EP0610236B1 - Verfahren zur herstellung vernickelter formteile - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000005266 casting Methods 0.000 title abstract 2
- -1 cyclic ammonium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 65
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 5
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 3
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 claims abstract description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 18
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 0 CCCCCCNC* Chemical compound CCCCCCNC* 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 3
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 3
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLWHCXRACKOPRO-UHFFFAOYSA-M 1-benzylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=C[N+]=1CC1=CC=CC=C1 GLWHCXRACKOPRO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxyethane Chemical compound COCCBr YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHQKFQZGLKBCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCBr RGHQKFQZGLKBCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-O 2-methylpyridin-1-ium Chemical compound CC1=CC=CC=[NH+]1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEYMMOKECZBKAC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCl QEYMMOKECZBKAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKBISELCYWEMGD-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4-propan-2-ylpyridine Chemical compound CC(C)C1=CC=NC=C1C UKBISELCYWEMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-O 3-methylpyridin-1-ium Chemical compound CC1=CC=C[NH+]=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- AXWKFRWLYPZEFQ-UHFFFAOYSA-N 3-oxobutanoyl chloride Chemical compound CC(=O)CC(Cl)=O AXWKFRWLYPZEFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LWMDPZVQAMQFOC-UHFFFAOYSA-N 4-butylpyridine Chemical compound CCCCC1=CC=NC=C1 LWMDPZVQAMQFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJXRKZJMGVSXPX-UHFFFAOYSA-N 4-ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=NC=C1 VJXRKZJMGVSXPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-O 4-methylpyridin-1-ium Chemical compound CC1=CC=[NH+]C=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FRGXNJWEDDQLFH-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylpyridine Chemical compound CC(C)C1=CC=NC=C1 FRGXNJWEDDQLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWZAONCXMJLFT-UHFFFAOYSA-N 4-propylpyridine Chemical compound CCCC1=CC=NC=C1 JAWZAONCXMJLFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFXVYXVJTZPDAD-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-3-methylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC=C1C(C)(C)C DFXVYXVJTZPDAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSHMQTRICHYLGF-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=NC=C1 YSHMQTRICHYLGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEZFKBBOGATCFW-UHFFFAOYSA-N 8-methylisoquinoline Chemical compound C1=NC=C2C(C)=CC=CC2=C1 IEZFKBBOGATCFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 8-methylquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(C)=CC=CC2=C1 JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PQMOXTJVIYEOQL-UHFFFAOYSA-N Cumarin Natural products CC(C)=CCC1=C(O)C(C(=O)C(C)CC)=C(O)C2=C1OC(=O)C=C2CCC PQMOXTJVIYEOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-L L-tartrate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-L 0.000 description 1
- FSOGIJPGPZWNGO-UHFFFAOYSA-N Meomammein Natural products CCC(C)C(=O)C1=C(O)C(CC=C(C)C)=C(O)C2=C1OC(=O)C=C2CCC FSOGIJPGPZWNGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N Methyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- JHVLLYQQQYIWKX-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-bromoacetate Chemical compound BrCC(=O)OCC1=CC=CC=C1 JHVLLYQQQYIWKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- FHGRPBSDPBRTLS-ONEGZZNKSA-N ethyl (e)-4-bromobut-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\CBr FHGRPBSDPBRTLS-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- XIMFCGSNSKXPBO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-bromobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(Br)CC XIMFCGSNSKXPBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLRLMWUFVDREV-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-chloro-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(=O)CCl OHLRLMWUFVDREV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005929 isobutyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- MEAHFLCBUYIODQ-UHFFFAOYSA-N methoxymethane;hydrobromide Chemical compound Br.COC MEAHFLCBUYIODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWIKCBHOVNDESJ-NSCUHMNNSA-N methyl (e)-4-bromobut-2-enoate Chemical compound COC(=O)\C=C\CBr RWIKCBHOVNDESJ-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- UFQQDNMQADCHGH-UHFFFAOYSA-N methyl 2-bromobutanoate Chemical compound CCC(Br)C(=O)OC UFQQDNMQADCHGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFLMYYLFSNEOOT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-chloro-3-oxobutanoate Chemical compound COC(=O)CC(=O)CCl HFLMYYLFSNEOOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- IJSDPKDUSUXUFY-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-bromopropanoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)Br IJSDPKDUSUXUFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- FYHLDUXIKXBAAT-UHFFFAOYSA-N prop-1-yne-1-sulfonic acid Chemical compound CC#CS(O)(=O)=O FYHLDUXIKXBAAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSNGPDOWIOPXDR-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 4-chloro-3-oxobutanoate Chemical compound CC(C)OC(=O)CC(=O)CCl GSNGPDOWIOPXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GAPYKZAARZMMGP-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;acetate Chemical class CC(O)=O.C1=CC=NC=C1 GAPYKZAARZMMGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical class C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Chemical group 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Chemical group 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DVOUIKQENBFPRS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-chloro-3-oxobutanoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)CC(=O)CCl DVOUIKQENBFPRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FQFILJKFZCVHNH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-[3-[(5-bromo-2-chloropyrimidin-4-yl)amino]propyl]carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NCCCNC1=NC(Cl)=NC=C1Br FQFILJKFZCVHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
- C25D3/18—Heterocyclic compounds
Definitions
- the present invention relates to an improved process for the production of nickel-plated moldings by electrodeposition of nickel from aqueous acid baths which contain, as essential components, one or more nickel salts, one or more inorganic acids and one or more brighteners.
- Such brighteners which are generally divided into primary brighteners (“brighteners”) and secondary brighteners (“brighteners”), are usually used as a combination of several of these agents in order to increase the effect.
- DE-B 11 91 652 (2) describes mono- or polynuclear heterocyclic nitrogen bases of the aromatic type in quaternized form such as pyridinium salts, e.g. 2-pyridinium-1-sulfatoethane, as a leveling agent, i.e. Brightener, described for acidic galvanic nickel baths. These agents are used together with conventional basic gloss agents such as benzene-m-disulfonic acid, diaryl disulfimides or sulfonamides.
- pyridinium salts e.g. 2-pyridinium-1-sulfatoethane
- Brightener i.e. Brightener
- DD 81 548 (3) and DD 108 777 (4) describe pyridinium acetic acid derivatives of the general formula II in which R9 is hydrogen, alkyl or alkenyl, described as a brightener for the electrodeposition of nickel layers.
- cyclic ammonium compounds of the general formula III in which R10 represents hydrogen, methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, carboxyl or aliphatic carboxyl ester, R11 denotes hydrogen, methyl, carboxyl or aliphatic carboxyl ester, R12 denotes the residue of an aliphatic alcohol, q denotes the number 0, 1 or 2 and Y ⁇ stands for hydroxide or halide, described as a brightener in galvanic baths for the deposition of nickel.
- alkenyl sulfonic acids such as sodium vinyl sulfonate or sodium allylsulfonate are usually used as brighteners in combination with other brighteners such as propargyl alcohol, 2-butyne-1,4-diol, propyne sulfonic acid or 3-pyridinium propyl sulfonate.
- a disadvantage of the agents known from the prior art is the generally relatively high use concentration in the nickel electrolyte baths used.
- the invention was therefore an improved process for the production of nickel-plated moldings using brighteners which, with better or at least the same gloss formation as, for example, 2-pyridinium-1-sulfatoethane, 3-pyridinium-propylsulfonate or compounds of the general formulas II or III in a lower concentration need to be used as a task.
- C1 to C4 alkyl radicals for R1 and R2 and for possible substituents on the heterocyclic ring system and on the phenyl nucleus are n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, sec-butyl, tert-butyl and especially Consider methyl and ethyl.
- alkyl-substituted heterocyclic ring systems for I are: 2-, 3- or 4-methylpyridinium, 2-, 3- or 4-ethylpyridinium, 3- or 4-n-propylpyridinium, 3- or 4-iso-propylpyridinium, 3- or 4-n-butylpyridinium, 4-tert-butylpyridinium, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- or 3,5-dimethylpyridinium, 3-methyl-4-isopropylpyridinium, 4-tert-butyl-3-methylpyridinium, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-methylquinolinium and 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-methylisoquinolinium.
- Unsubstituted pyridinium is preferred.
- C1 to C12 alkyl radicals for R3 for example, in addition to the C1 to C4 alkyl radicals mentioned above, n-amyl, iso-amyl, sec.-amyl, tert.-amyl, neopentyl, n-hexyl, n- Heptyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, n-nonyl, iso-nonyl, n-decyl, n-undecyl and n-dodecyl.
- C1 to C4 alkyl radicals are preferred.
- Suitable C5- to C8-cycloalkyl radicals for R3 are in particular cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, methylcyclopentyl, dimethylcyclopentyl, methylcyclohexyl, dimethylcyclohexyl and ethylcyclohexyl. Of these, cyclopentyl and cyclohexyl are preferred.
- Suitable C7- to C12-phenylalkyl groups for R3 are, for example, 1-phenylethyl, 2-phenylethyl, 1-phenylpropyl, 2-phenylpropyl, 3-phenylpropyl, 2-phenylprop-2-yl, 4-phenylbutyl, 2,2-dimethyl- 2-phenylethyl, 5-phenylamyl, 6-phenylhexyl and especially benzyl.
- the substitution scheme is ortho, meta or preferably para, in the case of disubstituted phenyl radicals the substituents are mainly in the 2,4-position, for example in the case of 2,4-xylyl.
- a degree of substitution of 1 is preferred in the presence of substituents.
- unsubstituted phenyl is particularly preferred.
- C1 to C4 alkoxy radicals here are in particular methoxy and ethoxy, but also n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy, iso-butoxy, sec-butoxy and tert-butoxy.
- C1 to C4 alkoxycarbonyl groups for example, n-propoxycarbonyl, iso-propoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, iso-butoxycarbonyl, sec.-butoxycarbonyl, tert.-butoxycarbonyl, but especially ethoxycarbonyl and methoxycarbonyl.
- halogen atom here includes fluorine, iodine, but especially bromine and especially chlorine.
- the radical R1 is preferably hydrogen, methyl or ethyl, the radical R2 is preferably hydrogen.
- m preferably represents a number from 0 to 8, in particular 0 to 5.
- Suitable n-valent anions X are the customary inorganic or organic anions which normally promote water solubility, in particular chloride, bromide, fluoride, sulfate, hydrogen sulfate, methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, 2-hydroxyethanesulfoant, p-toluenesulfonate, nitrate, tetrafluoroborate, Perchlorate, 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonate, dihydrogen phosphate, hydrogen phosphate, phosphate, formate, acetate, oxalate and tartrate.
- cyclic ammonium compounds of the general formula Ib in which the variables m, n and X ⁇ have the meanings given above and R5 denotes C7- to C12-phenylalkyl or phenyl, which can be substituted by one or two C1- to C4-alkyl radicals.
- cyclic ammonium compounds of the general formula If in which the variables R1, R2, R3, m, n and X ⁇ have the meanings given above.
- cyclic ammonium compounds I used according to the invention can advantageously be implemented by reacting the corresponding precursor of the general formula IV in which Z represents a nucleofugic leaving group, preferably chlorine or bromine, with a heterocycle of the general formula V. and, if desired, then exchange the anion Z ⁇ for X ⁇ .
- Z represents a nucleofugic leaving group, preferably chlorine or bromine
- reaction of components IV and V is advantageously carried out in an inert organic solvent such as toluene, xylene, petroleum ether, ligroin, cyclohexane, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropanol, ethyl acetate or methyl benzoate or in a mixture thereof.
- an inert organic solvent such as toluene, xylene, petroleum ether, ligroin, cyclohexane, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropanol, ethyl acetate or methyl benzoate or in a mixture thereof.
- the reaction can also be carried out in water or in a single-phase or two-phase mixture of water and one or more organic solvents, preferably polar organic solvents.
- a customary phase transfer catalyst can be used. It is usually carried
- the cyclic ammonium compounds I have the effect character of secondary brighteners, they are preferably used in combination with further, normally primary brighteners, if appropriate also with one or more further secondary brighteners.
- the primary brighteners are, for example, vinylsulfonic acid or allylsulfonic acid sodium salts
- the secondary brighteners are, for example, 2-butyne-1,4-diol or propargyl alcohol.
- aqueous acidic nickel electrolyte baths used one or usually more nickel salts, e.g. nickel sulfate and nickel chloride, one or more inorganic acids, preferably boric acid and sulfuric acid, the compounds I alone or preferably in combination with other customary gloss agents as well as optionally other customary auxiliaries and additives in the concentrations customary for this purpose, e.g. Wetting agents and pore prevention agents.
- nickel salts e.g. nickel sulfate and nickel chloride
- inorganic acids preferably boric acid and sulfuric acid
- Common aqueous acidic nickel electrolytes (“Watts electrolytes”) have the following basic composition: 200 to 350 g / l NiSO4 ⁇ 7 H2O 30 to 150 g / l NiCl2 ⁇ 6 H2O 30 to 50 g / l H3BO3.
- the pH of the electrolyte baths is usually between 3 and 6, preferably between 4 and 5.
- a strong mineral acid preferably sulfuric acid, is expediently used to set this pH.
- the compounds I are present in the electrolyte baths in low concentrations, generally between 0.04 and 0.5 g / l, preferably between 0.1 and 0.3 g / l.
- concentrations of other customary brighteners are normally in the range from 0.1 to 10 g / l, in particular 0.1 to 2.0 g / l.
- the nickel electrolyte baths described above can be used to produce nickel coatings on molded parts made of steel, but also on molded parts made of other materials, for example brass, which have been pretreated as usual. This is usually done at temperatures of 30 to 80 ° C, preferably 40 to 60 ° C.
- the compounds I used according to the invention are distinguished by an extraordinarily high level of gloss. As a rule, they achieve a stronger shine than with the usual brighteners at a significantly lower dosage in the nickel electrolyte baths.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 2-bromoethyl acetate in a yield of 81%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 2-bromobutyric acid methyl ester in a yield of 85%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and pentyl 2-bromopropionate in a yield of 79%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 4-bromo-crotonic acid ethyl ester in a yield of 70%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 4-bromocrotonic acid methyl ester in a yield of 71%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and benzyl bromoacetate in a yield of 80%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 3-chloropropionate in a yield of 86%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and isopropyl 4-chloroacetoacetate in a yield of 71%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 4-chloroacetoacetic acid tert-butyl ester in a yield of 73%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 4-chloroacetoacetic acid methyl ester in a yield of 74%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 4-chloroacetoacetic acid ethyl ester in a yield of 70%.
- the title compound was prepared analogously to Example 1 from pyridine and 2-bromoethyl methyl ether in a yield of 69%.
- the aqueous nickel electrolyte used had the following composition: 300 g / l NiSO47 H2O 60 g / l NiCl2 ⁇ 6 H2O 45 g / l H3BO3 2 g / l saccharin 0.8 g / l vinyl sulfonic acid sodium salt xg / l brightener according to table 0.5 g / l of a fatty alcohol derivative of the formula C12H25 / C14H29-O- (CH2CH2O) 2-SO3Na as a wetting agent The pH of the electrolyte was adjusted to 4.2 with sulfuric acid.
- Brass sheets were used, which were degreased cathodically in an alkaline electrolyte by the usual methods before the coating with nickel.
- the nickel was deposited in a 250 ml Hull cell at 55 ° C. and a current of 2A over a period of 10 minutes.
- the sheets were then rinsed with water and dried with compressed air.
- comparison compounds C and D are known from (3) and (4) and the comparison compound E is known from (5).
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Abstract
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile durch galvanisches Abscheiden von Nickel aus wäßrig-sauren Bädern, die als wesentliche Bestandteile ein oder mehrere Nickelsalze, eine oder mehrere anorganische Säuren und ein oder mehrere Glanzmittel enthalten.
- Ein Teil der hierbei als Glanzmittel eingesetzten Substanzen sind neue Stoffe. Deshalb betrifft die Erfindung weiterhin diese neuen Stoffe.
- Es ist bekannt, daß saure Nickelelektrolyte in geringer Menge organische Substanzen enthalten müssen, wenn bei der galvanischen Nickelabscheidung eine glänzende, duktile und an der Oberfläche ebene Abscheidung des Metalls erzielt werden soll. Derartige Glanzmittel, die man in der Regel in primäre Glanzmittel ("Glanzträger") und sekundäre Glanzmittel ("Glanzbildner") unterteilt, werden üblicherweise als Kombination aus mehreren dieser Mittel eingesetzt, um die Wirkung zu steigern.
- In der Literaturstelle "Praktische Galvanotechnik", Eugen G. Lenze Verlag, Saulgau, 4. Auflage 1984, Seite 268 bis 271 (1) werden Substanzklassen für übliche Glanzmittel für Nickelelektrolyte beschrieben. Eine Einteilung in primäre und sekundäre Glanzmittel und Einebner wird zwar getroffen, es wird aber gleichzeitig darauf hingewiesen, daß diese Einteilung nicht immer eindeutig vorgenommen werden kann. Als glanzerzeugende Substanzklassen werden genannt:
- Sulfonimide, z.B. Benzoesäuresulfimid
- Sulfonamide
- Benzolsulfonsäuren, z.B. Mono-, Di- und Tribenzolsulfonsäure
- Naphthalinsulfonsäuren, z.B. Mono-, Di- und Trinaphthalinsulfonsäure
- Alkylsulfonsäuren
- Sulfinsäure
- Arylsulfonsulfonate
- aliphatische Verbindungen mit Ethylen- und/oder Acetylenbindungen, z.B. Butindiol
- ein- und mehrkernige stickstoffhaltige Heterocyclen, welche noch weitere Heteroatome wie Schwefel oder Selen enthalten können
- Cumarin
- Amine und quaternäre Ammoniumverbindungen als Einebnungsmittel
- Saccharin.
- In der DE-B 11 91 652 (2) werden ein- oder mehrkernige heterocyclische Stickstoffbasen vom aromatischen Typ in quaternisierter Form wie Pyridiniumsalze, z.B. 2-Pyridinium-1-sulfatoethan, als Einebnungsmittel, d.h. Glanzmittel, für saure galvanische Nickelbäder beschrieben. Diese Mittel werden zusammen mit üblichen Grundglanzmitteln wie Benzol-m-disulfonsäure, Diaryldisulfimiden oder Sulfonamiden verwendet.
-
- In der FR-A 2 292 057 (5) werden cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel III
in der R¹⁰ für Wasserstoff, Methyl, Ethyl, Propyl, iso-Propyl, Carboxyl oder aliphatischen Carboxylester steht, R¹¹ Wasserstoff, Methyl, Carboxyl oder aliphatischen Carboxylester bezeichnet, R¹² den Rest eines aliphatischen Alkohols bedeutet, q die Zahl 0, 1 oder 2 bezeichnet und Y⊖ für Hydroxid oder Halogenid steht, als Glanzbildner in galvanischen Bädern für die Abscheidung von Nickel beschrieben. - In der Praxis werden üblicherweise als Glanzbildner Alkenylsulfonsäuren wie Natriumvinylsulfonat oder Natriumallylsulfonat in Kombination mit anderen Glanzbildnern wie Propargylalkohol, 2-Butin-1,4-diol, Propinsulfonsäure oder 3-Pyridinium-propylsulfonat verwendet.
- Nachteilig bei den aus dem Stand der Technik bekannten Mitteln ist allerdings die in der Regel relativ hohe Einsatzkonzentration in den verwendeten Nickelelektrolyt-Bädern.
- Der Erfindung lag daher ein verbessertes Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile unter Verwendung von Glanzbildnern, die bei besserer oder zumindest gleicher Glanzbildung wie bei beispielsweise 2-Pyridinium-1-sulfatoethan, 3-Pyridinium-propylsulfonat oder Verbindungen der allgemeinen Formeln II oder III in geringerer Konzentration eingesetzt zu werden brauchen, als Aufgabe zugrunde.
- Demgemäß wurde ein Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile durch galvanisches Abscheiden von Nickel aus wäßrig-sauren Bädern, die als wesentliche Bestandteile ein oder mehrere Nickelsalze, eine oder mehrere anorganische Säuren und ein oder mehrere Glanzmittel enthalten gefunden, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man als Glanzmittel cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel I
in der das N-Atom Bestandteil eines Pyridin-, Chinolin- oder Isochinolin-Ringsystemes ist, welches zusätzlich ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylsubstituenten tragen kann, - R¹ und R²
- für Wasserstoff oder C₁- bis C₄-Alkyl stehen,
- A
- eine Gruppierung der Formel -CO-O-R³, -CO-CH₂-CO-O-R³, -O-CO-R³ oder -O-R³ bezeichnet, wobei
- R³
- C₁- bis C₁₂-Alkyl, C₅- bis C₈-Cycloalkyl, C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl oder Phenyl, welches durch ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylreste, C₁- bis C₄-Alkoxyreste, Halogenatome, Hydroxylgruppen, Phenylreste oder C₁- bis C₄-Alkoxycarbonylgruppen substituiert sein kann, bedeutet,
- m
- für eine Zahl von 0 bis 10,
- n
- für eine Zahl von 1 bis 4 und
- p
- für 0 oder 1 stehen und
- X⊖
- ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, bezeichnet,
- Als C₁- bis C₄-Alkylreste für R¹ und R² sowie für mögliche Substituenten am heterocyclischen Ringsystem und am Phenylkern kommen n-Propyl, iso-Propyl, n-Butyl, iso-Butyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl und vor allem Methyl und Ethyl in Betracht.
- Als alkylsubstituierte heterocyclische Ringsysteme für I seien beispielhaft genannt:
2-, 3- oder 4-Methylpyridinium,
2-, 3- oder 4-Ethylpyridinium,
3- oder 4-n-Propylpyridinium,
3- oder 4-iso-Propylpyridinium,
3- oder 4-n-Butylpyridinium,
4-tert.-Butylpyridinium,
2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Dimethylpyridinium,
3-Methyl-4-isopropylpyridinium,
4-tert.-Butyl-3-methylpyridinium,
2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Methylchinolinium und
1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Methylisochinolinium. - Bevorzugt wird unsubstituiertes Pyridinium.
- Als geradkettige oder verzweigte C₁- bis C₁₂-Alkylreste für R³ kommen beispielsweise neben der oben aufgeführten C₁- bis C₄-Alkylresten n-Amyl, iso-Amyl, sek.-Amyl, tert.-Amyl, Neopentyl, n-Hexyl, n-Heptyl, n-Octyl, 2-Ethylhexyl, n-Nonyl, iso-Nonyl, n-Decyl, n-Undecyl und n-Dodecyl in Betracht. Bevorzugt werden hiervon C₁- bis C₄-Alkylreste.
- Als C₅- bis C₈-Cycloalkylreste für R³ kommen insbesondere Cyclopentyl, Cyclohexyl, Cycloheptyl, Cyclooctyl, Methylcyclopentyl, Dimethylcyclopentyl, Methylcyclohexyl, Dimethylcyclohexyl und Ethylcyclohexyl in Betracht. Bevorzugt werden hiervon Cyclopentyl und Cyclohexyl.
- Als C₇- bis C₁₂-Phenylalkylgruppen für R³ eignen sich beispielsweise 1-Phenylethyl, 2-Phenylethyl, 1-Phenylpropyl, 2-Phenylpropyl, 3-Phenylpropyl, 2-Phenylprop-2-yl, 4-Phenylbutyl, 2,2-Dimethyl-2-phenylethyl, 5-Phenylamyl, 6-Phenylhexyl und vor allem Benzyl.
- Bei Verwendung monosubstituierter Phenylreste für R³ ist das Substitutionsschema ortho, meta oder vorzugsweise para, bei disubstituierten Phenylresten stehen die Substituenten vor allem in 2,4-Position, z.B. bei 2,4-Xylyl. Es wird bei Vorhandensein von Substituenten ein Substitionsgrad von 1 bevorzugt. Besonders bevorzugt wird jedoch unsubstituiertes Phenyl.
- Als C₁- bis C₄-Alkoxyreste kommen hierbei insbesondere Methoxy und Ethoxy, daneben aber auch n-Propoxy, iso-Propoxy, n-Butoxy, iso-Butoxy, sec.-Butoxy und tert.-Butoxy in Betracht.
- Als C₁- bis C₄-Alkoxycarbonylgruppen dienen hierbei beispielsweise n-Propoxycarbonyl, iso-Propoxycarbonyl, n-Butoxycarbonyl, iso-Butoxycarbonyl, sec.-Butoxycarbonyl, tert.-Butoxycarbonyl, vor allem aber Ethoxycarbonyl und Methoxycarbonyl.
- Der Begriff Halogenatom umfaßt hierbei Fluor, Jod, vor allem aber Brom und insbesondere Chlor.
- Der Rest R¹ steht vorzugsweise für Wasserstoff, Methyl oder Ethyl, der Rest R² bedeutet vorzugsweise Wasserstoff.
- m steht vorzugsweise für eine Zahl von 0 bis 8, insbesondere 0 bis 5.
- Als n-wertige Anionen X kommen die üblichen, normalerweise die Wasserlöslichkeit fördernden anorganischen oder organischen Anionen in Betracht, so vor allem Chlorid, Bromid, Fluorid, Sulfat, Hydrogensulfat, Methansulfonat, Trifluormethansulfonat, 2-Hydroxyethansulfoant, p-Toluolsulfonat, Nitrat, Tetrafluorborat, Perchlorat, 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonat, Dihydrogenphosphat, Hydrogenphosphat, Phosphat, Formiat, Acetat, Oxalat und Tartrat.
- Hiervon werden ein- oder zweifach (n=1 oder 2) geladene Anionen, vor allem Fluorid, Sulfat, Methansulfonat, Nitrat und Tetrafluoroborat, insbesondere jedoch Chlorid und Bromid bevorzugt.
- In einer bevorzugten Ausführungsform werden cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel Ia
in der die Variablen R¹, n und X⊖ die oben genannten Bedeutungen haben, R⁴ C₁- bis C₁₂-Alkyl oder C₅- bis C₈-Cycloalkyl bezeichnet und k für O oder eine Zahl von 4 bis 10 steht, mit der Maßgabe, daß R¹ ungleich Wasserstoff ist, falls k den Wert 0 annimmt, eingesetzt. - In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform werden cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel Ib
in der die Variablen m, n und X⊖ die oben genannten Bedeutungen haben und R⁵ C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl oder Phenyl, welches durch ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylreste substituiert sein kann, bezeichnet, eingesetzt. -
-
-
-
- Die erfindungsgemäß eingesetzten cyclischen Ammoniumverbindungen I lassen sich in vorteilhafter Weise durch Umsetzung der entsprechenden Vorstufe der allgemeinen Formel IV
in der Z eine nucleofuge Abgangsgruppe, vorzugsweise Chlor oder Brom, darstellt, mit einem Heterocyclus der allgemeinen Formel V
und gewünschtenfalls anschließenden Austausch des Anions Z⊖ gegen X⊖ herstellen. - Die Umsetzung der Komponenten IV und V wird zweckmäßgerweise in einem inerten organischen Lösungsmittel wie Toluol, Xylol, Petrolether, Ligroin, Cyclohexan, Aceton, Tetrahydrofuran, Dioxan, Methanol, Ethanol, iso-Propanol, Essigsäureethylester oder Benzoesäuremethylester oder in einer Mischung hieraus durchgeführt. Man kann die Umsetzung aber auch in Wasser oder in einem einphasigen oder zweiphasigen Gemisch aus Wasser und einem oder mehreren organischen Lösungsmitteln, vorzugsweise polaren organischen Lösungsmitteln, vornehmen. Bei Zweiphasengemischen kann ein üblicher Phasentransferkatalysator eingesetzt werden. Man arbeitet in der Regel bei Temperaturen von 40 bis 130°C, insbesondere bei 60 bis 110°C, und bei Normaldruck.
-
- R⁴
- C₁- bis C₁₂-Alkyl oder C₅- bis C₈-Cycloalkyl,
- k
- 0 oder eine Zahl von 4 bis 10,
- n
- eine Zahl von 1 bis 4,
- X⊖
- ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, und
- R⁶
- C₂- bis C₄-Alkyl
-
- m
- eine Zahl von 0 bis 10,
- n
- eine Zahl von 1 bis 4,
- X⊖
- ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, und
- R⁷
- C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl
-
- R¹
- Wasserstoff oder C₁- bis C₄-Alkyl, n eine Zahl von 1 bis 4 und
- X⊖
- ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, bezeichnen, und
- R⁸
- C₃- bis C₁₂-Alkyl, C₅- bis C₈-Cycloalkyl, C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl oder Phenyl, welches durch ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylreste, C₁- bis C₄-Alkoxyreste, Halogenatome, Hydroxylgruppen, Phenylreste oder C₁- bis C₄-Alkoxycarbonylgruppen substituiert sein kann, bedeutet.
- Da die cyclischen Ammoniumverbindungen I den Wirkungscharakter von sekundären Glanzbildnern haben, werden sie vorzugsweise in Kombination mit weiteren, normalerweise primären Glanzbildnern, gegebenenfalls auch mit einem oder mehreren weiteren sekundären Glanzbildnern verwendet. Als primäre Glanzbildner kommen beispielsweise Vinylsulfonsäure- oder Allylsulfonsäure-Natriumsalz, als sekundäre Glanzbildner beispielsweise 2-Butin-1,4-diol oder Propargylalkohol in Frage.
- Die verwendeten wäßrig-sauren Nickelelektrolyt-Bäder enthalten ein oder meist mehrere Nickelsalze, z.B. Nickelsulfat und Nickelchlorid, eine oder mehrere anorganische Säuren, vorzugsweise Borsäure und Schwefelsäure, als Glanzmittel die Verbindungen I allein oder vorzugsweise in Kombination mit weiteren üblichen Glanzmitteln sowie gegebenenfalls weitere übliche Hilfsmittel und Zusätze in den hierfür üblichen Konzentrationen, z.B. Netzmittel und Porenverhütungsmittel. Gebräuchlich wäßrig-saure Nickelelektrolyte ("Watts-Elektrolyte") haben die folgende Grundzusammensetzung:
200 bis 350 g/l NiSO₄ · 7 H₂O
30 bis 150 g/l NiCl₂ · 6 H₂O
30 bis 50 g/l H₃BO₃. - Der pH-Wert der Elektrolyt-Bäder liegt üblicherweise zwischen 3 und 6, vorzugsweise zwischen 4 und 5. Zur Einstellung dieses pH-Wertes dient zweckmäßigerweise eine starke Mineralsäure, vorzugsweise Schwefelsäure.
- Die Verbindungen I liegen in den Elektrolyt-Bädern in niedrigen Konzentrationen, in der Regel zwischen 0,04 und 0,5 g/l, vorzugsweise zwischen 0,1 und 0,3 g/l, vor. Die Konzentrationen weiterer üblicher Glanzmittel liegen normalerweise im Bereich von jeweils 0,1 bis 10 g/l, insbesondere 0,1 bis 2,0 g/l.
- Mit den beschriebenen Nickelelektrolyt-Bädern können vor allem Nickelüberzüge auf Formteilen aus Stahl, daneben aber auch auf Formteilen aus anderen Materialien, beispielsweise Messing, die wie üblich vorbehandelt worden sind, galvanisch erzeugt werden. Hierzu arbeitet man in der Regel bei Temperaturen von 30 bis 80°C, vorzugsweise 40 bis 60°C.
- Die erfindungsgemäß eingesetzten Verbindungen I zeichnen sich durch eine außerordentlich hohe Glanzbildung aus. Man erreicht mit ihnen in der Regel einen stärkeren Glanz als mit den üblichen Glanzbildnern bei deutlich niedrigerer Dosierung in den Nickelelektrolyt-Bädern.
- 7,9 g (0,1 mol) Pyridin und 19,5 g (0,1 mol) 2-Brombuttersäureethylester wurden in 40 ml Aceton 6 h unter Rückfluß erhitzt. Danach wurde das Lösungsmittel abdestilliert, der Rückstand mit wenig Aceton gewaschen und im Vakuum bei ca. 0,1 mbar getrocknet. Man erhielt 21,6 g (entsprechend einer Ausbeute 79 %) der Titelverbindung in Form von farblosen Kristallen. Die Reinheit des Produktes lag bei über 99 %.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und Essigsäure-2-bromethylester in einer Ausbeute 81 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 2-Brombuttersäuremethylester in einer Ausbeute 85 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 2-Brompropionsäurepentylester in einer Ausbeute 79 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 4-Bromcrotonsäureethylester in einer Ausbeute von 70 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 4-Bromcrotonsäuremethylester in einer Ausbeute von 71 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und Bromessigsäurebenzylester in einer Ausbeute von 80 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 3-Chlorpropionsäurephenylester in einer Ausbeute von 86 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 4-Chloracetessigsäure-iso-propylester in einer Ausbeute von 71 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 4-Chloracetessigsäure-tert.-butylester in einer Ausbeute von 73 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 4-Chloracetessigsäuremethylester in einer Ausbeute von 74 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 4-Chloracetessigsäureethylester in einer Ausbeute von 70 % hergestellt.
- Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Pyridin und 2-Bromethyl-methylether in einer Ausbeute von 69 % hergestellt.
- Die gemäß den Beispielen 1 bis 13 hergestellten Produkte wuren als Glanzmittel in schwach sauren galvanischen Bädern zur Abscheidung von Nickel eingesetzt.
- Der verwendete wäßrige Nickelelektrolyt hatte folgende Zusammensetzung:
300 g/l NiSO₄ · 7 H₂O
60 g/l NiCl₂ · 6 H₂O
45 g/l H₃BO₃
2 g/l Saccharin
0,8 g/l Vinylsulfonsäure-Natriumsalz
x g/l Glanzbildner gemäß Tabelle
0,5 g/l eines Fettalkoholderivates der Formel C₁₂H₂₅/C₁₄H₂₉-O-(CH₂CH₂O)₂-SO₃Na als Netzmittel
Der pH-Wert des Elektrolyten wurde mit Schwefelsäure auf 4,2 eingestellt. - Es wurden Messingbleche verwendet, die vor der Beschichtung mit Nickel in einem alkalischen Elektrolyten nach den üblichen Methoden kathodisch entfettet wurden. Die Nickelabscheidung erfolgte in einer 250 ml-Hull-Zelle bei 55°C und einer Stromstärke von 2A während eines Zeitraumes von 10 Minuten. Anschließend wurden die Bleche mit Wasser gespült und mit Preßluft getrocknet.
-
- Die Vergleichsverbindungen C und D sind aus (3) bzw. (4) und die Vergleichsverbindung E ist aus (5) bekannt.
einsetzt.
Claims (11)
- Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile durch galvanisches Abscheiden von Nickel aus wäßrig-sauren Bädern, die als wesentliche Bestandteile ein oder mehrere Nickelsalze, eine oder mehrere anorganische Säuren und ein oder mehrere Glanzmittel enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß man als Glanzmittel cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel I
in der das N-Atom Bestandteil eines Pyridin-, Chinolin- oder Isochinolin-Ringsystemes ist, welches zusätzlich ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylsubstituenten tragen kann,
R¹ und R² für Wasserstoff oder C₁- bis C₄-Alkyl stehen,
A eine Gruppierung der Formel -CO-O-R³, -CO-CH₂-CO-O-R³, -O-CO-R³ oder -O-R³ bezeichnet, wobei
R³ C₁- bis C₁₂-Alkyl, C₅- bis C₈-Cycloalkyl, C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl oder Phenyl, welches durch ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylreste, C₁- bis C₄-Alkoxyreste, Halogenatome, Hydroxylgruppen, Phenylreste oder C₁- bis C₄-Alkoxycarbonylgruppen substituiert sein kann, bedeutet,
m für eine Zahl von 0 bis 10, n für eine Zahl von 1 bis 4 und p für 0 oder 1 stehen und
X⊖ ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, bezeichnet, mit der Maßgabe, daß für den Fall p = O und A = -CO-O-C₁-C₁₂-Alkyl m nicht den Wert 1, 2 oder 3 annehmen darf und R¹ für den gleichen Fall ungleich Wasserstoff ist, falls m den Wert O annimmt, einsetzt. - Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Glanzmittel cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel Ia
in der die Variablen R¹, n und X⊖ die oben genannten Bedeutungen haben, R⁴ C₁- bis C₁₂-Alkyl oder C₅- bis C₈-Cycloalkyl bezeichnet und k für 0 oder eine Zahl von 4 bis 10 steht, mit der Maßgabe, daß R¹ ungleich Wasserstoff ist, falls k den Wert 0 annimmt, einsetzt. - Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Glanzmittel cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel Ib
in der die Variablen m, n und X⊖ die oben genannten Bedeutungen haben und R⁵ C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl oder Phenyl, welches durch ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylreste substituiert sein kann, bezeichnet, einsetzt. - Verfahren zur Herstellung vernickelter Formteile nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß man neben den cyclischen Ammoniumverbindungen I mindestens ein weiteres Glanzmittel verwendet.
- Cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel Ig
in der die VariablenR⁴ C₁- bis C₁₂-Alkyl oder C₅- bis C₈-Cycloalkyl,k 0 oder eine Zahl von 4 bis 10,n eine Zahl von 1 bis 4,X⊖ ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, undR⁶ C₂- bis C₄-Alkylbezeichnen. - Cyclische Ammoniumverbindungen der allgemeinen Formel Ij
in der die VariablenR¹ Wasserstoff oder C₁- bis C₄-Alkyl,n eine Zahl von 1 bis 4 undX⊖ ein n-wertiges anorganisches oder organisches Anion, welches die Wasserlöslichkeit fördert, bezeichnen, undR⁸ C₃- bis C₁₂-Alkyl, C₅- bis C₈-Cycloalkyl, C₇- bis C₁₂-Phenylalkyl oder Phenyl, welches durch ein oder zwei C₁- bis C₄-Alkylreste, C₁- bis C₄-Alkoxyreste, Halogenatome, Hydroxylgruppen, Phenylreste oder C₁- bis C₄-Alkoxycarbonylgruppen substituiert sein kann, bedeutet.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4135710 | 1991-10-30 | ||
| DE4135710A DE4135710A1 (de) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | Cyclische ammoniumverbindungen und ihre verwendung als glanzmittel fuer waessrig-saure galvanische nickelbaeder |
| PCT/EP1992/002180 WO1993009275A1 (de) | 1991-10-30 | 1992-09-21 | Verfahren zur herstellung vernickelter formteile |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| EP0610236A1 EP0610236A1 (de) | 1994-08-17 |
| EP0610236B1 true EP0610236B1 (de) | 1995-09-20 |
Family
ID=6443712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EP92919740A Expired - Lifetime EP0610236B1 (de) | 1991-10-30 | 1992-09-21 | Verfahren zur herstellung vernickelter formteile |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5438140A (de) |
| EP (1) | EP0610236B1 (de) |
| JP (1) | JPH07500634A (de) |
| DE (2) | DE4135710A1 (de) |
| ES (1) | ES2076780T3 (de) |
| WO (1) | WO1993009275A1 (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7300563B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-11-27 | Pavco, Inc. | Use of N-alllyl substituted amines and their salts as brightening agents in nickel plating baths |
| AU2007328210B2 (en) * | 2006-12-06 | 2012-11-22 | Cornell Research Foundation, Inc. | Intermediate duration neuromuscular blocking agents and antagonists thereof |
| WO2010107488A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Cornell University | Reversible nondepolarizing neuromuscular blockade agents and methods for their use |
| WO2011022491A1 (en) | 2009-08-19 | 2011-02-24 | Cornell University | Cysteine for physiological injection |
| GB202214330D0 (en) * | 2022-09-30 | 2022-11-16 | Mahriche Sami Akram | Automated platform universally useable for automating storage, handling and transport of goods |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1191652B (de) * | 1963-05-15 | 1965-04-22 | Dehydag Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad |
| US3206383A (en) * | 1964-03-26 | 1965-09-14 | Kappel Mario | Electrolyte for use in the galvanic deposition of bright leveling nickel coatings |
| DE1496833A1 (de) * | 1966-12-05 | 1969-07-17 | Henkel & Cie Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad |
| FR2292057A1 (fr) * | 1974-11-20 | 1976-06-18 | Popescu Francine | Bain galvanique pour nickelage brillant |
| US4457934A (en) * | 1982-05-01 | 1984-07-03 | Stauffer Chemical Company | Insect repellent compounds |
| JPH03161486A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-11 | Teijin Ltd | 酵素阻害剤 |
-
1991
- 1991-10-30 DE DE4135710A patent/DE4135710A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-09-21 DE DE59203781T patent/DE59203781D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-21 EP EP92919740A patent/EP0610236B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-21 US US08/211,726 patent/US5438140A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-21 ES ES92919740T patent/ES2076780T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-21 WO PCT/EP1992/002180 patent/WO1993009275A1/de not_active Ceased
- 1992-09-21 JP JP5508113A patent/JPH07500634A/ja active Pending
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Chemical Abstracts, Band 115, 1991, Banks, Roland Eric et al: "Fluorcarbon derivates of nitrogen. Part 19. Synthesis and mass spectometric analysis of some pyridnium (tetrafluoro-4-pyridy) methylides" Zusammenfassung 158920c, & J. Fluorine Chem., 53(1), 127-142 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5438140A (en) | 1995-08-01 |
| DE59203781D1 (de) | 1995-10-26 |
| ES2076780T3 (es) | 1995-11-01 |
| EP0610236A1 (de) | 1994-08-17 |
| WO1993009275A1 (de) | 1993-05-13 |
| JPH07500634A (ja) | 1995-01-19 |
| DE4135710A1 (de) | 1993-05-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
| 17P | Request for examination filed |
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|
| AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): BE CH DE ES FR GB IT LI NL |
|
| 17Q | First examination report despatched |
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|
| GRAA | (expected) grant |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210 |
|
| AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: B1 Designated state(s): BE CH DE ES FR GB IT LI NL |
|
| REF | Corresponds to: |
Ref document number: 59203781 Country of ref document: DE Date of ref document: 19951026 |
|
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: ES Ref legal event code: FG2A Ref document number: 2076780 Country of ref document: ES Kind code of ref document: T3 |
|
| GBT | Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977) |
Effective date: 19951009 |
|
| ITF | It: translation for a ep patent filed | ||
| ET | Fr: translation filed | ||
| PLBE | No opposition filed within time limit |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261 |
|
| STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
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|
| 26N | No opposition filed | ||
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Payment date: 19970814 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Payment date: 19970821 Year of fee payment: 7 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: CH Payment date: 19970826 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: BE Payment date: 19970909 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: ES Payment date: 19970911 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Payment date: 19970915 Year of fee payment: 6 |
|
| PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: DE Payment date: 19970929 Year of fee payment: 6 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 19980921 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: ES Free format text: LAPSE BECAUSE OF THE APPLICANT RENOUNCES Effective date: 19980922 Ref country code: DE Free format text: LAPSE BECAUSE OF THE APPLICANT RENOUNCES Effective date: 19980922 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: LI Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 19980930 Ref country code: CH Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 19980930 Ref country code: BE Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 19980930 |
|
| BERE | Be: lapsed |
Owner name: BASF A.G. Effective date: 19980930 |
|
| GBPC | Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee |
Effective date: 19980921 |
|
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: CH Ref legal event code: PL |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 19990531 |
|
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: FR Ref legal event code: ST |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20000401 |
|
| NLV4 | Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20000401 |
|
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: ES Ref legal event code: FD2A Effective date: 20001009 |
|
| PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: IT Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED. Effective date: 20050921 |
























