EP0208221A2 - Siebmaschine - Google Patents

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EP0208221A2
EP0208221A2 EP86108864A EP86108864A EP0208221A2 EP 0208221 A2 EP0208221 A2 EP 0208221A2 EP 86108864 A EP86108864 A EP 86108864A EP 86108864 A EP86108864 A EP 86108864A EP 0208221 A2 EP0208221 A2 EP 0208221A2
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EP
European Patent Office
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systems
screening machine
movement
eccentric shaft
machine according
Prior art date
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EP86108864A
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Kurt Ing. Grad. Hoppe
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Hein Lehmann AG
Original Assignee
Hein Lehmann AG
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B07SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS; SORTING
    • B07BSEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS BY SIEVING, SCREENING, SIFTING OR BY USING GAS CURRENTS; SEPARATING BY OTHER DRY METHODS APPLICABLE TO BULK MATERIAL, e.g. LOOSE ARTICLES FIT TO BE HANDLED LIKE BULK MATERIAL
    • B07B1/00Sieving, screening, sifting, or sorting solid materials using networks, gratings, grids, or the like
    • B07B1/46Constructional details of screens in general; Cleaning or heating of screens
    • B07B1/48Stretching devices for screens
    • B07B1/485Devices for alternately stretching and sagging screening surfaces

Definitions

  • the invention relates to a screening machine with two movement systems which execute circular vibrations by at least one eccentric shaft, from separate frames or two side walls with cross members fixed parallel and at regular intervals between the frames or side walls of each system, the cross members located in a screen plane of the two systems alternating with one another arranged and driven by the systems so that the elastic screen covering fields located between the cross members and attached to them are alternately stretched and compressed.
  • the object of the invention is a screening machine of the beginning to create mentioned type, which is of simple construction and has small external dimensions.
  • Such a screening machine does not require a basic frame, so that it is structurally much simpler. It is therefore cheaper to manufacture and, due to the lack of a base frame, its external dimensions are smaller.
  • the vibrations generated by the eccentric shaft or shafts do not have to be intercepted by a basic frame, which previously had to destroy energies. Rather, the vibrational energy is completely consumed by the movement systems, so that less energy is required to sieve materials.
  • Such a construction also shows less wear, since the outer, particularly stressed bearings of the eccentric shaft are missing.
  • a particularly secure storage and simple construction is created when a first of the two movement systems is resiliently mounted on the second movement system and the second movement system is supported resiliently on the ground.
  • eccentric shafts are preferably provided and that both movement systems are stabilized by support springs.
  • two eccentric shafts can be mounted parallel to one another in both movement systems and one of the eccentric shafts can drive the other, in particular via a coupling belt.
  • a second layer of cross beams is attached to the side cheeks above the first screen level, the second screen level Form (screen deck).
  • a screen level or a protective deck be attached to the frame or to the side walls of one of the movement systems above the first screen level.
  • the outer movement system II has two vertical side cheeks (side walls) 1a, 1b, which are formed in the lower area by a box profile 2a, 2b, which is mounted on the substrate via coil springs 3a, 3b.
  • Fastening elements 4a, 4b which hold horizontal cross members 5, protrude on the undersides of the box profiles 2a, 2b.
  • These cross beams are perpendicular to the side walls and transverse to the conveying direction of the material to be screened.
  • on the upper side of the side cheeks 1a, 1b project inward fastening elements 6a, 6b which hold cross members 7, which are parallel to the cross members 5, for a second screen deck arranged above the lower screen deck.
  • a first movement system I is mounted within the side walls 1a, 1b, which in turn has two side walls 3a, 8b which are parallel to the side walls 1a, 1b.
  • cross members 9, 10 are attached to the top and bottom, which are parallel to the cross members of the Movement system II and are at the same height.
  • the lower screen deck 11 thus has approximately 12 to 16 cross members which are alternately attached to one and the other movement system and which carry fields of a flexible screen covering 12 between them.
  • the upper screen deck 13 is designed in the same way.
  • the lower screen deck 11 is laterally delimited by the side cheeks 8a, 8b, a seal 14 made of elastic material being fastened to these cheeks in the lower region.
  • the upper screen deck is delimited by lateral supports 15 which are fastened to the side cheeks 1a, 1b and in turn carry seals 14 on the inside.
  • two eccentric shafts 16, 17, which are mounted fourfold, run transversely to the conveying direction.
  • the eccentric shafts 16, 17 lie in bearings 18a, 18b of the side walls 1a, 1b and in the further inner areas in bearings 19a, 19b of the side walls 8a, 8b.
  • the eccentric shafts 16, 17 are angled twice between the two bearings 18a and 19a and between the two bearings 18b and 19b, so that the axis of the eccentric shaft in the area of the bearings 18a and 18b is coaxial, but the axis in the area of the bearings 18a and 19a are offset parallel to each other. This also applies to the axles in the area of the bearings 18b, 19b. In contrast, the axis of the eccentric shafts in the area of the bearings 19a, 19b is again coaxial.
  • the first eccentric shaft 16 is connected to an electric motor via a drive wheel 20, wherein the drive can take place directly or via a V-belt transmission as well as via a V-belt transmission with a propeller shaft.
  • the second eccentric shaft 17 is driven by the first eccentric shaft 10 via a coupling belt 21.
  • the screening machine can be driven by a single eccentric shaft, the systems then being stabilized by additional support springs.
  • the machine can also have only a single screen deck.
  • a protective deck can be fastened over such a single screen deck. the side cheeks of one of the two movement systems is worn.

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  • Combined Means For Separation Of Solids (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Siebmaschine mit zwei durch mindestens eine Exzenterwelle Kreisschwingungen ausführenden Bewegungssystemen (I, II), aus voneinander getrennten Rahmen oder je zwei Seitenwangen mit zwischen den Rahmen oder Seitenwangen jedes Systems in regelmäßigen Abständen zueinander parallel befestigten Querträgern. Die in einer Siebebene befindliche Querträger beider Systeme (I, II) sind einander abwechselnd angeordnet und durch die Systeme so angetrieben, daß die zwischen den Querträgern befindlichen, an diesen befestigten, elastischen Siebbelagfelder abwechselnd gestreckt und gestaucht werden. Hierbei ist jede Exzenterwelle allein in den beiden Bewegungssystemen (I, II) gelagert.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Siebmaschine mit zwei durch mindestens eine Exzenterwelle Kreisschwingungen ausführenden Bewegungssystemen, aus voneinander getrennten Rahmen oder je zwei Seitenwangen mit zwischen den Rahmen oder Seitenwangen jedes Systems in regelmäßigen Abständen zueinander parallel befestigten Querträgern, wobei die in einer Siebebene befindlichen Querträger beider Systeme einander abwechselnd angeordnet und durch die Systeme so angetrieben sind, daß die zwischen den Querträgern befindlichen, an diesen befestigten, elastischen Siebbelagfelder abwechselnd gestreckt und gestaucht werden.
  • Aus der deutschen Patentschrift 12 06 372 ist eine solche Siebmaschine bekannt. Die einander gegenüberliegenden Seitenwangen beider Bewegungssysteme sind von zwei angetriebenen Exzenterwellen durchdrungen, deren beiden Enden in einem Grundrahmen drehbar gelagert sind. Dieser zusätzliche Grundrahmen ist konstruktiv aufwendig und läßt die Maschine groß bauen. Ferner müssen von diesem Grundrahmen erhebliche Schwingungskräfte aufgenommen werden.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, eine Siebmaschine der eingangs genannten Art zu schaffen, die von einfacher Konstruktion ist und geringe Außenabmessungen aufweist.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß jede Exzenterwelle allein in den beiden Bewegungssystemen gelagert'ist.
  • Eine solche Siebmaschine bedarf keines Grundrahmens, so daß sie konstruktiv wesentlich einfacher ist. Sie ist damit preiswerter herstellbar und durch den fehlenden Grundrahmen sind ihre Außenabmessungen geringer. Die von der oder den Exzenterwellen erzeugten Schwingungen müssen nicht von einem Grundrahmen abgefangen werden, der damit bisher Energien vernichten mußte. Die Schwingungsenergie wird vielmehr vollständig von den Bewegungssystemen verbraucht, so daß weniger Energie benötigt wird, um Materialien zu sieben. Auch zeigt eine solche Konstruktion weniger Verschleiß, da die äußeren, besonders strapazierten Lager der Exzenterwelle fehlen.
  • Eine besonders sichere Lagerung und einfache Konstruktion wird dann geschaffen, wenn ein erstes der beiden Bewegungssysteme am zweiten Bewegungssystem federnd gelagert ist und das zweite Bewegungssystem auf dem Untergrund sich federnd abstützt.
  • Vorzugsweise wird vorgeschlagen, daß nur eine Exzenterwelle vorgesehen ist und beide Bewegungssysteme durch Stützfedern stabilisiert sind. Alternativ können zwei Exzenterwellen zueinander parallel in beiden Bewegungssystemen gelagert sein und eine der Exzenterwellen die andere insbesondere über einen Koppelriemen antreiben.
  • Ferner wird vorgeschlagen, daß oberhalb der ersten Siebebene an den Seitenwangen eine zweite Lage von Querträgern befestigt ist, die eine zweite Siebebene (Siebdeck) bilden. Hierzu alternativ wird vorgeschlagen, daß oberhalb der ersten Siebebene an dem Rahmen oder an den Seitenwangen eines der Bewegungssysteme eine Siebebene oder ein Schutzdeck befestigt ist.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Es zeigen
    • Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch die Siebmaschine quer zur Förderrichtung des Siebgutes,
    • Fig. 2 eine Draufsicht auf die Siebmaschine, und
    • Fig. 3 eine Seitenansicht.
  • Das äußere Bewegungssystem II weist zwei senkrechte Seitenwangen (Seitenwände) 1a, 1b auf, die im unteren Bereich von einem Kastenprofil 2a, 2b gebildet werden, das über Schraubenfedern 3a, 3b auf dem Untergrund gelagert ist. An den Unterseiten der Kastenprofile 2a, 2b stehen innen Befestigungselemente 4a, 4b vor, die waagerechte Querträger 5 halten. Diese Querträger liegen senkrecht zu den Seitenwangen und quer zur Förderrichtung des Siebgutes. An der Oberseite der Seitenwangen 1a, 1b stehen in gleicher Weise nach innen Befestigungselemente 6a, 6b vor, die für ein über dem unteren Siebdeck darüber angeordnetes zweites Siebdeck Querträger 7 halten, die parallel zu den Querträgern 5 liegen.
  • Innerhalb der Seitenwangen 1a, 1b ist ein erstes Bewegungssystem I gelagert, das wiederum zwei Seitenwangen 3a, 8b besitzt, die parallel zu den Seitenwangen 1a, 1b sind. An den Seitenwangen bzw. Seitenwänden 8a, 8b sind in gleicher Weise an der Ober- und Unterseite Querträger 9, 10 befestigt, die parallel zu den Querträgern des Bewegungssystems II sind und in der gleichen Höhe liegen. Das untere Siebdeck 11 weist somit ca. 12 bis 16 Querträger auf, die abwechselnd am einen und am anderen Bewegungssystem befestigt sind und die zwischen sich Felder eines flexiblen Siebbelages 12 tragen. In gleicher Weise ist das obere Siebdeck'13 ausgeführt.
  • Das untere Siebdeck 11 ist seitlich durch die Seitenwangen 8a, 8b begrenzt, wobei im unteren Bereich an diesen Wangen eine Abdichtung 14 aus elastischem Material befestigt ist. Das obere Siebdeck ist durch seitliche Stützen 15 begrenzt, die an den Seitenwangen 1a, 1b befestigt sind und wiederum auf der Innenseite Abdichtungen 14 tragen.
  • Durch die Seitenwangen 1a, 1b, 8a, 8b beider Bewegungssysteme I, II verlaufen quer zur Förderrichtung zwei Exzenterwellen 16, 17, die vierfach gelagert sind. In beiden äußeren Bereichen liegen die Exzenterwellen 16, 17 in Lagern 18a, 18b der Seitenwangen 1a,1b ein und in den weiter innen liegenden Bereichen in Lagern 19a, 19b der Seitenwangen 8a, 8b. Die Exzenterwellen 16, 17 sind zwischen den beiden Lagern 18a und 19a als auch zwischen den beiden Lagern 18b und 19b zweifach abgewinkelt, so daß die Achse der Exzenterwelle im Bereich der Lager 18a und 18b gleichachsig, aber die Achse im Bereich der Lager 18a und 19a zueinander parallel versetzt sind. Dies gilt auch für die Achsen im Bereich der Lager 18b, 19b. Dagegen ist die Achse der Exzenterwellen im Bereich der Lager 19a, 19b wiederum gleichachsig.
  • Die Stellungen dieser durch die Exzenterwelle gebildeten Exzenter sind somit um 1800 versetzt, wobei die Exzentrizität ca. 5 bis 7 mm beträgt. Jeder Systempunkt wird daher bei einer Umdrehung der Welle auf einer Kreisbahn mit dem Durchmesser von ca. 14 mm bewegt. Da beide Systeme sich um 180° phasenverschoben nacheilen, nähern und entfernen sich bestimmte Systempunkte. Dies führt dazu, daß in einer Draufsicht gesehen, die Querträger 9 des Systems I sich während einer Umdrehung einer Exzenterwelle von den Querträgern 5 des Systems II entfernen und danach wieder nähern. Hierdurch wird der zwischen zwei Querträgern 5, 9 befindliche Siebbelag 12 einmal'gestreckt und einmal gestaucht.
  • Die erste Exzenterwelle 16 ist über ein Antriebsrad 20 mit einem Elektromotor verbunden, wobei der Antrieb direkt oder über eine Keilriemenübersetzung als auch über eine Keilriemenübersetzung mit Gelenkwelle geschehen kann. Die zweite Exzenterwelle 17 wird von der ersten Exzenterwelle 10 über einen Koppelriemen 21 angetrieben.
  • Alternativ kann die Siebmaschine von einer einzigen Exzenterwelle angetrieben sein, wobei dann die Systeme durch zusätzliche Stützfedern stabilisiert sind. Statt der dargestellten Doppeldeckausführung.kann die Maschine auch nur ein einziges Siebdeck besitzen. Ferner kann über einem solchen einzigen Siebdeck ein Schutzdeck befestigt sein, das von. den Seitenwangen einer der beiden Bewegungssysteme getragen ist.

Claims (6)

1. Siebmaschine mit zwei durch mindestens eine Exzenterwelle Kreisschwingungen ausführenden Bewegungssytemen (I, II), aus voneinander getrennten Rahmen oder je zwei Seitenwangen (1a, 1b, 8a, 8b) mit zwischen den Rahmen oder Seitenwangen jedes Systems in regelmäßigen Abständen zueinander parallel befestigten Querträgern (5, 7, 9, 10), wobei die in einer Siebebene befindliche Querträger beider Systeme (I, II) einander abwechselnd angeordnet und durch die Systeme so angetrieben sind, daß die zwischen den Querträgern befindlichen, an diesen befestigten, elastischen Siebbelagfelder (12) abwechselnd gestreckt und gestaucht werden, dadurch gekennzeichnet , daß jede Exzenterwelle (16, 17) allein in den beiden Bewegungssystemen (I, II) gelagert ist.
2. Siebmaschine nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das erste (I) der beiden Bewegungssysteme am zweiten Bewegungssystem (II) federnd gelagert ist und das zweite Bewegungssystem (II) auf dem Untergrund sich federnd abstützt.
3. Siebmaschine nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß nur eine Exzenterwelle vorgesehen ist und beide Bewegungssysteme durch Stützfedern stabilisiert sind.
4. Siebmaschine nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß zwei Exzenterwellen (16, 17) zueinander parallel in beiden Bewegungssystemen (I, II) gelagert sind und eine der Exzenterwellen (16) die andere (17) insbesondere über einen Koppelriemen (21) antreibt.
5. Siebmaschine nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß oberhalb der ersten Siebebene (11) an den Seitenwangen eine zweite Lage von Querträgern (7, 10) befestigt ist, die eine zweite Siebebene (13) (Siebdeck) (13) bilden.
6. Siebmaschine nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß oberhalb der ersten Siebebene (11) an dem Rahmen oder an den Seitenwangen (1a, 1b) eines der Bewegungssysteme (I, II) eine Siebebene oder ein Schutzdeck befestigt ist.
EP86108864A 1985-07-12 1986-06-30 Siebmaschine Withdrawn EP0208221A3 (de)

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EP0208221A2 true EP0208221A2 (de) 1987-01-14
EP0208221A3 EP0208221A3 (de) 1988-06-01

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