EP0964999B1 - Vakuumpumpe - Google Patents

Vakuumpumpe Download PDF

Info

Publication number
EP0964999B1
EP0964999B1 EP98907961A EP98907961A EP0964999B1 EP 0964999 B1 EP0964999 B1 EP 0964999B1 EP 98907961 A EP98907961 A EP 98907961A EP 98907961 A EP98907961 A EP 98907961A EP 0964999 B1 EP0964999 B1 EP 0964999B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
pump
chamber
gas
housing
inlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP98907961A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0964999A1 (de
Inventor
Hans Josef Burghard
Wolfgang Giebmanns
Rudolf Bahnen
Jürgen Meyer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leybold GmbH
Original Assignee
Leybold Vakuum GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Vakuum GmbH filed Critical Leybold Vakuum GmbH
Publication of EP0964999A1 publication Critical patent/EP0964999A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0964999B1 publication Critical patent/EP0964999B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/28—Safety arrangements; Monitoring
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
    • F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B25/00—Multi-stage pumps
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00—Application
    • F04C2220/50—Pumps with means for introducing gas under pressure for ballasting

Definitions

  • the invention relates to a vacuum pump with at least a scoop and at least one adjacent to the scoop Space, such as engine, drive, transmission, crankshaft or the like room.
  • vacuum pumps need to be here Promote corrosive and / or toxic gases. These gases can enter the vacuum pump Adjacent rooms usually arrive through seals (shaft seals, labyrinth seals etc.) are separated from the creative spaces. Corrosive gases cause corrosion or abrasion in these rooms, leading to premature wear of bearings or lead to damage to other components located there. It can also cause corrosive and toxic gases neighboring spaces on the way above the creative spaces Atmosphere. In the semiconductor industry, will the need for dry, that is, at least in relation oil-free vacuum pumps are getting bigger and bigger. The reason for this is that the processes involved in the vacuum chambers connected to the vacuum pumps run off, protected from disruptive hydrocarbons are. The used in the semiconductor industry or resulting gases to be pumped by the vacuum pump often the property during their compression form. Deposits of this type can also be found in the Creative space adjacent rooms may be harmful.
  • JP-A-6310 5294 JP-A-6310 5294:
  • This document discloses a scroll vacuum pump with a fixed and a rotating component.
  • the rotating component is driven by a Drive shaft and a grease-lubricated bearing.
  • the warehouse is in a room.
  • To evaporation of the Preventing grease becomes one in the storage room Maintain nitrogen atmosphere. Bit by bit the nitrogen penetrates holes in the rotating component and gets into the pump.
  • This describes a multi-stage claw vacuum pump.
  • This has an inert gas supply.
  • the inert gas is fed to one or more pump stages to prevent that getting into or during the pump the compression of the gases into the pump Solid particles not on the rotors or walls of the scoops.
  • the ballast gas becomes one of the two stages fed directly to the pump via the line.
  • the present invention is based on the object to design a vacuum pump of the type mentioned at the outset, that the dangers of causing damage in the rooms adjacent to the creative rooms as well as the Escape of corrosive or toxic gases from the Vacuum pump are largely eliminated.
  • a vacuum pump according to this invention has an outer gas ballast or purge gas inlet and one immediately on Gas inlet housing located. Between gas inlet and gas inlet are the or the flushing rooms adjacent to the creative space. At a Pump designed in the specified manner has that gas entering via the gas ballast inlet has the effect to rinse the room or rooms adjacent to the creative space. Corrosive or toxic gases penetrate through seals; which their sealing function is not or no longer completely meet in the adjacent to the creative space Space, then together with the ballast or purge gas is pumped back into the pump before it Can cause damage or get into the atmosphere.
  • Another advantage of the invention is that that the designer regarding the choice of location the gas ballast or purge gas inlet more options be available. Finally, on Gas inlet located gas inlet constantly open be held so that the adjacent to the scoop Room sets a negative pressure. The danger, that toxic or corrosive Gases from leaks in the outer housing penetrate outside is further reduced.
  • the rotary vane vacuum pump shown in Figure 1 includes a scoop chamber 1 and a drive motor 2.
  • the scoop chamber 1 is located in the pump room 3, formed by the outer housing 4, the engine in the engine compartment 5, formed by the motor housing 6, which to the outer pump housing 4 is flanged.
  • In the chamber 1 are the scoops 7 and 8 with their rotors 9 and 10.
  • the rotors 9 and 10 are on the motor shaft 11 attached, which is stored several times in the scoop chamber 2 and is sealed.
  • the larger level 7, 9 of the Pump is the inlet stage and stands with inlet 12 in connection.
  • the outlet 13 is at the outlet stage 8, 10 connected. Entry level 7, 9 and exit level 8, 10 are interconnected via the bore 14.
  • In this bore 14 opens the bore 15. It stands with the pump chamber 3 in connection and is referred to as designated gas ballast or purge gas inlet.
  • the gas ballast outside the pump or purge gas inlet is designated 16. It includes the valve 17 and the throttle 18.
  • the gas inlet 16 is attached to the motor housing 6 in an area remote from the pump housing 4.
  • the valve 17 When the valve 17 is open, that is to say during a gas ballast or flushing operation, the gas flows through the engine compartment 5 and through the pump compartment 3 to the inlet of the bore 15, the gas inlet located directly on the pump chamber housing. Gases entering the pump or engine compartment through leaky shaft seals are flushed back into outlet stage 8, 10. If necessary, baffles and / or a plurality of inlet connections 16 can be present in order to ensure complete flushing of the spaces adjacent to the scooping spaces 7, 8.
  • An inert gas storage container can also be connected to the inlet connection 16 if an inert gas, for example N 2 , is to be flushed or gas ballast is to be generated.
  • the ballast gas or purge gas inlet 15 near the pumping chamber is constantly open to pump room 3. Is the valve 17 closed, turns up in the pump room 3 and in the engine compartment 5 a vacuum. In the pump room 3 and the engine room 5 gases can leak through the housings 4, 6 do not penetrate to the outside. With open Valve 16 maintains throttle 18 a negative pressure in the housings 4 and 6.
  • Figure 2 shows a four-stage dry piston vacuum pump with their head space parts 21 and 22, in which are the cylindrical scoops 23 to 26. Is located between the housing parts 21, 22 the crankshaft chamber 27, the housing designated 28 is.
  • the pistons 31 to 34 are stepped and form eight pump chambers, some of which are connected in parallel are, so that the pump shown four pump stages Has. Your entrance is 35, your outlet is 36 designated.
  • the last annular pump chamber forms the last stage of the vacuum pump shown. Your entrance is designated 37, its outlet 38.
  • the last stage inlet 37 of the pump protrudes the line 39 with the crankshaft space 27 in connection. Your mouth forms the gas inlet close to the pumping chamber 41. It is located near one end of the Crankshaft housing 28. In the area of the opposite Side of the crankshaft housing 28 is the Gas ballast or purge gas inlet 16 with valve 17 and Throttle 18. In the one already described for FIG. 1 Way can flow in through the gas inlet 16 Gas flushed the crankshaft chamber 27 and a negative pressure therein be maintained.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Vakuumpumpe mit mindestens einem Schöpfraum und mindestens einem dem Schöpfraum benachbarten Raum, wie Motor- Antriebs-, Getriebe-, Kurbelwellen- oder dergleichen -Raum.
In vielen Industriezweigen müssen Vakuumpumpen der hier betroffenen Art ätzende und/oder toxische Gase fördern. Diese Gase können in die den Schöpfräumen der Vakuumpumpen benachbarten Räume gelangen, die in aller Regel durch Dichtungen (Wellendicht-ringe, Labyrinthdichtungen usw.) von den Schöpfräumen getrennt sind. Ätzende Gase verursachen in diesen Räumen Korrosionen oder Abrasionen, die zu einem vorzeitigen Verschleiß von Lagern oder zu Schäden an anderen dort befindlichen Bauteilen führen. Darüber hinaus können ätzende und toxische Gase auf dem Weg über den Schöpfräumen benachbarte Räume in die Atmosphäre gelangen. In der Halbleiterindustrie, wird der Bedarf an trockenen, das heißt zumindest in Bezug auf den Schöpfraum ölfreien Vakuumpumpen immer größer. Der Grund dafür liegt darin, dass die Prozesse, die in den an die Vakuumpumpen angeschlossenen Vakuumkammern ablaufen, vor störenden Kohlenwasserstoffen geschützt sind. Die in der Halbleiterindustrie eingesetzten oder entstehenden, von der Vakuumpumpe zu fördernden Gase haben häufig die Eigenschaft, während ihrer Kompression bilden. Auch Ablagerungen dieser Art können in den dem Schöpfraum benachbarten Räumen schädlich sein.
Zum Stand der Technik gehört der Inhalt folgender Dokumente :
JP-A-6310 5294:
Dieses Dokument offenbart eine Scroll-Vakuumpumpe mit einem feststehenden und einem kreisenden Bauteil. Der Antrieb des kreisenden Bauteils erfolgt über eine Antriebswelle und ein fettgeschmiertes Lager. Das Lager befindet sich in einem Raum. Um eine Verdampfung des Lagerfettes zu verhindern, wird im Lagerraum eine Stickstoff-Atmosphäre aufrecht erhalten. Nach und nach durchsetzt der Stickstoff Bohrungen im kreisenden Bauteil und gelangt in die Pumpe.
WO 92/15786:
Sie beschreibt eine mehrstufige Klauenvakuumpumpe. Diese besitzt eine Inertgaszufuhr. Das Inertgas wird einer oder mehreren Pumpstufen zugeführt, um zu verhindern, dass sich in die Pumpe gelangende oder sich während der Verdichtung der Gase in die Pumpe bildende Feststoffpartikel nicht an den Rotoren oder Wandungen der Schöpfräume anlagern.
EP-A-597 730:
Daraus ist eine ein- und zweistufig betreibbare Drehschieber-Vakuumpumpe mit einer Gasballasteinrichtung bekannt. Das Ballastgas wird einer der beiden Stufen der Pumpe über die Leitung unmittelbar zugeführt.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vakuumpumpe der eingangs erwähnten Art derart auszubilden, dass die Gefahren der Entstehung von Schäden in den den Schöpfräumen benachbarten Räumen sowie des Austretens von ätzenden oder toxischen Gasen aus der Vakuumpumpe weitestgehend beseitigt sind.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass die Vakuumpumpe mit einer Gasballasteinrichtung ausgerüstet ist und dass die Zufuhr des Ballastgases über den dem Schöpfraum benachbarten Raum erfolgt. Eine Vakuumpumpe gemäß dieser Erfindung hat einen äußeren Gasballast- oder Spülgaseinlass und einen unmittelbar am Schöpfraumgehäuse gelegenen Gaseintritt. Zwischen Gaseinlass und Gaseintritt befinden sich der oder die zu spülenden, dem Schöpfraum benachbarten Räume. Bei einer in der angegebenen Weise ausgebildeten Pumpe hat das über den Gasballasteinlass eintretende Gas die Wirkung, den oder die dem Schöpfraum benachbarten Räume zu spülen. Dringen ätzende oder toxische Gase durch Dichtungen; die ihre Dichtfunktion nicht oder nicht mehr vollständig erfüllen, in den dem Schöpfraum benachbarten Raum ein, dann werden sie zusammen mit dem Ballast- bzw. Spülgas zurück in die Pumpe gefördert, bevor sie Schäden anrichten oder in die Atmosphäre gelangen können. Ein weiterer Vorteil der Erfindung liegt darin, dass dem Konstrukteur in Bezug auf die Wahl des Ortes des Gasballast- bzw. Spülgaseinlasses mehr Möglichkeiten zur Verfügung stehen. Schließlich kann der am Schöpfraumgehäuse gelegene Gaseintritt ständig offen gehalten werden, so dass sich in dem dem Schöpfraum benachbarten Raum ein Unterdruck einstellt. Die Gefahr, dass toxische oder ätzende Gase durch Undichtigkeiten im äußeren Gehäuse nach außen dringen, ist dadurch weiter vermindert.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung sollen anhand von in den Figuren 1 und 2 schematisch dargestellten Ausführungsbeispielen erläutert werden. Es zeigen
  • Figur 1 eine zweistufige Drehschiebervakuumpumpe und
  • Figur 2 eine vierstufige Kolbenvakuumpumpe.
Die in Figur 1 dargestellte Drehschiebervakuumpumpe umfaßt ein Schöpfraumgehäuse 1 und einen Antriebsmotor 2. Das Schöpfraumgehäuse 1 befindet sich im Pumpenraum 3, gebildet vom äußeren Gehäuse 4, der Motor im Motorraum 5, gebildet vom Motorgehäuse 6, das an das äußere Pumpengehäuse 4 angeflanscht ist. Im Schöpfraumgehäuse 1 befinden sich die Schöpfräume 7 und 8 mit ihren Rotoren 9 und 10. Die Rotoren 9 und 10 sind auf der Motorwelle 11 befestigt, welche mehrfach im Schöpfraumgehäuse 2 gelagert und abgedichtet ist. Die größere Stufe 7, 9 der Pumpe ist die Einlassstufe und steht mit dem Einlass 12 in Verbindung. Der Auslass 13 ist an die Auslassstufe 8, 10 angeschlossen. Einlassstufe 7, 9 und Auslassstufe 8, 10 sind über die Bohrung 14 miteinander verbunden. In diese Bohrung 14 mündet die Bohrung 15. Sie steht mit dem Pumpenraum 3 in Verbindung und wird im weiteren als schöpfraumnaher Gasballast- oder Spülgaseintritt bezeichnet. Der außerhalb der Pumpe befindliche Gasballast- oder Spülgaseinlass ist mit 16 bezeichnet. Er umfasst das Ventil 17 und die Drossel 18.
Bei dem in Figur 1 dargestellten Ausführungsbeispiel ist der Gaseinlass 16 in einem vom Pumpengehäuse 4 entfernt liegenden Bereich am Motorgehäuse 6 angebracht. Bei geöffnetem Ventil 17, also bei einem Gasballast- bzw. Spülbetrieb, strömt das Gas durch den Motorraum 5 und durch den Pumpenraum 3 zum Eintritt der Bohrung 15, dem unmittelbar am Schöpfraumgehäuse gelegenen Gaseintritt. Durch undichte Wellendichtungen in den Pumpen- oder Motorraum gelangende Gase werden in die Auslassstufe 8, 10 zurückgespült. Bei Bedarf können Schikanen und/oder mehrere Einlassstutzen 16 vorhanden sein, um eine vollständige Spülung der den Schöpfräumen 7, 8 benachbarten Räume sicherzustellen. An den Einlassstutzen 16 kann außerdem ein Inertgas-Vorratsbehälter angeschlossen sein, wenn mit einem Inertgas, z.B. N2, gespült oder Gasballast erzeugt werden soll.
Der schöpfraumnahe Ballastgas- oder Spülgaseintritt 15 ist zum Pumpenraum 3 ständig offen. Ist das Ventil 17 geschlossen, stellt sich im Pumpenraum 3 und im Motorraum 5 ein Vakuum ein. In den Pumpenraum 3 und den Motorraum 5 gelangende Gase können deshalb durch Lecks in den Gehäusen 4, 6 nicht nach außen dringen. Bei offenem Ventil 16 sorgt die Drossel 18 für die Aufrechterhaltung eines Unterdruckes in den Gehäusen 4 und 6.
Figur 2 zeigt eine vierstufige trockene Kolbenvakuumpumpe mit ihren Schöpfraumgehäuseteilen 21 und 22, in denen sich die zylindrischen Schöpfräume 23 bis 26 befinden. Zwischen den Gehäuseteilen 21, 22 befindet sich der Kurbelwellenraum 27, dessen Gehäuse mit 28 bezeichnet ist. Die Kolben 31 bis 34 sind jeweils gestuft und bilden acht Pumpenkammern, die zum Teil parallel geschaltet sind, so dass die dargestellte Pumpe vier Pumpstufen hat. Ihr Einlass ist mit 35, ihr Auslass mit 36 bezeichnet. In der älteren deutschen Patentanmeldung 196 34 519.7 ist eine Vakuumpumpe dieser Art im einzelnen beschrieben. Die letzte ringförmige Pumpkammer bildet die letzte Stufe der dargestellten Vakuumpumpe. Ihr Einlass ist mit 37, ihr Auslass mit 38 bezeichnet.
Der Einlass 37 der letzten Stufe der Pumpe steht über die Leitung 39 mit dem Kurbelwellenraum 27 in Verbindung. Ihre Mündung bildet den schöpfraumnahen Gaseintritt 41. Sie liegt in der Nähe der einen Stirnseite des Kurbelwellengehäuses 28. Im Bereich der gegenüberliegenden Seite des Kurbelwellengehäuses 28 befindet sich der Gasballast- oder Spülgaseinlass 16 mit Ventil 17 und Drossel 18. In der bereits zu Figur 1 beschriebenen Weise kann durch über den Gaseinlass 16 einströmendes Gas der Kurbelwellenraum 27 gespült und darin ein Unterdruck aufrechterhalten werden.

Claims (11)

  1. Vakuumpumpe mit mindestens einem Schöpfraum (7, 8, 23 bis 26), und einer Gasballasteinrichtung,
    bei welcher in einem äußeren Gehäuse (4) ein Pumpengehäuse (1) angeordnet ist, in dem sich der Schöpfraum (7, 8, 23 bis 26) befindet, und
    bei welcher mindestens ein dem Schöpfraum benachbarter Raum (3, 5, 27) vorhanden ist,
    dadurch gekennzeichnet, dass die Gasbällasteinrichtung die folgenden Merkmale hat:
    einen schöpfraumnahen Gasballasteintritt (15, 41), der als das Pumpengehäuse (4) durchsetzende Verbindung zwischen dem Schöpfraum (7, 8, 23 bis 26) und einem benachbarten Raum (3, 5, 27) ausgebildet ist;
    einen vom Schöpfraumgehäuse (1) entfernten Gasballasteinlass (16), der am Gehäuse (4, 6) eines dem Schöpfraum (7, 8, 23 bis 26) benachbarten Raumes (3, 5, 27) angeordnet ist und mit einem Ventil (17) ausgerüstet ist;
    der dem Schöpfraum benachbarte Raum (3, 5, 27) befindet sich zumindest teilweise zwischen Gasballasteinlass (16) und Gasballasteintritt (15, 41).
  2. Pumpe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasballasteinlass (16) neben dem Ventil (17) mit einer Drossel (18) ausgerüstet ist.
  3. Pumpe nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Gaseinlässe (16) an verschiedenen Stellen der Pumpe vorgesehen sind.
  4. Pumpe nach Anspruch 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass der oder die Gaseinlässe (16) mit einem Inertgas-Vorratsbehälter in Verbindung stehen.
  5. Pumpe nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie als Drehschiebervakuumpumpe ausgebildet ist.
  6. Pumpe nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass sie zweistufig ausgebildet ist, dass sie einen Pumpenraum (3) und einen Motorraum (5) aufweist, und dass eine Bohrung (15) vorhanden ist, welche eine Verbindungsbohrung (14) zwischen den beiden Stufen (7, 9 und 8, 10) mit dem Pumpenraum (3) verbindet.
  7. Pumpe nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Gaseinlass (16) am Motorgehäuse (6) angeordnet ist.
  8. Pumpe nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass sie als mehrstufige Kolbenvakuumpumpe ausgebildet ist.
  9. Pumpe nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Einlass (37) der letzten Pumpenstufe mit einem Kurbelwellenraum (27) in Verbindung steht.
  10. Pumpe nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Mündung (41) der Leitung (39) in den Kurbelwellenraum (27) und der Gaseinlass (16) in den Bereichen einander gegenüberliegender Stirnseiten des Kurbelwellengehäuses (28) angeordnet sind.
  11. Pumpe nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine trockene Vakuumpumpe ist.
EP98907961A 1997-03-06 1998-01-20 Vakuumpumpe Expired - Lifetime EP0964999B1 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19709206 1997-03-06
DE19709206A DE19709206A1 (de) 1997-03-06 1997-03-06 Vakuumpumpe
PCT/EP1998/000288 WO1998039570A1 (de) 1997-03-06 1998-01-20 Vakuumpumpe

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0964999A1 EP0964999A1 (de) 1999-12-22
EP0964999B1 true EP0964999B1 (de) 2002-09-25

Family

ID=7822465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP98907961A Expired - Lifetime EP0964999B1 (de) 1997-03-06 1998-01-20 Vakuumpumpe

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6123516A (de)
EP (1) EP0964999B1 (de)
JP (1) JP4067572B2 (de)
KR (1) KR100592161B1 (de)
CN (1) CN1133813C (de)
DE (2) DE19709206A1 (de)
WO (1) WO1998039570A1 (de)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000170680A (ja) * 1998-09-30 2000-06-20 Aisin Seiki Co Ltd 真空ポンプ
DE19921711A1 (de) * 1999-05-12 2000-11-16 Leybold Vakuum Gmbh Kolbenvakuumpumpe
DE19945241A1 (de) * 1999-09-21 2001-04-05 Messer Griesheim Gmbh Verfahren zur schonenden Verdichtung von hochreinen Gasen
DE19962445A1 (de) 1999-12-22 2001-06-28 Leybold Vakuum Gmbh Trockenverdichtende Vakuumpumpe mit Gasballasteinrichtung
DE10021454C2 (de) * 2000-05-03 2002-03-14 Knf Neuberger Gmbh Vorrichtung zum Fördern feuchter Gase
DE10127082A1 (de) * 2001-06-02 2002-12-05 Leybold Vakuum Gmbh Mehrstufige Kolbenvakuumpumpe und Verfahren zum Betrieb dieser Pumpe
JP2005163713A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Toyota Industries Corp 流体圧縮機
US20070020115A1 (en) * 2005-07-01 2007-01-25 The Boc Group, Inc. Integrated pump apparatus for semiconductor processing
DE102006011577A1 (de) * 2006-03-10 2007-09-13 Linde Ag Verdichteranlage mit einem Pufferbehälter
JP2008088912A (ja) * 2006-10-03 2008-04-17 Tohoku Univ メカニカルポンプおよびその製造方法
US11692533B2 (en) * 2007-08-09 2023-07-04 Optimum Power Technology, L.P. Apparatuses, systems, and methods for improved performance of a pressurized system
GB0922564D0 (en) * 2009-12-24 2010-02-10 Edwards Ltd Pump
JP6129483B2 (ja) * 2012-04-19 2017-05-17 株式会社ミクニ オイルポンプ
AT513836B1 (de) * 2013-09-23 2014-08-15 Hoerbiger Kompressortech Hold Kompressor mit und Verfahren zur Spülung des Kompressorgehäuses mit Spülgas
ES2774438T3 (es) * 2014-06-27 2020-07-21 Ateliers Busch S A Método de bombeo en un sistema de bombas de vacío y sistema de bombas de vacío
US10041495B2 (en) * 2015-12-04 2018-08-07 Clay Valley Holdings Inc. High volume vacuum pump for continuous operation
DE202016001950U1 (de) * 2016-03-30 2017-07-03 Leybold Gmbh Vakuumpumpe
DE102016005216A1 (de) * 2016-04-28 2017-11-02 Linde Aktiengesellschaft Fluidenergiemaschine
DE102018203992A1 (de) * 2018-03-15 2019-09-19 Gardner Denver Schopfheim Gmbh Drehkolbenmaschine
EP3959420B1 (de) * 2019-04-23 2023-12-20 ATLAS COPCO AIRPOWER, naamloze vennootschap Verdichter oder vakuum pumpenvorrichtung, ein flüssigkeitsrückführsystem für solch einen verdichter oder vakuum pumpenvorrichtung und ein verfahren zum ablassen von flüssigkeit aus einem getriebe eines solchen verdichters oder vakuum pumpenvorrichtung.
US20230114036A1 (en) * 2020-02-28 2023-04-13 Desktop Metal, Inc. Low-Cost High-Purity Vacuum Pumps and Systems
US20210396236A1 (en) * 2020-06-18 2021-12-23 Milwaukee Electric Tool Corporation Vacuum pump with a solenoid valve

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5231369B1 (de) * 1968-12-23 1977-08-15
JPH0223216Y2 (de) * 1985-03-13 1990-06-25
DE3520634A1 (de) * 1985-06-08 1986-12-18 OFRU-Recycling GmbH & Co KG, 6113 Babenhausen Vorrichtung zum rueckgewinnen von loesungsmittel aus verschmutztem loesungsmittel
JPH0758077B2 (ja) * 1986-10-20 1995-06-21 株式会社日立製作所 スクロ−ル形真空ポンプ
US4725204A (en) * 1986-11-05 1988-02-16 Pennwalt Corporation Vacuum manifold pumping system
DE3710782A1 (de) * 1987-03-31 1988-10-20 Vacuubrand Gmbh & Co Verfahren und vorrichtung zum abpumpen von daempfen und/oder dampfhaltigen gemischen und/oder gas-dampf-gemischen oder dgl. medien
JPH01277698A (ja) * 1988-04-30 1989-11-08 Nippon Ferrofluidics Kk 複合型真空ポンプ
DE59200391D1 (de) * 1991-03-04 1994-09-22 Leybold Ag Einrichtung zur inertgasversorgung einer mehrstufigen trockenlaufenden vakuumpumpe.
JPH05231369A (ja) * 1991-07-09 1993-09-07 Ebara Corp 多段スクリュー真空ポンプ
GB9223804D0 (en) * 1992-11-13 1993-01-06 Boc Group Plc Improvements in vacuum pumps
US5482443A (en) * 1992-12-21 1996-01-09 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organization Multistage vacuum pump
DE4325281A1 (de) * 1993-07-28 1995-02-02 Leybold Ag Vakuumpumpe mit einer Gasballasteinrichtung
DE4327583A1 (de) * 1993-08-17 1995-02-23 Leybold Ag Vakuumpumpe mit Ölabscheider
DE4442174A1 (de) * 1994-11-26 1996-05-30 Leybold Ag Lecksuchgerät mit Vakuumpumpen und Betriebsverfahren dazu
US5547347A (en) * 1995-09-21 1996-08-20 The Boc Group, Inc. Gas injection apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
DE19709206A1 (de) 1998-09-10
CN1133813C (zh) 2004-01-07
EP0964999A1 (de) 1999-12-22
WO1998039570A1 (de) 1998-09-11
DE59805694D1 (de) 2002-10-31
JP2001513862A (ja) 2001-09-04
KR100592161B1 (ko) 2006-06-23
US6123516A (en) 2000-09-26
JP4067572B2 (ja) 2008-03-26
CN1243563A (zh) 2000-02-02
KR20000075898A (ko) 2000-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0964999B1 (de) Vakuumpumpe
DE69724561T2 (de) Spiralverdichter
EP0030619B1 (de) Rotorverdichter, insbesondere Schraubenrotorverdichter, mit Schmiermittelzufuhr zu und Schmiermitteldrainage von den Lagern
WO2013045598A2 (de) Verdrängerpumpe und betriebsverfahren derselben
DE102006021704B4 (de) Schraubenverdichter für große Antriebsleistungen
EP0692635B1 (de) Mehrstufige trockenverdichtende Vakuumpumpe und Verfahren zu ihrem Betrieb
DE102016110273A1 (de) Vakuum Pumpensystem mit Leichtgas Pumpen und einer Leckage Detektion Vorrichtung, aufweisend dieselbe
EP1240433B1 (de) Trockenverdichtende Vakuumpumpe mit Gasballasteinrichtung
DE10197270B4 (de) Vakuumpumpe
DE4327506C2 (de) Turbovakuumpumpe
EP0365695A1 (de) Zweiwellenvakuumpumpe mit Schöpfraum
DE4201486A1 (de) Oelfreie schraubenkompressoranlage
DE3617889A1 (de) Mechanische pumpe
EP1519049A2 (de) Seitenkanalverdichter mit einem ringförmigen Gehäuse
DE60104096T2 (de) Rückführeinrichtung für lecköl eines hydraulikmotors
EP0373229B1 (de) Mechanische Vakuumpumpe mit einer federbelasteten Rückschlagklappe
EP0603698B1 (de) Wälzkolben-Vakuumpumpe
DE19710419C2 (de) Flügelzellenverdichter
DE2329799A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur schmierung der lager der rotoren von schraubenkompressoren
EP3708840A2 (de) Rückschlagventil, vakuumgerät und vakuumpumpe
DE3118297A1 (de) Zahnradpumpe
DE3416562A1 (de) Wellendichtung
EP3260655B1 (de) Vakuumpumpe mit sperrgaszufuhr
WO2006061317A1 (de) Vakuum-anlage mit einer schraubenpumpe mit zwischeneinlass
EP3636879A1 (de) Vakuumpumpe

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 19990527

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): DE FR GB IT

17Q First examination report despatched

Effective date: 20010207

RIN1 Information on inventor provided before grant (corrected)

Inventor name: MEYER, JUERGEN

Inventor name: BAHNEN, RUDOLF

Inventor name: GIEBMANNS, WOLFGANG

Inventor name: BURGHARD, HANS, JOSEF

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): DE FR GB IT

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REF Corresponds to:

Ref document number: 59805694

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20021031

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 20030123

ET Fr: translation filed
PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed

Effective date: 20030626

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.

Effective date: 20050120

PGRI Patent reinstated in contracting state [announced from national office to epo]

Ref country code: IT

Effective date: 20091201

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Payment date: 20100130

Year of fee payment: 13

Ref country code: FR

Payment date: 20100223

Year of fee payment: 13

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20100121

Year of fee payment: 13

Ref country code: DE

Payment date: 20100121

Year of fee payment: 13

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20110120

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

Effective date: 20110930

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20110131

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20110120

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 59805694

Country of ref document: DE

Effective date: 20110802

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20110120

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20110802