EP0490113A2 - Verfahren zum Elektro-Tauchemaillieren - Google Patents

Verfahren zum Elektro-Tauchemaillieren Download PDF

Info

Publication number
EP0490113A2
EP0490113A2 EP19910119437 EP91119437A EP0490113A2 EP 0490113 A2 EP0490113 A2 EP 0490113A2 EP 19910119437 EP19910119437 EP 19910119437 EP 91119437 A EP91119437 A EP 91119437A EP 0490113 A2 EP0490113 A2 EP 0490113A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
bath
wet
workpiece
enamel coating
enamelling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP19910119437
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0490113B1 (de
EP0490113A3 (en
Inventor
Manfred Lange
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOSCH-SIEMENS HAUSGERAETE GMBH
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of EP0490113A2 publication Critical patent/EP0490113A2/de
Publication of EP0490113A3 publication Critical patent/EP0490113A3/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0490113B1 publication Critical patent/EP0490113B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23DENAMELLING OF, OR APPLYING A VITREOUS LAYER TO, METALS
    • C23D5/00Coating with enamels or vitreous layers
    • C23D5/02Coating with enamels or vitreous layers by wet methods

Definitions

  • the invention relates to a method for electro-immersion enamelling, in particular in a bath with halides for a two-layer enamelling "wet-on-wet" and a penetration, in which the workpiece is connected as an anode.
  • Electro-dip enamelling means the transport of charged particles in liquid emulsion through an applied electric field. In contrast to electrolysis, this involves the transport of much larger particles, and there is no chemical and physical change in the separated substance.
  • the enamel particles become negatively charged and migrate to the workpiece when an electric field is applied, which is connected as an anode.
  • electroosmosis causes the opposite movement of the liquid to the cathode in the deposited enamel slip.
  • the deposited enamel layer is thereby pre-dried, although the part remains in the aqueous medium.
  • electrolysis is still running with unfavorable side effects.
  • only one-layer enamelling with subsequent firing has been practiced without exception.
  • the conductivity of the slip to be separated is between 1500 and 3500 ⁇ S / cm. This value applies to single-layer and two-layer enamelling "wet-on-wet" in the case of a penetration.
  • the bath voltage is approximately 80 to 120 volts with a current density of 3 to 6 A / dm2. These values correspond to the electrolytic decomposition range of the water.
  • molecular oxygen is formed on the workpiece, in the region of the anode by discharging the oxygen ions.
  • the anodically formed oxygen is partially absorbed as glass bubbles in the separated and in the pre-dried enamel slip. They burst on and off the workpiece after the enamel has burned in and thus cause errors.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

Um beim Elektro-Tauchemaillieren, insbesondere beim 2-Schichten-Tauchemaillieren "Naß-in-Naß" eine Blasenbildung zum Werkstück zu vermeiden, sind vorgeschlagen, daß man das Bad in einer Na-Cl-Konzentration von 140 bis 170 ppm/l hält. Durch diese erfinderische Maßnahme kann das Auftreten von Bläschen am Werkstück vermieden werden.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Elektro-Tauchemaillieren, insbesondere in einem Bad mit Halogeniden für eine 2-Schicht-Emaillierung "Naß-in-Naß" und einem Einbrand, bei dem das Werkstück als Anode geschaltet ist.
  • Unter Elektro-Tauchemaillierung versteht man den Transport geladener Teilchen in flüssiger Emulsion durch ein angelegtes elektrisches Feld. Im Gegensatz zur Elektrolyse handelt es sich hier um den Transport wesentlich größerer Partikel, außerdem tritt keine chemische und physikalische Veränderung der abgeschiedenen Substanz ein. Bei Berührung mit Wasser als Dispersionsmittel laden sich die Emailteilchen negativ auf und wandern beim Anlegen eines elektrischen Feldes zum Werkstück, das als Anode geschaltet ist. Gleichzeitig bewirkt die Elektroosmose die im abgeschiedenen Emailschlicker entgegengesetzte Bewegung der Flüssigkeit zur Katode. Die abgeschiedene Emailschicht wird dadurch vorgetrocknet, obwohl das Teil im wässerigen Medium verbleibt. Neben dieser an sich günstigen Reaktion läuft jedoch noch eine Elektrolyse mit ungünstigen Nebenerscheinungen ab. In der praktischsen Anwendung der Elektro-Tauchemaillierung wurde bislang ausnahmslos nur die Ein-Schicht-Emaillierung mit anschließendem Brand praktiziert.
  • In der praktischen Anwendung der Elektro-Tauchemaillierung (ETE) liegt die Leitfähigkeit der abzuscheidenden Schlickers zwischen 1500 und 3500 µS/cm. Dieser Wert gilt für die Einschicht- und für die Zweischicht-Emaillierung "Naß-in-Naß" bei einem Einbrand. Die Badspannung beträgt etwa 80 bis 120 Volt bei einer Stromdichte von 3 bis 6 A/dm². Diese Werte entsprechen dem elektrolytischen Zersetzungsbereich des Wassers. Das hat zur Folge, daß es am Werkstück, - im Bereich der Anode durch Entladung der Sauerstoffionen - zur Bildung von Molekularem Sauerstoff kommt. Der anodisch gebildete Sauerstoff wird im abgeschiedenen und im vorgetrockneten Emailschlicker teilweise als Glasbläschen absorbiert. Die nach dem Einbrand des Emails am Werkstück auf- und abplatzen und somit Fehler verursachen. Diese Mängel sind zu verhindern.
  • Es ist somit Aufgabe der Erfindung, durch verfahrensmäßige Maßnahmen das Auftreten von Bläschen im Emailschlicker zu verhindern. Dies kann nur dadurch geschehen, daß die anodische Sauerstoffbildung am Werkstück unterbleibt. Es ist bekannt, den Schlicker Halogenid-Ionen zuzuführen. Dadurch wird bewerkstelligt, daß die Halogenid-Ionen sich ebenfalls an der Anode entladen, da die Halogenid-Ionen kreativer sind, kommt man allen anderen unerwünschten Reaktionen der Gas- und Blasenbildung am Werkstück zuvor. Es wurde indessen erkannt, daß die zur Gas- und Blasenvermeidung notwendige Halogenid-Konzentration im ETE-Bad nur durch eine kontinuierliche Badanalytik gewährleistet werden kann. Durch die sich wiederholenden Tauchprozesse der Werkstücke in das Bad kommt es zur Absenkung der Halogenid-Konzentration. Es wird daher vorgeschlagen, daß man während des Tauchprozesses der Werkstücke neben der Badüberwachung und bei Bedarf mittels definierter wässeriger Halogenitlösung das Bad auf dem ursprünglichen Zustand hält.
  • Im Gegensatz zur Einschicht-Elektrotauchemaillierung reagiert die Zweischicht-Tauchemaillierung "Naß-in-Naß" empfindlicher auf einen Halogenid-Mangel. Auch aus diesem Grunde kann auf eine ständige Badüberwachung nicht verzichtet werden. Während des Tauchprozesses der Werkstücke wird dem Bad ständig Dialyse-Wasser entzogen. Das Bad verarmt an Halogenid -Ionen. Es wurde gefunden, daß für die Badkonzentration des Halogenides im unbelasteten frischen Mühlenschlicker eine Konzentration von 140 bis 170 ppm erforderlich ist. So kann ein störungsfreier ETE-Prozeß "Naß-in-Naß" mit einem Zweischichten-Auftrag und nur einem Einbrand gewährleistet werden, ohne daß es zur Blasenbildung am Werkstück kommt.

Claims (3)

  1. Elektro-Tauchemaillieren, insbesondere in einem Bad mit Halogeniden für eine 2-Schicht-Tauchemaillierung "Naß-in-Naß" und nur einem Einbrand, bei dem das Werkstück als Anode geschaltet ist, dadurch gekennzeichnet, daß man das Bad in einer Na-Cl-Konzentration von 140 bis 170 ppm/l hält.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die die Halogenid-Konzentration des Bades ständig überwacht.
  3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogenid in flüssigem Zustand dem Bad zuführt.
EP91119437A 1990-12-13 1991-11-14 Verfahren zum Elektro-Tauchemaillieren Expired - Lifetime EP0490113B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4039856 1990-12-13
DE4039856A DE4039856A1 (de) 1990-12-13 1990-12-13 Verfahren zum elektro-tauchemaillieren

Publications (3)

Publication Number Publication Date
EP0490113A2 true EP0490113A2 (de) 1992-06-17
EP0490113A3 EP0490113A3 (en) 1995-01-11
EP0490113B1 EP0490113B1 (de) 1997-03-26

Family

ID=6420262

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP91119437A Expired - Lifetime EP0490113B1 (de) 1990-12-13 1991-11-14 Verfahren zum Elektro-Tauchemaillieren

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0490113B1 (de)
DE (2) DE4039856A1 (de)
ES (1) ES2102380T3 (de)
YU (1) YU193291A (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19745259A1 (de) * 1997-10-14 1999-04-15 Miele & Cie Verfahren zum Beschichten von Oberflächen
DE10339603B4 (de) * 2003-08-28 2006-08-10 Stefan Wolz Verfahren zur Beschichtung dentaler Substrate mittels Elektrophorese

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE942006C (de) * 1953-08-21 1956-04-26 Schultheis & Soehne Verfahren zur Herstellung von Emails und Glasuren
DE2104180A1 (en) * 1971-01-29 1972-08-24 Miele & Cie Controlled conductivity electrophoretic enamelling bath - by slurry substitution with aluminium hydroxide
DE3121667A1 (de) * 1981-05-30 1982-12-16 Miele & Cie GmbH & Co, 4830 Gütersloh Verfahren zum elektrophoretischen emaillieren

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE942006C (de) * 1953-08-21 1956-04-26 Schultheis & Soehne Verfahren zur Herstellung von Emails und Glasuren
DE2104180A1 (en) * 1971-01-29 1972-08-24 Miele & Cie Controlled conductivity electrophoretic enamelling bath - by slurry substitution with aluminium hydroxide
DE3121667A1 (de) * 1981-05-30 1982-12-16 Miele & Cie GmbH & Co, 4830 Gütersloh Verfahren zum elektrophoretischen emaillieren

Also Published As

Publication number Publication date
DE4039856A1 (de) 1992-06-17
EP0490113B1 (de) 1997-03-26
ES2102380T3 (es) 1997-08-01
EP0490113A3 (en) 1995-01-11
YU193291A (sh) 1994-01-20
DE59108635D1 (de) 1997-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2537757C3 (de) Verfahren zum Wiederverwenden einer Ätzlösung
DE2218471A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Aluminiumoffsetdruckplatten
DE3715791A1 (de) Druckplattentraeger sowie verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung
DE2736000C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur chemischen Behandlung einer Oberfläche auf einer Seite eines Werkstückes
DE1621916C3 (de) Verfahren zum Überziehen eines elektrisch leitenden Gegenstandes in einem wässrigen Bad mit einem ionisierten organischen Harz und hierfür geeignete Vorrichtungen
DE69521754T2 (de) Aluminium-Träger für eine Flachdruckplatte, Verfahren zu ihrer Herstellung und Aufrauhung
EP0490113B1 (de) Verfahren zum Elektro-Tauchemaillieren
DE10326767B4 (de) Verfahren zur Regenerierung von eisenhaltigen Ätzlösungen zur Verwendung beim Ätzen oder Beizen von Kupfer oder Kupferlegierungen sowie eine Vorrichtung zur Durchführung desselben
DE2538375C2 (de) Verfahren zur Regenerierung von Entwicklern für Silberhalogenid-Photomaterialien sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens und Verwendung dieses Verfahrens
DE2156677B2 (de) Verfahren zur kontinuierlichen elektrolytischen Vorbehandlung von Aluminiumstreifen für das Aufbringen von organischen Überzügen
EP0204189A1 (de) Verfahren zum mechanisch-chemischen Polieren von Siliciumscheiben
DE3243770A1 (de) Verfahren zum aufarbeiten von elektrotauchlackierungsbaedern
DE3903276C2 (de) Verfahren zur elektrolytischen Oberflächenbehandlung von Aluminiumträgern für Flachdruckplatten
DD215589A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen metallabscheidung bei erzwungener konvektion
JPH0368120B2 (de)
DE102013214392A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Gasen in Elektrolyten und zur Erzeugung von Elektrolyten aus Gasen
DE3121667C2 (de)
DE2064354A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Vorbehandeln eines insbesondere zur Herstellung von lithographischen Flachdruckplatten dienenden Metallfolienbandes
DE2161844A1 (de) Elektrolytischer Kondensator
DE3045968A1 (de) Elektrolytisches bad, herstellung von palladiumbeschichtungen unter verwendung des elektrolytischen bades und regenerierung des elektrolytischen bades
DE384965C (de) Verfahren zur Herstellung von Kupferoxydul auf elektrolytischem Wege
DE10357174B3 (de) Verfahren zur kontinuierlichen Erzeugung von Haftbelägen
KR100638332B1 (ko) 알루미늄 물품의 전해 착색방법
DE3743113C2 (de)
DE19653273C2 (de) Verfahren zur Wiedergewinnung zumindest eines auf einem Substrat abgeschiedenen Metalls

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): DE ES FR GB IT NL

RAP3 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: BOSCH-SIEMENS HAUSGERAETE GMBH

PUAL Search report despatched

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009013

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): DE ES FR GB IT NL

17P Request for examination filed

Effective date: 19950622

17Q First examination report despatched

Effective date: 19951002

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): DE ES FR GB IT NL

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 19970407

REF Corresponds to:

Ref document number: 59108635

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19970430

ITF It: translation for a ep patent filed
ET Fr: translation filed
REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2102380

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 19981008

Year of fee payment: 8

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 19981113

Year of fee payment: 8

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 19981130

Year of fee payment: 8

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Payment date: 19990324

Year of fee payment: 8

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19991114

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19991115

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20000601

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 19991114

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20000731

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20000601

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20031203

Year of fee payment: 13

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FD2A

Effective date: 20001214

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20050601

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.

Effective date: 20051114