EA032903B1 - Подложка матрицы и жидкокристаллическая дисплейная панель - Google Patents

Подложка матрицы и жидкокристаллическая дисплейная панель Download PDF

Info

Publication number
EA032903B1
EA032903B1 EA201791625A EA201791625A EA032903B1 EA 032903 B1 EA032903 B1 EA 032903B1 EA 201791625 A EA201791625 A EA 201791625A EA 201791625 A EA201791625 A EA 201791625A EA 032903 B1 EA032903 B1 EA 032903B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
line
metal
holes
insulating layer
layer
Prior art date
Application number
EA201791625A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201791625A1 (ru
Inventor
Яньфэн Фу
Original Assignee
Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. filed Critical Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд.
Publication of EA201791625A1 publication Critical patent/EA201791625A1/ru
Publication of EA032903B1 publication Critical patent/EA032903B1/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13452—Conductors connecting driver circuitry and terminals of panels
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Geometry (AREA)

Abstract

Предоставлена подложка матрицы, которая содержит подложку. Первый металлический слой, первый изолирующий слой, второй металлический слой, второй изолирующий слой и слой электродов пикселя последовательно расположены на подложке. Множество первых сквозных отверстий и множество вторых сквозных отверстий расположены в месте расположения соединительной линии так, чтобы оголять первую металлическую линию и вторую металлическую линию. Первая металлическая линия электрически соединена со второй металлической линией через проводящую линию слоя электродов пикселя. Таким образом, проблема возникновения вертикальных и параллельных световых линий модуля отвода тока может быть эффективно исправлена.

Description

Эта заявка представляет собой описание для вхождения в национальную фазу РСТ заявки на патент № PCT/CN 2015/073925, имеющей международную дату подачи 10 марта 2015 г., которая притязает на выгоду приоритета заявки на патент Китая № 201510072465.2, поданной 11 февраля 2015 г. Все содержимое указанных выше заявок включено с помощью ссылки таким образом, как если бы оно было полностью изложено в данном документе во всей своей полноте.
Область изобретения
Настоящее изобретение относится к области техники дисплеев и, в частности, к подложке матрицы и жидкокристаллической дисплейной панели.
Предпосылки изобретения
В известном уровне техники при разработке внешней цепи тонкопленочного транзистора (TFT) для уменьшения сопротивлений применяют конструкцию с двумя металлическими линиями. А именно, первая металлическая линия и вторая металлическая линия являются параллельными для уменьшения сопротивлений. Первая металлическая линия расположена на первом металлическом слое в неотображающей области, а вторая металлическая линия расположена на втором металлическом слое в отображающей области для уменьшения воздействия сигналов, которое вызвано искажением вследствие задержки сигналов при резистивно-емкостной связи.
Однако существует недостаток конструкции с двумя металлическими линиями: когда первая металлическая линия прервана, непрерванная вторая металлическая линия используется для обеспечения проводимости. Однако это приводит к увеличению сопротивлений цепи. Следовательно, вертикальные световые линии и параллельные световые линии легко возникают при запуске света модулем, тем самым уменьшая качество отображения жидкокристаллического дисплея на тонкопленочных транзисторах (TFT LCD).
В итоге, в отношении конструкции с двумя металлическими линиями один слой прерван, а другой не прерван, следовательно, цепь разомкнута неполностью. Однако при испытании подложки матрицы и жидкокристаллического образца проблема не может быть выявлена. При отводе тока на образец отображения может быть подано более низкое напряжение. Разница в сопротивлениях при низкой градации серого и низком напряжении приводит к явлению световых линий, которые негативно влияют на качество отображения.
В результате, необходимо предоставить новое техническое решение для устранения недостатков, существующих в традиционных технологиях, как описано выше.
Сущность изобретения
Основная цель настоящего изобретения заключается в предоставлении подложки матрицы и жидкокристаллической дисплейной панели, при этом проблема возникновения вертикальных и параллельных световых линий модуля отвода тока может быть эффективно исправлена.
Для устранения описанного выше недостатка техническое решение согласно настоящему изобретению заключается в следующем.
Предоставлена подложка матрицы, которая содержит подложку;
первый металлический слой, расположенный на подложке, при этом первый металлический слой образован с затвором тонкопленочного транзистора, линией развертки в отображающей области и первой металлической линией в неотображающей области;
первый изолирующий слой, расположенный на первом металлическом слое, при этом первый изолирующий слой изолирует первый металлический слой от второго металлического слоя;
второй металлический слой, расположенный на первом изолирующем слое, при этом второй металлический слой образован с истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области;
второй изолирующий слой, расположенный на втором металлическом слое, при этом второй изолирующий слой изолирует второй металлический слой от слоя электродов пикселя;
слой электродов пикселя, расположенный на втором изолирующем слое, при этом слой электродов пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области;
при этом первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии; первые сквозные отверстия оголяют первую металлическую линию; вторые сквозные отверстия оголяют вторую металлическую линию; первая металлическая линия в первом сквозном отверстии соединена со второй металлической линией в соответствующем втором сквозном отверстии через проводящую линию; первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой, второй металлический слой и первый изолирующий слой в неотображающей области; второе сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой в неотображающей области; каждое первое сквозное отверстие соответствует двум вторым сквоз
- 1 032903 ным отверстиям, при этом вторые сквозные отверстия расположены с двух сторон первого сквозного отверстия.
Предпочтительно подложка матрицы дополнительно содержит схему управления разверткой и схему управления данными, при этом схема управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию, и схема управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию.
Предпочтительно множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии.
Кроме того, предоставлена подложка матрицы, которая содержит подложку;
первый металлический слой, расположенный на подложке, при этом первый металлический слой образован с затвором тонкопленочного транзистора, линией развертки в отображающей области и первой металлической линией в неотображающей области;
первый изолирующий слой, расположенный на первом металлическом слое, при этом первый изолирующий слой изолирует первый металлический слой от второго металлического слоя;
второй металлический слой, расположенный на первом изолирующем слое, при этом второй металлический слой образован с истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области;
второй изолирующий слой, расположенный на втором металлическом слое, при этом второй изолирующий слой изолирует второй металлический слой от слоя электродов пикселя;
слой электродов пикселя, расположенный на втором изолирующем слое, при этом слой электродов пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области;
при этом первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии; первые сквозные отверстия оголяют первую металлическую линию; вторые сквозные отверстия оголяют вторую металлическую линию; первая металлическая линия в первом сквозном отверстии соединена со второй металлической линией в соответствующем втором сквозном отверстии через проводящую линию.
Предпочтительно первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой, второй металлический слой и первый изолирующий слой в неотображающей области, и второе сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой в неотображающей области.
Предпочтительно каждое первое сквозное отверстие соответствует двум вторым сквозным отверстиям, при этом вторые сквозные отверстия расположены с двух сторон первого сквозного отверстия.
Предпочтительно подложка матрицы дополнительно содержит схему управления разверткой и схему управления данными, при этом схема управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию, и схема управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию.
Предпочтительно множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии.
Кроме того, предоставлена жидкокристаллическая дисплейная панель, которая содержит подложку матрицы, подложку светофильтра и жидкокристаллическую ячейку, расположенную между подложкой матрицы и подложкой светофильтра, при этом подложка матрицы содержит подложку;
первый металлический слой, расположенный на подложке, при этом первый металлический слой образован с затвором тонкопленочного транзистора, линией развертки в отображающей области и первой металлической линией в неотображающей области;
первый изолирующий слой, расположенный на первом металлическом слое, при этом первый изолирующий слой изолирует первый металлический слой от второго металлического слоя;
второй металлический слой, расположенный на первом изолирующем слое, при этом второй металлический слой образован с истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области;
второй изолирующий слой, расположенный на втором металлическом слое, при этом второй изолирующий слой изолирует второй металлический слой от слоя электродов пикселя;
слой электродов пикселя, расположенный на втором изолирующем слое, при этом слой электродов пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области;
при этом первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, множество первых сквозных отверстий и мно
- 2 032903 жество соответствующих вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии; первые сквозные отверстия оголяют первую металлическую линию; вторые сквозные отверстия оголяют вторую металлическую линию; первая металлическая линия в первом сквозном отверстии соединена со второй металлической линией в соответствующем втором сквозном отверстии через проводящую линию.
Предпочтительно первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой, второй металлический слой и первый изолирующий слой в неотображающей области, и второе сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой в неотображающей области.
Предпочтительно каждое первое сквозное отверстие соответствует двум вторым сквозным отверстиям, при этом вторые сквозные отверстия расположены с двух сторон первого сквозного отверстия.
Предпочтительно подложка матрицы дополнительно содержит схему управления разверткой и схему управления данными, при этом схема управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию, и схема управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию.
Предпочтительно множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии.
По сравнению с существующей технологией для подложки матрицы и жидкокристаллической дисплейной панели согласно настоящему изобретению множество первых сквозных отверстий и множество вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии в неотображающей области. Первые сквозные отверстия используют, чтобы оголить первую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией; вторые сквозные отверстия используют, чтобы оголить вторую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией. Первая металлическая линия электрически соединена со второй металлической линией через проводящую линию. Преимущество данной конструкции заключается в том, что существует множество соединенных точек, добавленных в одной и той же цепи, для обеспечения проводимости между первой металлической линией и второй металлической линией. Следовательно, если один металлический слой неотображающей области прерван, это негативно влияет лишь на небольшую часть цепи с исключением возможности передачи сигналов, и не влияет негативно на общую металлическую линию с прерванным металлическим слоем для передачи сигналов. Таким образом, проблема возникновения вертикальных и параллельных световых линий модуля отвода тока может быть эффективно исправлена.
Для того чтобы вышеприведенное описание настоящего изобретения было более понятным и содержательным, далее подробно описаны предпочтительные варианты осуществления с сопроводительными фигурами.
Краткое описание нескольких видов графических материалов
Фиг. 1 представляет собой структурную схему подложки матрицы в неотображающей области согласно предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения;
фиг. 2 - структурную схему жидкокристаллической дисплейной панели согласно одному варианту осуществления настоящего изобретения.
Подробное описание предпочтительных вариантов осуществления
Термин вариант осуществления, используемый в данном техническом описании, обозначает примеры, демонстрации или иллюстрации. Кроме этого, слово один, используемое в настоящем техническом описании и соответствующей формуле изобретения, может обозначать один или несколько, если оно не обозначено или явным образом не относится к форме единственного числа.
Дисплейные панели согласно настоящему изобретению могут представлять собой жидкокристаллический дисплей на тонкопленочных транзисторах (TFT-LCD) или с активной матрицей на органических светодиодах (AMOLED).
В одном варианте осуществления согласно настоящему изобретению множество первых сквозных отверстий и множество вторых сквозных отверстий расположены на неотображающей области. Первые сквозные отверстия используют, чтобы оголить первую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией; вторые сквозные отверстия используют, чтобы оголить вторую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией. Первая металлическая линия электрически соединена со второй металлической линией через проводящую линию. Преимущество данной конструкции заключается в том, что существует множество соединенных точек, добавленных в одной и той же цепи, для обеспечения проводимости между первой металлической линией и второй металлической линией. Следовательно, если один металлический слой неотображающей области прерван, это негативно влияет лишь на небольшую часть цепи с исключением возможности передачи сигналов, и не влияет негативно на общую металлическую линию с прерванным металлическим слоем для передачи сигналов. Таким образом, проблема возникновения вертикальных и параллельных световых линий модуля отвода тока может быть эффективно исправлена.
Для пояснения технического решения настоящего изобретения ниже представлены некоторые конкретные варианты осуществления.
- 3 032903
Обращается внимание на фиг. 1, которая представляет собой структурную схему подложки матрицы в неотображающей области согласно предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. Для удобного описания фиг. 1 представляет только связанные части настоящего варианта осуществления согласно настоящему изобретению.
Подложка матрицы содержит подложку 100, первый металлический слой 101, первый изолирующий слой 102, второй металлический слой 103, второй изолирующий слой 104 и слой 105 электрода пикселя. Первый металлический слой 101 расположен на подложке 100; первый изолирующий слой 102 расположен на первом металлическом слое 101; второй металлический слой 103 расположен на первом изолирующем слое 102; первый изолирующий слой 102 используется для изолирования первого металлического слоя 101 от второго металлического слоя 103; второй изолирующий слой 104 расположен на втором металлическом слое 103; слой 105 электрода пикселя расположен на втором изолирующем слое 104; второй изолирующий слой 104 используется для изолирования второго металлического слоя 103 от слоя 105 электрода пикселя.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению первый металлический слой 101 расположен на подложке 100. Далее в настоящем изобретении применяются процессы желтого света и травления для образования структуры первого металлического слоя 101. Структура первого металлического слоя 101 содержит затвор тонкопленочного транзистора, линию развертки отображающей области и первую металлическую линию неотображающей области. Однако можно понять, что первая металлическая линия содержит множество линий.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению после распыления и осаждения второго металлического слоя 103 согласно настоящему изобретению применяются процессы желтого света и травления для образования структуры второго металлического слоя 103. Структура второго металлического слоя 103 образована истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области. Однако можно понять, что вторая металлическая линия содержит множество линий, при этом каждая первая металлическая линия соответствует каждой второй металлической линии.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению после распыления и осаждения слоя
105 электрода пикселя согласно настоящему изобретению применяются процессы желтого света и травления для образования структуры слоя 105 электрода пикселя. Структура слоя 105 электрода пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области. Однако можно понять, что проводящая линия содержит множество линий, и каждая из первых металлических линий, каждая из вторых металлическая линий и каждая из проводящих линий соответствуют друг другу.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, при этом множество соединительных линий электрически соединены с соответствующими линиями развертки и линиями передачи данных соответственно. Множество первых сквозных отверстий 106 и множество соответствующих вторых сквозных отверстий 107 расположены на соединительной линии. Первые сквозные отверстия 106 используют, чтобы оголить первую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией; вторые сквозные отверстия 107 используют, чтобы оголить вторую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией. Первая металлическая линия в первом сквозном отверстии электрически соединена со второй металлической линией во втором сквозном отверстии через проводящую линию.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению слой 105 электрода пикселя изготовлен из оксида индия и олова (ITO) или оксида индия и цинка (IZO). Первый изолирующий слой 102 изготовлен из G-Sinx материалов. Второй изолирующий слой 104 изготовлен из P-Sinx материалов. Однако настоящее изобретение не ограничивается использованием представленных выше материалов. Модификации, замены и усовершенствования в пределах сущности и принципов настоящего изобретения попадают в объем настоящего изобретения.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению после образования второго изолирующего слоя 104 выполняется травление межслойных отверстий. А именно, первые сквозные отверстия
106 располагают на втором изолирующем слое 104, втором металлическом слое 103 и первом изолирующем слое 102 неотображающей области. Первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой 104, второй металлический слой 103 и первый изолирующий слой 102 неотображающей области так, чтобы оголить первую металлическую линию и обеспечить электрическое соединение проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией.
Однако можно понять, что после образования второго изолирующего слоя 104, в ходе того же процесса для расположения первых сквозных отверстий, второе сквозное отверстие 107 располагают на втором изолирующем слое 104 в неотображающей области так, чтобы оголить вторую металлическую линию и обеспечить электрическое соединение проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией.
- 4 032903
Однако можно понять, что после завершения процесса создания первых сквозных отверстий выполняется процесс травления межслойных отверстий вторых сквозных отверстий. А именно, второй изолирующий слой с неотображающей областью подвергают травлению межслойных отверстий для получения второго сквозного отверстия с тем, чтобы оголить вторую металлическую линию и обеспечить электрическое соединение проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению после расположения первого сквозного отверстия 106 и второго сквозного отверстия 107, распыления и осаждения слоя 105 электрода пикселя образуют электрод пикселя отображающей области и проводящую линию неотображающей области.
Имеются первое сквозное отверстие и второе сквозное отверстие, следовательно, проводящая линия слоя электродов пикселя электрически соединена с первой металлической линией, и проводящая линия слоя электродов пикселя электрически соединена со второй металлической линией.
Согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения первое сквозное отверстие 106 соответствует двум вторым сквозным отверстиям 107, при этом вторые сквозные отверстия 107 расположены с двух сторон первого сквозного отверстия 106. Однако можно понять, что количество первых сквозных отверстий и вторых сквозных отверстий может быть адаптировано в отношении практических требований. Множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии. Первые сквозные отверстия и вторые сквозные отверстия разнесены, и расстояние промежутка устанавливается согласно практическим требованиям.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению со ссылкой на фиг. 2 подложка матрицы дополнительно содержит схему 110 управления разверткой и схему 109 управления данными. Схема 110 управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию 108, а схема 109 управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию 108.
В итоге множество первых сквозных отверстий и множество вторых сквозных отверстий расположены на неотображающей области. Первые сквозные отверстия используют, чтобы оголить первую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией; вторые сквозные отверстия используют, чтобы оголить вторую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией. Первая металлическая линия электрически соединена со второй металлической линией через проводящую линию. Преимущество данной конструкции заключается в том, что существует множество соединенных точек, добавленных в одной и той же цепи, для обеспечения проводимости между первой металлической линией и второй металлической линией. Следовательно, если один металлический слой неотображающей области прерван, это негативно влияет лишь на небольшую часть цепи с исключением возможности передачи сигналов и не влияет негативно на общую металлическую линию с прерванным металлическим слоем для передачи сигналов. Таким образом, проблема возникновения вертикальных и параллельных световых линий модуля отвода тока может быть эффективно исправлена.
Со ссылкой на фиг. 1 и 2 в варианте осуществления настоящего изобретения раскрывается жидкокристаллическая дисплейная панель. Для удобного описания фиг. 1 и 2 представляют только связанные части настоящего варианта осуществления согласно настоящему изобретению. Жидкокристаллическая дисплейная панель содержит подложку матрицы, подложку светофильтра и жидкокристаллическую ячейку, расположенную между подложкой матрицы и подложкой светофильтра.
Подложка матрицы содержит подложку 100, первый металлический слой 101, первый изолирующий слой 102, второй металлический слой 103, второй изолирующий слой 104 и слой 105 электрода пикселя. Первый металлический слой 101 расположен на подложке 100; первый изолирующий слой 102 расположен на первом металлическом слое 101; второй металлический слой 103 расположен на первом изолирующем слое 102; первый изолирующий слой 102 используется для изолирования первого металлического слоя 101 от второго металлического слоя 103; второй изолирующий слой 104 расположен на втором металлическом слое 103; слой 105 электрода пикселя расположен на втором изолирующем слое 104; второй изолирующий слой 104 используется для изолирования второго металлического слоя 103 от слоя 105 электрода пикселя.
В одном варианте осуществления согласно настоящему изобретению первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии. Множество первых сквозных отверстий 106 и множество соответствующих вторых сквозных отверстий 107 расположены на соединительной линии. Первые сквозные отверстия 106 используют, чтобы оголить первую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией; вторые сквозные отверстия 107 используют, чтобы оголить вторую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией. Первая металлическая линия в первом сквозном отверстии электрически соединена со второй металлической линией во втором сквоз
- 5 032903 ном отверстии через проводящую линию.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению первое сквозное отверстие 106 расположено во втором изолирующем слое, втором металлическом слое и первом изолирующем слое в неотображающей области. Второе сквозное отверстие 107 расположено во втором изолирующем слое в неотображающей области.
Согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения первое сквозное отверстие 106 соответствует двум вторым сквозным отверстиям 107, при этом вторые сквозные отверстия 107 расположены с двух сторон первого сквозного отверстия 106. Множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии. Первые сквозные отверстия 106 и вторые сквозные отверстия 107 разнесены, и расстояние промежутка устанавливается согласно практическим требованиям.
В варианте осуществления согласно настоящему изобретению подложка матрицы дополнительно содержит схему 110 управления разверткой и схему 109 управления данными. Схема 110 управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию 108, а схема 109 управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию 108.
Однако можно понять, что количество первых сквозных отверстий и вторых сквозных отверстий может быть адаптировано в отношении практических требований.
В итоге, для подложки матрицы и жидкокристаллической дисплейной панели согласно настоящему изобретению множество первых сквозных отверстий и множество вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии в неотображающей области. Первые сквозные отверстия используют, чтобы оголить первую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя с первой металлической линией; вторые сквозные отверстия используют, чтобы оголить вторую металлическую линию для обеспечения электрического соединения проводящей линии слоя электродов пикселя со второй металлической линией. Первая металлическая линия электрически соединена со второй металлической линией через проводящую линию. Преимущество данной конструкции заключается в том, что существует множество соединенных точек, добавленных в одной и той же цепи, для обеспечения проводимости между первой металлической линией и второй металлической линией. Следовательно, если один металлический слой неотображающей области прерван, это негативно влияет лишь на небольшую часть цепи с исключением возможности передачи сигналов и не влияет негативно на общую металлическую линию с прерванным металлическим слоем для передачи сигналов. Таким образом, проблема возникновения вертикальных и параллельных световых линий модуля отвода тока может быть эффективно исправлена.
Были представлены или описаны одна или несколько реализаций настоящего изобретения, но специалисты в данной области могут предоставить некоторые эквивалентные варианты и модификации, основанные на понимании технического описания и фигур. Настоящее изобретение включает в себя все эквивалентные варианты и модификации и ограничено лишь формулой изобретения. В частности, касательно различных функций вышеописанных компонентов, значение терминов, описывающих компоненты, соответствует любому элементу (если не указано особо) с точно установленной функцией (например, с эквивалентной функцией) реализованного компонента, даже если конструкция отличается от представленной в примерных вариантах осуществления, изложенных в настоящем техническом описании. Кроме этого, несмотря на то, что в техническом описании раскрыта лишь реализация точно указанного признака, этот точно указанный признак может сочетаться с другими характеристиками, если это предоставит преимущества. Кроме этого, значение терминов включающий в себя, обладающий или других подобных терминов, используемых в подробном описании или формуле изобретения, аналогичны значению слова содержащий.
В заключение, настоящее изобретение было описано на примере предпочтительных вариантов осуществления, но вышеописанные предпочтительные варианты осуществления не предназначены для ограничения настоящего изобретения. Специалисты в данной области могут осуществить много изменений и модификаций описанного варианта осуществления, которые могут быть выполнены без отступления от объема и сущности настоящего изобретения, которое полагается ограниченным лишь прилагаемой формулой изобретения.

Claims (13)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Подложка матрицы, содержащая подложку;
    первый металлический слой, расположенный на подложке, при этом первый металлический слой образован с затвором тонкопленочного транзистора, линией развертки в отображающей области и первой металлической линией в неотображающей области;
    первый изолирующий слой, расположенный на первом металлическом слое, при этом первый изолирующий слой изолирует первый металлический слой от второго металлического слоя;
    - 6 032903 второй металлический слой, расположенный на первом изолирующем слое, при этом второй металлический слой образован с истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области;
    второй изолирующий слой, расположенный на втором металлическом слое, при этом второй изолирующий слой изолирует второй металлический слой от слоя электродов пикселя;
    слой электродов пикселя, расположенный на втором изолирующем слое, при этом слой электродов пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области;
    при этом первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии; первые сквозные отверстия оголяют первую металлическую линию; вторые сквозные отверстия оголяют вторую металлическую линию; первая металлическая линия в первом сквозном отверстии соединена со второй металлической линией в соответствующем втором сквозном отверстии через проводящую линию; первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой, второй металлический слой и первый изолирующий слой в неотображающей области; второе сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой в неотображающей области; каждое первое сквозное отверстие соответствует двум вторым сквозным отверстиям, при этом вторые сквозные отверстия расположены с двух сторон первого сквозного отверстия.
  2. 2. Подложка матрицы по п.1, отличающаяся тем, что подложка матрицы дополнительно содержит схему управления разверткой и схему управления данными, при этом схема управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию, и схема управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию.
  3. 3. Подложка матрицы по п.1, отличающаяся тем, что множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии.
  4. 4. Подложка матрицы, содержащая подложку;
    первый металлический слой, расположенный на подложке, при этом первый металлический слой образован с затвором тонкопленочного транзистора, линией развертки в отображающей области и первой металлической линией в неотображающей области;
    первый изолирующий слой, расположенный на первом металлическом слое, при этом первый изолирующий слой изолирует первый металлический слой от второго металлического слоя;
    второй металлический слой, расположенный на первом изолирующем слое, при этом второй металлический слой образован с истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области;
    второй изолирующий слой, расположенный на втором металлическом слое, при этом второй изолирующий слой изолирует второй металлический слой от слоя электродов пикселя;
    слой электродов пикселя, расположенный на втором изолирующем слое, при этом слой электродов пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области;
    при этом первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии; первые сквозные отверстия оголяют первую металлическую линию; вторые сквозные отверстия оголяют вторую металлическую линию; первая металлическая линия в первом сквозном отверстии соединена со второй металлической линией в соответствующем втором сквозном отверстии через проводящую линию.
  5. 5. Подложка матрицы по п.4, отличающаяся тем, что первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой, второй металлический слой и первый изолирующий слой в неотображающей области; и второе сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой в неотображающей области.
  6. 6. Подложка матрицы по п.4, отличающаяся тем, что каждое первое сквозное отверстие соответствует двум вторым сквозным отверстиям, при этом вторые сквозные отверстия расположены с двух сторон первого сквозного отверстия.
  7. 7. Подложка матрицы по п.4, отличающаяся тем, что подложка матрицы дополнительно содержит схему управления разверткой и схему управления данными, при этом схема управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию, и схема управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию.
  8. 8. Подложка матрицы по п.4, отличающаяся тем, что множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии.
    - 7 032903
  9. 9. Жидкокристаллическая дисплейная панель, содержащая подложку матрицы, подложку светофильтра и жидкокристаллическую ячейку, расположенную между подложкой матрицы и подложкой светофильтра, при этом подложка матрицы содержит подложку;
    первый металлический слой, расположенный на подложке, при этом первый металлический слой образован с затвором тонкопленочного транзистора, линией развертки в отображающей области и первой металлической линией в неотображающей области;
    первый изолирующий слой, расположенный на первом металлическом слое, при этом первый изолирующий слой изолирует первый металлический слой от второго металлического слоя;
    второй металлический слой, расположенный на первом изолирующем слое, при этом второй металлический слой образован с истоком тонкопленочного транзистора, стоком тонкопленочного транзистора, линией передачи данных в отображающей области и второй металлической линией в неотображающей области;
    второй изолирующий слой, расположенный на втором металлическом слое, при этом второй изолирующий слой изолирует второй металлический слой от слоя электродов пикселя;
    слой электродов пикселя, расположенный на втором изолирующем слое, при этом слой электродов пикселя содержит электроды пикселя в отображающей области и проводящую линию в неотображающей области;
    при этом первая металлическая линия, вторая металлическая линия и проводящая линия перекрывают друг друга с образованием соединительной линии, множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий расположены на соединительной линии; первые сквозные отверстия оголяют первую металлическую линию; вторые сквозные отверстия оголяют вторую металлическую линию; первая металлическая линия в первом сквозном отверстии соединена со второй металлической линией в соответствующем втором сквозном отверстии через проводящую линию.
  10. 10. Жидкокристаллическая дисплейная панель по п.9, отличающаяся тем, что первое сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой, второй металлический слой и первый изолирующий слой в неотображающей области; и второе сквозное отверстие проходит во второй изолирующий слой в неотображающей области.
  11. 11. Жидкокристаллическая дисплейная панель по п.9, отличающаяся тем, что каждое первое сквозное отверстие соответствует двум вторым сквозным отверстиям, при этом вторые сквозные отверстия расположены с двух сторон первого сквозного отверстия.
  12. 12. Жидкокристаллическая дисплейная панель по п.9, отличающаяся тем, что подложка матрицы дополнительно содержит схему управления разверткой и схему управления данными, при этом схема управления разверткой электрически соединена с линией развертки через соединительную линию, и схема управления данными электрически соединена с линией передачи данных через соединительную линию.
  13. 13. Жидкокристаллическая дисплейная панель по п.9, отличающаяся тем, что множество первых сквозных отверстий и множество соответствующих вторых сквозных отверстий равномерно расположены на соединительной линии.
EA201791625A 2015-02-11 2015-03-10 Подложка матрицы и жидкокристаллическая дисплейная панель EA032903B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510072465.2A CN104656327B (zh) 2015-02-11 2015-02-11 一种阵列基板及液晶显示面板
PCT/CN2015/073925 WO2016127464A1 (zh) 2015-02-11 2015-03-10 一种阵列基板及液晶显示面板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201791625A1 EA201791625A1 (ru) 2017-11-30
EA032903B1 true EA032903B1 (ru) 2019-07-31

Family

ID=53247644

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201791625A EA032903B1 (ru) 2015-02-11 2015-03-10 Подложка матрицы и жидкокристаллическая дисплейная панель

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP6539743B2 (ru)
KR (1) KR101907079B1 (ru)
CN (1) CN104656327B (ru)
EA (1) EA032903B1 (ru)
GB (1) GB2550762B (ru)
WO (1) WO2016127464A1 (ru)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105785677B (zh) * 2016-05-11 2019-06-07 深圳市华星光电技术有限公司 显示装置及其显示面板、显示面板的制造方法
TWI656461B (zh) 2016-07-31 2019-04-11 矽創電子股份有限公司 觸控顯示裝置
CN106324934A (zh) * 2016-11-08 2017-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 短路棒结构及阵列基板
CN109100896A (zh) * 2018-10-08 2018-12-28 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、显示面板及其显示面板的垂直淡线修复方法
CN109143709A (zh) * 2018-11-09 2019-01-04 信利半导体有限公司 Tft基板及液晶显示装置
CN109872632A (zh) * 2019-03-20 2019-06-11 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板
CN111090201B (zh) 2020-03-22 2020-06-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及电子装置
CN115830995A (zh) * 2022-12-29 2023-03-21 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040126942A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-01 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Data pad region of liquid crystal display panel and fabricating method thereof
CN1560690A (zh) * 2004-02-17 2005-01-05 友达光电股份有限公司 内连线结构及其形成方法
CN101089686A (zh) * 2006-06-16 2007-12-19 Lg.菲利浦Lcd株式会社 显示器件及其制造方法
CN102819995A (zh) * 2011-06-10 2012-12-12 乐金显示有限公司 平板显示装置及其制造方法
CN203275842U (zh) * 2013-06-09 2013-11-06 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及显示装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3716580B2 (ja) * 1997-02-27 2005-11-16 セイコーエプソン株式会社 液晶装置及びその製造方法、並びに投写型表示装置
JP4302347B2 (ja) * 2001-12-18 2009-07-22 シャープ株式会社 薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
JP4082270B2 (ja) * 2003-05-01 2008-04-30 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法
JP4525174B2 (ja) * 2004-05-21 2010-08-18 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置
JP5019834B2 (ja) * 2006-09-26 2012-09-05 インフォビジョン オプトエレクトロニクス ホールデングズ リミティッド 表示装置用基板及び表示装置
JP5221082B2 (ja) * 2007-08-28 2013-06-26 三菱電機株式会社 Ｔｆｔ基板
JP2010169803A (ja) * 2009-01-21 2010-08-05 Seiko Epson Corp 電気光学装置および電子機器
US9190421B2 (en) * 2011-08-18 2015-11-17 Lg Display Co., Ltd. Display device and fabrication method thereof
JP2014149429A (ja) * 2013-02-01 2014-08-21 Japan Display Inc 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040126942A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-01 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Data pad region of liquid crystal display panel and fabricating method thereof
CN1560690A (zh) * 2004-02-17 2005-01-05 友达光电股份有限公司 内连线结构及其形成方法
CN101089686A (zh) * 2006-06-16 2007-12-19 Lg.菲利浦Lcd株式会社 显示器件及其制造方法
CN102819995A (zh) * 2011-06-10 2012-12-12 乐金显示有限公司 平板显示装置及其制造方法
CN203275842U (zh) * 2013-06-09 2013-11-06 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN104656327A (zh) 2015-05-27
EA201791625A1 (ru) 2017-11-30
GB2550762B (en) 2018-11-21
JP6539743B2 (ja) 2019-07-03
WO2016127464A1 (zh) 2016-08-18
KR101907079B1 (ko) 2018-12-05
JP2018506075A (ja) 2018-03-01
GB201712779D0 (en) 2017-09-20
CN104656327B (zh) 2017-09-19
GB2550762A (en) 2017-11-29
KR20170109676A (ko) 2017-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA032903B1 (ru) Подложка матрицы и жидкокристаллическая дисплейная панель
US9470946B2 (en) TFT-LCD array substrate pixel electrode connected to first and second capacitors
CN108803173B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN105159490B (zh) 触控显示面板及其驱动方法和触控显示装置
US10459562B2 (en) Array substrate, display panel, and electronic device
US10615181B2 (en) Array substrate, display panel, manufacturing method, and display device
CN102116982B (zh) 液晶显示面板及其制造方法
US20180294282A1 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, display panel and display device
JP2007079568A (ja) 液晶表示装置
CN104393000A (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
US20170140714A1 (en) Liquid crystal display panel and array substrate
US20160335975A1 (en) Array Substrate and Driving Method Thereof, Display Panel, and Display Apparatus
US9252159B2 (en) Array substrate and fabrication method thereof, and display device
US20170235200A1 (en) Display device and manufacturing method thereof
JP2019504338A (ja) 液晶パネルに用いられるアレイ基板及びその製造方法
US20160246125A1 (en) Array substrate and display device
JP2007199717A (ja) 薄膜トランジスタ表示板及び液晶表示装置
KR20150015608A (ko) 정전기 방전 회로 및 이를 구비한 디스플레이 장치
CN110058465A (zh) 显示面板
US20160062187A1 (en) Touch display panel and fabrication method thereof, and display device
CN105974687B (zh) 一种阵列基板以及液晶显示器
US10578906B2 (en) Display control method and display device
CN106940507B (zh) 阵列基板及其制备方法、显示面板
WO2016107073A1 (zh) 阵列基板及其驱动方法、显示装置
KR102129500B1 (ko) 액정표시패널

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM