 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation
AU2003289778A AU2003289778B2 (en) 2003-01-03 2003-12-24 Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for metal deposition on an insulating substrate and use of same
DE60305213T DE60305213T2 (de) 2003-01-03 2003-12-24 Photosensitive dispersion mit einstellbarer viskosität für die abscheidung vom metall auf einem nichtleitenden substrat und ihre verwendung
JP2004564089A JP4621505B2 (ja) 2003-01-03 2003-12-24 絶縁性基体上への金属付着用の粘度調整可能な感光性分散液およびその使用
DK03782026T DK1587967T3 (da) 2003-01-03 2003-12-24 Fotosensitiv dispersion med justerbar viskositet til afsætning af metal på et isolerende substrat og anvendelse af samme
IL169463A IL169463A (en) 2003-01-03 2005-06-29 Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for metal deposition on an insulating substrate and use of same
ZA200505512A ZA200505512B (en) 2003-01-03 2005-07-08 Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for metal deposition on an insulating substrate and use of same
US12/222,965 US7731786B2 (en) 2003-01-03 2008-08-20 Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for the deposition of metal on an insulating substrate and use thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE2003/0007A BE1015271A3 (fr) 2003-01-03 2003-01-03 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE1015271A3 true BE1015271A3 (fr) 2004-12-07

Family

ID=32686676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE2003/0007A BE1015271A3 (fr) 2003-01-03 2003-01-03 Dispersion photosensible a viscosite ajustable pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation.

Country Status (19)

Country Link
US (2) US20060122297A1 (fr)
EP (1) EP1587967B1 (fr)
JP (1) JP4621505B2 (fr)
KR (1) KR100777033B1 (fr)
CN (1) CN100587110C (fr)
AT (1) ATE325907T1 (fr)
AU (1) AU2003289778B2 (fr)
BE (1) BE1015271A3 (fr)
BR (1) BR0317897B1 (fr)
CA (1) CA2512202C (fr)
DE (1) DE60305213T2 (fr)
DK (1) DK1587967T3 (fr)
ES (1) ES2261991T3 (fr)
IL (1) IL169463A (fr)
MX (1) MXPA05007256A (fr)
PT (1) PT1587967E (fr)
RU (1) RU2301846C2 (fr)
WO (1) WO2004061157A1 (fr)
ZA (1) ZA200505512B (fr)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009056348A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Sumitomo Chemical Co Ltd 光触媒分散液
RU2462537C2 (ru) * 2010-11-11 2012-09-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный университет Раствор для лазерно-индуцированной металлизации диэлектриков и способ лазерно-индуцированной металлизации диэлектриков с его использованием
JP2013000673A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 光触媒高機能化技術
RU2491306C2 (ru) * 2011-07-20 2013-08-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный университет тонких химических технологий имени М.В. Ломоносова" (МИТХТ им. М.В.Ломоносова) Резиновые смеси на основе диеновых и этиленпропиленовых каучуков, наполненные белой сажей
US10049881B2 (en) * 2011-08-10 2018-08-14 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for selective nitridation process
JPWO2014017575A1 (ja) * 2012-07-26 2016-07-11 株式会社サクラクレパス 光触媒塗布液およびその製造方法並びに光触媒体
DE102013114572A1 (de) * 2013-12-19 2015-06-25 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Verfahren zur Herstellung strukturierter metallischer Beschichtungen
CN104329597B (zh) * 2014-09-10 2016-11-23 广东中塑新材料有限公司 一种无基板led灯及其制备方法
CN111575097B (zh) * 2020-06-15 2021-04-16 清华大学 具有光致变粘度的溶液及调控流体粘度的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995018879A1 (fr) * 1994-01-05 1995-07-13 Blue Chips Holding RESINE POLYMERIQUE POUR LE DEPOT DE Pd CATALYTIQUE SUR UN SUBSTRAT

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3719490A (en) * 1967-07-13 1973-03-06 Eastman Kodak Co Photosensitive element containing a photoreducible palladium compound and the use thereof in physical development
US3950290A (en) * 1973-05-01 1976-04-13 A. E. Staley Manufacturing Company Aqueous coating and printing compositions
JPS60155678A (ja) * 1984-01-24 1985-08-15 Toshiba Corp 金属イオンの還元方法
JPS60195077A (ja) * 1984-03-16 1985-10-03 奥野製薬工業株式会社 セラミツクスの無電解めつき用触媒組成物
JPS62109393A (ja) * 1985-11-07 1987-05-20 カルソニックカンセイ株式会社 電気回路基板製造方法
JPH02205388A (ja) * 1989-02-03 1990-08-15 Hitachi Chem Co Ltd 半導体光触媒を用いた無電解めっきによるプリント回路の製造法
US5075039A (en) * 1990-05-31 1991-12-24 Shipley Company Inc. Platable liquid film forming coating composition containing conductive metal sulfide coated inert inorganic particles
CA2065100A1 (fr) * 1991-04-05 1992-10-06 Masami Uemae Dispersion aqueuse de polymere acrylique
US5264466A (en) * 1992-05-28 1993-11-23 Showa Highpolymer Co., Ltd. Stainproofing paint composition and method for producing same
EP0756609A4 (fr) * 1994-04-19 1998-12-02 Univ Lehigh Compositions d'encre d'impression, leurs procedes de fabrication et leurs utilisations
US6183944B1 (en) * 1995-11-30 2001-02-06 Eastman Kodak Company Aggregated dyes for radiation-sensitive elements
JP3384544B2 (ja) * 1997-08-08 2003-03-10 大日本印刷株式会社 パターン形成体およびパターン形成方法
US6291025B1 (en) * 1999-06-04 2001-09-18 Argonide Corporation Electroless coatings formed from organic liquids
DE19957130A1 (de) * 1999-11-26 2001-05-31 Infineon Technologies Ag Metallisierungsverfahren für Dielektrika
JP2001152362A (ja) * 1999-11-30 2001-06-05 Nisshin Steel Co Ltd 光触媒被覆金属板
JP3449617B2 (ja) * 2000-09-26 2003-09-22 日本カーリット株式会社 金属酸化物薄膜及びその形成方法
GB0025989D0 (en) * 2000-10-24 2000-12-13 Shipley Co Llc Plating catalysts
FR2824846B1 (fr) * 2001-05-16 2004-04-02 Saint Gobain Substrat a revetement photocatalytique
JP2004136644A (ja) * 2002-08-20 2004-05-13 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録用紙

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995018879A1 (fr) * 1994-01-05 1995-07-13 Blue Chips Holding RESINE POLYMERIQUE POUR LE DEPOT DE Pd CATALYTIQUE SUR UN SUBSTRAT

Also Published As

Publication number Publication date
ZA200505512B (en) 2007-02-28
EP1587967A1 (fr) 2005-10-26
ES2261991T3 (es) 2006-11-16
AU2003289778B2 (en) 2009-06-04
RU2301846C2 (ru) 2007-06-27
MXPA05007256A (es) 2005-09-08
US7731786B2 (en) 2010-06-08
KR20050089087A (ko) 2005-09-07
CN1735712A (zh) 2006-02-15
BR0317897A (pt) 2005-12-06
AU2003289778A1 (en) 2004-07-29
IL169463A (en) 2009-12-24
CA2512202C (fr) 2010-11-09
JP2006515388A (ja) 2006-05-25
KR100777033B1 (ko) 2007-11-16
US20090017221A1 (en) 2009-01-15
CN100587110C (zh) 2010-02-03
EP1587967B1 (fr) 2006-05-10
DE60305213D1 (de) 2006-06-14
JP4621505B2 (ja) 2011-01-26
PT1587967E (pt) 2006-08-31
DK1587967T3 (da) 2006-08-28
BR0317897B1 (pt) 2012-07-10
US20060122297A1 (en) 2006-06-08
DE60305213T2 (de) 2007-03-01
RU2005124683A (ru) 2006-02-10
ATE325907T1 (de) 2006-06-15
WO2004061157A1 (fr) 2004-07-22
CA2512202A1 (fr) 2004-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2121814B1 (fr) Procédé de préparation d&#39;un film organique à la surface d&#39;un support solide dans des conditions non-électrochimiques, support solide ainsi obtenu et kit de préparation
EP2424928B1 (fr) Procédé de préparation d&#39;un film organique à la surface d&#39;un support solide avec traitement oxydant
US7731786B2 (en) Photosensitive dispersion with adjustable viscosity for the deposition of metal on an insulating substrate and use thereof
US6436615B1 (en) Methods and materials for selective modification of photopatterned polymer films
EP2077918B1 (fr) Procédé de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l&#39;électricité à partir de solutions aqueuses en deux étapes.
EP2414108B1 (fr) Procédé pour modifier l&#39;énergie de surface d&#39;un solide
FR2883299A1 (fr) Formation de films ultraminces greffes sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l&#39;electricite
EP2688963B1 (fr) Procede de preparation d&#39;un film organique a la surface d&#39;un support solide par transfert ou par projection
FR2727984A1 (fr) Procede pour la catalyse dans le depot chimique
FR2910006A1 (fr) Procede de preparation d&#39;un film organique a la surface d&#39;un support solide dans des conditions non-electrochimiques, support solide ainsi obtenu et kit de preparation
EP2714757B1 (fr) Procede pour modifier un polymere de polydopamine ou un derive de celui-ci et polymere ainsi modifie
FR2715157A1 (fr) Latex acryliques susceptibles de former des films photoréticulables.
EP1828318B1 (fr) Composition de pigments metalliques
FR2910007A1 (fr) Procede de preparation d&#39;un film organique a la surface d&#39;un support solide dans des conditions non-electrochimiques, support solide ainsi obtenu et kit de preparation
BE1014795A3 (fr) Solution photosensible pour le depot de metal sur un substrat isolant et son utilisation.
FR2977812A1 (fr) Procede de preparation d&#39;un film organique hydrophobe a la surface d&#39;un support solide
FR3083546A1 (fr) Procede de formation d&#39;un film organique polymerique a la surface d&#39;un substrat metallique mettant en œuvre un gel
WO2018114444A1 (fr) Composition destinée au dépôt photochimique de métaux
EP1337488A1 (fr) Objet a couche metallique, procede de fabrication et applications
FR2910008A1 (fr) Procede de preparation d&#39;un film organique a la surface d&#39;un support solide dans des conditions non-electrochimiques, support solide ainsi obtenu et kit de preparation

Legal Events

Date Code Title Description
RE Patent lapsed

Effective date: 20110131