EP0025038A1 - Verfahren und einrichtung zum kopieren von masken auf ein werkstück - Google Patents

Verfahren und einrichtung zum kopieren von masken auf ein werkstück

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EP0025038A1
EP0025038A1 EP80900410A EP80900410A EP0025038A1 EP 0025038 A1 EP0025038 A1 EP 0025038A1 EP 80900410 A EP80900410 A EP 80900410A EP 80900410 A EP80900410 A EP 80900410A EP 0025038 A1 EP0025038 A1 EP 0025038A1
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EP
European Patent Office
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mask
workpiece
alignment
alignment error
image
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP80900410A
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English (en)
French (fr)
Inventor
Ernst LÖBACH
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Individual
Original Assignee
Individual
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Publication date
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Publication of EP0025038A1 publication Critical patent/EP0025038A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Definitions

  • the invention relates to a method and a device for copying masks onto a workpiece, in particular for projection copying onto a semiconductor substrate for producing integrated circuits, a mask pattern being mapped in successive steps on respective other, predetermined areas of the workpiece by moving the workpiece in the image plane .
  • a photosensitive layer is exposed on the substrate, which after its development to cover the substrate at desired locations in different masks between the images performed chemical and physical treatment steps, such as etching and diffusion processes.
  • chemical and physical treatment steps such as etching and diffusion processes.
  • the permissible deviations of the successive images of the mask patterns are, for example, less than one ⁇ m.
  • the circuit patterns attached to the mask are usually imaged on the substrate, for example reduced by a factor of 10, using a projection objective.
  • the semiconductor substrate is adjusted with respect to a coordinate system that is permanently connected to the projection exposure device.
  • precise displacement devices e.g. with the help of a laser-interferometrically controlled X-Y table
  • the areas of the substrate corresponding to the individual circuits are pushed under the projection lens without any readjustment.
  • the disadvantage of this indirect adjustment is obvious since the misalignment of the corresponding area of the substrate relative to the coordinate system and the misadjustment of the mask relative to the coordinate system already add up during the first exposure. Deviations resulting from temperature fluctuations, for example, are not taken into account.
  • Deviations caused by faults are not taken into account while driving through the predetermined areas.
  • the substrate and the mask are adjusted through the projection lens.
  • the invention was therefore based on the object of proposing a method and a device of the type mentioned at the outset, which enables the highest possible accuracy of the images of the masks on the predetermined area of the substrate without significantly increasing the processing time.
  • the measures according to the invention thus determine the existing but permissible alignment error during the exposure or the imaging of the mask pattern on the substrate. A compensation of larger deviations from the target position is obtained without significant loss of time. If the time required to determine the alignment error is less than or equal to the exposure time, there is no loss of time. If, on the other hand, the measuring time for determining the alignment error becomes longer than the exposure time, there is only a loss of time from the difference between the exposure time and the measuring time. It can be advantageous here if the alignment error is determined after a predetermined number, for example after every second or third, of the images or displacements of the workpiece. It is also advantageously possible to determine the alignment errors in a different sequence of images of the mask pattern in other coordinates, for example in the coordinates of the image plane, and normal to the latter.
  • FIG. 1 shows a schematic oblique view of a device for the projection copying of masks onto a semiconductor substrate
  • FIG. 2 shows the principle of determining the alignment error
  • FIG. 3 shows a diagram of the device according to FIG. 1 in functional blocks.
  • the semiconductor substrate 16 to be exposed by the known step-and-repeat method is held on a substrate table 15 by means of negative pressure.
  • This substrate table 15 is in the coordinates X and Y of the image plane and along the optical axis
  • a projection objective 14 is arranged above the substrate 16, above which the mask 4 held on the mask stage 3 is located.
  • the mask stage 3 also has stepper motors 10, 11 and 12, which serve to set the mask 4 in the coordinates of the object plane X, Y and.
  • the mask 4 is exposed with an exposure device 2, so that the circuit pattern 5 is imaged via the projection lens 14 on the area 17 of the substrate 16 assigned to the respective chip.
  • each of the areas 17 is assigned to alignment marks 18.
  • Mask 4 also has alignment patterns 6.
  • the alignment patterns 6 of the mask 4 are, for example, windows that are transparent to the exposure light, so that the corresponding rays of the exposure device 2 fall through these windows 6 onto semitransparent mirrors 22 and are reflected by them back to the mask.
  • mirrors 7 are attached, which throw these rays via the projection lens 14 onto the alignment marks 18 of the respective area 17 on the substrate.
  • the image of the alignment patterns 6 on the substrate 16 and the alignment marks 18 are now back-projected onto evaluation devices 21 via the projection objective 14, the mirrors 7 and the semitransparent mirrors 22.
  • These evaluation devices can determine the alignment error between the alignment marks 18 and the image of the alignment pattern 6 of the mask 4, as a result of which the alignment error of the image of the mask pattern 5 is also determined relative to the predetermined region 17 or circuit elements already present thereon.
  • the alignment patterns, alignment marks, the means for mapping them into one another and the evaluation devices can be designed in any known manner.
  • An alignment mark 18 on the substrate is designed as a reflective or non-reflective cross, to which an alignment pattern of the mask 4 consisting of a window 6 is assigned.
  • the mask 4 consists of two glass plates 8, between which the mask layer 9 is located.
  • On the side of the lower glass plate 8 facing the substrate one is in relation to the projection objective Adjustment mark 18 conjugated area formed a mirror 7.
  • This mirror 7 reflects the image of the window 6 on the substrate 16 and the alignment mark 18 through the semitransparent mirror 22 onto a detection level 28 of the evaluation device 21. By scanning the intensity values on this detection level 28, for example, time signals t1 and t2 can be obtained that correspond to the respective Alignment errors are proportional.
  • the determination of the alignment error in the Z direction, ie the focus adjustment of the image on the substrate, is carried out in a known manner, not shown. Such a known method is explained for example in DE-OS 26 33 297.
  • the manner in which the alignment error is determined in the desired coordinates is not the subject of the present invention and can therefore be carried out in any manner.
  • FIG. 3 shows a diagram of the device according to the invention in functional blocks.
  • the stepper motors 10, 11 and 12 for positioning the mask, the evaluation devices 21 for determining the alignment error and the stepper motors 19, 20 and 24 for moving the substrate are connected via an interface 25, which contains the necessary adjustment circuits, to a computer 26, which again corresponds to a memory 27.
  • the method according to the invention can be implemented with the aid of this device. If the mask pattern 5 of a mask 4 is to be carried out in successive steps on the areas 17, which correspond to the chips to be produced, the substrate 16 and the mask 4 in the coordinates X, Y, Z and ⁇ are set up on one another via the projection objective 14.
  • the substrate table 15 then moves the first area 17 to be exposed below the projection area of the projection objective, whereupon the mask pattern 5 is imaged.
  • the alignment error between the image of the mask pattern on the substrate and the correspondingly predetermined region 17 on the substrate is now determined during this imaging, ie during the exposure, by comparing the position of the alignment patterns relative to the alignment marks.
  • This determination of the alignment error is advantageously carried out in the same light of the exposure device that is also used for the imaging of the mask pattern.
  • a separate light source can also be used for imaging the alignment patterns 6 and alignment marks 18 in one another.
  • Substrate table 15 shifted with the help of stepper motors 19 and 20 so far that the next area 17 reaches the projection area of the projection lens. This shift takes place according to the pre-programmed values.
  • the position of the mask 4 is now corrected by the alignment error measured above.
  • the exposure of the new area 17 can be carried out, the current alignment error again being determined. It can easily be seen that with this method according to the invention, an addition of adjustment errors can be avoided without slowing down the procedure compared to an exposure without adjustment.
  • the alignment error is determined only after a predetermined number, for example after every second, of the images or displacements of the substrate.
  • the only prerequisite for carrying out the method according to the invention is a certain basic accuracy of the displacement devices, i.e. the displacement of the substrate 16 by an area 17 must be possible within the permissible tolerance limit for the alignment error.
  • the alignment error is compared with this limit value and a correction is made only if the limit value is exceeded. It is provided that if the correction value for the position of the mask is too great, it is not shifted and instead the predetermined value for the shift of the substrate is corrected.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

Verfahren und Einrichtung zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück, insbesondere zum Projektionskopieren auf ein Halbleitersubstrat zur Herstellung integrierter Schaltungen, wobei durch Verschieben des Werkstückes in der Bildebene ein Maskenmuster in aufeinanderfolgenden Schritten auf jeweils anderen, vorbestimmten Bereichen des Werkstückes abgebildet wird.
Charakteristik des bekannten Standes der Technik
Für die Herstellung integrierter Schaltungen ist es notwendig, eine Anzahl von Masken mit verschiedenen Schaltungsmustern an jeweils derselben Stelle des HalbleiterSubstrats abzubilden.
Dabei wird auf dem Substrat eine fotoempfindliche Schicht belichtet, welche nach ihrer Entwicklung zur Abdeckung des Substrates an gewünschten Stellen in zwischen den Abbildungen verschiedener Masken durchgeführten chemischen und physikalischen Behandlungsschritten, beispielsweise Ätz- und Diffusionsvorgängen, dient. An die Genauigkeit, mit der integrierte Schaltungen hergestellt werden, sind sehr hohe Anforderungen gestellt. Die zulässigen Abweichungen der aufeinanderfolgenden Abbildungen der Maskenmuster liegen beispielsweise unter einem μm. Um eine solche Genauigkeit erreichen zu können, werden die auf der Maske angebrachten Schaltungsmuster meist über ein Projektionsobjektiv beispielsweise um den Faktor 10 verkleinert auf dem Substrat abgebildet. Insbesondere für hochintegrierte Schaltungen hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn jedes Chip, d.h. jeder identische Schaltkreis, einzeln belichtet wird.
Nach einem bekannten Verfahren wird hiezu das Halbleiter substrat in bezug auf ein fest mit dem Projektionsbelichtungsgerät verbunden gedachtes Koordinatensystem hinjustiert. Mit Hilfe von präzisen Verschiebeeinrichtungen (z.B. mit Hilfe eines laserinterferometrisch kontrollierten X-Y-Tisches) werden die den einzelnen Schaltkreisen entsprechenden Bereiche des Substrates unter das Projektionsobjektiv geschoben, ohne daß eine Nachjustierung erfolgt. Der Nachteil dieser indirekten Justierung ist offensichtlich, da sich bei der ersten Belichtung bereits die Fehljustierung des entsprechenden Bereiches des Substrates relativ zu dem Koordinatensystem sowie die FehlJustierung der Maske relativ zu dem Koordinatensystem addieren. Abweichungen, die beispielsweise von Temperaturschwankungen herrühren, werden nicht berücksichtigt.
Weiters ist es bekannt geworden, das Substrat vor der Belichtung der einzelnen, den jeweiligen Chips entsprechenden Bereiche in bezug auf die Maske direkt durch das Projektionsobjektiv hindurch zu justieren. Die Bewegung des Substrats zur Belichtung bzw. Abbildung des Maskenmusters auf den vorbestimmten Bereichen erfolgt dann wie vorangehend beschrieben. Als Nachteil bleibt jedoch bestehen, daß durch
Störungen bedingte Abweichungen während des Durch¬fahrens der vorbestimmten Bereiche nicht berücksichtigt werden.
Schließlich hat man auch schon vorgeschlagen, daß dem Substrat für jeden Abbildungsbereich, d.h. für jedes Chip, eigene Justiermarken zugeordnet sind.
Nach jeder Abbildung des Schaltungsmusters und dem darauffolgenden Verschieben des Substrates zu dem nächsten vorbestimmten Bereich werden das Substrat und die Maske durch das Projektionsobjektiv hindurch justiert. Dieses Verfahren vermeidet nύn zwar die dem vorstehend Genannten anhaftenden Nachteile, doch erhöht sich die gesamte Bearbeitungszeit für ein Substrat um die Summe der einzelnen Justierzeiten. Dies bewirkt eine unwirtschaftliche Reduzierung des Durchsatzes.
Aufgabe der Erfindung
Der Erfindung lag daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Einrichtung der eingangs genannten Gattung vorzuschlagen, welches eine höchstmögliche Genauigkeit der Abbildungen der Masken auf den vorbestimmten Bereich des Substrates ermöglicht, ohne die Bearbeitungszeit beträchtlich zu erhöhen.
Darlegung des Wesens der Erfindung
Erfindungsgemäß wird hiezu vorgeschlagen, daß zumindest während einer Anzahl von Abbildungen des Maskenmusters auf dem Werkstück eine Bestimmung des Ausrichtfehlers zwischen dem Abbild des Maskenmusters und dem entsprechend vorbestimmten Bereich auf dem Werkstück begonnen wird, und daß der vorbestimmte
Wert der Verschiebung des Werkstückes zum Bereich für eine folgende Abbildung und/oder die Position der Maske für eine folgende Abbildung um den Ausrichtfehler korrigiert wird.
Durch die erfindungsgemäßen Maßnahmen wird also während der Belichtung bzw. der Abbildung des Maskenmusters auf dem Substrat der vorhandene, jedoch zulässige Ausrichtfehler festgestellt. Man erhält eine Ausregelung größerer Abweichungen von der Sollposition, ohne daß wesentliche Zeitverluste eintreten. Wenn die zur Feststellung des Ausrichtfehlers erforderliche Zeit kleiner oder gleich der Belichtungszeit ist, so entsteht kein Zeitverlust. Wird die Meßzeit zur Bestimmung des Ausrichtfehlers hingegen größer als die Belichtungszeit, so besteht ein Zeitverlust lediglich aus der Differenz zwischen der Belichtungszeit und der Meßzeit. Hiebei kann es vorteilhaft sein, wenn der Ausrichtfehler nach einer vorbestimmten Anzahl, beispielsweise nach jeder zweiten oder dritten, der Abbildungen bzw. Verschiebungen des Werkstückes bestimmt wird. Es ist weiterhin in vorteilhafter Weise möglich, innerhalb einer Folge von Abbildungen des Maskenmusters die Bestimmung der Ausrichtfehler in jeweils anderen Koordinaten, beispielsweise in den Koordinaten der Bildebene, und normal zu dieser durchzuführen.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines Ausführungs beispiels und unter Bezugnahme auf die Zeichnungsfiguren näher erläutert. Beschreibung der Zeichnungsfiguren
Die Fig. 1 zeigt eine schematische Schrägansicht einer Einrichtung zum Projektionskopieren von Masken auf ein Halbleitersubstrat, Fig. 2 das Prinzip der Bestimmung des Ausrichtfehlers und Fig. 3 ein Schema der Einrichtung nach Fig. 1 in Funktionsblöcken.
Beschreibung von bevorzugten A.usführungsbeispielen
In Fig. 1 sind die wesentlichen Teile einer Einrichtung zum Projektionskopieren von Masken dargestellt. Das nach dem bekannten step-and-repeat-Verfahren zu belichtende Halbleitersubstrat 16 ist mittels Unterdruck auf einem Substrattisch 15 festgehalten. Dieser Substrattisch 15 ist in den Koordinaten X und Y der Bildebene und längs der optischen Achse der
Projektionseinrichtung mit Hilfe von Schrittmotoren 20, 19 und 24 bewegbar. Oberhalb des Substrates 16 ist ein Projektionsobjektiv 14 angeordnet, über dem sich wiederum die auf der Maskenbühne 3 gehaltene Maske 4 befindet. Die Maskenbühne 3 weist ebenfalls Schrittmotoren 10, 11 und 12 auf, welche zur Einstellung der Maske 4 in den Koordinaten der Objektebene X, Y und dienen. Zum Kopieren des Schaltungs musters 5 wird die Maske 4 mit einer Belichtungseinrichtung 2 belichtet, sodaß das Schaltungsmuster 5 über das Projektionsobjektiv 14. auf dem dem jeweiligen Chip zugeordneten Bereich 17 des Substrats 16 abgebildet wird. Um eine exakte Deckung des Schaltungsmusters 5 mit bereits auf den Bereichen 17 des Substrats 16 vorhandenen Schaltungselementen zu erreichen, sind jedem der Bereiche 17 Justiermarken 18 zugeordnet. Ebenso weist die Maske 4 Ausrichtmuster 6 auf. Mit der vorliegenden Einrichtung kann eine Justierung bzw. eine Feststellung des Ausrichtfehlers zwischen dem Abbild des Maskenmusters 5 und dem jeweil vorbestimmten Bereich 17 auf dem Substrat im Belichtungslicht vorgenommen werden. Die Ausrichtmuster 6 der Maske 4 sind beispielsweise für das Belichtungslicht durchlässige Fenster, sodaß die entsprechenden Strahlen der Belichtungseinrichtung 2 durch diese Fenster 6 auf halbdurchlässige Spiegel 22 fallen und von diesen zurück zur Maske reflektiert werden. An den entspreche den Stellen der Maske sind Spiegel 7 angebracht, welche diese Strahlen über das Projektionsobjektiv 14 auf die Justiermarken 18 des jeweiligen Bereiches 17 auf dem Substrat werfen. Das Abbild der Ausrichtmuster 6 auf dem Substrat 16 und die Justiermarken 18 werden nun über das Projektionsobjektiv 14, die Spiegel 7 sowie die halbdurchlässigen Spiegel 22 auf Auswerteeinrichtungen 21 rückprojiziert. Diese Auswerteeinrichtungen können den Ausrichtfehler zwischen den Justiermarken 18 und dem Abbild der Ausrichtmuster 6 der Maske 4 feststellen, wodurch auch der Ausrichtfehler des Abbildes des Maskenmusters 5 relativ zu dem vorbestimmten Bereich 17 bzw. darauf bereits vorhandenen Schaltungselementen bestimmt ist. Die Ausrichtmuster, Justiermarken, die Mittel zum Abbilden derselben ineinander sowie die Auswerteeinrichtungen können in beliebiger, bekannter Weise ausgebildet sein.
Die Fig. 2 zeigt in schematischer Weise eine Realisierungsmöglichkeit. Eine Justiermarke 18 auf dem Substrat ist dabei als reflektierendes oder nicht reflektierendes Kreuz ausgebildet, dem ein aus einem Fenster 6 bestehendes Ausrichtmuster der Maske 4 zugeordnet ist. Die Maske 4 besteht aus zwei Glasplatten 8, zwischen denen sich die Maskenschicht 9 befindet. Auf der dem Substrat zugewandten Seite der unteren Glasplatte 8 ist in einem in bezug auf das Projektionsobjektiv zur Justiermarke 18 konjugierten Bereich ein Spiegel 7 ausgebildet. Dieser Spiegel 7 reflektiert das Abbild des Fensters 6 auf dem Substrat 16 und die Justiermarke 18 durch den halbdurchlässigen Spiegel 22 auf eine Detektionsebene 28 der Auswerteeinrichtung 21. Durch Abtasten der Intensitätswerte auf dieser Detektionsebene 28 können beispielsweise Zeitsignale t1 und t2 gewonnen werden, die dem jeweiligen Ausrichtfehler proportional sind.
Mit Hilfe zweier derartiger Auswerteeinrichtungen 21 und den zugeordneten Ausrichtmustern 6 der Maske und Justiermarken 18 des Substrates können also die Ausrichtfehler in den Koordinaten X, Y und bestimmt werden. Die Bestimmung des Ausrichtfehlers in Z-Richtung, d.h. der Schärfeneinstellung des Abbildes auf dem Substrat, erfolgt in bekannter, nicht dargestellter Weise. Ein solches bekanntes Verfahren ist beispielsweise in der DE-OS 26 33 297 erläutert. Es sei jedoch nochmals darauf hingewiesen, daß die Art und Weise der Bestimmung des Ausrichtfehlers in den gewünschten Koordinaten nicht Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist und daher auf beliebige Art erfolgen kann.
Die Fig. 3 zeigt ein Schema der erfindungsgemäßen Einrichtung in Funktionsblöcken. Die Schrittmotoren 10, 11 und 12 zur Positionierung der Maske, die Auswerteeinrichtungen 21 zur Bestimmung des Ausrichtfehlers und die Schrittmotoren 19, 20 und 24 zur Bewegung des Substrates sind über eine Schnittstelle 25, welche die notwendigen Anpassungsschaltungen enthält, mit einem Rechner 26 verbunden, welcher wiederum mit einem Speicher 27 korrespondiert. Das erfindungsgemäße Verfahren kann mit Hilfe dieser Einrichtung realisiert werden. Soll das Maskenmuster 5 einer Maske 4 in aufeinanderfolgenden Schritten auf den Bereichen 17, welche den zu erzeugenden Chips entsprechen, abgebildet werden, so werden das Substrat 16 und die Maske 4 in den Koordinaten X, Y, Z und Ø über das Projektionsobjektiv 14 aufeinander eingerichtet. Sodann verfährt der Substrattisch 15 den ersten zu belichtenden Bereich 17 unter den Projektionsbereich des Projektionsobjektivs, worauf die Abbildung des Maskenmusters 5 durchgeführt wird. Gemäß der Erfindung w.ird nun während dieser Abbildung, d.h. während der Belichtung, der Ausrichtfehler zwischen dem Abbild des Maskenmusters auf dem Substrat und dem entsprechend vorbestimmten Bereich 17 auf dem Substrat durch Vergleich der Lage der Ausrichtmuster relativ zu den Justiermarken bestimmt. Diese Bestimmung des Ausrichtfehlers wird vorteilhaft im selben Licht der Belichtungseinrichtung, welches auch für die Abbildung des Maskenmusters verwendet wird, durchgeführt. Es ist jedoch festzuhalten, daß ebenso eine eigene Lichtquelle für die Abbildung der Ausrichtmuster 6 und Justiermarken 18 ineinander verwendet werden kann. Nach dem Ende der Belichtung wird der
Substrattisch 15 mit Hilfe der Schrittmotoren 19 bzw. 20 so weit verschoben, daß der nächste Bereich 17 in den Projektionsbereich des Projektionsobjektivs gelangt. Diese Verschiebung erfolgt gemäß den vorprogrammierten Werten. Um eine Addition von Fehljustierungen zu vermeiden, die beispielsweise von Temperaturschwankungen und Verschiebetoleranzen der Schrittmotoren herrühren können, wird nun die Position der Maske 4 um den vorangehend gemessenen Ausrichtfehler korrigiert. Daran anschließend kann die Belichtung des neuen Bereichs 17 durchgeführt werden, wobei wiederum der aktuelle Ausrichtfehler bestimmt wird. Es ist leicht ersichtlich, daß man mit diesem erfindungsgemäßen Verfahren eine Addition von Justierfehlern vermeiden kann, ohne den Verfahrensablauf im Vergleich zu einer Belichtung ohne Justierung zu verlangsamen. Lediglich für den Fall, daß die Bestimmung des Ausrichtfehlers länger als die vorgesehene Belichtungszeit für die Abbildung des Maskenmusters dauert, muß die Verschiebung zum jeweils nächsten Bereich solange verzögert werden, bis die Bestimmung des Ausrichtfehlers abgeschlossen ist. In diesem Fall kann man aber auch, falls abhängig von der Auswerteeinrichtung dadurch Zeit gewonnen werden könnte, den Ausrichtfehler innerhalb einer Folgevon Abbildungen in jeweils anderen Koordinaten bestimmen und die Korrekturen jeweils dementsprechend durchführen. Es ist aber auch denkbar, daß der Ausrichtfehler nur nach einer vorbestimmten Anzahl, beispielsweise nach jeder zweiten, der Abbildungen bzw. Verschiebungen des Substrates bestimmt wird.
Voraussetzung für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist lediglich eine gewisse Grundgenauigkeit der Verschiebeeinrichtungen, d.h. die Verschiebung des Substrats 16 um einen Bereich 17 muß innerhalb der zulässigen Toleranzgrenze für den Ausrichtfehler möglich sein. Um ein ständiges Korrigieren der Maske innerhalb des Meßfehlers zu vermeiden, kann es vorteilhaft sein, wenn der Ausrichtfehler mit diesem Grenzwert verglichen wird und lediglich bei überschreiten desselben eine Korrektur erfolgt. Es ist vorgesehen, daß bei einem zu großen Korrekturwert für die Position der Maske diese nicht verschoben wird und stattdessen der vorbestimmte Wert für die Verschiebung des Substrats korrigiert wird.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren bestehen weiterhin die Möglichkeiten, die Position der Maske stets unverändert zu lassen und die Korrektur des Ausrichtfehlers durch Veränderung des Verschiebeweges für das Substrat durchzuführen oder Maske und Substrat in jeweils gewünschten Koordinaten zu korrigieren.

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e :
1. Verfahren und Einrichtung zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück, insbesondere zum Projektionskopieren auf ein Halbleitersubstrat zur Herstellung integrierter Schaltungen, wobei durch Verschieben des Werkstückes in der Bildebene ein Maskenmuster in aufeinanderfolgenden Schritten auf jeweils anderen, vorbestimmten Bereichen des Werkstückes abgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest während einer Anzahl von Abbildungen des Maskenmusters auf dem Werkstück eine Bestimmung des Ausrichtfehlers zwischen dem Abbild des Maskenmusters und dem entsprechend vorbestimmten Bereich auf dem Werkstück begonnen wird, und daß der vorbestimmte Wert der Verschiebung des Werkstückes zum Bereich für eine folgende Abbildung und/oder die Position der Maske für eine folgende Abbildung um den Ausrichtfehler korrigiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ausrichtfehler mit einem Grenzwert vergliche wird, und bei überschreiten des Grenzwertes der vorbestimmte Wert der Verschiebung des Werkstückes zum Bereich für die folgende Abbildung und/oder die Position der Maske für die folgende Abbildung um den Ausrichtfehler korrigiert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Ausrichtfehler nach einer vorbestimmten Anzahl, beispielsweise nach jeder zweiten der Abbildungen bzw. Verschiebungen des Werkstückes bestimmt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Ausrichtfehler durch Vergleich der Lage von Ausrichtmustern der Maske relativ zu den jeweiligen vorbestimmten Bereichen auf dem Werkstück zugeordneten Justiermarken in an sich bekannter Weise im Belichtungslicht für die Abbildung des Maskenmusters bestimmt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Ausrichtfehler durch Vergleich der Lage von Ausrichtmustern der Maske relativ zu den jeweiligen vorbestimmten Bereichen auf dem Werkstück zugeordneten Justiermarken bestimmt wird, wobei für die Abbildung der Ausrichtmuster und Justiermarken ineinander eine Lichtquelle vorgesehen ist, deren Wellenlänge von dem Beiichtungslicht für die Abbildung des Maskenmusters unterschiedlich ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Abbildung eines
Maskenmusters, während der die Bestimmung des Ausrichtfehlers begonnen wurde, die Verschiebung des Werkstückes für die folgende Abbildung so lange verzögert wird, bis die Bestimmung des Ausrichtfehlers abgeschlossen ist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß während einer Folge von Abbildungen des Maskenmusters die Bestimmung der Ausrichtfehler in jeweils anderen Koordinaten, beispielsweise in den Koordinaten der Bildebene und normal zu dieser, begonnen wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Position der Maske in der Objektebene zwischen aufeinanderfolgenden Abbildungen um den jeweiligen Ausrichtfehler korrigiert wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß bei überschreiten des Korrekturwertes für die Position der Maske über einen vorbestimmten Grenzwert der vorbestimmte Wert für die Verschiebung des Werkstückes zum Bereich für die folgende Abbildung korrigiert wird.
EP80900410A 1979-02-14 1980-08-25 Verfahren und einrichtung zum kopieren von masken auf ein werkstück Withdrawn EP0025038A1 (de)

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