EP0749593B1 - Lichtempfindliches material für photographische und reprographische anwendungen - Google Patents

Lichtempfindliches material für photographische und reprographische anwendungen Download PDF

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EP0749593B1
EP0749593B1 EP95911268A EP95911268A EP0749593B1 EP 0749593 B1 EP0749593 B1 EP 0749593B1 EP 95911268 A EP95911268 A EP 95911268A EP 95911268 A EP95911268 A EP 95911268A EP 0749593 B1 EP0749593 B1 EP 0749593B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
light
diazo
exposure
sensitive
film
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
EP95911268A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0749593A1 (de
Inventor
Helmut Steininger
Peter Heilmann
Richard Artley
Alan Green
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Emtec Magnetics GmbH
Original Assignee
Emtec Magnetics GmbH
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Filing date
Publication date
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Publication of EP0749593A1 publication Critical patent/EP0749593A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0749593B1 publication Critical patent/EP0749593B1/de
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances

Definitions

  • the invention relates to a light-sensitive material for photographic and reprographic applications, consisting of a film of transparent material and a layer applied thereon, containing a light-sensitive first diazo compound which is activated by exposure (negative diazo) and by subsequent development treatment, the absorption on the Material impacting light-influencing dye forms.
  • the invention also relates to photographic and reprographic applications themselves.
  • the invention also relates to a light-sensitive material for photographic and reprographic applications, consisting of a film of transparent material and a layer applied thereon, containing a light-sensitive first diazo compound which is covered by a mask and deactivated in a partial area by first exposure in the uncovered area ( Positive diazo) and is then only partially deactivated by subsequent post-exposure of the previously covered area and whose still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light on the material.
  • a light-sensitive material for photographic and reprographic applications consisting of a film of transparent material and a layer applied thereon, containing a light-sensitive first diazo compound which is covered by a mask and deactivated in a partial area by first exposure in the uncovered area ( Positive diazo) and is then only partially deactivated by subsequent post-exposure of the previously covered area and whose still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light on the material.
  • the absorption of light by a dye is used, which arises during the development of the exposed film with ammonia vapor or sodium hydroxide as the product of the coupling of a diazo compound with a dye component.
  • vesicular film in which the imaging structure is formed by the scattering of the light on microscopic bubbles.
  • the bubbles develop during the development of the film due to the rapid expansion of the nitrogen, which is released during the radiation-induced decay reaction of special diazo compounds.
  • the low contrast of conventional diazo films with a light shade and of vesicular films requires high film thicknesses in applications that require optically high-density structures.
  • the cause lies in the low absorption of the available dyes or the limited scattering efficiency of the bubble structure, which in particular provides only low projection densities with a large projection aperture.
  • the task to be solved was to improve light-sensitive material for photographic and reprographic applications, to indicate uses for photographic and reprographic purposes, and to provide training for photo films, anti-copying films, projection films and 3-dimensional images.
  • the layer additionally contains a second diazo compound which, according to claim 1, forms nitrogen by the exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering follow immediately afterwards are formed, and according to claim 2, forms nitrogen by the post-exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • These light-sensitive materials according to the invention have the advantages that they can be produced with technically manageable and economically sensible layer thicknesses, and a high contrast when viewed in remission and / or transmission offer, show a high resolution and at the same time allow a bright, friendly color.
  • a light-sensitive material according to the positive diazo principle is characterized in that the light-sensitive first diazo compound is a form deactivated by the action of light and, in the case of the second diazo compound which forms nitrogen, the light-scattering bubbles are formed in the areas which were initially unexposed by a mask by post-exposure and heat treatment , and that the deactivation wavelength ranges for the first and second diazo compounds are different.
  • a light-sensitive material according to the negative diazo principle is characterized in that the light-sensitive first diazo compound is a form activated by the action of light for dye formation, and in the case of the nitrogen-forming second diazo compound, the light-scattering vesicles are formed in the areas first exposed by a mask and then heat-treated , and that the activation wavelength ranges for the first and second diazo compounds are different.
  • the thickness of the light-sensitive layer is between approximately 1 ⁇ m and approximately 30 ⁇ m.
  • the light-sensitive material can be used to produce a projection film as a photo mask, a photo film, a copy protection film against normal light copying or as a storage medium for 3-dimensional images, as will be explained below.
  • a photo film in particular a microfilm, containing at least one layer of light-sensitive material, consists of a light-sensitive first diazo compound which is activated by exposure (negative diazo) and forms a dye by subsequent development treatment, which influences the absorption of light incident on the material, and the layer additionally contains a second diazo compound, which forms nitrogen through the exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • Another photo film, in particular microfilm, containing at least one layer of light-sensitive material consists of a light-sensitive first diazo compound, which is masked in a partial area by means of a mask, deactivated by first exposure in the uncovered area (positive diazo), and which is subsequently exposed by subsequent exposure the previously covered area is only partially deactivated and its still active part forms a dye by development treatment, which influences the absorption of light incident on the material, and the layer additionally contains second diazo compounds which form nitrogen through the post-exposure, and whereby by immediately following heat treatment nitrogen bubbles causing light scattering are formed.
  • This provides photo films with high contrast, high resolution and bright colors.
  • an anti-copying film against normal light copying consisting of a film made of transparent material with a multiplicity of spaced-apart, at least partially non-transparent and transparent regions, the planes of which are approximately in the same predetermined position relative to the surfaces of the Film are arranged so that from a predetermined angle of view on the surfaces of the anti-copying film is substantially transparent, in that the non-transparent and transparent areas are at least partially made of an exposed and developed photosensitive material formed from a photosensitive first diazo compound, which is activated by exposure (negative diazo) and, through subsequent development treatment, forms a dye which influences the absorption of light incident on the material, and the layer additionally contains a second diazo compound t, which forms nitrogen by the exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • an anti-copying film against normal light copying consisting of a film made of transparent material with a plurality of spaced-apart, at least partially non-transparent and transparent areas, the planes of which are approximately in the same predetermined position relative to the Surfaces of the film are arranged so that from a predetermined viewing angle on the surfaces of the anti-copying film it is substantially transparent, which is produced by the fact that the non-transparent and transparent Areas at least partially consist of an exposed and developed light-sensitive material, formed from a light-sensitive first diazo compound, which is covered in a partial area by means of a mask, deactivated by first exposure in the uncovered area (positive diazo) and then subsequently exposed to the previously covered area is only partially deactivated and the still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light incident on the material, and the layer additionally contains a second diazo compound which forms nitrogen through the post-exposure, and which causes light scattering by immediately subsequent heat treatment Nitrogen bubbles are formed.
  • a projection film in particular a photomask, which consists of a film of transparent material and an applied, exposed and developed layer with a light-sensitive first diazo compound which is activated by exposure (negative diazo) and by subsequent development treatment forms a dye which influences the absorption of the light impinging on the material, and the layer additionally contains a second diazo compound which forms nitrogen by the exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • a projection film in particular a photomask, which consists of a film of transparent material and an applied, exposed and developed layer with a light-sensitive first diazo compound, which, covered by a mask in a partial area, is not covered by first exposure in the covered area is deactivated (positive diazo) and is then only partially deactivated by subsequent exposure of the previously covered area and whose still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light onto the material, and the layer additionally contains second diazo compounds which forms nitrogen by the post-exposure, and nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • a photomask which consists of a film of transparent material and an applied, exposed and developed layer with a light-sensitive first diazo compound, which, covered by a mask in a partial area, is not covered by first exposure in the covered area is deactivated (positive diazo) and is then only partially deactivated by subsequent exposure of the previously covered area and whose still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light onto
  • a 3-dimensional image which consists of several layers of exposed and developed light-sensitive material arranged one above the other, from a light-sensitive first diazo compound, which forms a dye by subsequent development treatment, which influences the absorption of light incident on the material , wherein the layer additionally contains a second diazo compound, which forms nitrogen through the exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • Another 3-dimensional image version can be produced from several layers of exposed and developed light-sensitive material arranged one above the other, consisting of a light-sensitive first diazo compound, which is covered in a partial area by means of a mask, and deactivated by first exposure in the uncovered part (positive Diazo) and is then only partially deactivated by subsequent post-exposure of the previously covered area and whose still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light onto the material, and the layer additionally contains a second diazo compound which forms nitrogen through the post-exposure, and wherein nitrogen bubbles causing light scattering are formed by immediately following heat treatment.
  • a light-sensitive first diazo compound which is covered in a partial area by means of a mask, and deactivated by first exposure in the uncovered part (positive Diazo) and is then only partially deactivated by subsequent post-exposure of the previously covered area and whose still active part after development treatment forms a dye which influences the absorption of light onto the material
  • the layer additionally contains a second diazo compound which forms nitrogen
  • the photosensitive material is shown in the drawing in longitudinal section and consists of a film 1 of transparent material and a layer 2 applied thereon, which contains a photosensitive first diazo compound 3 and a dye component to form a dye and an additional photosensitive second diazo compound 4 to form nitrogen contains bubbles.
  • the former diazo compound can be a form activated by the action of light for dye formation (negative diazo) or a form which decomposes through the action of light (positive diazo). be so that the development treatment with ammonia vapor or sodium hydroxide instead of a colored area creates a transparent area.
  • first diazo compound or “first diazo compounds” is mentioned in this patent application, several, e.g. the diazo compounds forming the color components are to be understood as such.
  • the nitrogen released during the exposure of these compounds forms microscopic bubbles through a subsequent heat treatment with steam or warm water, which remain in layer 2 in the exposed area.
  • the bubbles cause a strong scattering and internal reflection of the light, which creates milky, cloudy image structures.
  • the developing agent ammonia vapor or sodium hydroxide
  • the thin partitions wall thickness approx. 0.1 ⁇ m
  • the individual bubbles bubble diameter approx. 1 ⁇ m.
  • the film layer thickness to be developed is effectively reduced to approximately 10% of the developed vesicular layer thickness.
  • the diazo film layer to be effectively developed is consequently only approximately 2 ⁇ m.
  • the layer exposed, for example, via a mask is developed in stages because of the two differently reacting layer components.
  • the nitrogen released in the exposed areas is bound by a heat pulse in the form of the bubbles.
  • the activated color component can then be developed in these areas in the negative film (negative diazo) using the agent mentioned so that the film material becomes opaque there. This is followed by a full-surface post-exposure, the nitrogen released in the previously unexposed areas evaporates over time or is accelerated by moderate heating. The color component is not developed there, so these areas remain transparent.
  • the selective decomposition of one of the diazofilm materials is induced by irradiation of a certain wavelength range.
  • the originally unexposed areas thus contain both coupling-capable diazofilmaterials, which couple to a diazo dye in a subsequent development process, and also the nitrogen bubbles.
  • Areas of application for the light-sensitive material according to the invention are, for example, microfilms, projection films, photomasks and anti-copying films.
  • the film according to the invention is suitable for storing three-dimensional structures, the height of which corresponds at most to the film layer thickness 2.
  • a projection film or a photomask 5 is shown in section, for example. While the larger part is transparent, a plurality of equally spaced, non-transparent regions 6, that is to say formed by light-absorbing or light-reflecting substances, is provided on one side. These fabrics have been made from light sensitive materials as described above by exposure to light and development.
  • the non-transparent areas 8A, 8B of an anti-copy film 7 are arranged at an angle y, specifically on both surfaces (8A, 8B).
  • the areas 8A and 8B are arranged horizontally offset from one another. Information arranged under this film 7 is hidden in the vertical exposure direction (arrow a)) and only partially exposed in the oblique direction (arrows b)) and is therefore also copy-protected.
  • the areas 8A and 8B are produced in succession as described above.
  • the film 5 designated as anti-copying film in FIG. 2 can also be a projection film or a photomask.
  • the film 7 could also be a 3-D image when arrow b) is viewed.
  • the first diazo compound of the photosensitive layer to be activated by exposure to dye formation is supplemented by an additional second diazo compound, in which after exposure to light and immediately following heat treatment, nitrogen bubbles remain in the exposed areas and nitrogen scattering causes light scattering.

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Abstract

Zur Verbesserung des Kontrastes bei Diazofilmen sind die durch Belichtung zur Farbstoffbildung zu aktivierenden Diazoverbindungen der lichtempfindlichen Schicht durch Diazoverbindungen ergänzt, bei denen nach Lichteinwirkung und unmittelbar sich anschließender Wärmebehandlung an den belichteten Stellen verbleibender Stickstoff und eine Lichtstreuung verursachende Bläschen entstehen.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Material für photographische und reprographische Anwendungen, bestehend aus einem Film transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten Schicht, enthaltend eine lichtempfindliche erste Diazoverbindung, die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet. Die Erfindung betrifft auch die photographischen und reprografischen Anwendungen selbst.
  • Die Erfindung betrifft auch ein lichtempfindliches Material für photographische und reprographische Anwendungen, bestehend aus einem Film transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten Schicht, enthaltend eine lichtempfindliche erste Diazoverbindung, die mittels einer Maske abgedeckt, in einem Teilbereich durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet.
  • Bei dem bekannten Diazofilm wird die Absorption des Lichtes durch einen Farbstoff genutzt, der bei der Entwicklung des belichteten Films mit Ammoniakdampf oder Natriumhydroxid als Produkt der Kupplung einer Diazoverbindung mit einer Farbstoffkomponente entsteht.
  • Bekannt ist auch der sogenannte Vesicularfilm, bei dem die abbildende Struktur durch die Streuung des Lichtes an mikroskopisch kleinen Bläschen gebildet wird. Die Bläschen entstehen bei der Entwicklung des Films durch schnelle Expansion des Stickstoffs, der bei der strahlungsinduzierten Zerfallsreaktion spezieller Diazoverbindungen frei wird.
  • Es sind aus der US-A-4 152 156 Materialien bekannt, deren Bildelemente über Farbkomponenten in den Komplementärbereichen eines Stickstoffbläschenbildes erzeugt wird. Gemäß WO-A-9306527 sind andere Materialien mit zwei getrennten, lichtempfindlichen Schichten bekannt oder aber beruhen auf einem unterschiedlich farbbildenden System, um ein kontrastreiches Bild zu erzeugen (JP-A-54037724).
  • Der geringe Kontrast von konventionellen Diazofilmen mit hellem Farbton sowie von Vesicularfilmen erfordert hohe Filmschichtdicken in Anwendungen, die optisch hochdichte Strukturen erfordern. Die Ursache liegt in der geringen Absorption der zur Verfügung stehenden Farbstoffe bzw. der limitierten Streueffizienz der Bläschenstruktur, die im besonderen bei großer Projektionsapertur nur geringe Projektionsdichten liefert.
  • Die Herstellung dicker Filme ist unwirtschaftlich aufgrund hoher Materialkosten und wirft vielseitige technische Probleme auf, bei der Beschichtung, der Trocknung und hinsichtlich der erreichbaren mechanischen Eigenschaften. Ferner gestaltet sich die Entwicklung der Filme, da dieselbe diffusionskontrolliert abläuft, als zeitaufwendig und kritisch in Hinblick auf eine maßgenaue und konturenscharfe Reproduktion der Vorlage. Damit scheidet die Erzeugung heller Strukturen mit Hilfe von Vesicularfilmen alleine aus. Greift man auf konventionelle Diazofarben hoher Absorption zurück, so ist es zwar möglich, mit deutlich geringerer Schichtdicke den Anforderungen an den Kontrast zu genügen, jedoch nur mit sehr dunklen bis schwarzen Farben.
  • Dementsprechend bestand die zu lösende Aufgabe darin, lichtempfindliches Material für photographische und reprographische Anwendungen zu verbessern, Verwendungen für photographische und reprographische Zwecke anzugeben sowie Ausbildungen von Photofilmen, Antikopier-Filmen, Projektionsfolien und 3-Dimensional-Bildern damit anzugeben.
  • Gelöst wurde die Aufgabe durch ein lichtempfindliches Material der eingangs geschilderten Art, bei dem gemäß der Erfindung die Schicht zusätzlich eine zweite Diazoverbindung enthält, die gemäß Anspruch 1, durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind, und die gemäß Anspruch 2, durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Diese erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Materialien haben die Vorteile, daß dieselben mit technisch handhabbaren und ökonomisch sinnvollen Schichtstärken hergestellt werden können, bei Betrachtung in Remission und/oder Transmission einen hohen Kontrast bieten, eine hohe Auflösung zeigen und gleichzeitig einen hellen, freundlichen Farbton zulassen.
  • Es ist überraschend, daß diese Vorteile mittels einer einzigen lichtempfindlichen Schicht erzeugbar sind, die zwei verschiedene Diazokomponenten enthält.
  • Ein lichtempfindliches Material nach dem Positiv-Diazo-Prinzip zeichnet sich dadurch aus, daß die lichtempfindliche erste Diazoverbindung eine durch Lichteinwirkung deaktivierte Form ist und bei der Stickstoff bildenden zweiten Diazoverbindung die lichtstreuenden Bläschen in den durch eine Maske zuerst unbelichteten Bereichen durch Nachbelichtung und Wärmebehandlung gebildet sind, und daß die Deaktivierungswellenlängenbereiche für die erste und zweite Diazoverbindung unterschiedlich sind.
  • Ein lichtempfindliches Material nach dem Negativ-Diazo-Prinzip ist dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche erste Diazoverbindung eine durch Lichteinwirkung zur Farbstoffbildung aktivierte Form ist und bei der Stickstoff bildenden zweiten Diazoverbindung die lichtstreuenden Bläschen in den durch eine Maske zuerst belichteten und dann wärmebehandelten Bereichen gebildet sind, und daß die Aktivierungswellenlängenbereiche für die erste und zweite Diazoverbindung verschieden sind.
  • Es ist in der Praxis zweckmäßig, wenn die Stärke der lichtempfindlichen Schicht zwischen etwa 1 µm und etwa 30 µm beträgt.
  • In günstigen Verwendungen kann das lichtempfindliche Material zur Herstellung einer Projektionsfolie als Photomaske, eines Photofilms, einer Kopierschutzfolie gegen Normallichtkopieren oder als Speichermedium für 3-Dimensional-Bilder eingesetzt werden, wie im folgenden noch ausgeführt.
  • Ein Photofilm, insbesondere ein Mikrofilm, enthaltend wenigstens eine Schicht aus lichtempfindlichem Material, besteht aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung, die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und bildet durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff, und die Schicht enthält zusätzlich eine zweite Diazoverbindung, die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Ein weiterer Photofilm, insbesondere Mikrofilm, enthaltend wenigstens eine Schicht aus lichtempfindlichem Material, besteht aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung, die mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und die durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil durch Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und wobei die Schicht zusätzlich zweite Diazoverbindungen enthält, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Dadurch werden Photofilme mit hohem Kontrast, hoher Auflösung und hellen Farbtönen bereitgestellt.
  • Es ist zweckmäßig auch möglich, einen Antikopier-Film gegen Normallicht-Kopieren, bestehend aus einem Film aus transparentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise nicht transparenten und transparenten Bereichen, deren Ebenen in etwa derselben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films angeordnet sind, so daß aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Anti-Kopier-Films derselbe im wesentlichen durchsichtig ist, dadurch herzustellen, daß die nicht transparenten und transparenten Bereiche mindestens teilweise aus einem belichteten und entwickelten lichtempfindlichen Material bestehen, gebildet aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung, die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht zusätzlich eine zweite Diazoverbindung enthält, die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Ein weitere Variante ist gegeben durch einen Anti-Kopier-Film gegen Normallicht-Kopieren, bestehend aus einem Film aus transparentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise nicht transparenten und transparenten Bereichen, deren Ebenen in etwa derselben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films angeordnet sind, so daß aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Anti-Kopier-Films derselbe im wesentlichen durchsichtig ist, der dadurch hergestellt wird, daß die nicht transparenten und transparenten Bereiche mindestens teilweise aus einem belichteten und entwickelten lichtempfindlichen Material bestehen, gebildet aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung, die mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt, durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht zusätzlich eine zweite Diazoverbindung enthält, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Damit wird ein herstellungsgemäß günstiger Anti-Kopier-Film gegen Normalkopieren zur Verfügung gestellt.
  • Es ist vorteilhaft auch möglich, eine Projektionsfolie, insbesondere eine Photomaske herzustellen, die aus einem Film transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten, belichteten und entwickelten Schicht mit einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung besteht, die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht zusätzlich eine zweite Diazoverbindung enthält, die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Eine Variante dazu ist gegeben durch eine Projektionsfolie, insbesondere eine Photomaske, die aus einem Film transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten, belichteten und entwickelten Schicht mit einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung besteht, die, mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt, durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht zusätzlich zweite Diazoverbindungen enthält, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Damit ergeben sich erhebliche Vorteile gegenüber bekannten Projektionsfolien und Photomasken hinsichtlich Kontrast, Auflösung und Helligkeit der Farbtonpalette.
  • Es ist außerdem möglich, ein 3-Dimensional-Bild, das aus mehreren übereinander angeordneten Schichten aus belichtetem und entwickeltem lichtempfindlichen Material besteht, auszubilden, aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung, die durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, wobei die Schicht zusätzlich eine zweite Diazoverbindung enthält, die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Ein weitere 3-Dimensional-Bild-Version ist herstellbar aus mehreren übereinander angeordneten Schichten aus belichtetem und entwickeltem lichtempfindlichen Material, bestehend aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung, die mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt, durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Teil deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht zusätzlich zweite Diazoverbindung enthält, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  • Auf diese Weise läßt sich eine Mehrzahl von dünnen Schichten zu einem 3-D-Bild kombinieren, mit höchster Qualität.
  • Das lichtempfindliche Material nach der Erfindung ist anhand eines in der Zeichnung schematisch im Längsschnitt dargestellten Ausführungsbeispiels nachfolgend näher beschrieben.
  • Das lichtempfindliche Material ist in der Zeichnung im Längsschnitt dargestellt und besteht aus einem Film 1 transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten Schicht 2, die eine lichtempfindliche erste Diazoverbindung 3 und eine Farbstoffkomponente zur Bildung eines Farbstoffs und eine zusätzliche lichtempfindliche zweite Diazoverbindung 4 zur Bildung von Stickstoff-bläschen enthält. Erstere Diazoverbindung kann eine durch Lichteinwirkung zur Farbstoffbildung aktivierte Form (Negativ-Diazo) oder eine durch Lichteinwirkung zerfallende Form (Positiv-Diazo) sein, so daß bei der Entwicklungsbehandlung mit Ammoniakdampf oder Natriumhydroxid anstelle eines gefärbten ein transparenter Bereich entsteht.
  • Geeignete Diazoverbindungen sind beispielsweise Diazoniumsalze von
    • 4-Dimethylaminoanilin,
    • 4-Diethylaminoanilin,
    • 4-Phenylaminoanilin
    • 4-(N-2-Hydroxyethyl-N-ethyl)anilin
    • 1-Amino-2-hydroxynaphthalin-4-sulfonsäure
    • 4-Benzoylamino-2, 5-diethoxyanilin.
  • Geeignete Farbstoffkomponenten sind beispielsweise die in der Azochemie üblichen Komponenten, die insbesondere aus der Benzol- oder Naphthalinreihe stammen. Besonders zu nennen sind dabei solche Farbstoffkomponenten, die aus den obengenannten Anilinen durch Abstraktion der Aminogruppe hervorgehen:
    • N, N-Dimethylanilin
    • N, N-Diethylanilin,
    • Diphenylamin,
    • N-Ethyl-N-(2-hydroxyethyl)anilin,
    • 2-Hydroxynaphthalin-4-sulfonsäure,
    • N-Benzoyl-2, 5-diethoxyanilin.
  • Wenn in dieser Patentanmeldung von "erster Diazoverbindung" oder "ersten Diazoverbindungen" die Rede ist, können auch mehrere, z.B. die Farbkomponenten bildenden Diazoverbindungen darunter verstanden werden.
  • Unter Lichteinwirkung zur Bildung von Stickstoff geeignete "zusätzlich zweite" Diazoverbindungen sind beispielsweise
    • p-Diazodimethyl- und diethylanilin-Zinkchlorid,
    • p-Diazodiphenylaminsulfat,
    • p-Diazoethylhydroxyethylanilin-Zinkchlorid,
    • 1-Diazo-2-oxynaphthalen-4-sulfonat,
    • 4-Benzoylamino-2-5-diethyoxybenzol-diazoniumchlorid,
    • p-Chlorbenzol-sulfonat von 4-diazo-2-methoxy-1-cyclo-hexylaminobenzol,
    • 7-Dimethylamino-8-methoxy-3-oxo-dihydro-1, 4-thiazin-6-diazoniumchlorid,
    • 1-Dimethylamino-4-naphthalendiazoniumfluoroborat.
  • Der bei der Belichtung dieser Verbindungen frei werdende Stickstoff bildet durch eine unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung mit Dampf oder warmem Wasser mikroskopisch kleine Bläschen, die im belichteten Bereich in der Schicht 2 bleiben. Die Bläschen bewirken eine starke Streuung und innere Reflexion des Lichts, wodurch milchig trübe Abbildungsstrukturen entstehen.
  • Beide Eigenschaften - Farbstoffbildung und Bläschenbildung unter Lichteinwirkung und dem sich anschließenden Entwicklungsprozeß - ergänzen sich zu einer kontrastreichen Abbildung.
  • Dadurch ist es möglich, den für eine Anwendung vorgegebenen Kontrast mit wesentlich geringeren Filmschichtdicken zu realisieren als mit einem Vesicularfilm allein und gleichzeitig der Forderung nach einem hellen, gefälligen Farbton zu genügen. Die nachfolgende Übersicht verdeutlicht diese Vorteile, wobei eine Lichttransmission ≤ 1 % und ein bestimmter Kontrast zugrunde gelegt ist.
    Schichtart erforderliche Schichtstärke entwickelte Farbe Nachteile/Vorteile
    Vesicular 55 µm milchig trüb große Schichtstärke
    Diazo 5 µm (15 µm) tief schwarz (tief rot-schwarz-braun) dunkle Farbe
    Vesicular + Diazo <20 µm (<30 µm) hellgrau (milchig rot) geringe Schichtstärke, helle Farbe
  • Bei der Entwicklung der Diazofilmkomponente diffundiert das entwickelnde Agens, Ammoniakdampf oder Natriumhydroxid, lediglich durch die dünnen Scheidewände (Wandstärke ca. 0,1 µm) der einzelnen Bläschen (Bläschendurchmesser ca. 1 µm). Dadurch reduziert sich die zu entwickelnde Filmschichtstärke auf effektiv ca. 10 % der entwickelten Vesicular-Schichtstärke Bezogen auf das Beispiel einer 20 µm großen Schichtstärke beträgt die effektiv zu entwikkelnde Diazofilmschicht folglich nur ca. 2 µm.
  • Die Entwicklung der beispielsweise über eine Maske belichteten Schicht erfolgt wegen der beiden unterschiedlich reagierenden Schichtkomponenten stufenweise. Unmittelbar nach der Belichtung wird der in den belichteten Bereichen freigewordene Stickstoff durch einen Wärmepuls in Form der Bläschen gebunden. Anschließend kann dann beim Negativfilm (Negativ-Diazo) mit Hilfe des genannten Agens in diesen Bereichen die aktivierte Farbkomponente entwickelt werden, so daß das Filmmaterial dort undurchsichtig wird. Daran schließt sich eine vollflächige Nachbelichtung an, der in den vorher unbelichteten Bereichen der frei werdende Stickstoff verflüchtigt sich im Laufe der Zeit oder beschleunigt durch eine moderate Erwärmung. Die Farbkomponente wird dort nicht entwickelt, so daß diese Bereiche transparent bleiben.
  • Beim Positivfilm (Positiv-Diazo) verhält es sich umgekehrt. Diazofilmkomponenten werden hier durch Licht zerstört, so daß in den belichteten Bereichen, in denen man den freigewordenen Stickstoff austreiben läßt, kein Farbstoff mehr entwickelt werden kann; dieser entsteht jetzt in den unbelichteten Bereichen. Die belichteten Bereiche werden dadurch transparent. Die sich anschließende vollflächige Nachbelichtung läßt in den vorher unbelichteten Bereichen Stickstoff freiwerden, der durch den unmittelbar folgenden Wärmepuls die Bläschen bildet. Damit wird eine Nichttransparenz erhalten. Die Nachbelichtung hat so zu erfolgen, daß nur ca. 50 % des eingesetzten Diazofilms deaktiviert werden. Realisierbar ist dies entweder durch die Steuerung der Lichtleistung oder durch die Verwendung von mindestens zwei Diazofilmmaterialien mit unterschiedlichen Deaktivierungswellenlängenbereichen. Im letzteren Fall wird die selektive Zersetzung einer der Diazofilmmaterialien durch Einstrahlung eines bestimmten Wellenlängenbereiches induziert. Damit enthalten die ursprünglich unbelichteten Bereiche sowohl noch kupplungsfähige Diazofilmmaterialien, die in einem sich anschließenden Entwicklungsprozeß zu einem Diazofarbstoff kuppeln, als auch die Stickstoffbläschen.
  • Anwendungsbereiche für das lichtempfindliche Material nach der Erfindung sind beispielsweise Mikrofilme, Projektionsfolien, Photomasken und Antikopierfilme. Darüber hinaus eignet sich der erfindungsgemäße Film zur Speicherung dreidimensionaler Strukturen, deren Höhe maximal der Filmschichtdicke 2 entspricht.
  • In Figur 2 ist eine Projektionsfolie oder eine Photomaske 5 im Schnitt beispielsweise dargestellt. Während der größere Teil transparent ist, ist an einer Seite eine Vielzahl von gleichabständigen, nichttransparenten Bereichen 6, also durch lichtabsorbierende bzw. lichtreflektierende Stoffe gebildet, vorgesehen. Diese Stoffe sind aus lichtempfindlichen Materialien, wie oben beschrieben, mittels Lichteinwirkung und Entwicklung hergestellt worden.
  • Bei dieser Anordnung der Bereiche 6 ist durch senkrechte Belichtung (nach der Herstellung!) im Kopiergerät nur eine Teil-Information kopierbar, während die Ergänzungsinformation nur unter einem Schrägwinkel sichtbar oder kopierbar ist. Bei Anwendung als Anti-Kopier-Film ist also nur eine Teil-Wirksamkeit gegeben. Eine vollständige Abdeckung eines nicht dargestellten Dokumentes durch einen Anti-Kopier-Film ist nur durch Verdoppelung der nicht-transparenten Bereiche 6, z.B. durch Spiegelung an der Grundlinie, und seitliche Verschiebung der Bereiche 6 horizontal gegeneinander möglich.
  • In Figur 3 sind die nichttransparenten Bereiche 8A, 8B eines Anti-Kopier-Films 7 unter einem Winkel y angeordnet und zwar an beiden Oberflächen (8A, 8B). Die Bereiche 8A und 8B sind horizontal versetzt zueinander angeordnet. Eine unter diesem Filme 7 angeordnete Information ist bei senkrechter Belichtungsrichtung verdeckt (Pfeil a)) und bei Schrägrichtung (Pfeile b)) nur teilweise belichtbar und somit ebenfalls kopiergeschützt.
  • Die Herstellung der Bereiche 8A und 8B erfolgt nacheinander wie oben beschrieben.
  • Die als Anti-Kopier-Film bezeichnete Folie 5 in Figur 2 kann ebenso eine Projektionsfolie oder eine Photomaske sein.
  • In Figur 3 könnte die Folie 7 auch ein 3-D-Bild sein, bei Betrachtungsrichtung Pfeil b).
  • Je nach dem Grad der Nichttransparenz der Bereiche 6 und 8A, 8B sind auch Anwendungen als Projektionsfolie- und Photomaske denkbar.
  • Zur Verbesserung des Kontrastes bei Diazofilmen ist die durch Belichtung zur Farbstoffbildung zu aktivierende erste Diazoverbindung der lichtempfindlichen Schicht durch eine zusätzliche zweite Diazoverbindung ergänzt, bei der nach Lichteinwirkung und unmittelbar sich anschließender Wärmebehandlung an den belichteten Stellen verbleibender Stickstoff und eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen entstehen.

Claims (17)

  1. Lichtempfindliches Material für photographische und reprographische Anwendungen, bestehend aus einem Film (1) transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten Schicht (2), enthaltend eine lichtempfindliche erste Diazoverbindung (3), die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (2) zusätzlich eine zweite Diazoverbindung (4) enthält, die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  2. Lichtempfindliches Material für photographische und reprographische Anwendungen, bestehend aus einem Film (1) transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten Schicht (2), enthaltend eine lichtempfindliche erste Diazoverbindung (3), die mittels einer Maske abgedeckt, in einem Teilbereich durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (2) zusätzlich eine zweite Diazoverbindung (4) enthält, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche erste Diazoverbindung (3) eine durch Lichteinwirkung deaktivierte Form ist und bei der Stickstoff bildenden zweiten Diazoverbindung (4) die lichtstreuenden Bläschen in den durch eine Maske zuerst unbelichteten Bereichen durch Nachbelichtung und Wärmebehandlung gebildet sind, und daß die Deaktivierungswellenlängenbereiche für die erste und zweite Diazoverbindung unterschiedlich sind.
  4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch bekennzeichnet, daß die lichtempfindliche erste Diazoverbindung (3) eine durch Lichteinwirkung zur Farbstoffbildung aktivierte Form ist und bei der Stickstoff bildenden zweiten Diazoverbindung (4) die lichtstreuenden Bläschen in den durch eine Maske zuerst belichteten und dann wärmebehandelten Bereichen gebildet sind, und daß die Aktivierungswellenlängenbereiche für die erste und zweite Diazoverbindung verschieden sind.
  5. Lichtempfindliches Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Stärke der lichtempfindlichen Schicht (2) zwischen 1 µm und 30 µm beträgt.
  6. Verwendung des lichtempfindlichen Materials nach Anspruch 1 oder 2, zur Herstellung eine Projektionsfolie.
  7. Verwendung des lichtempfindlichen Materials nach Anspruch 1 oder 2, zur Herstellung eines Archivierungsmediums.
  8. Verwendung des lichtempfindlichen Materials nach Anspruch 1 oder 2, zur Herstellung eine Kopierschutzfolie gegen Normallicht - Kopieren.
  9. Verwendung des lichtempfindlichen Materials nach Anspruch 1 oder 2, zur Herstellung eines Mediums zur Speicherung dreidimensionaler Strukturen.
  10. Photofilm, insbesondere Mikrofilm, gekennzeichnet durch wenigstens eine Schicht aus lichtempfindlichem Material, bestehend aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und durch zusätzlich eine zweite Diazoverbindung (4) in der Schicht (2), die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  11. Photofilm, insbesondere Mikrofilm, gekennzeichnet durch wenigstens eine Schicht aus lichtempfindlichem Material, bestehend aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil durch Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und durch eine zusätzliche zweite Diazoverbindung (4) in der Schicht (2), die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Bläschen gebildet sind.
  12. Anti-Kopier-Film gegen Normallicht-Kopieren, bestehend aus einem Film aus transparentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise nicht transparenten und transparenten Bereichen, deren Ebenen in etwa derselben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films angeordnet sind, so daß aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Anti-Kopier-Films derselbe im wesentlichen durchsichtig ist, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht transparenten und transparenten Bereiche mindestens teilweise aus einem belichteten und entwickelten lichtempfindlichen Material bestehen, gebildet aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht (2) zusätzlich eine zweite Diazoverbindung (4) enthält, die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  13. Anti-Kopier-Film gegen Normallicht-Kopieren, bestehend aus einem Film aus transparentem Material mit einer Vielzahl von mit Abständen zueinander angeordneten, zumindest teilweise nicht transparenten und transparenten Bereichen, deren Ebenen in etwa derselben vorbestimmten Lage gegenüber den Oberflächen des Films angeordnet sind, so daß aus einem vorbestimmten Sichtwinkel auf die Oberflächen des Anti-Kopier-Films derselbe im wesentlichen durchsichtig ist, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht transparenten und transparenten Bereiche mindestens teilweise aus einem belichteten und entwickelten lichtempfindlichen Material bestehen, gebildet aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die, mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt, durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und die Schicht (2) zusätzlich eine zweite Diazoverbindung (4) enthält, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  14. Projektionsfolie, insbesondere Photomaske, gekennzeichnet durch einen Film (1) transparenten Materials und einer darauf aufgebrachte belichteten und entwickelten Schicht (2) mit lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und durch zusätzlich eine zweite Diazoverbindung (4) in der Schicht (2), die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet werden.
  15. Projektionsfolie, insbesondere Photomaske, gekennzeichnet durch einen Film (1) transparenten Materials und einer darauf aufgebrachten, belichteten und entwickelten Schicht (2) mit einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die, mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt, durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Bereich deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und durch eine zusätzliche zweite Diazoverbindung (4) in der Schicht, die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  16. 3-Dimensional-Bild, gekennzeichnet durch mehrere übereinander angeordnete Schichten aus belichtetem und entwickeltem lichtempfindlichen Material, bestehend aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die durch Belichtung aktiviert wird (Negativ-Diazo) und durch anschließende Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und durch eine zusätzliche zweite Diazoverbindung (4) in der Schicht (2), die durch die Belichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
  17. 3-Dimensional-Bild, gekennzeichnet durch mehrere übereinander angeordnete Schichten aus belichtetem und entwickeltem lichtempfindlichen Material, bestehend aus einer lichtempfindlichen ersten Diazoverbindung (3), die mittels einer Maske in einem Teilbereich abgedeckt, durch erste Belichtung im nicht abgedeckten Teil deaktiviert wird (Positiv-Diazo) und durch anschließende Nachbelichtung des vorher abgedeckten Bereichs nur teilweise deaktiviert wird und deren noch aktiver Teil nach Entwicklungsbehandlung einen, die Absorption auf das Material auftreffenden Lichtes beeinflussenden Farbstoff bildet, und durch eine zusätzliche zweite Diazoverbindung (4) in der Schicht (2), die durch die Nachbelichtung Stickstoff bildet, und wobei durch unmittelbar sich anschließende Wärmebehandlung eine Lichtstreuung verursachende Stickstoff-Bläschen gebildet sind.
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