JP4067572B2 - 真空ポンプ - Google Patents
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Description
多数の産業分野において当該形式の真空ポンプは腐食性のおよびまたは毒性のガスを送出しなければならない。これらのガスは真空ポンプの吸込み室に隣接する室内へ達することがある。室は一般にシール部材(軸密リング、ラビリンスシール等)によって吸込み室から分離されている。これらの室内で腐食性のガスは支承部の早期の摩耗または他のその場所にある構成部材の損傷に導く腐蝕または掻取り(Abrasion)を惹起する。更には腐食性かつ毒性のガスは途中で吸込み室に隣接する室を経て周囲へ出ることがある。半導体産業では乾式の、すなわち少なくとも吸込み室に関しては油を含まない真空ポンプに対する要求が次第に大きくなっている。そのための基本は、真空ポンプに接続した真空室内で経過するプロセスが障害的な炭化水素から保護されることである。半導体産業で使用される、または生じる、真空ポンプによって送出されるガスはしばしば大気圧への凝縮中に固体を形成するという性質を持つ。この種の沈積物は吸込み室の隣りの室内で障害となり得る。
本発明の課題は、冒頭に記載の形式の真空ポンプを、吸込み室に隣接する室内における損害の発生の危険、並びに腐食性または毒性のガスの真空ポンプからの流出の危険が十分に取除かれるように構成することである。
この課題は、本発明によれば真空ポンプがガスバラスト装置を備えており、かつバラストガスの供給が吸込み室に隣接された室を介して行われることによって解決される。この発明による真空ポンプは外部のガスバラスト−または洗浄ガス入口と、直接吸込み室ケーシングに位置せしめられたガス流入口とを持つ。ガス入口とガス流入口との間には吸込み室に隣接した単数または複数の室が存在する。上記の形式で構成されたポンプではガスバラスト入口を介して流入したガスが、吸込み室に隣接した単数または複数の室を洗浄する作用を持つ。シール作用を果さない、またはもはや完全には果さないシール部材を通って腐食性または毒性のガスが吸込み室に隣接する室内へ侵入すると、これらのガスはこれらが損害を引き起す、または大気中へ達し得る前にバラストガスもしくは洗浄ガスと一緒にポンプ内へ戻される。本発明のもう1つの利点は、ガスバラスト−もしくは洗浄ガス入口の場所の選択に関する構造の点で多くの可能性があることである。最後に吸込みケーシングに位置するガス流入口は常時開いた位置に保持されることができ、そのために吸込み室に隣接する室内で低圧が調節される。これによって、毒性または腐食性のガスが外部ケーシング内の漏れ(Undichtigkeit)により外部へ侵入する危険が一層低減される。
本発明の他の利点および詳細が図1および図2に略示された実施例によって説明される。図1は2段の回転ベーン真空ポンプ、かつ図2は4段のピストン真空ポンプを示す。
図1に示された回転ベーン真空ポンプは吸込み室ケーシング1と駆動モータ2とを備える。吸込み室ケーシング1は外側ケーシング4によって形成されたポンプ室3内にあり、モータはモータケーシング6によって形成されたモータ室5内にある。モータケーシング6は外側のポンプケーシング4へフランジ結合されている。吸込み室ケーシング1内にはロータ9,10を備えた吸込み室7と8がある。ロータ9,10はモータ軸11に固定され、モータ軸は複式で吸込み室ケーシング2内に支承されており、かつシールされている。ポンプの大きい方の段7,9は入口段であり、かつ入口12と結合している。出口13は出口段8,10へ接続されている。入口段7,9および出口段8,10は孔14を介して互いに結合されている。この孔14へ孔15が開口している。孔15はポンプ室3と結合しており、かつ吸込み室に近い、ガスバラスト−または洗浄ガス流入口として示される。ポンプの外部にあるガスバラスト−または洗浄ガス入口は符号16で示されている。ガスバラスト−または洗浄ガス入口16は弁17と絞り18を備える。
図1に示された実施例ではガス入口16はポンプケーシング4から離れた領域内でモータケーシング6へ取付けられている。開放位置の弁17、すなわちガスバラスト−もしくは洗浄運転では、ガスはモータ室5を通り、かつポンプ室3を通って孔15の入口へ達して直接吸込み室ケーシングに位置せしめられたガス流入口へ流れる。密でない軸シールによりポンプ−またはモータ室内へ達したガスは洗浄されて出口段8,10へ戻される。必要な場合には吸込み室7,8に隣接する室の完全な洗浄を保証するためにそらせ板およびまたは複数の入口管部16が設けられていてよい。不活性ガス、例えばN2で洗浄される場合またはガスバラストが生成されるべき場合には、入口管部16に特に不活性ガス−貯蔵容器が接続されていてよい。
吸込み室に近いバラストガス−または洗浄ガス流入口15はポンプ室3に対して常時開いている。弁17が閉じられると、ポンプ室3内およびモータ室5内に真空が調節される。したがってポンプ室3およびモータ室5内に達したガスはケーシング4,6内の漏れによって外部へ流出することはない。弁16の開放時に絞り18はケーシング4,6内の低圧の維持を行う。
図2は吸込み室ケーシング部分21,22を備える4段のドライ式ピストン真空ポンプを示す。吸込み室ケーシング部分内には円筒形の吸込み室23〜26がある。ケーシング部分21,22間にはクランク軸室27が存在し、クランク軸室のケーシングが符号28で示されている。ピストン31〜34はそれぞれ段部を形成されており、かつ8つのポンプ室を形成し、ポンプ室は一部平行に接続されており、そのために図示のポンプは4つのポンプ段を持つ。入口が符号35で、出口が符号36で示されている。ドイツ国特許出願第19634519.7にはこの形式の真空ポンプが詳説されている。最後の環状のポンプ室は図示の真空ポンプの最後の段を形成する。その入口が符号37で、出口が符号38で示されている。
ポンプの最後の段の入口37は管路39を介してクランク軸室27と結合している。管路の開口は吸込み室に近いガス流入口41を形成し、クランク軸ケーシング28の端面の近くに位置する。クランク軸ケーシング28の対向する側の領域内には弁17および絞り18を持ったガスバラスト−または洗浄ガス入口16がある。既に図1で説明されたように、クランク軸室27はガス入口16を介して流入したガスによって洗浄され、かつこの室内で低圧が維持される。
Claims (11)
- 少なくとも1つの吸込み室(7,8,23〜26)及びガスバラスト装置を備えた真空ポンプであって、真空ポンプの外側のケーシング(4)内にポンプケーシング(1)を配置してあり、該ポンプケーシング内に前記吸込み室(7,8,23〜26)を設けてあり、さらに前記吸込み室に隣接した少なくとも1つの室(3,5,27)を備えている形式のものにおいて、
前記ガスバラスト装置は次の構成部分を有しており、つまり
前記吸込み室に近いガスバラスト流入口(15,41)を有しており、該ガスバラスト流入口は、前記吸込み室(7,8,23〜26)と前記隣接の室(3,5,27)との間の、前記ポンプケーシング(1)を貫通する結合通路として形成されており、
前記ポンプケーシング(1)から離れて位置するガスバラスト入口(16)を有しており、該ガスバラスト入口(16)は、前記吸込み室(7,8,23〜26)に隣接した室(3,5,27)の前記ケーシング(4)に配置されていて、かつ弁(17)を備えており、
前記吸込み室に隣接した室(3,5,27)が少なくとも部分的に前記ガスバラスト入口(16)と前記ガスバラスト流入口(15,41)との間に位置することを特徴とする、真空ポンプ。 - ガスバラスト入口(16)が弁(17)のほかに絞り(18)を有する、請求項1記載の真空ポンプ。
- 複数のガスバラスト入口(16)がポンプの種々の箇所に設けられている、請求項2記載の真空ポンプ。
- 単数または複数のガスバラスト入口(16)が不活性ガス貯蔵容器と接続している、請求項1から3までのいずれか1項記載の真空ポンプ。
- 回転ベーン真空ポンプとして構成されている、請求項4記載の真空ポンプ。
- 2段に構成されており、ポンプ室(3)とモータ室(5)を備えており、かつ孔(15)が設けられており、孔(15)が2つの段(7,9および8,10)間の結合孔(14)をポンプ室(3)と結合している、請求項5記載の真空ポンプ。
- ガスバラスト入口(16)がモータケーシング(6)に配置されている、請求項6記載の真空ポンプ。
- 多段のピストン真空ポンプとして構成されている、請求項1から4までのいずれか1項記載の真空ポンプ。
- 最後のポンプ段の入口(37)がクランク軸室(27)と結合されている、請求項8記載の真空ポンプ。
- 管路(39)の開口(41)がクランク軸室(27)内に配置され、かつガスバラスト入口(16)がクランク軸ケーシング(28)の互いに対向して位置した端面の領域内に配置されている、請求項9記載の真空ポンプ。
- 乾式真空ポンプである、請求項1から10までのいずれか1項記載の真空ポンプ。
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