ES2217875T3 - Procedimiento y aparato de produccion de revestimientos de baja emisividad a base de plata sin utilizacion de capas de imprimacion metalicas. - Google Patents
Procedimiento y aparato de produccion de revestimientos de baja emisividad a base de plata sin utilizacion de capas de imprimacion metalicas.Info
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Abstract
Un método de formación de un artículo revestido transparente, que comprende las etapas de: (i) depositar por pulverización una primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre un substrato transparente (20); y (ii) pulverizar un cátodo cerámico conductor (40) en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y que controla el contenido de oxígeno en dicha atmósfera que es mayor de cero hasta 20 % en volumen de oxígeno para depositar una primera capa cerámica (88) de óxido metálico bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86).
Description
Procedimientos y aparato de producción de
revestimientos de baja emisividad a base de plata sin utilización de
capas de imprimación metálicas.
La invención se refiere generalmente al campo de
la deposición a vacío por pulverización de magnetrones y, más
particularmente, a un apilamiento de revestimiento de múltiples
capas que tiene una capa metálica reflexiva infrarroja sin capas de
imprimación metálicas superpuestas, y se refiere también al uso de
los artículos fabricados de esta manera.
La luz del sol contiene energía luminosa que
entra generalmente dentro de tres regiones amplias: ultravioleta,
visible e infrarroja. Para muchas aplicaciones comerciales, tales
como las ventanas de edificios o ventanas para automóviles, es
deseable reducir la cantidad de energía, es decir, el calor
transferido a través de la ventana dentro y/o fuera del edificio o
el automóvil. Esta reducción del calor puede verse afectada por la
reducción de la energía luminosa transmitida desde cualquiera de
estas tres regiones. No obstante, es no práctico típicamente
eliminar mucha energía luminosa visible, puesto que esto impacta de
forma adversa sobre la capacidad de las personas por ver a través de
la ventana. Por tanto, es deseable bloquear tanta energía restante,
tal como energía infrarroja, como sea posible, puesto que esto dará
lugar a la reducción más grande de la energía transmitida sin que
impacte de forma adversa sobre la transmisión de luz visible.
Para reducir la transmisión de energía infrarroja
solar, se conoce depositar las capas metálicas reflexivas
infrarrojas, tales como plata, oro, aluminio o cobre, sobre un
substrato visible. No obstante, si solamente se aplicó un metal
reflexivo infrarrojo, esto daría lugar a un acabado similar a un
espejo que reflejaría también la luz visible. Por tanto, está
prevista una capa antireflexiva normalmente sobre uno o ambos lados
de la capa reflexiva infrarroja para producir un substrato que es
muy reflexivo de energía infrarroja, pero que es muy transmisor de
energía visible. Estas capas antireflexivas están formadas
normalmente de un material dieléctrico, por ejemplo, óxidos
metálicos, tales como Zn_{2}SnO_{4}, In_{2}SnO_{4},
TiO_{2}, SnO_{2}, In_{2}O_{3}, ZnO, Si_{3}N_{4} o
Bi_{2}O_{3}, por nombrar algunos.
Las capas reflexivas y antireflexivas infrarrojas
están formadas típicamente sobre el substrato de vidrio en un
dispositivo de revestimiento con pulverización catódica utilizando
una técnica conocida en la técnica de la pulverización como la
deposición de vacío por pulverización con magnetrones. La capa
antireflexiva es depositada normalmente sobre el substrato por
pulverización de un metal o cátodo de aleación de metal en una
atmósfera reflexiva, por ejemplo, una atmósfera rica en oxígeno para
depositar un revestimiento dieléctrico de óxido metálico sobre la
superficie del substrato de vidrio. Un cátodo fabricado de un metal
reflexivo infrarrojo, tal como plata, es pulverizado en una
atmósfera inerte, no reactiva, por ejemplo, libre de oxígeno, tal
como argón para depositar una capa de metal reflexivo infrarrojo
sobre la capa antireflexiva. La atmósfera libre de oxígeno es
utilizada para depositar una capa metálica y prevenir la oxidación
del cátodo metálico reflexivo infrarrojo. Para prevenir la ruptura
de la capa de plata mediante oxidación o aglomeración durante la
pulverización de una capa antireflexiva posterior, una capa de
imprimación metálica protectora, tal como cobre, niobio, titanio,
tántalo, cromo, tungsteno, cinc, indio, aleaciones de
níquel-cromo o metal similar, se deposita sobre la
capa de plata.
Un ejemplo de la formación de capas de
imprimación metálicas de este tipo se describe en el documento
US-A-5.318.685. Estas capas de
imprimación metálicas son típicamente del orden de aproximadamente
0,001 a 0,003 \mum
(10-30-Angstroms) de espesor y son
sacrificiales. Es decir, el espesor de las capas de imprimación
metálicas se determina basado en los parámetros de revestimiento del
sistema, de forma que la mayor parte de la capa de imprimación es
reactiva, es decir, se oxida durante la pulverización de la
siguiente capa antireflexiva. La capa de imprimación metálica
protectora es transparente cuando se oxida completamente, de manera
que la capa de imprimación metálica oxidada no impacta adversamente
sobre la transmisión de luz y cualidades reflexivas del substrato
revestido. No obstante, esta oxidación posterior de la capa de
imprimación metálica no se controla fácilmente y es normal para esta
oxidación que sea menor que completa. Adicionalmente, los átomos
metálicos procedentes de algunas capas de imprimación metálicas
tienden a formar aleaciones con el metal de la capa metálica
reflexiva infrarroja que degrada la interfaz entre las dos
capas.
Aunque es generalmente aceptable para la
producción de substratos revestidos de baja emisividad, existen
inconvenientes asociados con los métodos de revestimiento
convencionales. Por ejemplo, para un vidrio revestido que debe
utilizarse sin procesamiento ni acondicionamiento térmicos
adicionales, si no toda la capa de imprimación metálica es oxidada
durante la aplicación de la posterior capa antireflexiva, la capa de
imprimación metálica residual provoca un descenso en la transmisión
de luz visible. Adicionalmente, la cantidad y espesor de la capa de
imprimación metálica residual dejada después de la aplicación de la
capa antireflexiva posterior tiene un efecto sobre las propiedades
físicas del revestimiento, tal como la dureza del substrato
revestido. Por tanto, es importante aplicar solamente tanta capa de
imprimación metálica como sea posible oxidar durante la
pulverización de la capa antireflexiva posterior. No obstante,
controlando el espesor de la capa de imprimación metálica hasta un
grado de exactitud requerido, por ejemplo,
0,001-0,003 \mum (10-30
\ring{A}), posee una complejidad de proceso significativa. Es
difícil el control del espesor exacto dentro, por ejemplo de una
capa atómica. Además, es difícil el control de la oxidación de la
capa de imprimación metálica. Además de las limitaciones con la
oxidación incompleta de la capa de imprimación, con dispositivos de
revestimiento convencionales, se gasta espacio de revestimiento
valioso debido a la necesidad de tener zonas de revestimiento
metálico reflexivo infrarrojo libres de oxígeno, discretas separadas
de las zonas de revestimiento antireflexivo que contiene
oxígeno.
Adicionalmente, si el substrato revestido debe
tratarse con calor adicionalmente, tal como por flexión, refuerzo
térmico o atemperación, puede incrementarse el espesor de la capa de
imprimación metálica durante el procesamiento para dejar la capa de
imprimación metálica residual no oxidada suficiente para la
protección de la capa de plata durante un tratamiento térmico
posterior de este tipo. Esto significa que para fines comerciales,
deben mantenerse normalmente dos inventarios del substrato
revestido, uno que tiene una capa de imprimación oxidada,
relativamente fina capaz de uso inmediato y otra que tiene una capa
de imprimación relativamente más gruesa con capa de imprimación
metálica no oxidada para uso después del tratamiento térmico
adicional. No obstante, es normal para las propiedades de
revestimiento, tales como calor, transmisión y turbiedad que se vean
afectadas por el posterior tratamiento térmico de los substratos
revestidos de baja emisividad convencionales con capas de
imprimación incluso más gruesas.
El documento
GB-A-2 311 540 describe un substrato
transparente revestido que comprende un apilamiento de revestimiento
de cinco capas que incluye la secuencia de capa no absorbente/capa
metálica/capa no absorbente. El material no absorbente incluye óxido
de estaño, óxido de cinc, nitruro de silicio, estanato de cinc. Cada
capa no absorbente puede formarse de capas subsidiarias reflexivas
de diferente composición. La capa metálica comprende plata, aleación
de plata (aleación con Pt o Pd), las capas son pulverizadas
depositadas en una atmósfera adecuada, que es gas oxígeno para un
revestimiento óxido y un gas inerte, tal como Argón para la capa
metálica.
El documento
EP-A-747 330 describe un substrato
de vidrio que tiene encima un revestimiento de múltiples capas. La
primera capa es una capa de óxido metálico, la segunda capa es una
capa de TaO_{x} o ZnTa_{x} o ZnO_{x} estequiométrica. La
tercera capa es una capa metálica (Ag), la cuarta capa es una capa
de bloqueo (o bien un metal o un óxido estequiométrico seleccionado
de Ti, Cr, Nb) y la quinta capa es una capa de óxido metálico. El
óxido y las capas de óxido estequiométricas son depositadas por
pulverización en una atmósfera que contiene oxígeno.
El documento
EP-A-803 481 hace referencia a un
artículo revestido transparente de múltiples capas. La primera capa
es una capa antireflexiva que puede comprender dos
sub-capas de diferente composición. La segunda capa
es una capa metálica reflexiva y la tercera capa es una capa de
imprimación, la cuarta capa es una capa antireflexiva. La capa de
imprimación es de un metal de captura de oxígeno, tal como Ti para
proteger la capa metálica de oxidación durante la exposición de la
segunda capa antireflexiva. Las capas de óxido metálico son
depositadas por pulverización en una atmósfera que contiene 80 de
oxígeno y 20% de Argón.
A partir del documento
EP-A-464 789 se conoce un artículo
transparente revestido de múltiples capas. La secuencia es una capa
de óxido y una capa metálica formadas de forma alternativa sobre el
substrato, siendo la capa más interior un óxido. La capa de óxido
más interior puede incluir dos sub-capas de
diferentes materiales, tales como ZnO y SnO_{2}. El óxido de cinc
puede ser bonificado con al menos uno de Al, Si, B, Ti, Sn, Mg y Cr.
Cuando la película de óxido es depositada con pulverizador desde un
cátodo metálico en una atmósfera que contiene oxígeno, en primer
lugar, debe depositarse una película de imprimación metálica fina en
una atmósfera no oxidante sobre la película metálica, con el fin de
prevenir la oxidación de la capa metálica durante la deposición del
óxido metálico. La deposición por pulverización que utiliza un
objetivo metálico es realizada o bien en una atmósfera de Argón o en
una atmósfera de argón que contiene oxígeno.
El objeto de la invención es proporcionar un
revestimiento que tiene una o más capas metálicas reflexivas
infrarrojas sin la necesidad de capas de imprimación metálicas
convencionales y un método de fabricación de las mismas.
Este objeto se alcanza por un método de formación
de un artículo revestido transparente, que comprende las etapas
de:
- (i)
- depositar con pulverización una primera capa metálica reflexiva infrarroja sobre un substrato transparente; y
- (ii)
- pulverizar un cátodo de cerámica conductor en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y controlar el contenido de oxígeno en dicha atmósfera para que sea mayor de cero hasta 20% en volumen de oxígeno para depositar una primera capa de cerámica de óxido de metal bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja.
Este objeto se alcanza también formando un
artículo revestido transparente que comprende las etapas de: (i)
depositar por pulverización una primera capa antireflexiva sobre un
substrato transparente; y (ii) depositar por pulverizador una
primera capa metálica reflexiva infrarroja sobre la primera capa
antireflexiva; y (iii) pulverizar un cátodo de cerámica conductora
en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y
controlar el contenido de oxígeno en dicha atmósfera que es mayor de
cero hasta 20% en volumen de oxígeno para depositar una primera capa
de cerámica de óxido de metal bonificado con metal sobre la primera
capa metálica reflexiva infrarroja.
Alternativamente, el objeto es alcanzado por un
método de formación de un artículo revestido transparente, que
comprende las etapas de (i): pulverizar un cátodo cerámico conductor
en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y
que controla el contenido de oxígeno en dicha atmósfera que es mayor
de cero a 20% en volumen de oxígeno para depositar una primera capa
de cerámica de óxido de metal bonificado con metal sobre un
substrato transparente; (ii) depositar por pulverizador una primera
capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre la primera capa de
cerámica; y (iii) depositar por pulverizador en una atmósfera como
en la etapa (i) una segunda capa de cerámica de óxido de metal
bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva
infrarroja.
El objeto se alcanza alternativamente por un
método de formación de un artículo revestido transparente, que
comprende las etapas de: (i) depositar por pulverización una primera
capa antireflexiva sobre un substrato transparente; y (ii)
pulverizar un cátodo de cerámica conductora en una atmósfera inerte
que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y controlar el contenido
de oxígeno en dicha atmósfera que es mayor de cero a 20% en volumen
de oxígeno para depositar una primera capa de cerámica de óxido de
metal bonificado con metal sobre la primera capa antireflexiva;
(iii) depositar por pulverización una primera capa metálica
reflexiva infrarroja sobre la primera capa de cerámica; y (iv)
depositar por pulverización en una atmósfera como en la etapa (ii)
una segunda capa de cerámica de óxido de metal bonificado con metal
sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja.
Un artículo revestido, por ejemplo, una
transparencia para automóvil, por ejemplo, parabrisas o venta
arquitectónica, fabricado de acuerdo con la invención, tiene un
substrato con una capa metálica reflexiva infrarroja, por ejemplo,
una capa de plata, depositada sobre el substrato y una capa de
cerámica, por ejemplo, una capa de óxido de cinc bonificada con
aluminio, depositada preferentemente desde un cátodo de cerámica
sobre la capa de plata. Las capas antireflexivas o de cerámica
adicionales de óxido de metal bonificado con metal pueden ser
depositadas por debajo de la capa metálica reflexiva infrarroja o
sobre la capa de cerámica de óxido de metal bonificado con
metal.
La invención proporciona un método de
pulverización de un apilamiento de revestimientos de múltiples capas
que tiene un metal reflexivo infrarrojo, por ejemplo, plata, sobre
un substrato por pulverización de un cátodo metálico reflexivo
infrarrojo para depositar una capa reflexiva infrarroja sobre el
substrato y pulverizar después un cátodo de cerámica, tal como un
cátodo de óxido de cinc bonificado con aluminio para depositar una
capa de cerámica no sacrificial de óxido de metal bonificado con
metal sobre la capa de plata. La capa de plata y la capa de cerámica
puede pulverizarse cada una en una atmósfera inerte que contiene un
bajo porcentaje de oxígeno, por ejemplo, en la misma cámara de
revestimiento de un dispositivo de revestimiento con el contenido de
oxígeno controlado de una manera que se describe hasta un nivel para
reducir al mínimo los efectos no deseados sobre la capa de plata. El
contenido de oxígeno puede ser regulado para que sea mayor de cero
hasta 20% en volumen para prevenir la resistividad de la capa de
plata procedente del aumento hasta un nivel no preferido, por
ejemplo, incrementar por una cantidad igual a 75% o mayor la
resistividad de una capa de plata de espesor similar pulverizada en
una atmósfera inerte no reactiva. Las capas de cerámica o
antireflexivas adicionales pueden depositarse por debajo de la capa
de plata o sobre la capa de cerámica de óxido de metal bonificado
con metal.
Un dispositivo de revestimiento está previsto
también para pulverizar un revestimiento de múltiples apilamientos
que tiene un metal reflexivo infrarrojo, por ejemplo, plata, sobre
un substrato. El dispositivo de revestimiento incluye un cátodo
metálico reflexivo infrarrojo con al menos un cátodo de cerámica
situado aguas abajo y, preferentemente, espaciado desde y adyacente
al cátodo metálico reflexivo infrarrojo. El cátodo metálico
reflexivo infrarrojo y el cátodo de cerámica pueden estar
localizados en la misma zona de revestimiento.
La figura 1 es una vista fragmentada, lateral de
un dispositivo de revestimiento que tiene la pared lateral retirada
para los fines de claridad y que utiliza los principios de la
invención.
La figura 2 es una vista lateral de un substrato
que tiene un revestimiento de múltiples capas que incorpora las
características de la invención.
La figura 3 es un gráfico de velocidad de
deposición con respecto a porcentaje de oxígeno para los
experimentos descritos en la Tabla 1.
La figura 4 es un gráfico de absorción con
respecto al porcentaje de oxígeno para los experimentos descritos en
la Tabla 1.
La figura 5 es un gráfico de resistencia de
lámina y emisividad con respecto al porcentaje de oxígeno para los
experimentos descritos en la Tabla 2; y
La figura 6 es un gráfico de transmisión con
respecto al porcentaje de oxígeno para los experimentos descritos en
la Tabla 2.
Para los fines de la descripción de aquí en
adelante, los términos "por encima", "por debajo",
"derecha", "izquierda", "superior", "inferior",
e indicaciones espaciales similares deberán estar relacionados con
la invención, tal como se orienta en las figuras. No obstante, debe
entenderse que la invención puede asumir varias variaciones
alternativas y secuencias de etapa, excepto donde se especifique
expresamente lo contrario. Debe entenderse también que el
dispositivo de revestimiento específico y los procesos de
revestimiento ilustrados en los dibujos adjuntos, y descritos en la
siguiente memoria descriptiva, son simplemente formas de realización
ejemplares de la invención. Por tanto, las dimensiones específicas y
otras características físicas relacionadas con las formas de
realización descritas aquí no deben considerarse como limitación. El
término "cerámica" utilizado aquí hace referencia generalmente
a materiales que comprenden compuestos de elementos metálicos y no
metálicos y el término "capa de cerámica" hace referencia a una
capa de óxido de metal bonificado con metal depositada desde un
cátodo de "cerámica conductora". El término "sobre"
significa por encima, pero no necesariamente adyacente a o en
contacto con.
Con el fin de apreciar completamente el método de
revestimiento y el artículo revestido resultante, se describirá en
primer lugar un dispositivo de revestimiento que utiliza las
características de la invención. El dispositivo de revestimiento es
designado con 10 en la figura 1 e incluye una primera zona de
revestimiento 12, una segunda zona de revestimiento 14 y una tercera
zona de revestimiento 16. Un transportador 18 está configurado para
mover un substrato 20 que debe ser revestido a través de las zonas
12, 14 y 16 a una velocidad seleccionada. El substrato puede ser de
cualquier material, por ejemplo, pero sin limitarse a la invención,
plástico, vidrio claro o tintado, metal, cerámica de vidrio. Las
zonas 12, 14 y 16 son aisladas entre sí de cualquier manera, por
ejemplo, por etapas o entre-etapas separadas
estructuralmente que tienen bombas turbomoleculares o de difusión
para ayudar a prevenir que los gases procedentes de una zona se
difundan en una zona adyacente como se indica por líneas de trazos
en la figura 1.
La primera zona 12 incluye uno o más soportes de
cátodos 24 para recibir un objetivo del cátodo 26 para
pulverización. La tercera zona 16 es similar a la primera zona 12 e
incluye uno o más soportes de cátodos 28 para recibir uno o más
objetivos de cátodo 30.
En una forma de realización de la invención, la
segunda zona 14 tiene dos soportes de cátodos 34 y 36, cada uno
sujetando un objetivo de cátodo 38 y 40, respectivamente. Para
facilitar la descripción, los objetivos del cátodo serán referidos
de aquí en adelante, simplemente como "cátodos". El cátodo 38
es un cátodo metálico reflexivo infrarrojo convencional, tal como
plata, poro, etc. El otro cátodo 40 es un cátodo cerámico conductor
que incorpora, por ejemplo, un oxido metálico que es bonificado para
ser conductor, por ejemplo, un cátodo de óxido de cinc bonificado
con aluminio disponible de Cerac Company of Milwaukee, Wisconsin. El
cátodo cerámico conductor 40 es utilizado en lugar del cátodo de
imprimación metálico de la técnica anterior.
Se describirán a continuación los métodos de
pulverización de un apilamiento de revestimiento de múltiples capas
de acuerdo con las características de la invención. Para los fines
de descripción inicial, y que no deben considerarse como limitación
de la invención, los cátodos 26 y 30 en la primera y tercera zonas
12 y 16 pueden ser cátodos metálicos convencionales, por ejemplo,
cátodos de cinc y/o cátodos de aleación de cinc y estaño, del tipo
descrito en el documento
US-A-4.610.177, o cátodos de cinc o
cátodos de silicio del tipo utilizado en la técnica para depositar
una capa antireflexiva. En este caso, la primera y tercera zonas 12
y 16 contendrán atmósferas reactivas convencionales, por ejemplo,
ricas en oxígeno. El cátodo reflexivo infrarrojo 38 puede ser un
cátodo de plata y el cátodo de cerámica 40 puede ser un cátodo de
óxido de cinc bonificado con aluminio.
El substrato 20, por ejemplo, una lámina de
vidrio, se mueve por el transportador 18 dentro de la primera zona
de revestimiento 12 y se activa el cátodo 26, por ejemplo, un cátodo
de aleación de cinc y estaño. Una capa de estanato de cinc es
depositada sobre el substrato 20 de una manera convencional. La capa
de estanato de cinc tiene preferentemente un espesor de
0,002-0,1 \mum (20-1000
\ring{A}), preferentemente, de 0,01-0,04 \mum
(100-400 \ring{A}), más preferentemente, de
0,02-0,035 \mum (200-350
\ring{A}).
El substrato revestido con estanato 20 se mueve
por el transportador 18 dentro de la segunda zona de revestimiento
14 y bajo el cátodo activado 38. Una capa reflexiva infrarroja, por
ejemplo, preferentemente una capa de plata de
0,008-0,015 \mum (80-150
\ring{A}), se deposita sobre la capa de estanato de cinc desde el
cátodo de plata 38 de una manera convencional. Después de que la
capa de plata es depositada, el cátodo cerámico, de óxido de cinc
bonificado con aluminio 40 es pulverizado para depositar la capa de
óxido de cinc bonificado con aluminio sobre la capa de plata. Como
puede apreciarse, algunos o todos los cátodos pueden activarse
continuamente durante el proceso de deposición, o los cátodos pueden
activarse antes de la deposición y desactivarse después de la
deposición. Como se describe más detalladamente a continuación, la
atmósfera para pulverizar el cátodo de cerámica 40 contiene oxígeno,
desde mayor de 0-20% en volumen. Cuando el cátodo de
cerámica 40 es pulverizado con plasma, los átomos de cinc, aluminio
y oxígeno son expulsados del cátodo cerámico 40, o bien de forma
separada o como especies de múltiples átomos. Estos átomos se
recombinan sobre el substrato 20 para formar una capa cerámica de
óxido de cinc bonificado con aluminio sobre la capa de plata. Cuando
se utiliza como una capa protectora, la cantidad mínima de material
cerámico aplicado debería ser aquella que ofrezca una cobertura
uniforme sobre la plata para prevenir la interrupción cuando la capa
antireflexiva posterior es pulverizada y la cantidad máxima es
limitada generalmente desde el punto de vista económico del proceso
de revestimiento y, por ejemplo, puede ser del orden de
0,002-0,01 \mum (20-100
\ring{A}), preferentemente de 0,003-0,008 \mum
(30-80 \ring{A}), y más preferentemente de
0,004-0,005 \mum (40-50
\ring{A}) sin impactar de forma adversa en las propiedades de
revestimiento. El método de la invención reduce o elimina el
problema de aleación de metal a metal asociado con las capas de
imprimación metálicas de la técnica anterior como se describe
previamente.
Aunque la descripción anterior está enfocada
sobre el uso de óxido de cinc bonificado con aluminio como el
material cerámico preferido, pueden utilizarse también otros
materiales cerámicos conductores que producen capas muy
transparentes de bajo contenido en oxígeno. Por ejemplo, y no
considerado como limitación de la invención, el material de cátodo
cerámico puede incluir óxido de estaño, óxido de indio y/u óxido de
cinc con bonificadores tales como indio, cinc, antimonio, cadmio y/o
fluor añadidos para formar cátodos cerámicos conductores tales como
óxido de estaño bonificado con antimonio, óxido de estaño bonificado
con fluor, óxido de estaño bonificado con indico, óxido de indio
bonificado con estaño y óxido de cinc bonificado con indico.
En los procesos de revestimiento por
pulverización convencionales, la capa metálica reflexiva infrarroja
y la capa de imprimación metálica son depositadas en una atmósfera
libre de oxígeno para prevenir la ruptura de la capa de plata por
oxidación. No obstante, se ha determinado que la pulverización de un
cátodo cerámico que contiene oxígeno en una atmósfera libre de
oxígeno puede dar lugar a la pérdida de oxígeno del material
cerámico pulverizado a la fase de gas. Este oxígeno puede bombearse
entonces fuera por las bombas de difusión de las
inter-etapas. Adicionalmente, parte del oxígeno del
material de cátodo cerámico puede reaccionar con el material de
revestimiento depositado sobre las paredes u otras áreas superficies
libres del dispositivo de revestimiento para reducir la cantidad
total de oxígeno disponible para formar la capa cerámica. Por tanto,
la capa cerámica resultante, tal como una capa de óxido de cinc
bonificada, depositada sobre la capa de plata en la atmósfera libre
de oxígeno puede tener una relación de contenido de metal más
grande, por ejemplo, relación de cinc y aluminio respecto a oxígeno
que la estequiométrica. Con el fin de calcular esta pérdida de
oxígeno, puede utilizarse una cantidad pequeña, por ejemplo, mayor
de 0 y menor de 20% en volumen, preferentemente,
3-10% en volumen de oxígeno, puede utilizarse en la
atmósfera de pulverización en la segunda zona 14. Esta cantidad
pequeña de oxígeno en la atmósfera de la zona tiene un efecto
despreciable sobre la velocidad de deposición y las propiedades de
la plata durante la pulverización, no obstante, esta pequeña
cantidad de oxígeno da lugar a una capa de cerámica oxidada
completamente, por ejemplo, que tiene una relación de metal respecto
a oxígeno substancialmente estequiométrica, sobre la capa de plata.
El contenido de oxígeno debería regularse para prevenir un aumento
en la resistividad de la capa de plata mayor de una cantidad igual a
aproximadamente el 75% de la resistividad de una capa de plata de
espesor similar pulverizado en una atmósfera inerte, por ejemplo,
argón, preferentemente por una cantidad menor del 50%, más
preferentemente por una cantidad menor de 30% y, más
preferentemente, 0%, es decir, sin cambios. Como se apreciará por un
técnico en la materia, la resistividad de la capa de plata varía con
el espesor de la capa de plata. Una descripción de la relación entre
la resistividad y el espesor de la película está prevista en
Materials Research Society Bulletin, Volumen XXII, Número 9,
Septiembre de 1997. Por ejemplo, para una capa de plata depositada
sobre una capa de base de estanato de cinc amorfo, la resistividad
varía de aproximadamente 10,75 \mu \Omega cm a un espesor de
aproximadamente 60 a una resistividad de aproximadamente 4,5 \mu
\Omega cm a un espesor de aproximadamente 0,03 \mum (300
\ring{A}). Por tanto, por ejemplo, y no considerado como
limitación a la invención, para una capa de plata de 0,006 \mum
(60 \ring{A}) de espesor depositada sobre una capa de estanato de
cinc amorfo de cuerdo con las enseñanzas de la invención, la
cantidad de oxígeno añadida debería no dar lugar preferentemente a
un aumento de resistividad de la capa de plata por una cantidad de
más de 8,1 \mu \Omega cm (0,75 x 10,75 \mu \Omega cm), es
decir, una resistividad final de 18,85 \mu \Omega cm,
preferentemente, por no más de 5,4 \mu \Omega cm (0,5 x 10,75
\mu \Omega cm) y más preferentemente por no más de 3,2 \mu
\Omega cm (0,30 x 10,75 \mu \Omega cm), y más preferentemente
ningún cambio, es decir, 0 \mu \Omega cm en la capa de
plata.
La capa de óxido de cinc bonificado con alumno
sobre la capa de plata protege la capa de plata durante la posterior
deposición de pulverización de la segunda capa dieléctrica en la
tercera zona 16. Adicionalmente, aunque se activa el cátodo cerámico
40 actúa como un dispositivo de barrido para oxígeno que puede
difundirse en la segunda zona 14 desde la primera y tercera zonas 12
y 16, es decir, este oxígeno difundido puede combinarse con el
material de cátodo pulverizado para ayudar a formar la capa
cerámica. A este respecto, otro cátodo cerámico, el cátodo 41
mostrado en líneas imaginarias en la figura 1 puede ser colocado de
forma operativa aguas arriba del cátodo de plata 38 para barrer el
oxígeno sobre el lado aguas arriba del cátodo de plata 38. Después
de que se deposita la capa cerámica, el transportador 18 mueve el
substrato en la tercera zona 16, donde se deposita una capa de
estanato de cinc sobre la capa de cerámica de forma convencional.
Como se muestra en la figura 1, pueden estar presentes los cátodos
adicionales 126 y 130 mostrados en líneas imaginarias en la primera
y tercera zonas 12 y 16, respectivamente. Por ejemplo, los cátodos
126 y 130 pueden ser cátodos de cinc para depositar una capa de
óxido de cinc, sobre la capa de estanato de cinc adyacente y bajo la
capa de plata adyacente del revestimiento.
El substrato 18 puede moverse entonces en otras
zonas similares a las zonas 12, 14 y 16, para la aplicación de capas
de revestimiento adicionales para producir, por ejemplo, una
estructura de substrato revestido de múltiples capas mecánicamente
duradera 82 del tipo mostrado en la figura 2.
La estructura de substrato revestido 82 tiene una
primera capa antireflexiva 84, que puede incluir uno o más tipos
diferentes de materiales antireflexivos o una o más películas de
diferentes materiales antireflexivos, por ejemplo, una capa de óxido
de cinc sobre una capa de estanato de cinc; un primer metal
reflexivo infrarrojo, por ejemplo, capa de plata 86; una primera
cerámica, por ejemplo, capa 88 de óxido de cinc bonificado con
aluminio; una segunda capa antireflexiva 90, que puede incluir uno o
más tipos diferentes de materiales antireflexivos o una o más
películas de diferentes materiales antireflexivos, por ejemplo, una
capa de óxido de cinc sobre una capa de estanato de cinc; una
segunda capa de plata 92; una segunda capa de óxido de cinc
bonificada con aluminio 94; una tercera capa antireflexiva 96, que
puede incluir uno o más tipos diferentes de materiales
antireflexivos o una o más películas de diferentes materiales
antireflexivos, por ejemplo, una capa de óxido de cinc sobre una
capa de estanato de cinc; y una sobrecapa protectora 98 del tipo
conocido en la técnica, por ejemplo, una capa de óxido de titanio o
capa de oxinitruro de silicio graduado. La referencia puede haberse
hecho al documento US-A-5.821.001
para los ejemplos de películas múltiples en una capa antireflexiva y
al documento US-A-(s)-4.716.086 y
4.786.563, para ejemplos de sobrecapas protectoras.
Las capas de óxido de cinc bonificado con
aluminio de la presente invención proporcionan características
físicas y ópticas mejoradas y eliminan o reducen los problemas
asociados con las capas de imprimación metálicas utilizadas
actualmente. Puesto que la capa de óxido de cinc bonificado con
aluminio es transparente y tiene un índice refractivo similar a los
materiales dieléctricos convencionales, tales como estanato de cinc.
El espesor de la capa de óxido de cinc bonificado con aluminio es
generalmente no crítica en la formación de revestimientos
transparentes, es decir, las propiedades del substrato revestido no
se ven afectadas típicamente de forma adversa por el espesor de la
capa de óxido de cinc bonificado con aluminio. Los componentes de
capacidad de transmisión y reflexión del substrato de vidrio
revestido no se ven afectados adversamente, como lo estarían con la
capa protectora metálica de la técnica anterior. No obstante, el
espesor total de la capa de óxido de cinc bonificado con aluminio y
la capa antireflexiva adyacente tendrá que controlarse para mantener
un espesor óptico deseado, por ejemplo, si se incrementa el espesor
de la capa de óxido de cinc bonificado con aluminio, el espesor de
la capa antireflexiva adyacente tendrá que reducirse para mantener
el espesor óptico deseado para un color deseado particular. Si el
índice refractivo de la capa de óxido de cinc bonificado con
aluminio es substancialmente diferente del de la capa dieléctrica
adyacente, los espesores de estas capas pueden tener que ser
ajustados para mantener un espesor óptico deseado para un color
deseado. Los monitores ópticos convencionales (no mostrado) pueden
estar presentes en el dispositivo de revestimiento 10 para permitir
que el espesor de las capas de revestimiento sea supervisado y
controlado.
Adicionalmente, la capa de óxido de cinc
bonificado con aluminio mejora las propiedades físicas del substrato
revestido, tal como dureza. Adicionalmente, un substrato que utiliza
una capa de óxido de cinc bonificado con aluminio en lugar de una
capa de imprimación convencional puede tratarse con calor
posteriormente, por ejemplo, para flexionar, atemperar o reforzar
con calor el substrato de vidrio revestido. Puesto que la
transmisión de la capa de imprimación de cerámica no cambia
significativamente después del calentamiento, en comparación con un
revestimiento que incluye una capa de imprimación metálica gruesa,
puede utilizarse un substrato revestido tanto para aplicaciones con
calor o aplicaciones sin calor, eliminado el requerimiento de
inventarios separados de substratos revestidos necesitados de
sistemas de la técnica anterior. Como puede apreciarse, en el
ejemplo donde la capa de imprimación cerámica es subestequiométrica,
el calentamiento de la capa de imprimación cerámica se espera que
forme una composición más oxidada cambiando la transmisión de la
capa de imprimación cerámica y, por tanto, cambiando la transmisión
del artículo revestido.
Aunque en el proceso descrito anteriormente, los
cátodos 26 y 30 en la primera y tercera zonas 12 y 16,
respectivamente, fueron cátodos de aleación de cinc y estaño
convencionales, uno o ambos de estos cátodos 26 y 30 podría ser
cerámica, por ejemplo, cátodo de óxido de cinc bonificado con
aluminio para sustituir las capas antireflexivas convencionales 84,
90 con capas de óxido de cinc bonificadas con aluminio.
Se realizaron muestras para estudiar los efectos
de depositar una capa de óxido de cinc bonificado con aluminio a
partir de un cátodo cerámico sobre un substrato de vidrio y también
sobre un substrato revestido con múltiples apilamientos. Todas estas
muestras descritas a continuación fueron fabricadas con un sistema
de deposición convencional Airco ILS 1600 que utiliza una presión
del sistema de aproximadamente 532 mPa (4ºmTorr) y ajustes de
potencia entre 0,5-1,5 kW. Se muestran en las Tablas
1 y 2, respectivamente, los parámetros de deposición y los
resultados para la deposición de una capa de óxido de cinc
bonificado con aluminio sobre un substrato de vidrio y también para
la deposición de un revestimiento de baja emisividad que contiene
plata con capas de imprimación de óxido de cinc bonificadas con
aluminio sobre un substrato de vidrio.
Las muestras indicadas en la Tabla 1 se
prepararon por la deposición de una capa de óxido de cinc bonificada
con aluminio directamente sobre substratos de vidrio flotante claro
30,48 cm^{2} (doce pulgadas cuadradas) y 2,3 mm (0,09 pulgadas) de
espesor de un modo convencional, es decir, haciendo pasar
sucesivamente el substrato bajo el cátodo durante el
revestimiento.
La figura 3 muestra un diagrama de velocidad de
deposición con respecto a porcentaje de oxígeno en el flujo de
vidrio total para la preparación de estas muestras. Los dos
conjuntos de datos corresponden con los diferentes niveles de
potencia de deposición para el sistema de deposición de Arico ILS
1600. La figura 4 muestra la capacidad de absorción de las películas
finas de los mismos materiales con espesores de
0,05-0,18 \mum (500-1800
Angstroms). En argón puro, la capacidad de absorción de la capa
cerámica depositada es alta, indicando que la capa es un material
muy reducido. No obstante, si el 5% o más de oxígeno se añade a la
zona o cámara de pulverización, la capacidad de absorción de la capa
es reducida bruscamente (figura 4), aunque la caída en la velocidad
de deposición (Figura 3), por la comparación, es pequeña. Es
interesante, mostrado en las figuras 3 y 4, que niveles más altos de
oxígeno que dan lugar a velocidades de deposición incluso más bajas
no dan lugar a niveles inferiores de absorción, es decir, con un
nivel muy pequeño de oxígeno en el flujo de gas, la película
depositada se oxida esencialmente completa.
Los resultados indicados en la Tabla 2 son para
revestimientos de múltiples apilamientos depositados en substratos
de vidrio flotante claro 30,48 cm^{2} (12 pulgadas cuadradas) y
2,3 mm (0,09 pulgadas) de espesor. El apilamiento de revestimientos
comprendió una primera capa de estanato de cinc depositada
directamente sobre el substrato de vidrio flotante claro; una
primera capa de plata depositada sobre la primera capa de estanato
de cinc; una primera capa de óxido de aluminio bonificado con
aluminio depositada desde un cátodo de cerámica sobre la primera
capa de plata; una segunda capa de estanato de cinc depositada sobre
la primera capa de óxido de cinc bonificado con aluminio; una
primera capa de óxido de cinc depositada sobre la segunda capa de
estanato de cinc; una segunda capa de plata depositada sobre la
primera capa de óxido de cinc; una segunda capa de óxido de cinc
bonificado con aluminio depositada desde un cátodo cerámico sobre la
segunda capa de plata; una segunda capa de óxido de cinc depositada
sobre la segunda capa de óxido de cinc bonificado con aluminio; y
una sobrecapa de óxido de titanio depositada sobre la segunda capa
de óxido de cinc. La resistencia al cizallamiento, ensayos de cinta
y de turbiedad se realizan sobre los substratos revestidos de forma
convencional y los resultados se muestran en la Tabla 2. Por
ejemplo, el ensayo de la cinta se lleva a cabo aplicando una pieza
de cinta de marca Scotch sobre la superficie de revestimiento,
presionando la cinta con la mano contra el revestimiento y tirando
después de la cinta hacia fuera para determinar visualmente si se ha
delaminado el revestimiento. Si no existe delaminacion, se registra
un grado de pasada (P) y si existe delaminación, se registra un
grado de fallo (F). El ensayo de turbiedad fue también un ensayo
visual para determinar de forma cualitativa la cantidad de turbiedad
de revestimiento desde A* (significa no turbiedad) hasta D^{-}
(muy turbio). El ensayo de resistencia al cizallamiento se llevó a
cabo recorriendo en el substrato revestido veinte veces con una tela
húmeda seguido por un régimen visual de A*, que significa alta
resistencia al cizallamiento, hasta D^{-} que significa baja
resistencia al cizallamiento. En la Muestra Nº 14 de la Tabla 2, a
30% de oxígeno, la capa de revestimiento estaba muy fracturada y,
por tanto, no se registró ningún resultado de turbiedad. Los
ejemplos de tales ensayos se describen en el documento
US-A-5.821.001 citados previamente.
A partir de los resultados anteriores, para una cámara Airco ILS
1600 que utiliza una presión de gas de trabajo total de 0,532 mPa (4
torres) y una potencia de cátodo de 0,5-1,5 kW, la
región preferida para pulverizar un cátodo de óxido de cinc
bonificado con aluminio no absorbente parece que está entre
3-10% en volumen de oxígeno, preferentemente,
3-5% en volumen de oxígeno. No obstante, se
apreciará por un técnico en la materia, este intervalo podría
diferenciarse para otros dispositivos de revestimiento o para otras
presiones o ajustes de potencia. Como se muestra en las figuras 5 y
6, puede obtenerse un mínimo de emisividad de 0,045 con
3-5% en volumen de oxígeno. Esto se compara
favorablemente con la emisividad reproducible de 0,05 para
revestimientos donde se utilizan las capas de imprimación de titanio
convencionales. De manera similar, en este intervalo de flujo de
oxígeno parcial, se observan la máxima conductividad y transmisión
del revestimiento. A la inversa, las características del
revestimiento anterior son degradadas progresivamente a medida que
se incrementa la cantidad de oxígeno en el gas. El intervalo óptimo
de la concentración de oxígeno se corresponde con el intervalo donde
la velocidad de deposición del óxido de cinc bonificado con aluminio
oxidado completamente es la más alta. Para el sistema Airco ILS 1600
descrito anteriormente, el contenido óptimo de oxígeno se encontró
que estaba entre 3-5% en volumen. Este intervalo
óptimo puede variar con otros sistemas del modelo. Preferentemente,
como se describe anteriormente, la cantidad de oxígeno debería dar
lugar a un aumento en la resistividad de la capa de plata. Haciendo
referencia a la figura 5, en este sistema, esto corresponde con una
presencia de oxígeno de 10% en volumen o menor. No obstante, como se
muestra también en la figura 5, una presencia de oxígeno de hasta
20% en volumen, da lugar todavía a un revestimiento con un nivel
aceptable de emisividad. No obstante, como se describe
anteriormente, la cantidad máxima de oxígeno no debería ser mayor
que la que produce un aumento de 30%-75% en la resistividad de la
capa de plata para un espesor dado calculado con respecto a una capa
de plata de espesor similar pulverizado en una atmósfera inerte, por
ejemplo, argón.
En el caso de que se desee una capa de
imprimación de absorción pero estable, por ejemplo, para un producto
revestido con bajo coeficiente de sombreado y/o baja emisividad, el
cátodo cerámico puede ser pulverizado en una atmósfera inerte o una
atmósfera que contiene menos de 3% de gas reactivo, por ejemplo,
oxígeno para proporcionar una capa de imprimación cerámica de
absorción ópticamente estequiométrica. Como se utiliza en la
descripción de la presente invención, una capa estable es una capa
que no cambia químicamente durante el uso normal del producto
revestido que tiene la capa estable y se espera que cambie cuando la
capa estable es calentada durante la fabricación del producto
final.
En una forma de realización alternativa de la
invención, los cátodos 26 y 30 en la primera y tercera zonas 12 y 16
puede sustituirse con cerámica, por ejemplo, cátodos de óxido de
cinc bonificado con aluminio. Pueden eliminarse el soporte de
cátodos 36 y el cátodo 40 en la segunda zona 14. La cantidad de
oxígeno en la primera y tercera zonas 12 y 16 puede controlarse como
se describe anteriormente, de manera que las capas cerámicas
depositadas desde los cátodos 26 y 30 son oxidadas substancialmente
de forma completa. Por tanto, la capa cerámica, por ejemplo, una
capa de óxido de cinc bonificado con aluminio, puede depositarse
tanto debajo como sobre la capa de plata.
Las capas de plata y cerámica adicionales pueden
aplicarse para formar un apilamiento de múltiples capas. En esta
forma de realización de la invención, la cerámica, por ejemplo,
óxido de cinc bonificado con aluminio es utilizado no solamente como
una capa protectora para la capa de plata sino que comprende también
todas las capas antireflexivas. Reduciendo el número de posiciones
de cátodos, la complejidad del dispositivo de revestimiento puede
reducirse sobre los requeridos para los dispositivos de
revestimiento de la técnica anterior.
Aunque las formas de realización preferidas de
los dispositivos de revestimiento descritos anteriormente son
dispositivos de revestimiento continuos, los principios de la
invención son aplicables a otros tipos de dispositivos de
revestimiento, tales como dispositivos de revestimiento
discontinuos. Además, los metales reflexivos infrarrojos y
antireflexivos pueden ser de cualquier tipo convencional, tal como
los descritos anteriormente.
Claims (21)
1. Un método de formación de un artículo
revestido transparente, que comprende las etapas de:
- (i)
- depositar por pulverización una primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre un substrato transparente (20); y
- (ii)
- pulverizar un cátodo cerámico conductor (40) en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y que controla el contenido de oxígeno en dicha atmósfera que es mayor de cero hasta 20% en volumen de oxígeno para depositar una primera capa cerámica (88) de óxido metálico bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86).
2. Un método de formación de un artículo
revestido transparente, que comprende las etapas de:
- (i)
- depositar por pulverización una primera capa antireflexiva (84) sobre un substrato transparente; y
- (ii)
- depositar por pulverización una primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre la primera capa antireflexiva (84); y
- (iii)
- pulverizar un cátodo cerámico conductor (40) en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y que controla el contenido de oxígeno en dicha atmósfera siendo mayor de cero hasta el 20% en volumen de oxígeno para depositar una primera capa de cerámica (8) de óxido metálico bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86).
3. Un método de formación de un artículo
revestido transparente, que comprende las etapas de:
- (i)
- pulverizar un cátodo cerámico conductor (40) en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y que controla el contenido de oxígeno en dicha atmósfera para que sea mayor de cero hasta 20% en volumen del oxígeno para depositar una primera capa cerámica (88) de óxido de metal bonificado con metal sobre un substrato transparente (20);
- (ii)
- depositar por pulverización una primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre la primera capa cerámica (8); y
- (iii)
- depositar por pulverización en una atmósfera como en la etapa (i) una segunda capa cerámica (94) de óxido de metal bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86).
4. Un método de formación de un artículo
revestido transparente, que comprende las etapas de:
- (i)
- depositar por pulverización una primera capa antireflexiva (84) sobre un substrato transparente (20); y
- (ii)
- pulverizar un cátodo cerámico conductor (40) en una atmósfera inerte que contiene un porcentaje bajo de oxígeno y que controla el contenido de oxígeno en dicha atmósfera que es mayor de cero hasta 20% en volumen de oxígeno para depositar una primera capa de cerámica (8) de óxido de metal bonificado con metal sobre la primera capa antireflexiva (84);
- (iii)
- depositar por pulverización una primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre la primera capa de cerámica (88); y
- (iv)
- depositar por pulverización en una atmósfera como en la etapa (ii) una segunda capa de cerámica (94) de óxido de metal bonificado con metal sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86).
5. El método como se indica en la reivindicación
2, que incluye:
- (iv)
- depositar por pulverización una segunda capa antireflexiva (90) sobre la primera capa de cerámica (88).
6. El método como se indica en la reivindicación
5, donde la primera capa antireflexiva (84) se obtiene por
- (i)
- depositar por pulverización una primera capa de estanato de cinc sobre el substrato transparente (20);
- (ii)
- depositar por pulverización una primera capa de óxido de cinc sobre la primera capa de estanato de cinc; y
- (iii)
- depositar por pulverización la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre la primera capa de óxido de cinc; y
- (iv)
- depositar por pulverización la primera capa de cerámica (88) sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86); y la segunda capa antireflexiva (90) se obtiene por
- (v)
- depositar por pulverización una segunda capa de estanato de cinc sobre la primera capa de cerámica (88);
- (vi)
- depositar por pulverización una segunda capa de óxido de cinc sobre la segunda capa de estanato de cinc; y
- (vii)
- depositar por pulverización una segunda capa metálica reflexiva infrarroja (92) sobre la segunda capa de óxido de cinc; y
- (viii)
- depositar por pulverización una segunda capa cerámica (94) sobre la segunda capa metálica reflexiva infrarroja (92); y
- (ix)
- depositar por pulverización una tercera capa de estanato de cinc sobre la segunda capa de cerámica (94); y
- (x)
- depositar por pulverización una sobrecapa protectora (98) sobre la tercera capa de estanato de cinc.
7. El método como se indica en la reivindicación
4, donde la primera capa antireflexiva es una primera capa de
estanato de cinc; y
- (ii)
- depositar por pulverización la primera capa de cerámica (88) sobre la primera capa de estanato de cinc; y
- (iii)
- depositar por pulverización la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86) sobre la primera capa cerámica (88); y
- (iv)
- depositar por pulverización la segunda capa de cerámica (94) sobre la primera capa metálica reflexiva infrarroja (86); y
- (v)
- depositar por pulverización una segunda capa de estanato de cinc sobre la segunda capa de cerámica (94); y
- (vi)
- depositar por pulverización una tercera capa de cerámica sobre la segunda capa de estanato de cinc; y
- (vii)
- depositar por pulverización una segunda capa metálica reflexiva infrarroja (90) sobre la tercera capa de cerámica; y
- (viii)
- depositar por pulverización una cuarta capa de cerámica sobre la segunda capa metálica reflexiva infrarroja (90); y
- (ix)
- depositar por pulverización una tercera capa de estanato de cinc sobre la cuarta capa de cerámica;
- (x)
- depositar por pulverización una sobrecapa protectora (98) sobre la tercera capa de estanato de cinc.
8. El método como se indica en la reivindicación
1, que incluye (iii) depositar por pulverización una capa
antireflexiva sobre la primera capa de cerámica (88).
9. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 8, donde el metal de la capa metálica reflexiva
infrarroja es seleccionado del grupo que consta de plata, oro,
aluminio y cobre.
10. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 9, donde la capa de cerámica es seleccionada
del grupo que consta de óxido de estaño bonificado con indio, óxido
de estaño bonificado con cinc, óxido de estaño bonificado con
antimonio, óxido de estaño bonificado con cadmio, óxido de indio
bonificado con estaño, óxido de cinc bonificado con indio, óxido de
cinc bonificado con aluminio.
11. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 2, 4 a 10, donde la capa antireflexiva es
seleccionada del grupo que consta de estanato de cinc, óxido de
titanio, óxido de estaño, óxido de indio, óxido de cinc, nitruro de
silicio y óxido de bismuto.
12. El método de cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 11, donde el substrato transparente (20) es
vidrio.
13. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 12, que incluye calentar el artículo revestido
que debe doblar, atemperar o reforzar con calor el artículo
revestido.
14. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 6 ó 7, donde la sobrecapa protectora (98) es
seleccionada del grupo que consta de óxido de titanio y oxinitruro
de silicio graduado.
15. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 14, donde las etapas de depositar la capa
metálica reflexiva y la capa cerámica se ponen en práctica en la
misma zona de revestimiento de un dispositivo de revestimiento
previsto para depositar con pulverización un revestimiento de
múltiples apilamientos y que tiene tres zonas de revestimiento, y la
atmósfera en la zona de revestimiento contiene suficiente oxígeno
para oxidar substancialmente la capa de cerámica durante al menos
una de las etapas de deposición.
16. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 15, donde la(s) capa(s) de metal
reflexiva(s) infrarroja(s) es (son) de plata y el
contenido de oxígeno de la atmósfera en la zona de revestimiento es
controlado de manera que la conductividad de la(s)
capa(s) de plata es (son) reducida(s) por debajo de la
de una capa de plata pulverizada en una atmósfera de Argón.
17. El método como se indica en cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 16, donde cada capa de estanato de cinc tiene
un espesor de 0,0040-0,0020 \mum
(40-200 \ring{A}), cada capa de óxido de cinc
tiene un espesor de 0,0020-0,01 \mum
(20-100 \ring{A}), cada capa metálica reflexiva
infrarroja tiene un espesor de 0,0080-0,150 \mum
(80-150 \ring{A}), cada capa de cerámica tiene un
espesor de 0,0020-0,100 \mum
(20-100 \ring{A}) y la sobrecapa protectora tiene
un espesor de 0,0020-0,0050 \mum
(20-50 \ring{A}).
18. Uso del artículo revestido obtenido por el
método como se indica en cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17,
como una ventana arquitectónica.
19. Uso del artículo revestido obtenido por el
método como se indica en cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17,
como una unidad aislante.
20. Uso del artículo revestido obtenido por el
método como se indica en cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17,
como un cristal para automóvil.
21. Uso del artículo revestido como se indica en
la reivindicación 20, como un parabrisas de automóvil.
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