DE19826809A1 - Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges Herstellungsverfahren - Google Patents
Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges HerstellungsverfahrenInfo
- Publication number
- DE19826809A1 DE19826809A1 DE19826809A DE19826809A DE19826809A1 DE 19826809 A1 DE19826809 A1 DE 19826809A1 DE 19826809 A DE19826809 A DE 19826809A DE 19826809 A DE19826809 A DE 19826809A DE 19826809 A1 DE19826809 A1 DE 19826809A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- melting temperature
- discharge
- discharge vessel
- layer
- dielectric layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2209/00—Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
- H01J2209/01—Generalised techniques
- H01J2209/012—Coating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Ein Verfahren zum drucktechnischen Aufbringen dielektrischer Schichten aus Glaslot auf die streifenförmigen Metallelektroden von Entladungslampen, die mittels dielektrisch behinderter Entladung gepulst betrieben werden, verwendet für die Druckpaste einen Zuschlagstoff mit höherer Schmelztemperatur als das Glaslot, z. B. kristallines oder amorphes Aluminiumoxid oder Quarzglaspulver. Der typische Gewichtsanteil des Zuschlagstoffes liegt im Bereich zwischen 2 und 30%. Auf diese Weise wird eine bessere Benetzung der streifenförmigen Metallelektroden erreicht.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft dielektrische Schichten für mittels dielektrisch be
hinderter Entladung betriebene Entladungslampen, ein Verfahren zum Herstellen
derartiger Schichten sowie eine Entladungslampe mit mindestens einer dieser dielek
trischen Schichten.
Bei Lampen dieses Typs sind entweder die Elektroden einer Polarität oder alle Elek
troden, d. h. beiderlei Polarität, mittels einer dielektrischen Schicht von der Entla
dung getrennt ("einseitig bzw. zweiseitig dielektrisch behinderte Entladung"). Der
artige Elektroden werden im folgenden auch verkürzend als "dielektrische Elektro
den" bezeichnet. Eine derartige dielektrische Schicht wird auch als dielektrische
"Barriere" oder "Sperrschicht" und die mit einer derartigen Anordnung erzeugte
Entladung wird auch als "Barrierenentladung" (Dielectric Barrier Discharge, z. B. EP-
A-0 324 953, Seite 4) bezeichnet.
Dielektrische Elektroden werden zum einen dadurch realisiert, daß die Elektroden
außerhalb des Entladungsgefäßes, z. B. auf der Außenwandung, beispielsweise in
Form zueinander paralleler, dünner metallischer Streifen mit wechselnder Polarität,
angeordnet sind. Entladungslampen dieses Typs sind beispielsweise aus der
WO 94/23442 (Fig. 5a, 5b) und der WO 97/04625 (Fig. 1a, 1b) bekannt.
Zum Schutz vor Berührung bzw. äußeren Einflüssen sowie um Gleitentladungen
zwischen den Elektroden unterschiedlicher Polarität zu vermeiden, können die Elek
trodenstreifen vorteilhaft mit einer dünnen dielektrischen Schicht, beispielsweise mit
einer Glasschicht, abgedeckt sein.
Zum anderen werden dielektrische Elektroden durch innerhalb des Entladungsgefä
ßes angeordnete und vollständig von einer dielektrischen Schicht bedeckte Elektroden
realisiert. Bei sogenannten Flachstrahlern sind die dielektrischen Elektroden typi
scherweise in Form dünner metallischer Streifen realisiert, die auf der Innenwandung
des Entladungsgefäßes angeordnet und zudem entweder einzeln - mittels dünner
dielektrischer Streifen - oder gemeinsam - mittels einer einzigen zusammenhängenden
dielektrischen Schicht - gegenüber dem Innern des Entladungsgefäßes vollständig
abgedeckt sind. Entladungslampen dieses Typs sind beispielsweise aus der
EP 0 363 832 (Fig. 3) und der deutschen Patentanmeldung P 197 11 892.5 (Fig. 3a, 3b)
bekannt.
Der Einfachheit halber werden im folgenden die Bezeichnungen "dielektrische Sperr
schichten bzw. dielektrische Schutzschichten" unter dem Begriff "dielektrische Schich
ten" zusammengefaßt.
Unter der Bezeichnung "Entladungslampe" sind hier und im folgenden Strahlungs
quellen gemeint, die Licht emittieren, d. h. sichtbare elektromagnetische Strahlung,
oder auch Ultraviolett(UV)- sowie Vakuumultraviolett(VUV)-Strahlung.
Eine Möglichkeit, dünne streifenförmige Elektroden mit den eingangs erwähnten di
elektrischen Schichten zu bedecken besteht darin, auf die betreffenden Elektroden
streifen eine geeignet bemessene Glasfolie aufzuschmelzen, gegebenenfalls unter Zu
hilfenahme einer Zwischenschicht aus Glaslot.
Nachteilig sind zum einen die relativ hohen Kosten für geeignete dünne Glasfolien
sowie deren hohe Bruchempfindlichkeit. Diese Nachteile stehen bisher einer automa
tisierten, kostengünstigen Fertigung entgegen.
Im Prinzip lassen sich die genannten Schichten einfacher und kostengünstiger mittels
der Siebdrucktechnik aufbringen. Dazu wird in einem geeigneten organischen Lö
sungsmittel - dem sogenannten Siebdruckmedium - dispergiertes Glaspulver
(Glasfritte) - die Siebdruckpaste - mit Hilfe eines sogenannten Rakels und eines fe
derndes Siebs auf die Elektroden und auf die die Elektroden umgebende Oberfläche
des Entladungsgefäßes aufgetragen. Dabei ist das Sieb zunächst in einigem Abstand
von der Oberfläche angeordnet. Während des Auftragens streicht das Rakel über das
Sieb, wobei dieses Sieb zusammen mit der Druckpaste auf die Oberfläche gedrückt
wird. Dabei füllt das Rakel die Maschen des Siebes mit der Druckpaste, wobei das Ra
kel gleichzeitig die überschüssige Druckpaste vom Sieb wegwischt. Nachdem das Ra
kel die überstrichenen Maschen passiert hat, heben sich die entsprechenden Maschen
wieder von der Oberfläche ab und auf der Oberfläche zurück bleibt die aufgetragene
Druckpaste. Nach dem Trocknen wird die aufgetragene Schicht aufgeschmolzen, da
mit sich eine hermetisch geschlossene, möglichst plane und porenfreie Oberfläche bil
det. Dies ist deshalb wichtig, weil die Dicke der Schicht eine die dielektrische Entla
dung einerseits sowie den Berührungsschutz vor Hochspannung andererseits unmit
telbar beeinflussende Größe ist.
Ein Nachteil ist allerdings, daß die Oberflächenspannung der geschmolzenen Glas
lotschicht eine vollständige Benetzung der Elektroden verhindert. Es hat sich viel
mehr gezeigt, daß sich das geschmolzene Glaslot großflächig von den metallischen
Elektroden zurückzieht.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die genannten Nachteile zu beseitigen
und eine dielektrische Schicht anzugeben, welche zumindest einen Teilbereich einer
oder mehrerer Elektroden vollständig bedeckt sowie zusätzlich zumindest die diesem
Teilbereich der Elektrode unmittelbar benachbarte Entladungsgefäßwand bedeckt. Ein
weiterer Aspekt der Erfindung ist, daß diese Schicht sich als dielektrische Barriere
für eine dielektriseh behinderte Entladung, insbesondere für eine gepulst betriebene,
dielektrisch behinderte Entladung, eignet.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Weitere vorteilhaf
te Merkmale finden sich in den davon abhängigen Ansprüchen.
Eine weitere Aufgabe ist es, ein drucktechnisches Verfahren zum Aufbringen einer
dielektrischen Schicht anzugeben, bei dem die Druckpaste im geschmolzenen Zu
stand zumindest einen Teilbereich metallischer Elektroden vollständig benetzt sowie
die diesem Teilbereich der Elektroden unmittelbar benachbarte Entladungsgefäßwand
benetzt und folglich nach dem Einbrennen den zumindest einen Teilbereich der Elek
troden inklusive der unmittelbar benachbarten Entladungsgefäßwand auch voll
ständig mit einer dielektrischen Schicht bedeckt.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Verfahrensanspruchs gelöst. Weitere
vorteilhafte Merkmale finden sich in den davon abhängigen Ansprüchen.
Außerdem wird Schutz für eine Entladungslampe beansprucht, die mindestens eine
Elektrode aufweist, die mit einer dielektrischen Schicht, hergestellt nach dem erfin
dungsgemäßen Verfahren, abgedeckt ist.
Die im wesentlichen aus einem Pulver oder Pulvergemisch glasiger Stoffe hergestellte
dielektrische Schicht enthält erfindungsgemäß zusätzlich mindestens einen Zuschlag
stoff, dessen Schmelztemperatur größer ist, als die Schmelztemperatur des Glaspul
vers bzw. der Glaspulverkomponente mit der höchsten Schmelztemperatur. Die ein
gebrannte Schicht besteht folglich aus einer glasigen Hauptkomponente, in welche der
mindestens eine Zuschlagstoff verteilt, beispielsweise in Form von Körnern, einge
schlossen ist.
Bezeichnet TS1 die Schmelztemperatur des Glaspulvers - die typisch ca. 400 bis 700°C
beträgt - und TS2 die Schmelztemperatur des Zuschlagstoffes, so gilt also die Bezie
hung TS2 < TS1. Es hat sich gezeigt, daß sich gute Ergebnisse mit jenen Zuschlagstof
fen erzielen lassen, deren Schmelztemperatur mindestens 100°C höher als die
Schmelztemperatur des Glaspulvers bzw. der Glaspulverkomponente mit der höch
sten Schmelztemperatur ist, d. h. für die die Beziehung TS2 ≧ 100°C + TS1 gilt, wobei
die Werte für TS1 und TS2 in °C einzusetzen sind.
Als Zuschlagstoff eignen sich insbesondere Pulver aus keramischen Stoffen
und/ oder kristallinen oder amorphen Metalloxiden, z. B. kristallines oder amorphes
Aluminiumoxidpulver mit einer Schmelztemperatur von mehr als 2000°C und/oder
Quarzglaspulver mit einer Schmelztemperatur von mehr als 1400°C. Der Gewichts
anteil des Zuschlagstoffes bzw. der Zuschlagstoffe beträgt zwischen ca. 2% und
30%, bevorzugt zwischen 5% und 20%. Unterhalb der unteren Grenze ist die positi
ve Wirksamkeit des mindestens einen Zuschlagstoffes nicht mehr ausreichend.
Oberhalb der oberen Grenze treten in unakzeptablem Maße Risse und ähnliche me
chanische Störungen in der Schicht auf.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung der vorgenannten dielektrischen
Schicht schlägt vor, der Druckpaste mit dem Glaspulver den oben erwähnten minde
stens einen Zuschlagstoff vor dem eigentlichen Druckprozeß beizumengen, vorteil
haft in feinkörniger Form. Der Gewichtsanteil des Zuschlagstoffes bzw. der Zu
schlagstoffe beträgt - wie bereits erwähnt - zwischen ca. 2% und 30%, bevorzugt
zwischen 5% und 20%. Wesentlich für die erfindungsgemäße Wirkung ist hierbei,
daß der mindestens eine Zuschlagstoff gezielt ausgewählt wird derart, daß seine
Schmelztemperatur größer ist als die zum Aufschmelzen des Glaspulvers erforderli
che Einbrenntemperatur. Hinsichtlich geeigneter Zuschlagstoffe gilt ansonsten das
bereits bei der Erläuterung der dielektrischen Schicht Gesagte.
Als geeigneter Druckprozeß bietet sich der konventionelle Siebdruck an. Um dielek
trische Schichten größerer Dicke zu realisieren, werden weitere Druck- und
Schmelzvorgänge auf die vorherige(n) Schicht(en) angewendet. Da in diesem Fall
keine freien Elektrodenflächen mehr bedeckt werden müssen und folglich auch kei
ne Benetzungsprobleme mehr auftreten, lassen sich diese nachfolgenden Schichten
auch aus reinem Glaslotpulver, d. h. ohne Zuschlagstoff(e) herstellen.
Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Druckpaste, d. h. Druckpaste einschließlich Zu
schlagstoff(e), lassen sich auf einfache und gut automatisierbare und folglich kosten
günstige Weise formhaltige dielektrische Schichten beliebiger Abmessungen auf me
tallische Elektroden und die umliegende Oberfläche des Entladungsgefäßes aufbrin
gen und zwar mit einem gegenüber bisherigen Pasten verbesserten Benetzungsver
halten.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1a eine erste Platte eines Flachstrahlers mit streifenförmigen Elektroden und
dielektrischen Schichten,
Fig. 1b eine Schnittdarstellung längs der Linie AA durch die erste Platte aus Fig.
1a,
Fig. 2 ein Ablaufdiagramm des Verfahrens zum Aufbringen dielektrischer
Schichten.
Die Fig. 1a, 1b zeigen die Draufsicht bzw. den Schnitt längs der Linie AA einer
ersten Platte 1 eines Flachstrahlers mit Elektroden 2, 3 in schematischer Darstellung.
Die erste Platte 1 ist ein Teil des Entladungsgefäßes des Flachstrahlers, welches
durch eine zur ersten Platte parallele zweite Platte (nicht dargestellt) und einen
Rahmen (nicht dargestellt) komplettiert ist. Erste Platte 1 und zweite Platte sind
mittels Glaslot (nicht dargestellt) mit dem Rahmen gasdicht verbunden derart, daß
das Innere des Entladungsgefäßes quaderförmig ausgebildet ist.
Die erste Platte 1 besteht aus einer Grundplatte 2 und je drei streifenförmigen
Anoden 3 sowie Kathoden 4 aus Silberlot, welche abwechselnd und zueinander
parallel auf der Grundplatte 2 angeordnet sind. Die Anoden 3 sind jeweils mit einer
dielektrischen Schicht 5 aus Bleiborglas bedeckt, dem als Zuschlagstoff
Aluminiumoxid zugesetzt ist.
In Fig. 2 ist das Verfahren zum Aufbringen der dielektrischen Schichten 5 aus den
Fig. 1a, 1b anhand eines Ablaufdiagramms schematisch dargestellt. Dazu wird ein
Drucksieb verwendet, bei dem zuvor durch eine Lackschicht alle nicht zum
gewünschten Druckbild benötigten Bereiche abgedeckt wurden (nicht dargestellt).
Nach dem Aufsetzen des Siebes auf die Grundplatte einschließlich der Elektroden
wird die Druckpaste auf das Sieb aufgebracht. Die Druckpaste besteht aus 25 g
Glaslotpulver (Fa. Schott 8465/K6) und 7,5 g Siebdruckmedium (Fa. Cerdec 80840),
dem zuvor 5 g Aluminiumoxidpulver (Reynolds RC/HP-DBM) als Zuschlagstoff
zugesetzt worden ist. Danach wird das Sieb mit Hilfe eines Rakels überstrichen.
Nach dem Entfernen des Siebes wird die aufgebrachte Schicht getrocknet und
anschließend bei 550°C eingebrannt. Danach ist die dielektrische Schicht fertig.
Das vorstehende Beispiel hat lediglich exemplarischen Charakter. Selbstverständlich
läßt sich das erfindungsgemäße Verfahren auch auf Flachstrahler mit mehr oder
weniger als drei Anoden anwenden sowie auf anders geformte Entladungslampen,
beispielsweise rohrförmige.
In den folgenden Tabellen sind weitere Beispiele zum erfindungsgemäßen Aufbrin
gen einer dielektrischen Schicht aufgeführt.
Claims (12)
1. Dielektrische Schicht, hergestellt aus einem Pulver oder Pulvergemisch
glasiger Stoffe, für eine Entladungslampe, welche Entladungslampe für
den Betrieb mittels dielektrisch behinderter Entladung geeignet ist, mit
- 1. einem zumindest teilweise aus einem elektrisch nichtleitenden Mate rial bestehenden Entladungsgefäß und
- 2. Elektroden, die auf der Entladungsgefäßwand angeordnet sind,
2. Schicht nach Anspruch 1, wobei die Schmelztemperatur des Zuschlag
stoffs mindestens 100°C höher als die Schmelztemperatur des Glaspul
vers bzw. der Glaspulverkomponente mit der höchsten Schmelztempe
ratur ist.
3. Schicht nach Anspruch 1 oder 2, wobei der mindestens eine Zuschlag
stoff kristallines oder amorphes Metalloxid, insbesondere kristallines
oder amorphes Aluminiumoxid enthält.
4. Schicht nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei der mindestens eine Zu
schlagstoff Quarzglas enthält.
5. Schicht nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der Gewichtsanteil
des mindestens einen Zuschlagstoffes im Bereich zwischen 2% und
30%, bevorzugt zwischen 5% und 20% liegt.
6. Verfahren zum Herstellen einer dielektrische Schicht für eine Entla
dungslampe, die für den Betrieb mittels dielektrisch behinderter Entla
dung geeignet ist, mit
- 1. einem zumindest teilweise aus einem elektrisch nichtleitenden Mate rial bestehenden Entladungsgefäß,
- 2. Elektroden, die auf der Entladungsgefäßwand angeordnet sind,
- 1. welche Druckpaste ein Pulver oder Pulvergemisch glasiger Stoffe ent hält,
- 1. Hinzufügen mindestens eines Zuschlagstoffes zur Druckpaste vor dem Drucken der Druckpaste auf die Elektrode(n),
7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei die Schmelztemperatur des Zu
schlagstoffs mindestens 100°C höher als die Schmelztemperatur des
Glaspulvers bzw. der Glaspulverkomponente mit der höchsten
Schmelztemperatur ist.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, wobei der mindestens eine Zu
schlagstoff kristallines oder amorphes Metalloxid, insbesondere kri
stallines oder amorphes Aluminiumoxid enthält.
9. Verfahren nach Anspruch 6, 7 oder 8, wobei der mindestens eine Zu
schlagstoff Quarzglas enthält.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, wobei der Gewichtsanteil
des Zuschlagstoffes bzw. gegebenenfalls die Summe der Gewichtsantei
le der Zuschlagstoffe im Bereich zwischen 2% und 30%, bevorzugt im
Bereich zwischen 5% und 20% liegt.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, wobei der Druckprozeß
mittels der Siebdrucktechnik durchgeführt wird.
12. Entladungslampe, geeignet für den Betrieb mittels dielektrisch behin
derter Entladung, mit
- 1. einem zumindest teilweise aus einem elektrisch nichtleitenden Mate rial bestehenden Entladungsgefäß,
- 2. welches Entladungsgefäß in seinem Innern eine Gasfüllung enthält,
- 3. Elektroden, die auf der Entladungsgefäßwand angeordnet sind,
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19826809A DE19826809A1 (de) | 1998-06-16 | 1998-06-16 | Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges Herstellungsverfahren |
PCT/DE1999/001703 WO1999066538A1 (de) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | Dielektrische schicht für entladungslampen und zugehöriges herstellungsverfahren |
HU0102379A HUP0102379A3 (en) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | Dielectric layer for discharge lamps and corresponding production method and discharge lamp |
US09/719,387 US6693377B1 (en) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | Dielectric layer for discharge lamps and corresponding production method |
EP99938164A EP1088336A1 (de) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | Dielektrische schicht für entladungslampen und zugehöriges herstellungsverfahren |
JP2000555280A JP2002518812A (ja) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | 放電ランプのための誘電性層および相応の製造方法 |
KR1020007014254A KR20010052903A (ko) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | 방전 램프용 유전체층 및 이 유전체층 제조 방법 |
CA002335332A CA2335332C (en) | 1998-06-16 | 1999-06-11 | Dielectric layer for discharge lamps, and associated production process |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19826809A DE19826809A1 (de) | 1998-06-16 | 1998-06-16 | Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges Herstellungsverfahren |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19826809A1 true DE19826809A1 (de) | 1999-12-23 |
Family
ID=7871052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19826809A Withdrawn DE19826809A1 (de) | 1998-06-16 | 1998-06-16 | Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges Herstellungsverfahren |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6693377B1 (de) |
EP (1) | EP1088336A1 (de) |
JP (1) | JP2002518812A (de) |
KR (1) | KR20010052903A (de) |
CA (1) | CA2335332C (de) |
DE (1) | DE19826809A1 (de) |
HU (1) | HUP0102379A3 (de) |
WO (1) | WO1999066538A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005073999A2 (de) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Patent-Treuhand- Gesellschaft Für Elektrische Glühlampen Mbh | Verfahren zur herstellung von entladungslampen |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10122211A1 (de) | 2001-05-08 | 2002-11-14 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Flache Beleuchtungsvorrichtung mit Spiegelfläche |
DE102004039902B3 (de) * | 2004-08-17 | 2006-04-06 | Berger Gmbh | Flächige Gasentladungslampe und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US7250723B1 (en) | 2004-12-21 | 2007-07-31 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of Nasa | Cathode luminescence light source for broadband applications in the visible spectrum |
PT104282A (pt) | 2008-12-05 | 2010-06-07 | Univ Do Porto | Processo de selagem com vidro de células solares dsc |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2253835A1 (de) * | 1971-12-30 | 1973-07-05 | Ibm | Verfahren zur herstellung von gasentladungsanordnungen |
DE2247630B2 (de) * | 1971-12-30 | 1981-06-25 | International Business Machines Corp., 10504 Armonk, N.Y. | Verfahren zum Herstellen von Anzeigetafeln mit Gase ntladungsstrecken |
DE1967142C2 (de) * | 1968-10-02 | 1982-05-19 | Owens-Illinois, Inc., 43666 Toledo, Ohio | Verfahren zur Herstellung von Gasentladungsanzeigetafeln |
EP0324953A1 (de) * | 1988-01-15 | 1989-07-26 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
EP0363832A1 (de) * | 1988-10-10 | 1990-04-18 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
WO1994023442A1 (de) * | 1993-04-05 | 1994-10-13 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Verfahren zum betreiben einer inkohärent emittierenden strahlungsquelle |
WO1997004625A1 (de) * | 1995-07-18 | 1997-02-06 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Verfahren zum betreiben eines beleuchtungssystems und dafür geeignetes beleuchtungssystem |
DE19711892A1 (de) * | 1997-03-21 | 1998-09-24 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Flachstrahler |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3848152A (en) * | 1972-06-06 | 1974-11-12 | Corning Glass Works | Electric lamp having a fused silica glass envelope |
NL183092C (nl) * | 1976-08-05 | 1988-07-18 | Philips Nv | Gasontladingslamp. |
DD213515A1 (de) | 1982-12-30 | 1984-09-12 | Adw Ddr | Feuchtesensor in dickschichttechnik |
US4633137A (en) * | 1984-10-31 | 1986-12-30 | General Electric Company | Glaze polished polycrystalline alumina material |
US4849379A (en) | 1988-01-28 | 1989-07-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric composition |
JPH05234515A (ja) | 1992-02-21 | 1993-09-10 | Nec Corp | プラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法 |
US5196759B1 (en) * | 1992-02-28 | 1996-09-24 | Gen Electric | High temperature lamps having UV absorbing quartz envelope |
US5343116A (en) | 1992-12-14 | 1994-08-30 | Winsor Mark D | Planar fluorescent lamp having a serpentine chamber and sidewall electrodes |
DE4338377A1 (de) * | 1993-11-10 | 1995-05-11 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Metallhalogenidentladungslampe mit keramischem Entladungsgefäß und Herstellverfahren für eine derartige Lampe |
JP3053548B2 (ja) | 1995-04-07 | 2000-06-19 | スタンレー電気株式会社 | 電界放電型の平面蛍光ランプ |
CA2255983C (en) * | 1997-12-16 | 2007-10-23 | Konoshima Chemical Co., Ltd. | A corrosion resistant ceramic and a production method thereof |
-
1998
- 1998-06-16 DE DE19826809A patent/DE19826809A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-06-11 US US09/719,387 patent/US6693377B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-11 JP JP2000555280A patent/JP2002518812A/ja active Pending
- 1999-06-11 KR KR1020007014254A patent/KR20010052903A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-06-11 CA CA002335332A patent/CA2335332C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-11 EP EP99938164A patent/EP1088336A1/de not_active Withdrawn
- 1999-06-11 WO PCT/DE1999/001703 patent/WO1999066538A1/de not_active Application Discontinuation
- 1999-06-11 HU HU0102379A patent/HUP0102379A3/hu unknown
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1967142C2 (de) * | 1968-10-02 | 1982-05-19 | Owens-Illinois, Inc., 43666 Toledo, Ohio | Verfahren zur Herstellung von Gasentladungsanzeigetafeln |
DE2253835A1 (de) * | 1971-12-30 | 1973-07-05 | Ibm | Verfahren zur herstellung von gasentladungsanordnungen |
DE2247630B2 (de) * | 1971-12-30 | 1981-06-25 | International Business Machines Corp., 10504 Armonk, N.Y. | Verfahren zum Herstellen von Anzeigetafeln mit Gase ntladungsstrecken |
EP0324953A1 (de) * | 1988-01-15 | 1989-07-26 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
EP0363832A1 (de) * | 1988-10-10 | 1990-04-18 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
WO1994023442A1 (de) * | 1993-04-05 | 1994-10-13 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Verfahren zum betreiben einer inkohärent emittierenden strahlungsquelle |
WO1997004625A1 (de) * | 1995-07-18 | 1997-02-06 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Verfahren zum betreiben eines beleuchtungssystems und dafür geeignetes beleuchtungssystem |
DE19711892A1 (de) * | 1997-03-21 | 1998-09-24 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Flachstrahler |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005073999A2 (de) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Patent-Treuhand- Gesellschaft Für Elektrische Glühlampen Mbh | Verfahren zur herstellung von entladungslampen |
WO2005073999A3 (de) * | 2004-01-28 | 2007-04-19 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Verfahren zur herstellung von entladungslampen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010052903A (ko) | 2001-06-25 |
CA2335332C (en) | 2008-04-29 |
CA2335332A1 (en) | 1999-12-23 |
JP2002518812A (ja) | 2002-06-25 |
WO1999066538A1 (de) | 1999-12-23 |
EP1088336A1 (de) | 2001-04-04 |
HUP0102379A2 (hu) | 2001-10-28 |
US6693377B1 (en) | 2004-02-17 |
HUP0102379A3 (en) | 2003-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60217794T2 (de) | Plasmadisplay-Panel und Verfahren für dessen Herstellung | |
DE2646344C2 (de) | Wechselstrombetriebener Gasentladungsbildschirm | |
DE19826808C2 (de) | Entladungslampe mit dielektrisch behinderten Elektroden | |
DE2803926B2 (de) | Leitfähige Zusammensetzung auf der Basis von Aluminium und Glas und Verwendung für Leiteranordnungen auf einem Substrat | |
EP1050066B1 (de) | Entladungslampe mit dielektrisch behinderten elektroden | |
DE2641283A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines flachbildschirms | |
DE3038993C2 (de) | Metalldampfentladungslampe | |
DE19826809A1 (de) | Dielektrische Schicht für Entladungslampen und zugehöriges Herstellungsverfahren | |
DE3011551A1 (de) | Leuchttableau mit plasmaentladung und verfahren zu seiner herstellung | |
DE4131806C2 (de) | Entladungsröhre und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE3106763C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Überspannungsableiters mit bariumhaltiger Elektrodenbeschichtung | |
DE2421512A1 (de) | Gasentladungs-anzeigetafel und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE10140356A1 (de) | Röhrförmige Entladungslampe mit Zündhilfe | |
DE4036122A1 (de) | Koronaentladungs-lichtquellenzelle | |
WO1998043280A1 (de) | Flachstrahler mit dielektrisch behinderter entladung und anordnung zur durchführung der elektroden in den entladungsraum | |
DE2615681C2 (de) | Anzeigevorrichtung mit einem Gasentladungsraum als Elektronenquelle, mit einem Elektronennachbeschleunigungsraum und mit einem Leuchtschirm | |
DE2261217C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von Gasentladungs-Anzeige- oder Speichervorrichtungen | |
EP0133492A2 (de) | Gasentladungsanzeigevorrichtung mit einem Abstandsrahmen und Verfahren zur Herstellung dieses Rahmens | |
DE3036219A1 (de) | Flachbildschirm | |
DE2319754A1 (de) | Gasentladungs-anzeigetafel | |
DE2512873C2 (de) | Einrichtung zur Förderung der Elektronenentladung für eine Gasentladungs-Anzeigevorrichtung | |
EP1709662A2 (de) | Verfahren zur herstellung von entladungslampen | |
DE4409832A1 (de) | Anzeigevorrichtung vom Gasentladungstyp und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2339817A1 (de) | Mehrstellige anzeigeeinrichtung | |
DE2235242B2 (de) | Ebene Anzeigevorrichtung und Herstellungsverfahren dafür |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |