EP0363832B1 - Hochleistungsstrahler - Google Patents

Hochleistungsstrahler Download PDF

Info

Publication number
EP0363832B1
EP0363832B1 EP89118546A EP89118546A EP0363832B1 EP 0363832 B1 EP0363832 B1 EP 0363832B1 EP 89118546 A EP89118546 A EP 89118546A EP 89118546 A EP89118546 A EP 89118546A EP 0363832 B1 EP0363832 B1 EP 0363832B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
electrodes
dielectric
radiator according
power radiator
discharge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP89118546A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0363832A1 (de
Inventor
Bernd Dr. Gellert
Ulrich Dr. Kogelschatz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heraeus Noblelight GmbH
Original Assignee
ABB Asea Brown Boveri Ltd
Heraeus Noblelight GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ABB Asea Brown Boveri Ltd, Heraeus Noblelight GmbH filed Critical ABB Asea Brown Boveri Ltd
Publication of EP0363832A1 publication Critical patent/EP0363832A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0363832B1 publication Critical patent/EP0363832B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel

Definitions

  • the invention relates to a state of the art, such as results from EP application 87109674.9 (publication number 257111).
  • UV sources The industrial use of photochemical processes depends heavily on the availability of suitable UV sources.
  • the classic UV lamps deliver low to medium UV intensities at some discrete wavelengths, e.g. the mercury low-pressure lamps at 185 nm and especially at 254 nm. Really high UV power can only be obtained from high-pressure lamps (Xe, Hg), which then distribute their radiation over a larger wavelength range.
  • high-pressure lamps Xe, Hg
  • the new excimer lasers have provided some new wavelengths for basic photochemical experiments. currently for cost reasons for an industrial process probably only suitable in exceptional cases.
  • the invention has for its object to provide a high-performance radiator, in particular for UV or VUV light, which is characterized in particular by higher efficiency, is economical to manufacture and also enables the construction of very large area radiators.
  • the high-power radiator according to the invention permits radiator geometries of almost any shape.
  • cylindrical or elliptical emitters can be created.
  • the radiators do not necessarily have to be flat or elongated, but can be curved or curved in one or more dimensions.
  • the invention allows the walls delimiting the discharge space to be provided with a luminescence layer either on the wall facing the discharge space or on the outer wall for converting the UV light into visible light.
  • the wall no longer has to be UV-permeable because it only has to let visible light through.
  • Dielectrics which are not necessarily transparent to UV light can be used in the arrangement according to the invention, which means that particularly high efficiencies can be expected for special applications.
  • UV light can be used directly for some applications without having to leave the discharge space. This applies in particular to those applications that can be carried out in the discharge space.
  • Such applications with growing economic importance include e.g. use as a strong UV lamp for pre-ionization purposes of other discharges, e.g. Lasers, treatment of surfaces with UV exposure, chemical processes such as preparation of new chemicals or surfaces and coating processes such as plasma CVD (Chemical Vapor Deposition), Photo CVD, in which a substrate to be treated is brought as close as possible to the UV light source with a suitable filling gas becomes.
  • plasma CVD Chemical Vapor Deposition
  • Photo CVD Photo CVD
  • 1 and 2 consists of two spaced UV-transparent plates 1, 2 made of quartz glass, between which a further plate 3 made of dielectric material, e.g. Glass or ceramic or a plastic dielectric is arranged. Spacers 4, 5 distributed over the surface secure the spacing of the plates 1, 2 and 3 and at the same time serve to hold them together.
  • an adjustable AC voltage in the order of magnitude of several 100 volts to 20,000 volts at frequencies in the range of technical alternating current up to a few kHz - depending on the electrode geometry, pressure in the discharge space and composition of the filling gas.
  • the discharge spaces 8 and 9 between the plates 1 and 3 or 3 and 2 are filled with a filling gas which emits radiation under discharge conditions, e.g. Mercury, noble gas, noble gas-metal vapor mixture, noble gas-halogen mixture, optionally using an additional further noble gas, preferably Ar, He, Ne, as a buffer gas.
  • a filling gas which emits radiation under discharge conditions, e.g. Mercury, noble gas, noble gas-metal vapor mixture, noble gas-halogen mixture, optionally using an additional further noble gas, preferably Ar, He, Ne, as a buffer gas.
  • a plurality of discharge channels 10 form from one electrode 6' through the dielectric 3 along the surface of the dielectric 3 and back into the dielectric 3 to the adjacent electrode 6".
  • These sliding discharges 10 running along the surface emit the UV light, which then penetrates through the transparent plates 1, 2 in the example. If different filling gases are used in rooms 8 and 9, two different radiations can be generated with one and the same radiator if the electrode arrangement and distribution are selected accordingly.
  • a coating 11, 12 By applying a coating 11, 12 to the two surfaces of the dielectric 3, lower ignition voltages for the discharge can be achieved, so that the costs for the supply can be reduced.
  • the oxides of magnesium, ytterbium, lanthanum and cerium are primarily suitable as coating material.
  • the UV light can also be used directly for some applications without it having to penetrate through the cover plates 1, 2. This applies to those applications that can be carried out in the discharge spaces 8, 9 themselves.
  • Such applications with growing economic importance include e.g. the treatment of surfaces with UV exposure, chemical processes such as the preparation of new chemicals or surface coating such as plasma CVD, photo CVD, i.e. processes in which a substrate to be treated with a suitable filler gas is as close as possible to the dielectric surface, i.e. where the Radiation is created, brought up.
  • FIG. 6 a tube 21 made of dielectric material is arranged coaxially between two quartz tubes 19, 20. Spacers, not shown, secure the mutual position of the three tubes.
  • metal electrodes 22 ′, 22 ′′ are embedded in the dielectric tube 21, which analogously to FIG. 2 are alternately connected to one and the other pole of an AC power source (not shown).
  • the cylinder emitter according to FIG. 6 emits both inwards (into the interior of the tube 20) and outwards. If different filling gases are used in rooms 8 and 9, two different radiations can be generated with one and the same radiator if the electrode arrangement and distribution are selected accordingly. Of course, this also applies to a radiator according to Fig. 4.
  • the desired reactions can also take place in the discharge space (s) 8 or 9 itself in the case of cylindrical radiators according to FIG. 6.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten, von Wänden begrenzten Entladungsraum und mit Elektrodenpaaren, die paarweise an die beiden Pole einer Hochspannungsquelle angeschlossen sind, wobei zwischen zwei auf unterschiedlichem Potential liegenden Elektroden mindestens ein dielektrisches Material liegt, das an den Entladungsraum angrenzt.
  • Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik, wie er sich etwa aus der EP-Anmeldung 87109674.9 (Veröffentlichungsnummer 257111) ergibt.
  • Der industrielle Einsatz photochemischer Verfahren hängt stark von der der Verfügbarkeit geeigneter UV-Quellen ab. Die klassischen UV-Strahler liefern niedrige bis mittlere UV-Intensitäten bei einigen diskreten Wellenlängen, wie z.B. die Quecksilber-Niederdrucklampen bei 185 nm und insbesondere bei 254 nm. Wirklich hohe UV-Leistungen erhält man nur aus Hochdrucklampen (Xe, Hg), die dann aber ihre Strahlung über einen grösseren Wellenlängenbereich verteilen. Die neuen Excimer-Laser haben einige neue Wellenlängen für photochemische Grundlagenexperimente bereitgestellt, sind. z.Zt. aus Kostengründen für einen industriellen Prozess wohl nur in Ausnahmefällen geeignet.
  • In der eingangs genannten EP-Patentanmeldung oder auch in dem Konferenzdruck "Neue UV- und VUV-Excimerstrahler von U.Kogelschatz und B.Eliasson, verteilt an der 10.Vortragstagung der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Photochemie, in Würzburg (BRD) 18.- 20.November 1987, wird ein neuer Excimerstrahler beschrieben. Dieser neue Strahlertyp basiert auf der Grundlage, dass man Excimerstrahlung auch in stillen elektrischen Entladungen erzeugen kann, einem Entladungstyp, der in der Ozonerzeugung grosstechnisch eingesetzt wird. In den nur kurzzeitig « 1 Mikrosekunde) vorhandenen Stromfilamenten dieser Entladung werden durch Elektronenstoss Edelgasatome angeregt, die zu angeregten Molekülkomplexen (Excimeren) weitereagieren. Diese Excimere leben nur einige 100 Nanosekunden und geben beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von UV-Strahlung ab.
  • Der Aufbau eines derartigen Excimerstrahlers entspricht bis hin zur Stromversorgung weitgehend dem eines klassischen Ozonerzeugers, mit dem wesentlichen Unterschied, dass mindestens eine der den Entladungraum begrenzenden Elektroden und/oder Dielektrikumsschichten für die erzeugte Strahlung durchlässig ist.
  • Ausgehend vom Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für UV- oder VUV-Licht, zu schaffen, der sich insbesondere durch höhere Effizienz auszeichnet, wirtschaftlich zu fertigen ist und auch den Aufbau sehr grosser Flächenstrahler ermöglicht.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe bei einem Hochleistungsstrahler der eingangs genannten Gattung ist erfindungsgemäss vorgesehen, dass die genannten Elektrodenpaare, räumlich getrennt von besagten Wänden und voneinander getrennt durch dielektrisches Material, nebeneinander angeordnet sind, derart, dass sich die stille elektrische Entladung im Entladungsraum im wesentlichen zur im Bereich der Dielektrikumsoberfläche ausbildet.
  • Bei Anliegen der Spannung bildet sich eine Vielzahl von Gleitentladungen von einer Elektrode durch das Dielektrikum im wesentlichen längs der Oberfläche des Dielektrikums und wieder in das Dielektrikum hinein zur benachbarten Elektrode. Diese Entladungen strahlen das verwendbare UV-Licht ab, das dann z.B. durch die den Entladungsraum begrenzende Wand dringt. Im Gegensatz zu den bekannten Konfigurationen wird hier die gesamte Ausdehnung der Entladungskanäle zur Strahlungserzeugung ausgenutzt.
  • Die Herstellung des erfindungsgemässen Hochleistungsstrahlers ist vereinfacht und kostengünstiger als bei den bekannten Strahlern. Man kann Materialien verwenden, die man leicht giessen kann, sodass die Elektroden eingegossen werden können. Dadurch werden Probleme beim Einhalten von Toleranzen (Z.B. Dicke des Dielektrikums oder der Abstände) verkleinert. Auch für das begrenzende Glas/Quarz-Material sind keine sehr hohen Ansprüche zu stellen, da die begrenzenden Wände lediglich transparent sein müssen und nicht durch die Entladung beansprucht werden. Dies führt zu einer höheren Lebensdauer des Strahlers. Auch ist die Spaltweite und deren Toleranzen weit weniger kritisch.Insbesondere lassen sich nunmehr wegen der geringeren Anforderungen bezüglich Toleranzen sehr grosse Flächenstrahler realisieren, die sehr dünn ausgeführt werden können.
  • Weil praktisch die gesamte Länge des Entladungsraum zu Emission beiträgt, ist die UV-Ausbeute sehr hoch. Transmissionsverluste eines Elektrodengitters oder einer teildurchlässigen Schicht liegen nicht vor.
  • Der erfindungsgemässe Hochleistungsstrahler erlaubt Strahler-Geometrien nahezu beliebiger Gestalt. Neben Flächenstrahlern, die nach einer oder nach beiden Flachseiten strahlen, können zylindrische oder elliptische Strahler geschaffen werden. Auch müssen die Strahler nicht notwendig eben oder langestreckt sein, sondern können in einer oder mehreren Dimensionen gekrümmt oder gebogen sein.
  • Selbstverständlich erlaubt es die Erfindung in Analogie zur CH-A-675 504, die den Entladungsraum begrenzenden Wände entweder auf der dem Entladungsraum zugewandten oder der äusseren Wand mit einer Lumineszenz-Schicht zu versehen zur Umwandlung des UV-Lichts in sichtbares Licht. Bei der ersten Alternative muss dann die Wand nicht mehr UV-durchlässig sein, weil sie nur noch sichtbares Licht durchlassen muss.
  • Bei der erfindungsgemässen Anordnung können Dielektrika verwendet werden, die nicht notwendigerweise transparent für das UV-Licht sind, was für besondere Anwendungen besonders hohe Wirkungsgrade erwarten lässt. So kann insbesondere das UV-Licht für manche Anwendungen direkt verwendet werden, ohne dass es den Entladungsraum verlassen muss. Dies gilt insbesondere für solche Anwendungen, die sich im Entladungsraum durchführen lassen. Zu solchen Anwendungen mit wachsender wirtschaftlicher Bedeutung zählen z.B. der Einsatz als starker UV-Strahler für Vorionisierungszwecke anderer Entladungen, z.B. Laser, Behandlung von Oberflächen mit UV-Belichtung, chemische Prozesse wie Präparation neuer Chemikalien oder Oberflächen und Beschichtungsverfahren wie Plasma-CVD (Chemical Vapor Deposition), Photo-CVD, bei denen ein zu behandelndes Substrat bei geeignetem Füllgas möglichst dicht an UV-Lichtquelle gebracht wird. Die besonderen Vorteile einer solchen "Innen"-Anordnung liegen u.a. in der Vermeidung von Absorptionsverlusten durch Fenster und in der Ausnutzung zusätzlicher Effekte durch die Entladung selbst.
  • In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt; darin zeigt
    • Fig. 1 Ein erstes Ausführungsbeispiel eines Flächenstrahlers mit beidseitiger Abstrahlung im Querschnitt;
    • Fig. 2 der Flächenstrahler nach Fig.1 im Längsschnitt mit einer schematischen Darstellung der elektrischen Anspeisung;
    • Fig. 3 eine eines erste Abwandlung des Flächenstrahlers nach Fig.1 und 2 mit einseitiger Abstrahlung und Elektroden, die auf ein Substrat aufgebracht und mit einer dielektrischen Schicht überzogen sind;
    • Fig. 4 eine zweite Abwandlung des Flächenstrahlers nach Fig.1 und 2 mit inhomogenem Dielektrikum;
    • Fig. 5 eine dritte Abwandlung des Flächenstrahlers nach Fig.1 und 2 mit von dielektrischen Material ummantelten Einzelelektroden;
    • Fig. 6 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung in Form eines Zylinderstrahlers im Querschnitt;
  • Der Flächenstrahler nach Fig.1 und 2 besteht aus zwei beabstandeten UV-durchlässigen Platten 1, 2 aus Quarzglas, zwischen denen eine weitere Platte 3 aus dielektrischen Material, z.B. Glas oder Keramik oder ein Kunststoff-Dielektrikum angeordnet ist. Ueber die Fläche verteilte Abstandshalter 4, 5 sichern die Distanzierung der Platten 1, 2 und 3 und dienen gleichzeitig deren Zusammenhalt. In die Platte 3 sind in regelmässigen Abständen und voneinander beabstandet Metallelektroden 6',6" eingebettet. Wie in Fig.2 zu erkennen ist, sind die Elektroden 6'6", abwechselnd mit dem einen und dem anderen Pol einer Wechselstromquelle 7 verbunden.Die Wechselstromquelle 7 entspricht grundsätzlich jenen, wie sie zur Anspeisung von Ozonerzeugern verwendet werden. Typisch liefert sie eine einstellbare Wechselspannung in der Grössenordnung von mehreren 100 Volt bis 20000 Volt bei Frequenzen im Bereich des technischen Wechselstroms bis hin zu einigen kHz - abhängig von der Elektrodengeometrie, Druck im Entladungsraum und Zusammensetzung des Füllgases.
  • Die Entladungsräume 8 und 9 zwischen den Platten 1 und 3 bzw. 3 und 2 sind mit einem unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendenden Füllgas gefüllt, z.B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gegebenenfalls unter Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases, vorzugsweise Ar, He, Ne, als Puffergas.
  • Je nach gewünschter spektraler Zusammensetzung der Strahlung kann dabei eine Substanz/Substanzgemisch gemäss nachfolgender Tabelle Vernwendung finden:
    Figure imgb0001
  • Daneben kommen eine ganze Reihe weiterer Füllgase in Frage:
    • - Ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit einem Gas bzw. Dampf aus F2, J2, Br2, CI2 oder eine Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere Atome F, J, Br oder CI abspaltet;
    • - ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit 02 oder einer Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere O-Atome abspaltet;
    • - ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) mit Hg.
  • In der sich bildenden elektrischen Gleitentladung (surface discharge) kann die Elektronenenergieverteilung durch Dicke der dielektrischen Platte 3 und deren Eigenschaften, Abstand zwischen den Elektroden 6',6", Druck und/oder Temperatur optimal eingestellt werden.
  • Bei Anliegen einer Spannung zwischen je zwei benachbarten Elektroden 6',6" bildet sich eine Vielzahl von Entladungskanälen 10 von einer Elektrode 6' durch das Dielektrikum 3 längs der Oberfläche des Dielektrikums 3 und wieder in das Dielektrikum 3 hinein zur benachbarten Elektrode 6". Diese längs der Oberfläche verlaufenden Gleitentladungen 10 strahlen das UV-Licht ab, das dann durch die im Beispielsfall transparenten Platten 1, 2 dringt. Verwendet man in den Räumen 8 und 9 unterschiedliche Füllgase, so lassen sich bei entsprechender Wahl der Elektrodenanordnung und -verteilung mit einunddemselben Strahler zwei unterschiedliche Strahlungen erzeugen. Durch Aufbringen einer Beschichtung 11, 12 auf die beiden Oberflächen des Dielektrikums 3 lassen sich niedrigere Zündspannungen für die Entladung erzielen, so dass die Kosten für die Speisung reduziert werden können. Als Beschichtungsmaterial kommen in erster Linie die Oxide von Magnesium, Ytterbium, Lanthan und Cer (MgO, Yb203, La203, Ce02) in Frage.
  • Das UV-Licht kann für manchen Anwendungen auch direkt verwendet werden, ohne dass es durch die Abdeckplatten 1, 2 dringen muss. Dies gilt für solche Anwendungen, die sich in den Entladungsräumen 8, 9 selbst durchführen lassen. Zu solchen Applikationen mit wachsender wirtschaftlicher Bedeutung zählen z.B. die Behandlung von Oberflächen mit UV-Belichtung, chemische Prozesse wie Präparation neuer Chemikalien oder Oberflächen-Beschichtung wie Plasma-CVD, Photo-CVD, also Verfahren, bei denen ein zu behandelndes Substrat bei geeignetem Füllgas möglichst dicht an die Dielektrikumsoberfläche, also dort wo die Strahlung entsteht, herangebracht wird.
  • Die besonderen Vorteile einer solchen "Innen"-Anordnung liegen u.a. in der Vermeidung von Absorptionsverlusten (durch die Platten 1,2) und in der Ausnutzung zusätzlicher Effekte durch die Entladung selbst, wobei die elektrischen Eigenschaften des zu behandelnden Substrats relativ unerheblich sind.
  • Die Herstellung des Dielektrikums 3 samt der in ihm eingebetteten Elektroden 6', 6" ist gegenüber den bekannten Hochleistungsstrahlern vereinfacht und damit kostengünstiger. Man kann Materialien verwenden, die man relativ einfach giessen kann, so dass die Elektroden 6', 6" gleich miteingegossen werden können. Dadurch werden Probleme beim Einhalten von Toleranzen, z.B. die Dicke des Dielektrikums 3 oder der Abstände zwischen den Platten 1 und 3 bzw. 3 und 2 verkleinert. Auch für das Material der UV-durchlässigen Platten - sofern sie überhaupt UV-durchlässig sein müssen - sind keine sehr hohen Ansprüche zu stellen, da sie nicht durch die Entladung beansprucht sind. Dies führt wiederum zu einer Erhöhung der Gesamtlebensdauer des Strahlers.
  • Für eine kostengünstige Herstellung der in das Dielektrikum 3 eingebetteten Elektroden 6, 6" kann auch auf Techniken zurückgegriffen werden, die bei der Herstellung von Plasmadisplay-Zellen Anwendung finden (vgl. "AC Plasma Display" von T.N.Criscimagna & P.Pleshko in "Display Devices", J.I.Pamkove (Ed.), Springer-Verlag Berlin, Heidelberg, New York 1980, S. 92 - 150).
  • Anstelle von metallischen Drähten 6', 6" nach Fig.1 sind die Elektroden gemäss Fig.3 als diskrete Leiterbahnen 6a, 6b mittels Dünnfilm- oder Dickfilm-Techniken auf ein Substrat 13 aus Glas, Quarz oder Keramik aufgebracht. Dabei werden einerseits Bedampfungs- und Sputter-Prozesse zur Metallisierung verwendet, andererseits leitfähige Pasten.Feine Leiterbahnen können durch photo-lithographische Verfahren, breitere (> 25 um) können durch Metallabscheidung durch eine Maske hindurch erzeugt werden. Die so aufgebrachten Leiterbahnen (Elektroden) werden danach durch eine dielektrische Schicht 14 abgedeckt. So kann man z.B. Schichten aus Bleioxydglas als Spray oder Paste auftragen und anschliessend erhitzen, wobei sich eine durchgehende Glasschicht bildet. Schichten aus Borsilikatglas kann man durch Verdampfungstechniken herstellen. Es ist auch möglich, dass man andere dielektrische Schichten abscheidet mit Methoden, die in der Halbleitertechnik üblich sind, z.B. mittels Plasma-CVD oder Photo-CVD.
  • Ohne den durch die Erfindung gesteckten Rahmen zu verlassen, sind eine Fülle von Modifikationen des vorstehend beschriebenen UV-Hochleistungsstrahlers möglich, auf die nachstehend eingegangen werden soll.
  • So können statt zweier Entladungsräume 8,9 auch nur ein Entladungsraum vorgesehen sein. Dazu ist durch eine entsprechende Isolation, z.B.Schwefelhexafluorid oder Wasser, in dem einen Raum oder eine andere Geometrie des Dielektrikums und/oder der Elektroden, z.B. eine solche nach Fig.3, sicherzustellen, dass sich die Gleitentladungen nur in dem anderen Raum ausbilden.
  • Statt runder Elektroden 6',6" nach Fig.1 können auch Elektroden mit nahezu beliebigem Querschnitt verwendet werden. Auch müssen die Elektroden nicht geradlinig verlaufen, sondern können auch z.B. mäanderförmig oder im Zickzack nebeneinander angeordnet sein.
  • Zur Verbesserung der Wärmeabfuhr aus dem Dielektrikum ist es möglich, die Elektroden 6',6" als Hohlelektroden auszuführen, oder im Dielektrikum 3 in Fig.1 oder im Substrat 13 in Fig.3 zusätzlich in Elektrodenlängsrichtung verlaufende Kanäle (Pos. 15 in Fig.3) vorzusehen, durch welche Kanäle ein flüssiges oder gasförmiges Kühlmittel geleitet wird.
  • Neben einzelnen in ein flächiges Dielektrikum 3 bzw. 14 eingebetteten Elektroden ist es darüber hinaus möglich, gemäss Fig.4 und 5 einzelne Drähte 16',16" mit je einer dielektrischen Umhüllung 17 zu verwenden, die entweder dicht an dicht (Fig.5), locker nebeneinander oder durch Zwischenlagen 18 oder Abstandsstücke voneinander distanziert, zwischen den beiden Platten 1 und 2 angeordnet sind.
  • Anstelle von Flächenstrahlern nach den Figuren 1 bis 5 sind auch Zylinderstrahler möglich, wie es in Fig.6 veranschaulicht ist. Dort ist zwischen zwei Quarzrohren 19, 20 ein Rohr 21 aus dielektrischen Material koaxial angeordnet. Nicht dargestellte Abstandhalter sichern die gegenseitige Lage der drei Rohre. Analog Fig.1 sind in das dielektrische Rohr 21 Metallelektroden 22', 22" eingebettet, die analog Fig.2 abwechselnd mit dem einen und dem anderen Pol einer (nicht dargestellten) Wechselstromquelle verbunden sind.
  • Der Zylinderstrahler nach Fig.6 strahlt im Beispielsfall sowohl nach innen (in den Innenraum des Rohres 20) als auch nach aussen ab. Verwendet man in den Räumen 8 und 9 unterschiedliche Füllgase, so lassen sich bei entsprechender Wahl der Elektrodenanordnung und -verteilung mit einunddemselben Strahler zwei unterschiedliche Strahlungen erzeugen. Dies gilt selbstverständlich auch für einen Strahler nach Fig.4.
  • Wie bereits im Zusammenhang mit Fig.1 beschrieben, können auch bei Zylinderstrahlern nach Fig.6 die gewünschten Reaktionen in dem bzw. den Entladungsräumen 8 bzw. 9 selbst stattfinden.
  • Die vorstehende Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung konzentrierte sich auf die Erzeugung von UV- bzw. VUV-Strahlung. Durch Beschichtung der Platten 1, 2 bzw. der Rohre 19, 20 mit einer Lumineszenzschicht 23, 24 (Fig.1) lässt sich in Anlehung an die bei den Lumineszenzröhren für Beleuchtungszwecke bekannte Technik auch sichtbares Licht hoher Leistung erzeugen. Derartige Schichten sind bekannt und können auch auf die den Entladungsraum 8 bzw. 9 angrenzenden inneren Oberflächen der Platten 1, 2 bzw. der Rohre 19, 20 aufgebracht werden. Im letztren Fall brauchen diese Platten bzw. Rohre nicht mehr UV-durchlässig sondern nur für das sichtbare Licht transparent sein.

Claims (10)

1. Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten, von Wänden (1,2) begrenzten Entladungsraum (8,9) und mit Elektrodenpaaren, die paarweise an die beiden Pole einer Hochspannungsquelle (7) angeschlossen sind, wobei zwischen zwei auf unterschiedlichem Potential liegenden Elektroden mindestens ein dielektrisches Material liegt, das an den Entladungsraum angrenzt,dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Elektrodenpaare (6',6";6a,6b;16',16";22',22") räumlich getrennt von besagten Wänden (1,2) und voneinander getrennt durch dielektrisches Material (3;14;21) nebeneinander angeordnet sind, derart, dass sich die elektrische Entladung im Entladungsraum (8,9) im wesentlichen nur im Bereich der Dielektrikumsoberfläche ausbildet.
2. Hochleistungstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden (6',6";6a,6b;16',16";22',22") in das dielektrische Material (3;14;21) eingebettet sind und benachbarte Elektroden (6',6";6a,6b;16',16";22',22") jeweils an unterschiedliche Pole der Hochspannungsquelle (7) angeschlossen sind.
3. Hochleistungstrahler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass alle Elektroden (6',6";22',22") in einen gemeinsamen Träger aus dielektrischem Material eingebettet sind.
4. Hochleistungstrahler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden (16',16") einzeln je von einer dielektrischen Umhüllung (17) umgeben sind.
5. Hochleistungstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden (6a,6b) auf einem Substrat (13) aus Isoliermaterial angeordnet und mit einer dielektrischen Schicht (14) abgedeckt sind.
6. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass in den Elektroden oder in dem Material, in dem diese eingebettet bzw. darauf angeordnet sind, in Elektrodenlängsrichtung verlaufende Kühlkanäle (15) vorgesehen sind.
7. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass auf der dem Entladungsraum (8,9) zugewandten Oberfläche des Dielektrikums eine zusätzliche Schicht (11,12) zur Herabsetzung der Zündspannung der elektrischen Gleitentladung, vorzugsweise eine Schicht aus Magnesium-, Ytterbium-, Lanthan- oder Ceroxid, vorgesehen ist.
8. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zur Erzeugung von Strahlungen mit mehreren unterschiedlichen Wellenlängen in einem Entladungsraum (8;9) ein Füllgas mit mindestens zwei Edelgasen und mindestens einem Nicht-Edelgas vorgesehen ist.
9. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass in den beiden Entladungsräumen (8,9) Füllgase unterschiedlicher Zusammensetzung vorgesehen sind.
10. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die den Entladungsraum (8,9) begrenzenden Platten (1,2) bzw. Rohre (19,20) mit einer Lumineszenzschicht (24,25) versehen sind.
EP89118546A 1988-10-10 1989-10-06 Hochleistungsstrahler Expired - Lifetime EP0363832B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH3778/88 1988-10-10
CH3778/88A CH676168A5 (de) 1988-10-10 1988-10-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0363832A1 EP0363832A1 (de) 1990-04-18
EP0363832B1 true EP0363832B1 (de) 1993-06-16

Family

ID=4263286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP89118546A Expired - Lifetime EP0363832B1 (de) 1988-10-10 1989-10-06 Hochleistungsstrahler

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5006758A (de)
EP (1) EP0363832B1 (de)
JP (1) JP2812736B2 (de)
CH (1) CH676168A5 (de)
DE (1) DE58904712D1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19922566B4 (de) * 1998-12-16 2004-11-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolettstrahlung

Families Citing this family (98)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59009300D1 (de) * 1990-10-22 1995-07-27 Heraeus Noblelight Gmbh Hochleistungsstrahler.
DE59010169D1 (de) * 1990-12-03 1996-04-04 Heraeus Noblelight Gmbh Hochleistungsstrahler
EP0515711A1 (de) * 1991-05-27 1992-12-02 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler
EP0521553B1 (de) * 1991-07-01 1996-04-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Hochdrucksglimmentladungslampe
US5384515A (en) * 1992-11-02 1995-01-24 Hughes Aircraft Company Shrouded pin electrode structure for RF excited gas discharge light sources
DE69409677T3 (de) * 1993-01-20 2001-09-20 Ushio Electric Inc Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
TW324106B (en) * 1993-09-08 1998-01-01 Ushio Electric Inc Dielectric barrier layer discharge lamp
TW260806B (de) * 1993-11-26 1995-10-21 Ushio Electric Inc
CA2191856C (en) * 1994-06-02 1999-09-28 Gerald C. Monagan Air purifier
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
WO1996039646A1 (en) 1995-06-05 1996-12-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel pre-dyes
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
MX9710016A (es) 1995-06-28 1998-07-31 Kimberly Clark Co Colorantes novedosos y modificadores de colorante.
DE19526211A1 (de) * 1995-07-18 1997-01-23 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Verfahren zum Betreiben von Entladungslampen bzw. -strahler
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
ES2175168T3 (es) 1995-11-28 2002-11-16 Kimberly Clark Co Compuestos de colorantes estabilizados por la luz.
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
DE19613502C2 (de) * 1996-04-04 1998-07-09 Heraeus Noblelight Gmbh Langlebiger Excimerstrahler und Verfahren zu seiner Herstellung
JPH09283092A (ja) * 1996-04-19 1997-10-31 Stanley Electric Co Ltd 蛍光ランプ
DE19636965B4 (de) * 1996-09-11 2004-07-01 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Elektrische Strahlungsquelle und Bestrahlungssystem mit dieser Strahlungsquelle
HU223719B1 (hu) * 1997-03-21 2004-12-28 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH. Gázkisülőlámpa dielektromosan gátolt elektródákkal, eljárás a lámpa előállítására, a lámpát tartalmazó világítási rendszer és laposképernyős rendszer
DE19711893A1 (de) 1997-03-21 1998-09-24 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Flachstrahler
HU224147B1 (hu) 1997-03-21 2005-05-30 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH. Lapos fénycső háttérvilágításhoz, valamint ilyen fénycsövet tartalmazó világítási rendszer és LCD kijelzős készülék
DE19711892A1 (de) 1997-03-21 1998-09-24 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Flachstrahler
DE19729175A1 (de) * 1997-03-21 1999-01-14 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Flachstrahler
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US20020098109A1 (en) * 1997-09-17 2002-07-25 Jerry Nelson Method and apparatus for producing purified or ozone enriched air to remove contaminants from fluids
US5945790A (en) * 1997-11-17 1999-08-31 Schaefer; Raymond B. Surface discharge lamp
US6015759A (en) * 1997-12-08 2000-01-18 Quester Technology, Inc. Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation
US6049086A (en) * 1998-02-12 2000-04-11 Quester Technology, Inc. Large area silent discharge excitation radiator
DE19811520C1 (de) 1998-03-17 1999-08-12 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe mit dielektrisch behinderten Entladungen
DE19817480B4 (de) * 1998-03-20 2004-03-25 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Flachstrahlerlampe für dielektrisch behinderte Entladungen mit Abstandshaltern
DE19817478B4 (de) * 1998-04-20 2004-03-18 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Flache Entladungslampe und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19817476B4 (de) * 1998-04-20 2004-03-25 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Leuchtstofflampe mit Abstandshaltern und lokal verdünnter Leuchtstoffschichtdicke
JP2002517540A (ja) 1998-06-03 2002-06-18 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド インク及びインクジェット印刷用のネオナノプラスト及びマイクロエマルション技術
EP1000090A1 (de) 1998-06-03 2000-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neue photoinitiatoren und deren anwendung
DE19826808C2 (de) * 1998-06-16 2003-04-17 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe mit dielektrisch behinderten Elektroden
DE19826809A1 (de) * 1998-06-16 1999-12-23 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges Herstellungsverfahren
CA2336641A1 (en) 1998-07-20 2000-01-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved ink jet ink compositions
JP3346291B2 (ja) * 1998-07-31 2002-11-18 ウシオ電機株式会社 誘電体バリア放電ランプ、および照射装置
GB9819504D0 (en) * 1998-09-07 1998-10-28 Ardavan Houshang Apparatus for generating focused electromagnetic radiation
DE69930948T2 (de) 1998-09-28 2006-09-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc., Neenah Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren
EP1144512B1 (de) 1999-01-19 2003-04-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Farbstoffe, farbstoffstabilisatoren, tintenzusammensetzungen und verfahren zu deren herstellung
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
DE19919363A1 (de) * 1999-04-28 2000-11-09 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe mit Abstandshalter
DE19920693C1 (de) * 1999-05-05 2001-04-26 Inst Oberflaechenmodifizierung Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren
US6133694A (en) * 1999-05-07 2000-10-17 Fusion Uv Systems, Inc. High-pressure lamp bulb having fill containing multiple excimer combinations
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6613277B1 (en) 1999-06-18 2003-09-02 Gerald C. Monagan Air purifier
DE10026781C1 (de) * 2000-05-31 2002-01-24 Heraeus Noblelight Gmbh Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladung
DE10048187A1 (de) * 2000-09-28 2002-04-11 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladungen mit Stützelementen zwischen einer Bodenplatte und einer Deckenplatte
US6762556B2 (en) 2001-02-27 2004-07-13 Winsor Corporation Open chamber photoluminescent lamp
DE10134965A1 (de) * 2001-07-23 2003-02-06 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Flache Entladungslampe
JP3929265B2 (ja) * 2001-07-31 2007-06-13 富士通株式会社 ガス放電管内への電子放出膜形成方法
DE10140355A1 (de) * 2001-08-17 2003-02-27 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe mit Zündhilfe
DE10147961A1 (de) * 2001-09-28 2003-04-10 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Dielektrische Barriere-Entladungslampe und Verfahren sowie Schaltunggsanordnung zum Zünden und Betreiben dieser Lampe
DE10213327C1 (de) * 2002-03-25 2003-06-18 Heraeus Noblelight Gmbh Langgestrecktes Entladungsgefäß, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Entladungslampe
FR2843483B1 (fr) * 2002-08-06 2005-07-08 Saint Gobain Lampe plane, procede de fabrication et application
US20040136885A1 (en) * 2003-01-09 2004-07-15 Hogarth Derek J. Apparatus and method for generating ozone
US7029637B2 (en) * 2003-01-09 2006-04-18 H203, Inc. Apparatus for ozone production, employing line and grooved electrodes
CN1805775A (zh) * 2003-05-08 2006-07-19 Eco－Rx公司 从气态流体中净化和除去污染物的系统
DE102004047376A1 (de) * 2004-09-29 2006-04-06 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Dielektrisch behinderte Entladungslampe mit steckbaren Elektroden
DE102004047375A1 (de) * 2004-09-29 2006-04-06 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Dielektrische behinderte Entladungslampe mit Manschette
DE102004047373A1 (de) * 2004-09-29 2006-04-06 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Beleuchtungssystem mit dielektrisch behinderter Entladungslampe und zugehörigem Vorschaltgerät
DE102005007370B3 (de) * 2005-02-17 2006-09-21 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Kompakte UV-Lichtquelle
KR20080031957A (ko) * 2005-07-15 2008-04-11 더 보드 오브 트러스티즈 오브 더 유니버시티 오브 일리노이 마이크로캐비티 플라즈마 디바이스 어레이
TWM283310U (en) * 2005-08-09 2005-12-11 Hung Mian Light Source Co Ltd Slab-lamp structure with electrode-less
JP4971665B2 (ja) * 2006-03-31 2012-07-11 公立大学法人名古屋市立大学 皮膚疾患治療用光線治療器
US20080174226A1 (en) 2007-01-23 2008-07-24 Nulight Technology Corporation Mercury-free flat fluorescent lamps
DE102007020655A1 (de) 2007-04-30 2008-11-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen dünner Schichten und entsprechende Schicht
JP4424394B2 (ja) * 2007-08-31 2010-03-03 ウシオ電機株式会社 エキシマランプ
US8314538B2 (en) 2008-02-21 2012-11-20 Osram Ag Dielectric barrier discharge lamp with a retaining disc
FR2936093A1 (fr) * 2008-09-12 2010-03-19 Saint Gobain Lampe uv tubulaire a decharge et utilisations
DE102012017779A1 (de) * 2012-09-07 2014-03-13 Karlsruher Institut für Technologie Dielektrisch behinderte Entladungs-Lampe
DE102013103670A1 (de) * 2013-04-11 2014-10-30 Dritte Patentportfolio Beteiligungsgesellschaft Mbh & Co.Kg HF-Lampe mit dielektrischem Wellenleiter
DE102021108009B4 (de) 2021-03-30 2023-02-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Multi-Wellenlängen UV-Strahlungsquelle sowie UV-Sonde, insbesondere für die Fluoreszenzanalyse

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH152887A (de) * 1930-02-04 1932-02-29 Ig Farbenindustrie Ag Verfahren zur Herstellung eines stickstoffhaltigen Küpenfarbstoffes.
JPS599849A (ja) * 1982-07-09 1984-01-19 Okaya Denki Sangyo Kk 高周波放電ランプ
JPS60172135A (ja) * 1984-02-15 1985-09-05 Mitsubishi Electric Corp 平板状光源
CH670171A5 (de) * 1986-07-22 1989-05-12 Bbc Brown Boveri & Cie
CH675178A5 (de) * 1987-10-23 1990-08-31 Bbc Brown Boveri & Cie

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19922566B4 (de) * 1998-12-16 2004-11-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolettstrahlung

Also Published As

Publication number Publication date
CH676168A5 (de) 1990-12-14
DE58904712D1 (de) 1993-07-22
JP2812736B2 (ja) 1998-10-22
US5006758A (en) 1991-04-09
JPH02158049A (ja) 1990-06-18
EP0363832A1 (de) 1990-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0363832B1 (de) Hochleistungsstrahler
DE19636965B4 (de) Elektrische Strahlungsquelle und Bestrahlungssystem mit dieser Strahlungsquelle
EP0482230B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0389980B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0733266B1 (de) Verfahren zum betreiben einer inkohärent emittierenden strahlungsquelle
EP0458140A1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0324953B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0449018A2 (de) Bestrahlungseinrichtung
EP0371304A1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0883897A1 (de) Kaltkathode für entladungslampen, entladungslampe mit dieser kaltkathode und betriebsweise für diese entladungslampe
DE19526211A1 (de) Verfahren zum Betreiben von Entladungslampen bzw. -strahler
EP0517929B1 (de) Bestrahlungseinrichtung mit einem Hochleistungsstrahler
EP0385205A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE4416676A1 (de) Vorrichtung zur Entgiftung von Abgasen aus mobilen Anlagen
EP0489184B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0901687B1 (de) Flachstrahler
DE4010809A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE2529005C3 (de) Niederdruck-Gasentladungslampe
DE4009266C2 (de) Röntgenstrahlen-Vorionisations-Pulslaser
DE2502649A1 (de) Verbesserte elektrodenstruktur fuer hochstrom-niederdruck-entladungsvorrichtungen
DE4022279A1 (de) Bestrahlungseinrichtung
DE3731168A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von kaltem plasma fuer wechselspannungsanregung im khz-bereich, vorzugsweise zur erzeugung von ozon, und verfahren zur herstellung der vorrichtung
DE4203345A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE4235743A1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0515711A1 (de) Hochleistungsstrahler

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): CH DE FR GB IT LI NL

17P Request for examination filed

Effective date: 19901004

17Q First examination report despatched

Effective date: 19921130

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): CH DE FR GB IT LI NL

REF Corresponds to:

Ref document number: 58904712

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19930722

RAP2 Party data changed (patent owner data changed or rights of a patent transferred)

Owner name: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PUE

Owner name: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH

ITF It: translation for a ep patent filed

Owner name: DE DOMINICIS & MAYER S.

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 19930823

ET Fr: translation filed
PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: IF02

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Payment date: 20020918

Year of fee payment: 14

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20020925

Year of fee payment: 14

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 20020930

Year of fee payment: 14

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20021009

Year of fee payment: 14

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20021017

Year of fee payment: 14

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031006

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031031

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031031

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040501

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040501

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20031006

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040630

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20040501

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.

Effective date: 20051006