EA009436B1 - Сцинтилляционное вещество (варианты) - Google Patents

Сцинтилляционное вещество (варианты) Download PDF

Info

Publication number
EA009436B1
EA009436B1 EA200600835A EA200600835A EA009436B1 EA 009436 B1 EA009436 B1 EA 009436B1 EA 200600835 A EA200600835 A EA 200600835A EA 200600835 A EA200600835 A EA 200600835A EA 009436 B1 EA009436 B1 EA 009436B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
composition
scintillation
crystal
substance
cerium
Prior art date
Application number
EA200600835A
Other languages
English (en)
Other versions
EA200600835A1 (ru
Inventor
Александр Иосифович Загуменный
Сергей Александрович Кутовой
Юрий Дмитриевич Заварцев
Original Assignee
Зекотек Медикэл Системс Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Зекотек Медикэл Системс Инк. filed Critical Зекотек Медикэл Системс Инк.
Publication of EA200600835A1 publication Critical patent/EA200600835A1/ru
Publication of EA009436B1 publication Critical patent/EA009436B1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/16Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/77Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
    • C09K11/7766Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing two or more rare earth metals
    • C09K11/77742Silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/34Silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3201Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3203Lithium oxide or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3208Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3225Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3227Lanthanum oxide or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3229Cerium oxides or oxide-forming salts thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

Изобретение относится к сцинтилляционным материалам и может быть использовано в ядерной физике, медицине и нефтяной промышленности для регистрации и измерения рентгеновского, гамма- и альфа-излучений; неразрушающего контроля структуры твердых тел; трехмерной позитрон-электронной и рентгеновской компьютерной томографии и флюорографии. Сцинтилляционные вещества на основе силиката, содержащего лютеций Lu и церий Се, имеют состав, который выражается химическими формуламиCeLiSiO,CeLiLuASiO,СеLiLu□ASiO,где А - по крайней мере один из элементов группы Gd, Sc, Y, La, Eu, Tb; x - от 1∙10до 0,02 ф.ед., у - от 0,024 до 0,09 ф.ед., z - не более чем 0,05 ф.ед.; q - не более чем 0,2 ф.ед., р - не более чем 0,05 ф.ед.CeLiLuASiО,где z не более чем 8,9 ф.ед. Получаемые сцинтилляционные вещества обладают большой плотностью, высоким световым выходом, малым временем послесвечения и малым процентом потерь при изготовлении сцинтилляционных элементов для трехмерных томографов (PET).

Description

Изобретение относится к сцинтилляционным материалам и может быть использовано в ядерной физике, медицине и нефтяной промышленности для регистрации и измерения рентгеновского, гамма- и альфа-излучений; неразрушающего контроля структуры твердых тел; трехмерной позитрон-электронной компьютерной томографии и рентгеновской компьютерной флюорографии. Актуальность изобретения обусловлена тем, что в флюороскопии, рентгеновской и позитронно-эмиссионной томографии применение новых/улучшенных сцинтилляторов приведет к значительному улучшению качества изображения и/или уменьшению времени экспозиции объекта ('Тпогдашс ксшй11а1огк ίη тейка1 ипащпд йе1ес!огк. Саге1 Ж.Е. уап ЕЦк, Иис1еат 1пк1гитеп1к апй МеШойк ίη Рйуккк Векеагсй А 509 (2003) 17-25).
Известно люминесцентное вещество - порошок оксиортосиликат лютеция с церием Еи1,98Се0,0281О5 (А.С. Сотек, А. Βτίΐ. Ргерагайоп апй Са1йойо1иттексепсе о£ Се3+ ас11уа!ей уИгшт кШсакк апй коте 1кок1гига1 сотраипйк, Ма1. Век. Ви11. Уо1. 4, 1969, рр. 643-650). Этот люминофор был исследован для применения в катодолюминесцентных устройствах. Однако он может быть использован для регистрации рентгеновского, альфа- и гамма-излучений.
Известно сцинтилляционное вещество - кристалл оксиортосиликат лютеция с церием СеЕи2(1-х)81О5, где х изменяется в пределах от 2х10-4 до 3х10-2 (патент США 4958080, 18.09.90). Кристаллы этого состава выращивают из расплава, имеющего состав СеЕи2(1)81О5. В научной литературе для обозначения этого кристалла широко используется сокращенное название Ь8О:Се. Сцинтилляционные кристаллы Се2-хЬц2(1)81О5 имеют ряд преимуществ по сравнению с другими кристаллами: большую плотность, высокий атомный номер, относительно низкий показатель преломления, высокий световой выход, короткое время затухания сцинтилляции. Недостатком известного сцинтилляционного материала является сильный разброс важнейших сцинтилляционных параметров: величины светового выхода и энергетического разрешения. Это ясно демонстрируют экспериментальные результаты систематических измерений (патент США 6413311 от 2.07.2002) коммерческих кристаллов Ь8О:Се, выпускаемых фирмой СТ1 1пс. (КпохуШе, И8А). Другим недостатком является сильное уменьшение светового выхода, если устройство, использующее кристалл Ь8О:Се, должно эксплуатироваться в условиях температуры выше комнатной, например в нефтяной промышленности для анализа состава пород в скважине при поиске новых месторождений. Еще одним недостатком кристаллов Ь8О:Се является эффект термолюминесценции, проявляющийся в длительной люминесценции кристалла после прекращения воздействия на него радиационного воздействия. Для образцов, описанных в патенте США 4958080, уменьшение интенсивности свечения в 2 раза описывается зависимостью с постоянной времени около 10 мин.
Известно сцинтилляционное вещество оксиортосиликат лютеция, содержащее церий, Се:Ьи281О5, существующее в виде прозрачной керамики. Предложенный способ получения сцинтилляционной керамики заключается в том, что в процессе синтеза керамики удаляются поры между частицами порошка Се:Еи281О5, в результате полупрозрачная керамика Се:Еи281О5, имеющая моноклинную структуру, становится прозрачной, пригодной для использования в медицинских томографах (патент США 6498828 от 24.12.2002). Недостатком предложенного патента является то, что сцинтилляционная керамика изготавливается из шихты так называемой стехиометрической композиции окисортосиликата лютеция, которая характеризуется соотношением формульных единиц (Еи+Се)/81, точно равным 2/1. Поскольку конгруэнтная композиция оксиортосиликата лютеция не совпадает со стехиометрической, то в керамике стехиометрического состава обязательно присутствуют не прореагировавшие компоненты окислов, что приводит к образованию центров рассеяния. Наличие центров рассеяния существенно снижает световыход - важнейший параметр сцинтилляционного вещества. Такой же недостаток присущ и сцинтилляционной прозрачной керамике, изготовленной из оксиортосиликата гадолиния с церием (Ж. Воккпег, В. Вгеи. Еиттексепсе ргорейкк сегшт-йорей дайойшит охуоййокШсак сегатк ксшШ1а1огк, Ргос. Ιηΐ. СопТ оп 1погдашс 8стЦ11а1огк апй ТНей Аррйсайоп, 8ΤΙΝΤ'95, №1йег1апйк, Эе1П ищуегкйу, 1996, р. 376379). Сцинтилляционные элементы, изготовленные из прозрачной керамики, имеют на 60% меньший световыход, чем элементы, изготовленные из кристаллов Се:Сй281О5.
Для некоторых применений крайне нежелательно наличие эффекта послесвечения, например в системе получении изображения. При переходе от участка, имеющего гамма-излучение, к участку, не излучающему гамма-излучение, электронная часть прибора будет регистрировать значительный поток фотонов, выходящих из сцинтилляционного кристалла за счет эффекта послесвечения, а, следовательно, это будет снижать контрастность границы, чувствительность и точность прибора. Также послесвечение ухудшает параметры медицинских систем, базирующихся на применении позитрон-излучающих изотопов, например в 3-мерных медицинских томографах (Ти11у-3Э РЕТ сатега) для диагностики раковых заболеваний, и особенно для МкгоРЕТ систем, предназначенных для испытания новых медицинских препаратов. Принцип работы 3-мерных медицинских томографов основан на том, что микроскопические концентрации вещества, содержащие радиоактивный изотоп, излучающий позитрон, вводятся в кровь пациента. Это вещество концентрируется только в раковых клетках пациента. После излучения позитрона он мгновенно аннигилирует с электроном, в результате чего излучаются 2 гамма-кванта с энергией 511 кеУ, разлетающиеся строго в противоположные стороны. В томографе происходит регистрация обоих гамма-квантов с помощью нескольких кольцевых детекторов, каждый из которых содержит сотни отдельных кристаллических сцинтилляционных элементов.
- 1 009436
Высокая плотность Се:Ь8О обеспечивает эффективное поглощение всех гамма-квантов, выходящих из тела обследуемого пациента. На основе времени регистрации обоих квантов и номеров сцинтилляционных элементов, зарегистрировавших эти кванты, производится вычисление области в теле пациента, где находился данный атом радиоактивного изотопа. В теле пациента происходит рассеяние части гаммаквантов за счет эффекта Комптона, в результате их регистрация происходит кристаллическими элементами, которые не расположены на прямой линии. Поэтому если элемент имеет сильное послесвечение, то это может восприниматься регистрирующей системой как результат анигиляции в данный момент, однако, в действительности это есть последствия воздействия гамма-квантов в предыдущий период измерения. В 3-мерных медицинских томографах обычного разрешения используют несколько тысяч сцинтилляционных элементов размером 6x6x30 мм, которые обеспечивают пространственное разрешение объемом 6x6x6=216 мм3. При диагностике раковых заболеваний и использовании толстых элементов сечением 6x6 мм даже сильное послесвечение кристаллов Се:Ь8О не приводит к драматическим последствиям, так как путем введения больших доз радиоактивных веществ или снижением скорости продвижения пациента внутри кольца томографа может быть достигнута необходимая точность регистрации гаммаквантов.
Однако ситуация резко изменяется для МгегоРЕТ, которые используются для изучения процессов жизнедеятельности в живых организмах, в частности в мозге человека, или измерения распределения новых медицинских препаратов по всему телу животных (мышей, крыс), на которых испытывают новые медицинские препараты. В этом случае нужно использовать приборы с максимальным пространственным разрешением. В настоящее время это элементы с сечением 1x1 мм и даже с сечением 0,8x03 мм. Это позволяет достичь пространственной точности 1 мм3. Столь малая толщина элементов приводит к тому, что многочисленные гамма-кванты могут под различными углами пересекать сразу несколько элементов, в результате вычислить, какая часть сцинтилляционного излучения вызвана тем или иным гамма-квантом, представляет собой сложную техническую задачу. В этом случае послесвечение становится крайне нежелательным эффектом, так как катастрофически снижает точность всей системы.
Явление послесвечения и термолюминесценции для кристаллов Се:Ь8О подробно изучено (Р. ЭогепЬок!, С. уаи Е1|ек1, А. Вок1, Ме1скег. АПещ1о\\· апб Шегтойишпексепсе ргорегйек о£ Еи281О5:Се кстй1айоп сгук1а1к, 1. Р11ук. Сопбепк. Майег 6 (1994), рр. 4167-4180). Согласно этой публикации послесвечение наблюдается как в кристаллах с высоким световым выходом, так и низким, и сделан вывод, что явление послесвечения является свойством, присущим Се:Ь8О.
Известно вещество оксиортосиликат гадолиния с церием СеСб2(1-х-у81О5, где А - по крайней мере один элемент из группы Ьа (лантан) и Υ (иттрий), при этом переменные изменяются в пределах 0<х<0,5 и 1ж 10-3<у<0,1 (патент США 4647781, 03.03.1987). Главным недостатком этой группы сцинтилляционных кристаллов является невысокий световой выход в сравнении с оксиортосиликатом лютеция с церием СеЕи2(1)81О5, описанным выше.
Известен метод получения крупных кристаллов ортосиликата лютеция (Се:Ь8О), описанный в патенте США 6413311, в котором методом Чохральского выращены були Се:Ь8О диаметром до 60 мм и длиной 20 см. Существенным недостатком этих Се:Ь8О буль является то, что световой выход сильно различается даже в одной буле и уменьшается на 30-40% от верха були к низу. Кроме того, постоянная времени затухания сцинтилляций (время люминесценции) может изменяться в широком диапазоне значений от 29 до 46 нс, при этом энергетическое разрешение может колебаться в пределах 12-20%. Столь сильный разброс важнейших параметров приводит к тому, что при коммерческом производстве необходимо выращивать методом Чохральского большое количество буль, разрезать их на части, производить тестирование каждого куска, производить отбор на основании результатов тестирования, а затем решать, какие части можно использовать для изготовления сцинтилляционных элементов, которые необходимы для медицинских томографов.
Известны сцинтилляционные кристаллы Еи2(1)Ме812О7, где Ме=Се, 8с, Υ, 1п, Ьа, Об (патент США 6437336), обладающие структурным типом пиросиликата лютеция. Для выращивания этого материала были использованы конгруэнтные составы, которые позволили использовать 80% исходного расплава, и разброс светового выхода не превышал 20% по объему були, и этот коммерческий параметр был значительно лучше, чем у кристалла Се:Ь8О. Однако кристаллы Еи2(1)Ме812О7 значительно проигрывают кристаллу ортосиликата лютеция Ьйе81О5 по важнейшим сцинтилляционным параметрам: плотность и световой выход. Поэтому для трехмерной позитронно-электронной томографии кристалл ортосиликата лютеция Се:Ь8О значительно более предпочтителен, так как позволяет создать более чувствительный томограф, а, следовательно, уменьшить дозы радиоактивных медикаментов, вводимых в кровь пациента при выявлении раковых заболеваний на ранней стадии.
Известно литийсодержащее сцинтилляционное вещество кристалла силиката иттрия с церием, имеющее формулу Р^8Ю4 (М.Е. Глобус, Б.В. Гринев. Неорганические сцинтилляторы, изд. АКТА, Харьков, (2000), стр. 51). Кристалл, легированный 5% Се3+, имеет максимум пика люминесценции при 410 нм, постоянную времени люминесценции, равную 38 нс, и максимальный световой выход при регистрации гамма-излучения около 10000 фотон/МэВ, который в 2,5 раза меньше, чем у известных сцинтил
- 2 009436 ляционных кристаллов ортосиликата лютеция Се2-хЕи2(1)81О5. Низкая эффективность регистрации гамма-излучения обуславливается низкой плотностью, равной всего 3,8 г/см3· Это вещество может использоваться для регистрации излучения нейтронов, однако, оно является малоэффективным для гаммаизлучения·
Известно литийсодержащее сцинтилляционное вещество кристалла силиката лютеция с церием, имеющее формулу ЫЕи81О4 (М.Е. Глобус, Б.В. Гринев. Неорганические сцинтилляторы, изд. АКТА, Харьков, (2000), стр. 51). Кристалл, легированный 1% Се3+, имеет максимум пика люминесценции при 420 нм, постоянную времени люминесценции, равную 42 нс, и максимальный световой выход при регистрации гамма-излучения около 30000 фотон/МэВ, который на 10% больше, чем у известных сцинтилляционных кристаллов ортосиликата лютеция Се2-хЕи2г|-х)81О5. Однако существенным недостатком данного кристалла является малая плотность, равная 5,5 г/см3. Такая низкая плотность не позволяет использовать эти кристаллы в 3-мерных медицинских томографах (Еи11у-3Э РЕТ сатега), и особенно для МктоРЕТ систем, так как важнейшим требованием к сцинтилляционному кристаллу для этих применений является радиационная длина ослабления гамма-излучения (айепиайоп 1епд!к), которая должна быть меньше 1,5 см (\У.М. Мозез, 8.Е. Эегепхо. 8сшШа!отб Гог ровйтоп ет188юп ктодтарку, СопГегепсе 8СЮТ'95, Эе1й, Тйе Ые!кег1апб8 (1995), ЕВЬ-37720). Для кристалла с плотностью 5,5 г/см3 эта величина равна 2,67 см, в то время как для кристалла Се2-хЕи2(1)81О5 с плотностью 7,4 г/см3 радиационная длина составляет 1,14 см.
Кристаллы Се:ЫУ81О4 и Се:Ь1Еи81О4 не могут быть приняты в качестве прототипа для любого из вариантов данного изобретения, поскольку они отличаются как химической формулой, так и кристаллической структурой, которая и определяет плотность кристалла. Высокая плотность кристалла является важнейшим параметром для применений, являющихся целью данного изобретения.
Химические формулы данного изобретения представляют собой многочисленные кристаллы твердых растворов на основе кристалла силиката, включающего церий Се и кристаллизующиеся в моноклинной сингонии, пространственная группа В2/Ь, Ζ=4, и кристаллизующиеся в гексагональной сингонии со структурным типом апатита с пространственной группой Р63/т, Ζ= 1.
Известны кристаллизующиеся в структурном типе апатита-бритолита монокатионный силикат церия Се9,33п0,67(81О4)6О2, где □ - это катионные вакансии (Коровкин А.М., Меркуляева Т.И., Морозова Л.Г., Песчанская И. А., Петров М.В., Савинова И.Р. Оптические и спектрально-люминесцентные свойства кристаллов ортосиликатов лантаноидов. Оптика и спектроскопия, том 58, вып.6, 1985, стр. 12661269), и двойные силикаты церия Ь1Се9(81О4)6О2 [монография Соединения редкоземельных элементов. Силикаты, германаты, фосфаты, арсенаты, ванадаты/И.А. Бондарь, Н.В. Виноградова, Л.Н. Демьянец и др. - М.: Наука, 1983. - с. 288 (Химия редких элементов)]. В кристаллах Се9,33^ 0,6781О6О26 и Ь1Се9816О26 присутствует церий, однако, люминесценция в них полностью потушена, что объясняется концентрационным тушением вследствие высокой концентрации ионов церия. Эти кристаллы совершенно не пригодны для применения в качестве сцинтилляторов. Аналогом вещества, заявленного в пп.16-18 формулы изобретения, является кристалл монокатионного силиката церия Се9,33^0,6781О6О26, поскольку он обладает той же симметрией, а именно Р63/т, Ζ=1, и наиболее близок по составу к веществу вышеуказанных пунктов. Аналогом вещества, заявленного в пп.19-21 данного изобретения, является кристалл двойного силиката церия Ь1Се9816О26, поскольку он обладает той же симметрией Р63/т, Ζ=1, и наиболее близок по составу к вышеуказанным вариантам. Как кристалл Се9,33^о,67816О26, так и кристалл Ь1Се9816О26 не могут быть приняты в качестве прототипов для любого из вариантов сцинтилляционного вещества данного изобретения, поскольку они не являются сцинтилляционным веществом, т. е. не обладают родовым понятием данного изобретения, отражающим назначение.
Компьютерный поиск химических соединений по базе данных Международной Рентгеновской библиотеки (РЭЕ Эа1аЬа8е. 1п!егпабопа1 Сепкт Гог ЭйГтасйоп Эа1а. №\\1оп 8с.|иаге. РА, И.8.А.) показал, что известны индивидуальные химические соединения на основе монокатионных и двойных силикатов, К9,33^0,67(81О4)6О2 и Ь1К.9816О26, соответственно, где К=Ьа, 8т, N6, Об, Се. Однако нам не известны какиелибо патенты или публикации, в которых эти соединения дополнительно легировали бы ионами церия, что необходимо для появления сцинтилляционных свойств. Поэтому соединения В9,33^0,67(81О4)6О2 и Ь1К.9816О26, где К=Ьа, Об или их смесь, следует рассматривать как применение известных веществ по новому назначению.
Наиболее близким аналогом, выбранным в качестве прототипа, для всех вариантов заявленного сцинтилляционного вещества является сцинтилляционное вещество (варианты), запатентованное в патенте России № 2157552 и патенте США 6278832. Химические формулы этого изобретения представляют собой многочисленные кристаллы твердых растворов на основе кристалла оксиортосиликата, включающего церий Се и кристаллизующегося в структурном типе Ьи281О5 с пространственной группой В2/Ь, Ζ=4, состав которых выражается химической формулой СехЫ1А181О5, где А - Ьи и по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Рг, N6, 8т, Ей, ТЬ, Эу, Но, Ег, Тт, УЬ. Другие элементы периодической системы могут присутствовать на уровне примесей в исходных реактивах или введены в состав кристалла в процессе его роста или в результате отжига в специальной атмосфере. Частично аналогичные результаты достигаются в патенте США 6323489. Этот патент защищает кристалл оксиортосиликата лютеция и иттрия с химической формулой СехЕи2-х-2Ух81О5, где 0,05<х<1,95 и 0,001<ζ<0,02. Принципи
- 3 009436 альным недостатком указанных выше изобретений является использование для всех запатентованных сцинтилляционных веществ только одного-единственного молярного соотношения 50% Ьи2О3/50% 8ίΘ2=1 исходных окислов, что точно соответствует стехиометрическому составу Ьи281О5. Для всех смешанных кристаллов, содержащих одновременно несколько редкоземельных ионов, было использовано соотношение 50% смеси различных элементов и 50% 8ίΘ2. Это соотношение не позволяет выращивать крупные коммерческие (диаметром более 80-100 мм) лютецийсодержащие кристаллы методом Чохральского с высокой однородностью сцинтилляционных параметров по всему объему були, которые, кроме того, растрескиваются при распиливании на сцинтиляционные элементы, например, размером 0,8x0,8x10 мм. Другим существенным недостатком указанных сцинтилляционных веществ является наличие кислородных вакансий, которые повышают световой выход и снижают вероятность растрескивания були при распиливании, однако, одновременно в 2-4 раза увеличивают интенсивность послесвечения (термолюминесценции) после прекращения воздействия гамма-излучения на сцинтилляционное вещество.
Другим подтверждением принципиального недостатка состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 50% Ьи2О3/50% 8ίΘ2, является информация, описанная в патенте США 5660627. Этот патент защищает метод изготовления монокристалла ортосиликата лютеция путем выращивания кристалла с плоским фронтом кристаллизации методом Чохральского из расплава, имеющего химическую формулу СеЬи2(1-х)81О5, где 2х10-4<х<6х10-2. Спектры гамма-люминесценции кристаллов, выращенных с коническим фронтом кристаллизации и с плоским фронтом кристаллизации, имеют очень сильные, кардинальные различия по форме и положению максимума. Столь существенные различия связаны с составом исходного расплава, который имеет соотношение основных компонентов 50% Ьи2О3/50% 81О2. Кристалл, растущий из этого расплава, обладает другим составом, причем наблюдается градиент концентрации по поперечному сечению кристалла, и реальное соотношение ионов СеЬи2(1)/81 отличается от соотношения формульных единиц 2/1. Для подтверждения заявленной цели в патенте 5660627 были выращены кристаллы диаметром до 26 мм и скорости выращивания 0,5 и 1 мм/ч, однако, даже при этих очень благоприятных параметрах выращивания кристаллы, выращенные с коническим фронтом, не могут быть использованы для коммерческих применений.
Выращивание кристаллов с плоским фронтом кристаллизации методом Чохральского в течение многих десятилетий используется для коммерческого производства оптических и пьезоэлектрических материалов, что подробно описано в многих сотнях публикаций в журналах и книгах. Хорошо известный коммерческий кристалл ниобата лития (В.Ь. Вуег, ТЕ. Уоиид. Сго\\111 оЕ Нщ11-Оиа1йу ЫЫВО3 С’гуйаЕ Егот 111е СоидгиеШ Мей, 1оигпа1 оЕ Арр1. Рйук. 41, N6, (1970), р. 2320-2325) выращивают методом Чохральского из конгруэнтного расплава Ь10,946№О2,973, имеющего соотношение исходных окислов Ь12О/№2О5=0,946, которое существенно отличается от обычного химического реактива Ь1№О3 с соотношением 50% ЫО/50% №2О5 (Р. Ьетег, С. Ьедгак, I. Эитак. ЗЮее1иоте1пе бек тоНоепйанх бе те1ашоЬа1е бе 1йЫит, 1оигпа1 оЕ Сгуйа1 Сго\\111. 3,4 (1968) р.231-235). Существование нестехиометрических соединений непосредственно связано со структурой реального кристалла, в котором могут быть свободны (вакансии) узлы кристаллической решетки, а в ее междоузлиях могут располагаться избыточные атомы одного из компонентов (Гельд П.В., Сидоренко Ф.А. Зависимость физико-химических свойств нестехиометрических соединений от структуры ближнего порядка, Изв. АН СССР, сер. Неорганические материалы, 1979, т. 15, № 6, стр. 1042-1048). В результате соотношение компонентов, составляющих структуру, не соответствует целочисленным индексам, и химические формулы таких соединений содержат дробные числа. Конгруэнтным называется химический состав, при котором состав расплава и растущего из него кристалла совпадают. Благодаря этому все физические и механические свойства остаются постоянными по всему объему крупных буль, выращенных методом Чохральского. Для некоторых применений предпочтительно использование состава, близкого к стехиометрическому, с соотношением Ь12О/№2О5=1, что является сущностью патента США 6464777В2 от 15.10.2002.
Этот патент наглядно показывает, как небольшие изменения в составе кристалла приводят к существенным изменениям в физических свойствах кристалла, и это является важным для практических применений.
Поиск конгруэнтного состава или состава, очень близкому к нему, является важным этапом в развитии коммерческого производства всех оптических материалов, однако, авторам данного патента не известны публикации в научных журналах или патентах о конгруэнтном (или близким к нему) составе для оксиортосиликата лютеция. Все известные публикации посвящены кристаллам, в которых соотношение формульных единиц (Се+Ьи2(1))/81 точно равно 2/1.
Обобщая вышесказанное, мы можем сделать заключение, что существенным техническим недостатком, присущим как известным сцинтилляционным кристаллам на основе ортосиликата лютеция СехЬи2-х81О5 и кристаллов прототипа, так и способам получения этих кристаллов, является неоднородность оптического качества по длине выращиваемого кристалла, неоднородность основных сцинтилляционных параметров, как по объему кристаллической були, выращенной методом Чохральского, так и от були к буле, выращенных при одинаковых условиях, и, наконец, низкая скорость выращивания. В значительной степени эти недостатки вызваны использованием в методе Чохральского исходного расплава с
- 4 009436 составом, который характеризуется соотношением формульных единиц (Се+Ьи)/81, точно равным 2/1, т.е. причина этих недостатков заключается в неконгруэнтной композиции расплава. При наличии конгруэнтной точки, но при росте из стехиометрического состава расплава коэффициенты распределения как основных компонентов (Ьи, 8ί), так и примеси Се отличаются от единицы, более того, по мере вытягивания кристалла состав кристалла все дальше сдвигается от конгруэнтной точки, что приводит к резкому ухудшению его качества, несмотря на предельно низкую скорость кристаллизации. Коэффициент распределения компонента - это отношение количества компонента в расплаве к количеству компонента в кристалле. Другим общим техническим недостатком сцинтилляционных кристаллов на основе ортосисиликата лютеция являются большие потери кристаллического материала из-за растрескивания, при разрезании крупных буль диаметром 60 мм на пластины толщиной около 1 мм, которые, в свою очередь, разрезаются на стержни, чтобы, например, изготовить элементы размером 1x1x10 мм в количестве несколько десятков тысяч штук, необходимых для изготовления одного томографа.
Сущность изобретения.
Задачей данного изобретения является создание нового сцинтилляционного вещества и способа его получения. Данное изобретение направлено на решение задачи серийного производства методом направленной кристаллизации крупных кристаллических буль сцинтилляционных веществ, обладающих высокой плотностью, высоким световым выходом и однородностью сцинтилляционных параметров при массовом производстве, снижение стоимости готовых сцинтилляционных элементов благодаря малым потерям кристаллического вещества при механической обработке, уменьшение времени и интенсивности послесвечения элементов, использующих оптимальный химический состав кристаллов. Метод Степанова позволяет получать сцинтилляционные вещества в виде кристаллических стержней с заданным размером, в том числе с квадратной формой поперечного сечения, и, следовательно, исключить дорогостоящую операцию распиливания массивного кристалла. Способ получения стинтилляционного вещества в виде полупрозрачной или прозрачной керамики в форме прямоугольных стержней и пластин также позволяет исключить дорогостоящие потери стинтилляционного вещества на этапе распиливания кристаллической були. Таким образом, данное изобретение представляет собой группу изобретений и обеспечивает получение нескольких технических результатов на основании различных вариантов сцинтилляционных веществ, как кристаллов, так и керамики, имеющих высокую плотность и представляющих собой редкоземельные силикаты с различными химическими формулами.
Технической задачей, решаемой предлагаемой группой изобретений, является получение высокого светового выхода люминесценции по всему объему крупных кристаллических буль, выращенных методом направленной кристаллизации, в частности методами Киропулоса и Чохральского, а также обеспечение воспроизводимости сцинтилляционных свойств выращиваемых монокристаллов при массовом коммерческом производстве.
Первой технической задачей в конкретных формах является состав сцинтилляционного вещества, имеющего интенсивность и время послесвечения меньшее, чем у известных кристаллов ортосиликата лютеция при наличии высокого световыхода, сравнимого со световыходом ортосиликата лютеция.
Второй технической задачей в конкретных формах реализации является малый процент потерь ценного сцинтилляционного вещества из-за растрескивания при распиливании и изготовлении сцинтилляционных элементов для трехмерных позитрон-излучающих томографов (РЕТ). В частности, для медицинских приборов со сверхвысоким пространственным разрешением, например для микротомографов, регистрирующих излучение позитрон-излучающих изотопов, находящихся в живых биологических объектах (ΜίοτοΡΕΤ), необходим размер элементов 1x1x20 мм3 или 0,8x0,8x10 мм3.
Третьей технической задачей в конкретных формах является способ выращивания сцинтилляционных монокристаллов методом направленной кристаллизации. Термин направленная кристаллизация обозначает любой метод получения единичного монокристалла, в том числе метод Чохральского, метод Киропулоса, метод Бриджмена и другие известные методы.
Решение указанных задач осуществляется на основе десяти вариантов веществ, охватываемых общими структурными типами и химическими формулами, и способом получения этих веществ.
Вариант № 1.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, новым в первом варианте данного изобретения является то, что состав вещества в виде монокристалла выражается химической формулой СехЕи2-2у-\3||-уС5-у.
х - от 1x10^ до 0,02 ф.ед.; у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.
Технической задачей в конкретных формах реализации для первого варианта выступает сцинтилляционное вещество, отличающееся тем, оно имеет вид монокристалла, имеющего состав, который выражается химической формулой СехТИ2,076-х510,962°5,038, х - от 1x10^ до 0,02 ф.ед.
- 5 009436
Другой технической задачей для первого варианта является способ получения сцинтилляционного монокристалла, новым в способе получения сцинтилляционного монокристалла является то, что выращивание монокристалла направленной кристаллизацией производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Еи203+Се203)/48,1%8102.
Конкретными формами реализации данной технической задачи, способа получения сцинтилляционного монокристалла, является выращивание монокристалла методом Чохральского и выращивание кристалла методом Киропулоса, новым в данном способе является то, что выращивание монокристалла методом Чохральского, а также методом Киропулоса производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи203+Се2О3)/48,1% 8ί02=1,079, это так называемый конгруэнтный состав. Только при таком соотношении окислов состав выращенного кристалла равен составу расплава, это обстоятельство позволяет выращивать кристаллы, более однородные по составу и по физическим характеристикам, чем кристаллы, выращенные из расплава стехиометрического состава 50% (Ьи203+Се2О3)/50% 8102. Выращивание кристаллов из расплава конгруэнтного состава позволяет использовать более 80% расплава, что существенно удешевляет себестоимость сцинтилляционных элементов.
Вариант № 2.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, во втором варианте данного изобретения новым является то, что вещество имеет состав, который выражается химической формулой Сеx2+2у-x-ζΑζ8^1-уΟ5+у, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.; ζ - от 1х 10-4 до 0,05 ф.ед.
Технической задачей в конкретных формах реализации для второго варианта выступает сцинтилляционное вещество, отличающееся тем, что оно имеет вид монокристалла, имеющего состав, который выражается химической формулой СехЬи2,076-х- ζΑζ8ΐ0 ,962Ο5,038, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.; ζ - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
Уточненной технической задачей в конкретных формах выполнения для второго варианта является сцинтилляционное вещество, отличающееся тем, что оно имеет вид монокристалла, имеющего состав, который выражается химической формулой Сеx2,076-x-т-ηтΥη8^0,962Ο5,038, х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
т - не более чем 0,05 ф.ед.;
п - от 1 х 10-4 до 2,0 ф.ед.
Другой технической задачей для второго варианта является способ получения сцинтилляционного монокристалла, новым в способе получения сцинтилляционного монокристалла является то, что выращивание монокристалла направленной кристаллизацией производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2032О3+Се203)/48,1% 8102, где А - по крайней мере один из элементов группы 66, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ.
Конкретными формами реализации данной технической задачи, способа получения сцинтилляционного монокристалла, является выращивание монокристалла методом Чохральского и выращивание кристалла методом Киропулоса, новым в данном способе получения является то, что выращивание монокристалла методом Чохральского, а также методом Киропулоса производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2032О3+Се2О3)/48,1% 8102, где А - по крайней мере один из элементов группы 66, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ.
Вариант № 3.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в третьем варианте данного изобретения новым является то, что вещество содержит литий Ь1 в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., и состав выражается химической формулой СехЫр+рЬи2 -р+2у-x81-уΟ5+у-р, х - от 1х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.;
с.| - от 1 х 10-4 до 0,2 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
Технической задачей в конкретных формах реализации для третьего варианта является сцинтилляционное вещество, отличающееся тем, что оно имеет вид монокристалла, содержащего литий в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., и имеющего состав, который выражается химической формулой
- 6 009436 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
х 10-4 до 0,05 ф.ед.;
х 10-4 до 0,2 ф.ед.;
х 10-4 до 0,05 ф.ед.
СехЕ1р+рЕи2,076-р-х810,962О5,0з8-р.
х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,2 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
Другой технической задачей для третьего варианта является способ получения сцинтилляционного монокристалла, новым в способе получения сцинтилляционного монокристалла является то, что выращивание монокристалла направленной кристаллизацией производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ъи2Оз+Е12О+Се2Оз)/48,1% 81О2.
Вариант № 4.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в четвертом варианте данного изобретения новым является то, что вещество содержит литий Ь1 в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., и состав выражается химической формулой
ССχ^^^+ρ^и2-ρ+2у-x-ζΑζδ^1-уО5+у-ρ, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.;
ζ - от 1х 10-4 до 0,05 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,2 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
Технической задачей в конкретных формах реализации для четвертого варианта является сцинтилляционное вещество, отличающееся тем, что оно имеет вид монокристалла, содержащего литий в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., и имеющего состав, который выражается химической формулой
ССχ^^^+ρ^и2,076-ρ-x-ζΑζ8^0,962О5,038-ρ, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от ζ - от д - от р - от
Другой технической задачей для четвертого варианта является способ получения сцинтилляционного монокристалла, новым в способе получения сцинтилляционного монокристалла является то, что выращивание монокристалла направленной кристаллизацией производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Еи2Оз+Ь12О+А2Оз+Се2Оз)/48,1% 81О2.
Вариант № 5.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в пятом варианте данного изобретения новым является то, что состав вещества выражается химической формулой
СехЬи9,зз-х □ 0/г816О26.
х - от 1 х 10-4 до 0,1 ф.ед.
Вариант № 6.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в шестом варианте данного изобретения новым является то, что оно содержит литий Ь1 и состав вещества выражается химической формулой Се,1.1.1 б Α.Ο .ρ .
х - от1х10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,з ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,25 ф.ед.
Вариант № 7.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в седьмом варианте данного изобретения новым является то, что оно содержит литий и состав вещества выражается химической формулой Сеx^^^+р^и9,з3-χ-р-ζ□ο,67Αζ8^6О26-р, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 х 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,з ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,25 ф.ед.;
ζ - от 1 х 10-4 до 8,9 ф.ед.
Вариант № 8.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в восьмом варианте данного изобретения новым является то, что оно содержит литий Ь1 в количестве од
- 7 009436 ной формульной единицы и состав вещества выражается химической формулой
СехЬ1Ьи9.х81бО2б, х - от 1 х 10-4 до 0,1 ф.ед.
Вариант № 9.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в девятом варианте данного изобретения новым является то, что оно содержит литий Ы в количестве более одной формульной единицы и состав вещества выражается химической формулой
Се,Т1|.1ТРЕ119-,-Р 8О2б-|,· х - от 1 х 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,3 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,25 ф.ед.
Вариант № 10.
Известное сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, в десятом варианте данного изобретения новым является то, что оно содержит литий Ь1 в количестве более одной формульной единицы и состав вещества выражается химической формулой
ΕοΛΙι.^ρΕτίρ-,-ρ-ζΑζ^^Λ,-,,.
где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 х 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,3 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,25 ф.ед.;
ζ - от 1 х 10-4 до 8,9 ф.ед.
Для всех перечисленных вариантов наличие ионов церия Се3+ является обязательным признаком, так как сцинтилляция под действием гамма- и рентгеновских излучений связана с люминесценцией в результате перехода 5б^2Е5/2 в ионе Се3+. Причем для всех вариантов веществ максимум люминесценции в ионе Се3+ укладывается в диапазон синего излучения 410-450 нм. Этот диапазон является оптимальным для регистрации излучения с помощью как фотоэлектронных умножителей, так и полупроводниковых приемников излучения. Для этого диапазона используют обычные, коммерческие фотоэлек тронные умножители излучения с входным окном, изготовленным из дешевого стекла, что снижает стоимость медицинского прибора в сравнении с сцинтилляционными кристаллами, имеющими пик излучения в ультрафиолетовой области спектра. Также отличительным признаком для всех вариантом является высокий квантовый выход люминесценции ионов церия для кристаллов с химическими формулами, указанными ранее. Квантовый выход (5-9%) отражает соотношение энергии гамма-кванта, которая преобразуется в излучение ионов Се3+ и потерянной энергии, перешедшей в тепловую энергию колебания атомов решетки (91-95%). Важнейший сцинтилляционный параметр - световой выход связан - напрямую с концентрацией ионов церия Се3+ в веществе (кристалле). Для всех вариантов нижняя граница концентрации ионов церия принята равной 1х 10-4 ф.ед., так как при ней наблюдается синяя люминесценция, и можно говорить о наличии эффекта сцинтилляции, но использовать можно только для качественного определения наличия ионизирующего излучения (гамма, рентгеновское), однако, столь малые концентрации невозможно использовать в реальных технических и медицинских устройствах. Для практического применения необходимы кристаллы с более высокими концентрациями ионов церия, которые имеют значительно больший световой выход. С другой стороны, очень высокие концентрации ионов церия приводят к нескольким негативным результатам. Во-первых, выращивание кристаллов с высокими концен трациями приводит к ухудшению оптического качества кристаллов и появлению центров рассеяния света. Во-вторых, происходит уменьшение светового выхода как из-за качества кристалла, так и в результате уменьшения квантовой эффективности, когда соседние ионы церия начинают взаимодействовать друг с другом, эффект концентрационного тушения люминесценции. Поэтому верхний предел установлен 0,02 ф.ед. для всех кристаллов, кристаллизующихся в моноклинной сингонии, структурный тип СехЬи2-х81О5 с пространственной группой В2/Ь, Ζ=4. Для веществ СехЬп9,33-хп0,б7 и СехЬ!Ьп9-х81О, кристаллизующихся в гексагональной сингонии, структурный тип апатита с пространственной группой Рб3/т, Ζ=1, установлен предел 0,1 ф.ед. Эти пределы определены экспериментально. При их превышении в процессе роста кристалла происходит образование многочисленных центров рассеяния света и, следовательно, применение данных дефектных кристаллов в медицинских и технических приборах невозможно.
Для вариантов №№ 1-4 важным общим отличительным признаком является соотношение редкозе мельных ионов и ионов кремния в химическом составе кристалла, а именно то, что состав, характеризуемый соотношением формульных единиц (Ьи2-х+2у+Сех)/811 и (Ьи^^+Се^АД^ь^ отличается от соотношения 2/1, которое обязательно равно точно 2, для всех ранее известных сцинтилляционных веществ на основе ортосиликатов. Для кристаллов данного изобретения соотношения формульных единиц (Ьиг-х-^+Сех)^^ и (^и2-x+2у-ζ+Сеxζ)8^!-у изменяются в пределах от 2,077 до 2,39б, что соответствует молярному соотношению окислов редкоземельных ионов к ионам кремния, равному 51,2% (Ьи2О3+Се2О3+А2О3)/48,8% 81О2=1,049 и 54,5% (Ьи2О3+Се2О3+А2О3)/45,5% 81О2=1,198, соответственно. Этим значениям соответствуют составы веществ СехЬигч-гАй-А-^, СехЬг12.2У-;..:-?А?.8||О5.у.
- 8 009436
СехЬ1ч+рЬи2+2у-х-г-рА2811.уО5+у-р, для которых переменная у изменяется в пределах от 0,024 до 0,09 ф.ед. Указанные значения нами были экспериментально измерены с помощью коммерческого прибора для электронного микроанализа (Сатеса СатеЬах 8Х-50, работавший при 20 кВ, 50 мА и диаметре пучка 10 мкм, точность определения состава в формульных единицах составила ±0,003 ф.ед., в мольных процентах ±0,15 мол.%) на механически отполированных образцах кристаллов, выращенных из расплавов методом направленной кристаллизации, имевших соотношение (Ьи2-х+Сех)/81 и (Ъи2.х.у+Сех2)/81 в пределах от 1,77 до 2,44. На основании рентгенофазовых исследований и измерения температуры плавления серии порошкообразных составов, авторами данного патента была получена часть фазовой диаграммы состояния для области существования оксиортосиликата лютеция в системе Ьи2О3-81О2, которая иллюстрирует процесс изменения состава кристаллов твердых растворов на основе оксиортосиликата лютеция (фаза 8) в зависимости от состава исходной шихты (фиг. 1). В сооотвествии с традиционными обозначениями на этой диаграмме для обозначения жидкой фазы используется символ Ь. Максимум температуры плавления твердых растворов 8 соответствует составу на диаграмме состояния в молярных процентах 51,9% Ьи2О3+48,1% 81О2. Область существования фазы 8 окружают поля двухфазового равновесия Ь+8, Ьи2О3+8 и 8+Ьи2812О7.
Диаграмма (фиг. 1) была уточнена для квазиравновесных условий кристаллизации при выращивании кристаллов из расплавов с различным химическим составом. Сравнение состава исходного расплава, который задается при взвешивании реактивов, а также измеренного состава кристалла, выращенного из этого расплава, и с учетом температуры расплава при выращивании кристалла показало, что кристаллизация происходит в соответствии с линиями ликвидуса и солидуса, показанными на фиг. 1. Выращивание кристаллов осуществлялось в условиях малых температурных градиентов и при скоростях вытягивания кристаллов ~0,3 мм/ч, что обеспечивало достижение эффективных коэффициентов распределения ионов Ьи3+ и 8ί4+ между расплавом и растущим из него кристаллом в условиях, близких к равновесным.
Линии ликвидуса и солидуса на фиг. 1 демонстрируют, что кристаллы оксиортосиликата лютеция могут иметь составы, характеризуемые различным соотношением исходных окислов Ьи2О3 и 81О2, а именно в диапазоне в мол.% 44,5-50,5% для 81О2 и 55,5-49,5% для Ьи2О3. Однако с практической точки зрения, интерес представляет не весь указанный диапазон, и это демонстрируют три состава расплава, обозначенных стрелками с номерами 1, 2 и 3. Стрелка 1 обозначает состав исходного расплава с содержанием основных компонентов, равным 50% Ьи2О3+50% 81О2. Следует акцентировать, что состав кристалла, растущего из этого расплава, имеет соотношение основных компонентов менее (50,9% Ьи2О3/49,1% 81О2)=1,037. Для того, чтобы вырастить кристалл состава с соотношением основных компонентов, точно равным (50% Ьи2О3/50% 81О2)=1, нужно использовать расплав, состав шихты которого обозначен стрелкой 2, т.е. соотношение основных компонентов в расплаве примерно равно (46% Ьи2О3+54% 81О2)=0,852.
Оптимальным составом шихты для выращивания качественного сцинтилляционного кристалла в условиях малых градиентов температуры (большой диаметр тигля) является состав, обозначенный стрелкой 3. В этом случае коэффициенты распределения основных компонентов равны единице, и состав шихты расплава совпадает с составом растущего кристалла, и оба имеют содержание основных компонентов, характеризуемых молярным соотношением (51,9% Ьи2О3+48,1% 81О2)=1,079.
Таким образом, фиг. 1. показывает однозначное решение технической задачи в конкретных формах выполнения первого варианта, описывающего сцинтилляционное вещество для выращивания сверхкрупных монокристаллов методом Киропулоса, а также выращивание крупных кристаллов методом Чохральского, используя оптимальный состав исходных окислов с молярным соотношением 51,9% (Ъи2О3+Се2О3)/48,1% 81О2, при этом составы шихты расплава и выращенного кристалла совпадают и выражаются химической формулой Сеx^и2,076-x8^0,962О5,038, х - от 1 х 10-4 до 0,01 ф.ед.
В конкретных формах реализации сцинтилляционное вещество, заявленное в вариантах с первого по четвертый включительно, реализуется в виде как поликристалла/керамики, так и в виде монокристалла.
Способ приготовления керамики методом горячего прессования, например сцинтилляционной керамики Ой2О(81О4):Се, описан, например, в публикации ^. Воспет, В. Вгеи. Ьитшексепсе рторетйек сепит-йорей дайоНшит охуоПолНсЛе сетатю кстШкНогя, Ргос. Ιπΐ. С’опГ. оп 1потдашс 8с1п(Н1а(ог5 апй Тйей ЛррНсайоп, 8ΤΙΝΤ'95, №111ег1апйй5. Эе1П Ишуегайу, 1996, р. 376-379).
В другом способе приготовления керамики-сцинтиллятора высокого оптического качества в качестве исходных материалов для приготовления шихты используются водные растворы хлоридов Ьи, А (где А - по крайней мере один из элементов группы Ой, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ), Се и жидкость 81С14. В смесь указанных компонентов добавляется водный раствор гидрокарбоната аммония. Затем раствор промывается, фильтруется и высушивается. После кальцинирования при температуре 1400°С полученная смесь оксидов перемешивается с добавлением растворителя и легкоплавких добавок, способствующих диффузии атомов на границах зерен в процессе заключительного высокотемпературного отжига. В качестве добавок могут быть использованы многочисленные соединения, которые не влияют на люминесценцию
- 9 009436 ионов церия Се3+. После удаления органических компонентов и следов воды производится прессование модифицированной добавками шихты в гидростатическом прессе при давлении около 2000 атм. Затем в течение нескольких часов спрессованные керамические заготовки (прямоугольной или другой формы) отжигали в вакууме при температурах на 70-150°С ниже температуры плавления данного керамического состава. С целью устранения центров окраски и улучшения оптического качества на заключительном этапе заготовки должны отжигаться в кислородсодержащей атмосфере. Таким образом, получают керамику-сцинтиллятор полупрозрачную и высокого оптического качества. Керамическое сцинтилляционное вещество обладает рядом преимуществ по сравнению с монокристаллами: существенное удешевление технологии производства сцинтилляторов; повышенный выход годного материала (отсутствие трещин); из-за толщины алмазной пилы нет 20-50% потерь дорогостоящих кристаллических веществ для тонких элементов; равномерное распределение примесных ионов Се по объему поликристалла; сокращение времени проведения процесса производства; придание любой желаемой формы изделию.
В конкретных формах реализации для получения сцинтилляционного вещества в виде монокристалла используется метод направленной кристаллизации. Новым в предлагаемом в данном изобретении способе получения сцинтилляционного вещества методом направленной кристаллизации является то, что выращивание монокристаллов направленной кристаллизацией производится из расплавов, приготовленных из шихты конгруэнтных составов, которые характеризуются молярным соотношением окислов 51,9% (Ъи2О3+Се2О3)/48,1% 8ίΘ2 для варианта № 1, 51,9% (Ьи2О32О3+Се2О3)/48,1% 8ίΘ2 для варианта № 2, 51,9% (Ти2О3+Ь12О+Се2О3)/48,1% 81О2 для варианта № 3 и 51,9% (Ти2О3+Ь12О+А2О3+Се2О3)/48,1% 81О2 для варианта № 4.
Конкретные особенности и параметры выращивание монокристаллов редкоземельных силикатов стехиометрического состава методом направленной кристаллизации, в частности методом Чохральского, приведены в статье С.Э. Вгапб1е, АЗ. Уа1епбпо, СЛУ. Вегк51ге55ег. С’/ос11га15к| дгоМй о£ гаге-еагИ ог11ю5111са1е5 (Еп25), I. Сгу§1а1 Сго\\111 79 (1986), рр. 308-315. В данной публикации отношение диаметра кристалла (б) к диаметру тигля (Ό) имеет величину б/Э=0,4, которое соответствует оптимальному для метода Чохральского. Также оптимальным для метода Чохральского является применение тигля, у которого высота (Н) равна его диаметру (Ό=Η).
Низкие температурные градиенты являются принципиальной особенностью выращивания крупных кристаллов (диаметром 80-150 мм) методом направленной кристаллизации, в частности методом Киропулуса, из иридиевых тиглей диаметром 100-180 мм, при этом оптимальное отношение диаметра кристалла (б) к диаметру тигля (Ό) имеет величину 6/Ό=0,7-0,9. Метод Киропулуса широко используется для коммерческого выращивания массивных кристаллов сапфира (А12О3), а также для некоторых щелочно-галоидных сцинтилляционных кристаллов. Однако авторам данного патента не известны публикации о выращивании редкоземельных силикатов методом Киропулуса. Методика и отличительные признаки метода Киропулуса и метода Чохральского подробно описаны в книге К.Т. Вильке. Выращивание кристаллов, Л.: Недра, 1977, 600 с., перевод с немецкого: νοη К.Т1. \УПке. Кп51а117исЫипдеп, УЕВ ЭеШсНег Уег1ад бег У155еп5сйайеп, Вегйп (1973).
Схема выращивания методом (способом) Киропулуса сцинтилляционных веществ по вариантам №№ 1-4 представлена на фиг. 2 и 3. Выращивание кристаллов осуществляется из иридиевого тигля 4, в качестве затравочного кристалла 5 используется кристалл силиката лютеция большого поперечного сечения, который обеспечивает надежное начало роста кристалла в условиях низких градиентов температуры и сильного светового нагрева с верхней части боковой поверхности тигля. В начале процесса роста расплав занимает только часть объема тигля, и оптимальной является высота расплава Нт. После начала процесса роста кристалла производится разращивание кристалла в виде конуса 6, и затем происходит выращивание кристалла 7 с постоянным диаметром. На фиг. 2 представлена схема процесса, когда происходит использование 100% исходного вещества для выращивания кристалла. На фиг. 3 представлена схема процесса, когда происходит использование 70-90% исходного вещества для выращивания кристалла, и в результате в тигле остается небольшое количество вещества 9. Оптимальные величины для диаметра тигля (Ό), его высоты (Н), начального уровня расплава в тигле (Нт), диаметра кристалла (б) и длины цилиндрической части кристалла (1) задаются соотношениями
1=Н+у, где у «0,1 Ό, (б/Э)«0,7-0,9, НХбГО)2!.
Оптимальное соотношение (б/Э)«0,8 обеспечивает нахождение выращенного кристалла внутри тигля в процессе снижения температуры, что является чрезвычайно важным для равномерного снижения температуры по всему объему крупной були в процессе после ростового отжига. Такое расположение кристалла относительно тигля является принципиальным отличием метода Киропулоса от метода Чохральского, в котором выращенный кристалл находится над тиглем в процессе снижения температуры после отрыва кристалла от расплава. Различное положение кристалла приводит к тому, что в методе Чохральского кристалл охлаждается в условиях, при которых верх кристаллической були имеет все вре
- 10 009436 мя температуру значительно более низкую, чем нижняя часть кристалла, расположенная вблизи горячего тигля. Это приводит к различному содержанию кислородных вакансий и соотношению ионов Се3+/Се4+ по длине кристалла, что и является одной из дополнительных причин, почему у сцинтилляционных кристаллов ортосиликата лютеция, выращенных методом Чохральского, наблюдается сильный разброс параметров от були к буле. Все були, выращенные методом Чохральского, имеют какие-то различия в свойствах по длине и по диаметру кристаллов, а это в сочетании с отжигом в градиенте температуры приводит к значительному разбросу параметров сцинтилляционных элементов, изготовленных из различных частей були.
Напротив, как демонстрируют фиг. 2 и 3, при отжиге всей були внутри тигля достигаются низкие температурные градиенты в процессе отжига выращенного кристалла. Практически, такой метод получения позволяет охлаждать кристаллы в условиях, близких к изотермическим, когда в любой момент времени все части кристаллической були находятся приблизительно при одной и той же температуре. Это является основой достижения постоянства светового выхода во всех частях крупного кристалла, выращенного методом Киропулоса.
Выбор нижнего и верхнего значения диапазона соотношения исходных окислов Ьи2О3 и 81О2 для вариантов веществ №№ 1-4 также иллюстрирует фиг. 1. Нижняя граница по лютецию количества ингредиентов в кристалле задается молярным соотношением окислов 51,2% (Ьи2О3+Се2О3)/48,8% 81О2=1,049, которому в химической формуле сцинтилляционного вещества соответствует значение переменной у=0,024. Нижняя граница определяется точностью химических и физических методов экспериментального измерения количества лютеция и кремния в кристалле. Эта точность позволяет однозначно различить химические составы веществ (кристаллов) данного изобретения от известных сцинтилляционных кристаллов ортосиликата лютеция с соотношением 50% (Ьи2О3+Се2О3)/50% 81О2.
Верхняя граница по лютецию количества ингредиентов в кристалле задается молярным соотношением окислов 54,5% (Ьи2О3+Се2О3)/45,5% 81О2=1,198, которому в химической формуле вещества соответствует значение переменной у=0,09. Эта граница определена экспериментально. В случае дальнейшего увеличения содержания Ьи2О3 в исходном расплаве и, следовательно, в кристалле начинают появляться центры рассеяния света, что снижает световой выход, и в результате технический результат данного изобретения не достигается. После пересчета нижней и верхней границы для первых четырех вариантов диапазон составов можно определить через соотношение формульных единиц (Ьи2-х+Сех)/81 и (Ьи2-х-у+Сех2)/81, которое изменяется в пределах от 2,077 до 2,396. Этим значениям соответствуют составы в виде химических формул веществ Се,1.И;.;..,81.О,.... СеЛ .и.;.., ;А..81.О,.... Се,Г|рГи-.;..,/А/8|.О,...,. для которых переменная у изменяется в пределах от 0,024 до 0,09 ф.ед.
Следует обратить особое внимание на составы кристаллов твердых растворов на основе оксиортосиликата лютеция, находящиеся на фиг. 1 с правой стороны от максимума их плавления. Это область, с правой стороны ограниченная максимальной растворимостью 81О2, соответствует составу твердых растворов с молярным соотношением 49,5% Ьи2О3/50,5% 81О2=0,980, а левая граница, имеющая значение 50,9% Ьи2О3/49,1% 81О2=1,037, определяется составом расплава 50% Ьи2О3+50% 81О2, фиг. 1. Определим, какие составы кристаллов можно вырастить методом направленной кристаллизации из расплава, приготовленного из шихты стехиометрического состава 50% Ьи2О3/50% 8Ю2=1,000, обозначен стрелкой 1 на фиг. 1. В зависимости от особенностей технологии, а именно от тепловых условий выращивания, градиентов температуры на фронте кристаллизации, которые, в первую очередь, определяются диаметром кристалла, коэффициенты распределения компонентов могут изменяться от 1 до равновесных значений, которые, в свою очередь, определяются в соответствии с диаграммой состояния, фиг. 1. В результате из шихты стехиометрического состава 50% Ьи2О3+50% 81О2 можно вырастить кристаллы, составы которых будут находиться в диапазоне с нижней границей отношения компонент более 49,5% Ьи2О3/50,5% 81О2=0,980 и верхней границей отношения компонент менее значения 50,9% Ьи2О3/49,1% 81О2=1,037, что в формульных единицах соответствует диапазону значений, в котором у больше чем (-0,01±0,003) ф.ед., но меньше чем 0,018±0,003 ф.ед. Данный диапазон составов кристаллов не запатентован в известных патентах. Однако он не может быть объектом нового изобретения, так как кристаллы, имеющие состав в данном диапазоне, попадают под понятие существующий уровень техники. Эти кристаллы не обеспечивают улучшения технических параметров в сравнении с известными веществами. Выращивание кристаллов ортосиликата лютеция в этом диапазоне требует применения состава расплава, который сильно отличается от состава растущего из него кристалла. Поэтому кристаллы в этом диапазоне могут представлять какой-то интерес для научных исследований, однако, подобные кристаллы будут иметь существенное изменение химического состава по длине, а также чрезвычайно сильное изменение всех физических и сцинтилляционных параметров как по длине, так и по диаметру кристаллов, поскольку коэффициенты распределения кремния и лютеция отличаются от единицы. В связи с этим коммерческий выпуск кристаллов подобного состава не представляет интереса - процент выхода годных сцинтилляционных элементов низкий, себестоимость продукции крайне высокая.
В сцинтилляционном веществе, описанном в вариантах №№ 2, 4, 7 и 10, возможно изоморфное замещение в кристалле ионов лютеция по крайней мере на один из ионов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ, причем замещение может осуществляться в диапазоне значительно более широком, чем указано в дан
- 11 009436 ном изобретении. Однако принципиальным недостатком значительного расширения диапазона замещения ионов лютеция на все указанные ионы является то, что это приводит к сильному уменьшению плотности кристалла, а, следовательно, к резкому снижению эффективности поглощения гамма-квантов, и как результат - снижению светового выхода. Кроме того, ионы Ей, ТЬ снижают интенсивность люминесценции в синей области спектра за счет перераспределения части энергии, которая излучается в красной области спектра для европия и в зеленой части спектра для тербия. В случае оптимально подобранных концентраций ионов церия, тербия и европия спектр излучения сцинтилляционного кристалла занимает весь диапазон видимого света и представляет собой белый свет. Сцинтилляционные вещества с таким спектром излучения более эффективно работают с полупроводниковыми приемниками, так как дешевые кремневые/германиевые полупроводниковые приемники имеют чувствительность в 2-3 раза ниже для голубой области спектра в сравнении с зеленой и тем более с красной областью спектра. Оптически не активные ионы Об, 8с, Υ, Ьа позволяют управлять параметром кристаллической решетки и тем самым выращивать кристаллы без механических напряжений, уменьшая растрескивание кристалла в процессе его послеростового отжига и при распиливании. Кроме того, частичное замещение дорогостоящего лютеция на дешевые Ьа, Об, Υ снижает стоимость сцинтилляционного вещества.
Ионные радиусы Υ(1,016 А), Ьа (1,190 А), Ей (1,073 А), Об (1,061 А), ТЬ (1,044 А) существенно больше ионного радиуса Ьи (0,72 А). При взаимодействии гамма-кванта с решеткой происходит образование огромного количества свободных электронов и дырок, откуда эти электроны были выбиты гаммаквантом. В результате последующей рекомбинации электронов с дырками происходит возбуждение решетки, и эта энергия передается ионам церия, которые излучают в синей области спектра. Особенно эффективна рекомбинация на оптических центрах, где рядом находятся атомы с сильно различающимися радиусами. Например, замещение части ионов лютеция на ионы лантана, имеющего значительно больший диаметр, приводит к резкому увеличению светового выхода, что будет в дальнейшем доказано на примерах конкретных веществ, подтверждающих данное изобретение. Для того, чтобы рекомбинации электрон-дырка были максимально эффективны, необходимо применение небольших концентраций изоморфно замещающих примесей. При больших концентрациях начинается концентрационное тушение и эффективность снижается, что приводит к уменьшению светового выхода. На основе вышесказанного и экспериментальных данных нами был выбран диапазон переменной ζ от 1 х 10-4 до 0.05 ф.ед. для вариантов веществ СехЕи^.х^А^Ц-уО^у и СехЕ1ч+рЕщ-р+2у-х-^811О5+у-р, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ. Однако этот диапазон может быть существенно расширен для элементов Υ и Ьа, для которых при больших концентрациях сохраняется увеличенный световой выход, несмотря на то, что плотность кристаллов при этом уменьшается. Поэтому технической задачей в конкретных формах выполнения является сцинтилляционное вещество СехБи2.0-6-х-т-мБатУ||8|0.962О5.03х. в котором значение переменной т не превышает 0,05 ф.ед., а диапазон η составляет от 1х 10-4 до 2 ф.ед.
Для веществ седьмого и десятого вариантов с общей формулой СехЕ1ч+рЕи9,33-х-рю0,67А^16О26-р и СехЕ11+ч+рЕи9-х-р-^816О26-р, соответственно, установлен диапазон ζ от 5х10-4 до 8,9 ф.ед. Для сохранения высокой плотности и высокого светового выхода предпочтительны небольшие концентрации, как указано выше. Однако верхний предел установлен на значение 8,9 ф.ед., в этом случае кристаллы имеют значительно меньшую плотность и световой выход при резком уменьшении стоимости исходных реактивов, а, следовательно, стоимости кристалла. Такие кристаллы могут представлять интерес для использования в датчиках на атомных электростанциях, где важными параметрами являются высокая радиационная и химическая стойкость в сочетании с низкой ценой. Подобные датчики должны быть в каждом помещении, чтобы можно было определить уровень радиации без присутствия человека. Существующие датчики на основе щелочно-галоидных кристаллов являются ненадежными, так как не могут работать в условиях высокого уровня радиоактивности, которые возможны в случае аварийных ситуаций.
Для вариантов № 3 и № 4 важным общим отличительным признаком является наличие в сцинтилляционном веществе на основе силиката ионов лития в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., причем литий в количестве с.| ф.ед. находится в междоузлиях кристаллической структуры, другая часть ионов лития в количестве р ф.ед. находится в узлах решетки, замещая ионы лютеция. Положительный эффект при внедрении ионов лития в междоузлия структуры достигается в результате того, что:
(а) внедрение сопровождается минимальными изменениями кристаллической структуры вещества;
(б) внедрение ионов лития приводит к образованию восстановленных фаз ЫцСе, т.е. наличие ионов лития в сцинтилляционных веществах СехЕ1ч+рЕи2-р+2у-х811О5+у-р и СехЕ1ч+рЕи2-р+2у-х-^811О5+у-р способствует стабилизации ионов церия в состоянии Се3+, что существенно увеличивает световыход;
(в) внедрение ионов лития приводит к изменению проводимости (А.А. Вешман, К.И. Петров. Функциональные неорганические соединения лития, М.: Энергоиздат, (1996), 208 стр.), что уменьшает время послесвечения вещества, таблица ниже.
Для № 3 и № 4 вариантов веществ нижние границы р и с.| содержания ионов лития приняты равными 1х 10-4 ф. ед., так как это предельное содержание лития, при котором можно наблюдать эффект увеличения световыхода и снижения послевысвечивания сцинтилляции. Верхний предел содержания ионов лития в сцинтилляционном веществе определяется экспериментально, при суммарном содержании ионов
- 12 009436 лития, превышающем 0,25 ф.ед., интенсивность световыхода резко падает вследствие того, что чрезмерно растет проводимость вещества, и это сцинтилляционное вещество не пригодно для применения в промышленных целях, таблица ниже.
Все сцинтилляционные вещества на основе силиката, заявленные с первого по четвертый варианты включительно, относятся к моноклинной сингонии, пространственная группа В2/Ь. Сцинтилляционные вещества на основе силиката, заявленные в вариантах с пятого по десятый включительно, принадлежат к другому структурному типу - апатита-бритолита, пространственная группа Р63/т, Ζ=1. Вещества, заявленные в вариантах № 6 и № 7, имеют важный общий отличительный признак, а именно они содержат литий, суммарный (р+с|) верхний предел содержания которого достигает 0,55 ф.ед. Верхний предел с.| (где д означает количество внедряемого лития, т.е. лития, внедряемого в междоузлия кристаллической решетки) до 0,3 ф.ед. определен экспериментально. При внедрении лития в количестве более 0,3 ф.ед. интенсивность световыхода падает, вещество не пригодно для применения в промышленных целях. Выбор верхнего предела замещения литием редкоземельного иона р (где р означает количество лития, который замещает редкоземельный ион) до 0,25 ф.ед. обусловлен тем, что апатитоподобная структура сохра няется при замещении атомов редкоземельных ионов атомами лития только в крупных девятивершинниках, допускающих искажение и отклонение от идеальной симметрии. При этом вторая позиция в семивершинниках всегда остается за редкоземельными элементами. Нижние границы р и с.| содержания ионов лития приняты равными 1х10-4 ф.ед., так как это предельное содержание лития, при котором можно наблюдать эффект увеличения световыхода и снижения послевысвечивания сцинтилляции.
В вариантах № 9 и № 10 верхний диапазон содержания лития установлен до 1,55 ф.ед., поскольку апатито-бритолитовая матрица остается устойчивой при широких замещениях первой позиции ионами лития. Замещение большого количества основообразующих ионов церия литием и лютецием как в монокатионном, так и в двойном цериевых силикатах со структурой апатита-бритолита, являющихся аналогами, позволяет уменьшить эффект тушения люминесценции церия, и новое вещество приобретает сцинтилляционные свойства.
Наши экспериментальные исследования показали, что кристаллы СехЬЖ.9-х816026 и Β9,33π 0,6756026, где К=Ьа, Об, выращенные методом Чохральского, имеют высокое оптическое качество, однако, значительно уступают кристаллам ортосиликата лютеция как по плотности, так и по световому выходу. С целью улучшения важнейших сцинтилляционных параметров нами были проведены процессы выращивания следующих кристаллов: Се -,1.1С1б;.8,1.И6 8160;6: Се Л.11.а;.8,1.1|68160;6: (ϋ -,Ι.ιΟιίΙ,.χ,Ι.ιιΝιΟ.Ο;..: Се0,015^^^и8,9858^6Ο26, СС975Е1х45ЕиХ7.:'358|6026· Се0.0|5Е|0.|20б2.9Х5Еи6.3зО0.678|6026· Се0,015Е10,33ЕИ1 ;9χ5Ε116.3θ0.678ί6Ο26· Се0 ,015С10,25Сб2,985Си6,28П 0,67 §16026, Се0,011 Ь10, 25Υ6 ,989ЬИ2,23П0,67§16025,9, Се0,011Е10,35 ¥3,989Еа0,9Еи3,33П0,67816025,9, Се0,012Ь10,05Ьа3,988Ьи5,33п0,67§16026. Многочисленные эксперименты в различных режимах выращивания позволили получить эти вещества лишь в виде поликристаллов. Тестирование поликристалла состава Се0,015Т1Ьи8,985816026 показало, что это новое сцинтилляционное вещество имеет близкие параметры по плотности, световому выходу и постоянной времени сцинтилляций с известным кристаллом Се:Ь80.
Для определения границ составов сцинтилляционных веществ по вариантам № 6 и № 7, которые можно вырастить в виде монокристалла, нами были испытаны вещества, имеющие исходный состав расплава Се0,012Е10,1Еи5,3зЕа3,988п 0,67816026: Се0,012Е10,2Еи2,33Еа6,988 п0,67816026: Се0,012Е10,1Еи5,33Еа3,988п0,67816026: Се0,015Е10,45Еи2,115Об7п 0,67816025,8: Се0,015Е10,1Еи7,31У2п0,67816025,95: Се0,015Е10,28Еи7,815ЕИ1,5С0,67816026. Все эти составы были получены в виде монокристаллов, или полупрозрачных, или белых непрозрачных поликристаллических слитков. Например, использование расплава с химическим составом Се0,015Ы0,55Еи1,065Еа8п0,67816025,75 и скорости вытягивания растущего кристалла 2,5 мм/ч позволяет вырастить из этого расплава кристалл с химическим составом Се0,003Ы0,55Еи1,327Еа8п0,67816026. Увеличение скорости вытягивания и градиентов на фронте кристаллизации позволяет получать новые кристаллические сцинтилляционные вещества в диапазоне составов от Се0,003Ы0,55Еи1,077Еа8п0,67816025,75 до Се0,015Ы0,55Еи1,065Еа8п0,67816025,75. В обобщенном виде это новое сцинтилляционное вещество (варианты № 6 и № 7) имеет следующую химическую формулу СехЫч+рЕи9,33-х-р-2А2п0,67816026-р, где переменные с.| и р не более чем 0,3 и 0,25 ф.ед., соответственно, ζ изменяется в пределах от 5х10-4 до 8,9 ф.ед.
Для определения границ составов сцинтилляционных веществ по вариантам № 9 и № 10, которые можно вырастить в виде монокристалла, нами были испытаны вещества, имеющие исходный состав расплава Се0,015Е1Еа8,985816026: Се0,015Е1155Еи8,7358160 25,75: Се0,015Е11,05Еи8,985816026: Се0,015Е11,3Еи1,785Еа7816025,8: Се0,015Ы1,4Еи6,885¥2816025,9: Се0,015Ы1,2Еи2,885Сб6816025,9. Все эти составы были получены в виде монокристаллов, или полупрозрачных, или белых непрозрачных поликристаллических слитков. Например, использование расплава с химическим составом Се0,015ЫЕи8,985816026 и скорости вытягивания растущего кристалла 0,5 мм/ч позволяет вырастить из этого расплава монокристалл с химическим составом Се0,003Ь1Еи8,997816026. Увеличение скорости вытягивания и градиентов на фронте кристаллизации позволяет получать новые кристаллические сцинтилляционные вещества в диапазоне составов от Се0,003ЫЕи8,997816026 до Се0,015Ь11,55 Ьи8,7358160 25,75. В обобщенном виде это новое сцинтилляционное вещество (варианты № 9 и № 10) имеет следующую химическую формулу: СехЬ11+ч+рЬи9.х.р.^8Ю26.р, переменные с.| и р не более чем 0,3 и 0,25 ф.ед., соответственно, ζ изменяется в пределах от 5х10-4 до 8,9 ф.ед.
- 13 009436
Мы провели рентгенографическое изучение измельченных в порошок кристаллических образцов СехЬ1ч+рЕи9-х-р81бО2б-р на рентгеновском дифрактометре. В результате анализа полученных дифрактограмм показано, что монокристаллы СехЬ1ч+рЬи9-х-р81бО2б-р кристаллизуются в гексагональной сингонии и могут быть отнесены к структурному типу апатита-бритолита ЫТи9[81О4]бО2 с пространственной группой Рб3/т, Ζ=1. Индицированная дифрактограмма кристалла Сеи.ии3ЫЬих,99-8|бО представлена на фиг. 4. Используя все 35 рефлексов от плоскостей на углах отражения 2Θ в диапазоне от 15 до б0° нами были рассчитаны параметры кристаллической ячейки, которые составили а=11,бб А и с=21,58 А.
Экспериментальное определение плотности кристаллов осуществлялось по стандартной методике путем гидростатического взвешивания, этот метод многие десятилетия используется в геологии. В этих экспериментах мы использовали крупные образцы весом 8-15 г с гладкой полированной поверхностью. Измерения проводили в дистиллированной воде, предварительно прокипяченной в течение 20 мин для удаления кислорода, а затем охлажденной до комнатной температуры. Температуру воды контролировали с точностью 0,1°С. Принимался ряд мер для обеспечения минимальных погрешностей при взвешивании образцов. Каждый образец взвешивался 5 раз, в этом случае ошибка определения плотности кристаллических образцов не превышала 0,001 г/см3. Результаты измерений представлены в таблице ниже.
Экспериментальное исследование зависимости постоянной времени затухания сцинтилляций (τ, нс) и светового выхода в области 410-450 нм в зависимости от химического состава кристаллов осуществляли, используя излучение радионуклида б0Со аналогично методике, описанной в |Е.С. Иеуйкт, ν.Α. Κοζίον, 8.Уи. Ροϊαδίιον. Α.Ι. Ζадитеηηу^, Уи.И. ΖαναΠ^ν. Ьиттексеи! ргорегйек οί Ьи3А15О12 сгуйа1 бореб \νί(1ι Се. Ргосеебшд οί 1и!ета!юиа1 СоиЕегеисек 'Тиогдашс 5стб11а1ог5 аиб 1Не1г аррНсабоик (8С1ИТ'95), Ие1й, 11ге ИеШебаибк, Аид. 20-1 8ер. 1995]. Результаты измерений представлены в таблице ниже.
Измерение интенсивности и времени послесвечения осуществляли на образцах весом 8-15 г с гладкой полированной поверхностью. Интенсивность и длительность послесвечения эталонного образца после воздействия гамма-лучей и ультрафиолетового облучения были одинаковыми. Поэтому при систематических измерениях использовалась установка с УФ-возбуждением. Люминесценцию образцов возбуждали стандартной ультрафиолетовой лампой мощностью 12 Вт в течение б0 мин, после выключения лампы снижение интенсивности остаточной флюоресценции в течение 120 мин регистрировалось с помощью фотоумножителя ФЭУ-100 или фотоприемника ФД-24К, подключенных к осциллографу Тек!гопгх ТИ8 3052 и мультиметру Адбеи! 34401А, соединенных с компьютером. Изменение интенсивности образцов с сильным послесвечением хорошо описывается экспоненциальной зависимостью, в которой интенсивность уменьшается в 2,72 раза с постоянной времени около 25-35 мин, эти образцы сохраняли значительную флюоресценцию более 180 мин. Образцы с низким послесвечением описываются зависимостью с постоянной времени в несколько десятков секунд. После выключения лампы для некоторых образцов эффект послесвечения не наблюдался. Результаты тестирования образцов на эффект послесвечения представлены в таблице ниже.
Сущность предлагаемых технических решений иллюстрируется следующим графическим материалом.
Фиг. 1 - участок фазовой диаграммы в системе ЬиО3-81О2.
Фиг. 2 - схема оптимальных размеров кристалла и тигля для выращивания кристаллов методом Киропулоса.
Фиг. 3 - схема выращивания кристаллов методом Киропулоса для кристаллизации только части расплава.
Фиг. 4 - дифрактограмма кристалла Се0,003Т11,08Ьи8,94781бО25,95.
Все кристаллы, выращенные и изученные в ходе работ над данным патентом, были выращены из иридиевых тиглей при использовании особо чистых химических реактивов с содержанием основного вещества 99,99 и 99,999%.
Пример 1. Выращивание известного эталонного кристалла Се:Ьи281О5, для которого отношение Ьи/81=2, а также выращивание кристалла с отношением (Ьи+Се)/81=2,0б1 (у=0,015), которое находится вне диапазона составов варианта № 1 данного изобретения.
В связи с сильным разбросом параметров данного кристалла в различных публикациях за наиболее достоверные данные могут быть приняты параметры коммерческих кристаллов Се:Ьи281О5. Наибольший световой выход демонстрируют кристаллы, имеющие концентрацию ионов церия, равную 0,12 ат.% (или около 0,002 ф.ед.). Эти кристаллы имеют химическую формулу Се0,002Еи1,99881О5. Приняв во внимание коэффициент распределения ионов церия между расплавом и растущим кристаллом, равным примерно к=0,2, в тигель следует загружать исходный материал с концентрацией церия, равной примерно 0,б ат.% (или в формульных единицах 0,012 ф.ед.). Соотношение исходных оксидов Ьи2О3 и 81О2 должно рассчитываться исходя из особенностей метода направленной кристаллизации (метод Чохральского, метод Степанова, метод Бриджмена или любой другой метод направленной кристаллизации). Нами были выращены эталонные кристаллы Се:Ьи281О5 методом Чохральского в условиях высоких градиентов температуры (эксперимент 1) и в условиях низких градиентов температуры (эксперименты 2 и 3).
Эксперимент 1 (неравновесные условия, состав шихты 50% (Ьи2О3+Се2О3)/50% 81О2).
Выращивание кристалла осуществляли из иридиевого тигля диаметром 40 мм с незначительным тепловым утеплением в защитной атмосфере аргона (100 об.% Аг), со скоростью роста 3,5 мм/ч и часто
- 14 009436 той вращении 15 об./мин. Исходная шихта, из расплава которой рос кристалл, имела химический состав Се0,012ЬИ1,99881О5. В этих условиях вырос кристалл диаметром 16 мм и длиной 54 мм, который в верхней части були не содержал центров рассеяния света и был бесцветным, в нижней части були кристалл треснул. С помощью коммерческого прибора для электронного микроанализа было измерено содержание церия, лютеция и кремния в кристалле. Химический состав в верхней конусной части полученного кристалла выражается формулой Се0,002Ьи1,99881О5, для которой отношение (Ьи+Се)/81 точно равно 2, что возможно только при условиях кристаллизации, далеких от равновесных. Однако в нижней части кристалла отношение (Ьи+Се)/81 стало меньше 2. Для изготовления эталона использовали только верхнюю конусную часть були. Параметры эталонного кристалла приведены в таблице ниже.
Эксперимент 2 (равновесные условия, состав шихты 50% (Ьи2О3+Се2О3)/50% 81О2).
Выращивание кристалла осуществляли из иридиевого тигля диаметром 40 мм с хорошим тепловым утеплением в защитной атмосфере аргона (99,5 об.% Аг+0,5 об.% О2), скоростью роста 2 мм/ч и частотой вращения 15 об./мин. Состав исходной шихты имел химический состав Се0,012ЬИ1,99881О5. В этих условиях был выращен кристалл диаметром 18 мм и длиной 45 мм, который не содержал центров рассеяния света и был бесцветным. С помощью коммерческого прибора для электронного микроанализа было измерено содержания церия, лютеция и кремния в кристалле. Химический состав верхней части полученного кристалла отражает формула Се0,003Ьи2,027810,985О5,015, для которой отношение (Ьи+Се)/81=2,061. Для низа кристалла обнаружена более высокая концентрация церия и отношение менее чем (Ьи+Се)/81=2,061. Очевидно, что это кристалл не может быть использован в качестве эталона, так как его состав отличается от состава известных кристаллов Ьи2-хСех81О5.
Эксперимент 3 (состав шихты 46% (Ьи2О3+Се2О3)/54% 81О2).
Выращивание кристалла осуществляли из иридиевого тигля диаметром 40 мм с хорошим тепловым утеплением в защитной атмосфере (99,5 об.% Аг+0,5 об.% О2), скоростью роста 2 мм/ч и частотой вращения 15 об./мин. В соответствии со стрелкой 2 на фиг. 1 следует использовать исходный состав 46% (Ьи2О3+Се2О3)/54% 81О2, которому соответствует расплав с химическим составом Се0,012ЬИ1,828 811,080О4,920. В этих условиях был выращен кристалл длиной 52 мм и диаметром 16 мм, который был бесцветным, однако, содержал центры рассеяния света, количество которых увеличивалось к низу були. С помощью коммерческого прибора для электронного микроанализа было измерено содержания церия, лютеция и кремния в верхней части выращенного кристалла. Химический состав полученного кристалла лежит в диапазоне от Се0,0022Ьи1,997§11,0О5 (верх були) до Се0,0028Ьи1,968§11,010О4,98 (низ були).
Сравнение сцинтилляционных параметров двух образцов, полученных в экспериментах 1 и 3, показало, что они имеют примерно одинаковый световой выход при гамма-возбуждении, и оба образца демонстрируют приблизительно одинаковое время люминесценции (затухания сцинтилляций) τ=43 нс.
Пример 2.
Подтверждением изобретения в конкретных формах выполнения как способа получения сцинтилляционного вещества для вариантов №№ 1-4 выступает сцинтилляционное вещество, оптимальное для выращивания крупных монокристаллов методом Киропулоса, в качестве шихты использовался оптимальный состав исходных окислов с молярным соотношением 51,9% (Се2О3+Ьи2О32О3+Ь12О)/48,1% 81О2, при этом состав расплава и кристалла выражается химической формулой СехЫч+рЬи2,076-р-х-2А2810,962О5,038-р, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ, х находится в диапазоне от 1 ж 10-4 до 0,02 ф.ед., ζ не более чем 0,05 ф.ед., с.|+р не более чем 0,025 ф.ед.
На автоматизированной установке с системой взвешивания кристалла выращивание кристалла диаметром 78 мм осуществляли из иридиевого тигля внутренним диаметром 96 мм и высотой 112 мм, окруженного оптимальным тепловым утеплением. Заполнение тигля смесью исходных реактивов и выращивание кристалла осуществлялось в проточной защитной атмосфере (99,7 об.% Ν2+0,3 об.% О2). Начальная загрузка тигля исходными реактивами составляла 4400 г. Состав исходной шихты имел химический состав СехЬи2,076-х810,962О5,038, т.е. характеризовался молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2О3+Се2О3)/48,1% 81О2. В качестве затравочного кристалла использовался монокристаллический стержень сечением 12ж 12 мм2. Скорость роста кристаллической були на различных этапах изменялась от 1 до 8 мм/ч. Разращивание конической части кристалла от затравки до диаметра 78 мм происходило на длине от 5 до 25 мм, после чего выращивалась цилиндрическая часть постоянного диаметра. Процесс роста заканчивался путем увеличения скорости вытягивания, после того как масса кристалла достигла 90% от массы загрузки. Момент отрыва фронта кристаллизации от дна тигля с остатками расплава фиксировался системой взвешивания кристалла. Отжиг кристалла производили, снижая температуру до комнатной в течение 30 ч. В этих условиях был выращен кристалл весом 3910 г и длиной 12,5 см. Благодаря такой технологии в тигле практически не остается расплава, который обычно при затвердевании вызывает раздувание иридиевого тигля. Эффект раздувания тигля наблюдается, если расплав при охлаждении занимает более 20% от объема тигля. Раздувание тиглей резко снижает время эксплуатации чрезвычайно дорогих иридиевых тиглей, а, следовательно, сильно увеличивает стоимость кристаллических буль.
Полученная буля была использована для измерения процента потерь кристаллического вещества при распиливании на тонкие элементы и отбраковки на промежуточных этапах вследствие наличия ско
- 15 009436 лов или разламывания на части. Второй вид потерь образуется за счет толщины пила от алмазной пилы, однако, они всегда точно известны, так как их легко рассчитать, поэтому в данном примере они не рас сматриваются.
Распиливание були на пластины диаметром 78 мм и толщиной 11 мм осуществлялось алмазной пилой с внутренней режущей кромкой и диском толщиной 0,6 мм. После этой операции были получены 9 пластин, которые не содержали трещин или сколов. Для этого этапа потери составили 0%. На втором этапе полученные пластины были распилены в перпендикулярном направлении на пластины толщиной 1 мм при помощи алмазной пилы с внутренней режущей кромкой и диском толщиной 0,2 мм. Для этого этапа потери за счет растрескивания составили ~1%. На следующем этапе пластины были склеены вместе и распилены на стержни размером 1x1x11 мм3. На данном этапе потери составили примерно 3%. На заключительном этапе стержни склеивались в блоки, каждый из которых содержал примерно 30x30 стрежней, и осуществлялась механическая полировка одного или обоих торцов сцинтилляционных элементов. На этом этапе потери не превышали 0,1%. Таким образом, общие потери из-за растрескивания составили около 4%.
Для сравнения из тигля диаметром 100 мм и высотой 100 мм был выращен методом Чохральского известный кристалл Се:Ьи281О5 диаметром 50 мм и длиной 105 мм из расплава с исходным химическим составом Се0,012ЬИ1,99881О5. При распиливании були на пластины диаметром 50 мм и толщиной 11 мм из 8 отрезанных пластин 3 пластины имели волнообразные трещины. При изготовлении стержней размером 1x1x10 мм3 с одним отполированным торцом общие потери кристаллического вещества, из-за наличия сколов и растрескивания на части, составили примерно 32%.
По такой же технологической схеме выращивали и распиливали кристаллы составов СехЬ10,08Ьи2,026x8^0,962О5,008-ρ, Се,ЕЛ0.02Еи2.0-2-х810.9Х2О:у034· Се;,Еи2.0б6-х-/Еа0.9628|0.962О5.038· Τ'Ο,ΤίΓ,ρ,ί,-νΥ 0.0.18|0.9162О5.038· СсТЫ.п·· . (ΥΥ Υ)...., Се,1.1.1.11; .ТЬ.81;О;.88. с различным содержанием церия х - от 1x10’4 до 0,02 ф.ед.
Химические составы расплавов, предложенных в данном изобретении, и выращивание кристалла методом Киропулоса позволяют резко сократить потери монокристаллического сцинтилляционного вещества на этапе распиливания крупных кристаллических буль.
Пример 3.
Способ получения сцинтилляционного вещества в виде сцинтилляционной керамики на основе силиката лантана и лютеция, отличающийся тем, что в качестве исходных материалов для приготовления шихты используются водные растворы хлоридов Ьи, Ьа, Се и жидкость 81С14, смесь приготовлена из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ти2О3+Ьа2О3+Се2О3)/48,1% 81О2. В смесь указанных компонентов добавляется водный раствор гидрокарбоната аммония. Затем раствор промывается, фильтруется и высушивается. После кальцинирования при температуре 1400°С полученная смесь оксидов перемешивается с добавлением растворителя и легкоплавких добавок, способствующих диффузии атомов на границах зерен в процессе заключительного высокотемпературного отжига. В качестве добавок могут быть использованы многочисленные соединения, которые не влияют на люминесценцию ионов церия Се3+. Наши исследования показали, что малые добавки ионов Ы, Ыа, К, С§, Ве, В, Ρ, А1, 8, С1, Ζη, 8с, Са, Се, 8е, Вг, Ιη, δη, I не приводят к уменьшению светового выхода сцинтилляционной керамики. Небольшие добавки ионов Мд, Р, Са, Τι, V, Сг, Μη, Ре, Со, Μι, А§, 8г, Ζγ, ЫЬ, Мо, Сб, 8Ь, Ва, НТ, Та, У, РЬ, В1 снижают или полностью подавляют люминесценцию церия. Добавки соединения лития, например Ь1С1, Ь12СеР6, Ь12СеО3, Ь13ВО3, способствуют получению сцинтилляционной керамики высокого оптического качества. После удаления органических компонентов и следов воды возможны два способа синтеза керамики.
Первый способ.
Шихта с добавками Ь12СеО3, Ь13ВО3 помещается в капсулу из тонкой платиновой жести, откачивается вакуумным насосом, и отверстие заваривается на газовой горелке. Затем осуществляется синтез керамики в капсуле, которая находилась в массивной пресс-форме, под давлением до 1000 атм и температуре 1300°С в течение 2 ч.
Второй способ.
Шихта с добавками Ь1С1, Ь12СеР6, Ь12СеО3, Ь13ВО3 прессовалась в гидростатическом прессе с давлением 2000 атм. Затем в течение нескольких часов спрессованные керамические заготовки (прямоугольной или другой формы) отжигали в вакууме при температуре 1700-1840°С. С целью устранения фиоле товых центров окраски и улучшения оптического качества на заключительном этапе заготовки отжигали на воздухе при температуре 1300°С в течение 24 ч. В результате этих операций получали готовое изделие из сцинтилляционной керамики, покрытой тонким белым слоем со всех сторон. Полировка одной грани керамического изделия дает сразу готовый сцинтилляционный элемент с белым отражающим покрытием со всех других сторон. Элементы, изготовленные по этой технологии, могут применяться в рентгеновской компьютерной флюорографии.
Пример 4.
Сцинтилляционное вещество на основе силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся
- 16 009436 тем, что состав вещества в виде монокристалла выражается химической формулой СехЬи2+2у-х-^81105, где А - по крайней мере один из элементов группы 66, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ, х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед., у - от 0,024 до 0,09 ф.ед., ζ - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
При выращивании методом Чохральского кристалла ортосиликата лютеция-тербия-церия с химическим составом Се0,002Ьи2,044ТЬ0,03810,962 05,038 использовали исходные реактивы (Ьи203, ТЬ203, СеО2, 8102) чистотой 99,995%. Выращивание кристалла осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 54 мм и высотой 54 мм содержащего расплав состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи203+Се2О3+ТЬ203)/48,1% 8102. Скорость вытягивания составляла 3 мм/ч, частота вращения 15 об./мин. Процесс кристаллизации производился в защитной атмосфере аргона (99,5 об.% Аг+0,5 об.% О2). Кристалл диаметром 26 мм и длиной цилиндрической части 55 мм имел высокое оптическое качество и не содержал центров рассеяния света. Полированные образцы из этого кристалла были использованы для измерения параметров, которые представлены в таблице ниже.
Выращивание методом Чохральского кристалла ортосиликата лютеция-лантана-церия с химическим составом Ьц2,1Ьао,02Се0,0015810,9405,06 осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 36 мм и высотой 38 мм, содержащего расплав состава, характеризуемый молярным соотношением окислов 51,9% (Ьц203+Се2О3+Ьа203)/48,1% 8102. Скорость вытягивания составляла 3 мм/ч и частота вращения - 10 об./мин. Процесс кристаллизации производился в защитной атмосфере аргона (99,5 об.% Аг+0,5 об.% О2). Кристалл диаметром 17 мм и длиной цилиндрической части 20 мм имел высокое оптическое качество и не содержал центров рассеяния света. Полированные образцы из этого кристалла были использованы для измерения параметров, которые представлены в таблице ниже. Аналогичные условия выращивания кристаллов были использованы при получении большинства экспериментальных образцов, параметры которых представлены в таблице ниже.
Пример 5.
Подтверждением изобретения в конкретных формах выполнения по варианту № 2 данного изобретения является сцинтилляционное вещество в виде монокристалла, который имеет состав Се^ц^о^Ьа^^ЦэйОзда, где х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед., т - не более чем 0,05 ф.ед., п - от 1х 10-4 до 2,0 ф.ед.
Выращивание методом Чохральского кристалла ортосиликата лютеция-иттрия-лантана-церия с химическим составом Се0,002Ьи1,32^0,7Ьа0,05810,96205,038 осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 36 мм и высотой 38 мм со скоростью вытягивания 3 мм/ч и частотой вращения 15 об./мин. Процесс кристаллизации производился из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (^и2Ο32Ο3+Се2О3+^а2Ο3)/48,1% 8102 в защитной атмосфере аргона (99,5 об.% Аг+0,5 об.% О2). Кристалл диаметром 16 мм и длиной цилиндрической части 60 мм был бесцветным и не имел трещин в ходе его выращивания, однако, в период 24-часового охлаждения в средней части кристалла появились трещины. Верхняя часть кристалла не содержала центров рассеяния света, однако, в нижней части були присутствовали многочисленные центры рассеяния света. Образец из верхней части кристалла продемонстрировал при гамма-возбуждении световой выход в 1,3 раза более высокий, чем эталонный образец Се0,0024Ьи1,9988105, методика изготовления которого описана в примере № 1.
Пример 6.
Сцинтилляционное вещество, содержащее литий по вариантам № 3 и № 4 данного изобретения, имеет состав, который выражается химической формулой СехЬ1ч+рЬи2-р+2у-х-^81105+у-р, где х - от 1х 10-4 до 0,02 ф.ед., у - от 0,024 до 0,09 ф.ед., с.| - от 1х 10-4 до 0,2 ф.ед., р - от 1х 10-4 до 0,05 ф.ед., ζ - не более чем 0,05 ф.ед.
Для получения монокристалла Се0,003Ь10,005Ьи2,049Ьа0,02810,96205,038 использовали следующий способ получения образцов: исходные реактивы оксид лютеция, оксид кремния и карбонат лития состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи203+Ь120+Се203203)/48,1% 8102 тщательно перемешивали, прессовали в таблетки и синтезировали в платиновом тигле в течение 10 ч при 1250°С. Затем посредством индукционного нагрева таблетки расплавляли в иридиевом тигле в герметичной камере в защитной атмосфере (99,7 об.% Ν2+0,3 об.% О2). Перед выращиванием в расплав добавляли оксид церия. Кристалл диаметром 60 мм и длиной цилиндрической части 45 мм выращивали методом Киропулоса из иридиевого тигля внутренним диаметром 76 мм и высотой 78 мм. Объем исходного расплава равнялся 290 см3. Скорость роста кристалла на различных этапах изменялась от 1 до 8 мм/ч при частоте вращения кристалла 10 об./мин. После отрыва выращенного кристалла от остатков расплава кристалл постепенно охлаждался до комнатной температуры в течение 30 ч. Полированные образцы из этого кристалла использованы для измерения параметров, которые представлены в таблице ниже.
Выращивание методом Чохральского сцинтилляционного вещества на основе силиката лютеция и церия, содержащего литий с химическим составом СехЬ10,08Ьи2,026-х810,96205,008-р, осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 36 мм и высотой 38 мм со скоростью вытягивания 2,7 мм/ч и частотой вращении 14 об./мин. Процесс кристаллизации производился из расплава приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи203+Ьа203+Се2О3)/48,1% 8102, в защитной атмосфере аргона (99,7 об.% Аг+0,3 об/% О2). Кристалл диаметром 19 мм и длиной цилиндри
- 17 009436 ческой части 60 мм был бесцветным и не имел трещин в ходе его выращивания и в период 22-часового охлаждения. Как верхняя, так и нижняя части кристалла не содержали центров рассеяния света внутри объема були, за исключением периферической области толщиной около 0,5-0,7 мм. Образец, методика изготовления которого описана в примере № 1, вырезанный из верхней части кристалла, продемонстрировал при гамма-возбуждении световой выход, примерно равный эталонному образцу Ьи1,998Се0,002481О5. По такой же технологической схеме выращивали и распиливали кристаллы составов СехЬ10,02Ьи2,072-х810,962О5,034, Се Ι.ιι;:..Υ А ....()..3.., СехЬ10,2Ьи2,006-хСб0,04810,962О5,018, СехЬ10,15Еи2,071-х-7ТЬ2810,962О4,988, с различным содержанием церия х - от 1ж 10-4 до 0,02 ф.ед.
Пример 7.
Сцинтилляционное вещество по варианту № 5 на основе силиката лютеция-церия, содержащего катионные вакансии и имеющего состав, который выражается химической формулой СехЬи9,33-хп0,67816О26, где х - от 1 ж 10-4 до 0,1 ф.ед.
Выращивание методом Чохральского сцинтилляционного вещества на основе монокатионного силиката лютеция-церия, имеющего химический состав Се0,002Ьи9,328 п 0,67816О26, осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 37 мм и высотой 40 мм, скорость вытягивания составляла 2,7 мм/ч и частота вращения - 14 об./мин. Процесс кристаллизации производился из расплава приготовленного из шихты стехиометрического состава в защитной атмосфере аргона (99,7 об.% Аг+0,3 об.% О2). Кристалл диаметром 22 мм и длиной цилиндрической части 58 мм был бесцветным и не имел трещин в ходе его выращивания и в период 12-часового охлаждения. По всему объему кристалла имелось небольшое рассеяние, плотность которого увеличивалась в нижней части кристалла. Сцинтилляционные образцы изготавливались по методике, описанной в примере № 1.
По такой же технологической схеме выращивали и распиливали кристаллы составов Се0,04Ьи9,29п 0,67816О26, Се0,1Ьи9,23п 0,67816О26. Необходимо заметить, что в кристаллах с увеличенным содержанием церия количество центров рассеяния значительно уменьшилось.
Пример 8.
Сцинтилляционное вещество по варианту № 6 на основе силиката лютеция-церия, содержащего литий и катионные вакансии, имеющего состав, который выражается химической формулой СехЬ1ч+рЬи9,33-х-рп0,67816О26-р, где х - от 1x10^ до 0,1 ф.ед., д - от 1x10^ до 0,3 ф.ед., р - от 1x10^ до 0,25 ф.ед.
Выращивание методом Чохральского сцинтилляционного вещества на основе монокатионного силиката лютеция и церия, содержащего литий с химическим составом Се0,002Ь10,2Ьи9,128п 0,67816О25,8, осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 37 мм и высотой 40 мм, со скоростью вытягивания 2,7 мм/ч и частотой вращения 12 об./мин. Процесс кристаллизации производился из расплава, приготовленного из шихты стехиометрического состава, в защитной атмосфере азота (99,9 об.% Ν2+0,1 об.% О2). Кристалл диаметром 22 мм и длиной цилиндрической части 52 мм был бесцветным и не имел трещин в ходе его выращивания и в период 12-часового охлаждения. В объеме кристалла имелось небольшое рассеяние. Сцинтилляционные образцы изготавливались по методике, описанной в примере № 1.
По такой же технологической схеме выращивали и распиливали кристаллы составов Се0,001Ь10,12ки9,279П0,67 816О25,95, Се0,05Ь10,4Ъи9,08П0,67 816О25,8.
Пример 9.
Сцинтилляционное вещество по варианту № 7 на основе силиката лютеция-церия, содержащего литий и катионные вакансии и имеющего состав, который выражается химической формулой СехЬ1ч+рЬи9,33-х-р-2п0,67А2816О26-р, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ; х - от 1x10^ до 0,1 ф.ед.; д - от 1x10^ до 0,3 ф.ед.; р - от 1x10^ до 0,25 ф.ед.; ζ - от 5x10-4 до 8,9 ф.ед.
Выращивание методом Чохральского сцинтилляционного вещества на основе монокатионного силиката лютеция и церия, содержащего литий с химическим составом Се0,002Ь10,2Ьи7,228-рп0,67Ьа2816О25,9, осуществляли из иридиевого тигля с внутренним диаметром 37 мм и высотой 40 мм, скорость вытягивания составляла 2,7 мм/ч и частота вращения - 12 об./мин. Процесс кристаллизации производился из расплава, приготовленного из шихты стехиометрического состава, в защитной атмосфере азота (99,8 об.% Ν2+0,2 об.% О2). Кристалл диаметром 22 мм и длиной цилиндрической части 52 мм был бесцветным и не имел трещин в ходе его выращивания и в период 12-часового охлаждения. В объеме кристалла имелось небольшое рассеяние. Сцинтилляционные образцы изготавливались по методике, описанной в примере № 1.
По такой же технологической схеме выращивали и распиливали кристаллы составов Се0,002^^0,2^и1,228-р□0,67Υ88^6О25,9, Се0,001^^0,1^и8,324□0,67Υ8^6О25,995, Се0,001^^0,15^и4,279□0,67Об58^6О25,95, Се0,001^^0,35^и9,109□0,67ТЬ0,28^6О25,8, Се0,002В10,1Ви0,423 п0,67Ва8,9816О25,95.
Пример 10.
Сцинтилляционное вещество по вариантам № 8 и № 9 на основе силиката лютеция-церия, содержащее литий Ь1 в количестве не менее одной формульной единицы и имеющее состав, который выражается химической формулой СехЬ11+ч+рЬи9-х-р816О26-р, где х - от 1x10-4 до 0,1 ф.ед.; д в количестве не менее чем до 0,3 ф.ед.; р в количестве не менее чем 0,25 ф.ед.
Важным техническим отличительным признаком данных сцинтилляционных веществ является тем
- 18 009436 пература плавления немного выше 1700°С, которая более чем на Э00° ниже, чем у кристаллов, кристаллизующихся в структурном типе оксиортосиликата лютеция. Столь низкая температура плавления является важным достоинством для выращивания кристаллов методом Чохральского, так как в этом случае срок эксплуатации иридиевых тиглей увеличивается в десятки раз. Еще более важен долгий срок эксплуатации иридиевых изделий, если процесс выращивания кристаллов осуществляется методом Степанова. Применение метода Степанова открывает возможность выращивания одновременно нескольких десятков сцинтилляционных кристаллов, например, размером 2х2х100 ммз или размером 1х1х50 ммз. В этом случае исключается дорогостоящая операция распиливания крупной були на тонкие стержни. При таком распиливании в отходы может уходить до 20-50% монокристаллического вещества, что резко увеличивает стоимость сцинтилляционных элементов для медицинских микропозитронных томографов (М1сгоРЕТ).
В процессе роста профилированного кристалла из расплава его поперечное сечение определяется формой столба расплава. Для придания формы расплаву используют различные физические эффекты Создание столба расплава прямоугольного сечения, как правило, осуществляется с помощью иридиевого формообразователя. Конструкции формообразователей и методика расчета оптимальных условий для выращивания изложены в книге Антонова П.И., Затуловского Л.М., Костыгова А.С. и др. Получение профилированных монокристаллов и изделий способом Степанова, Л., Наука, 1981, 280 с.
Выращивание профилированного кристалла методом Степанова осуществляли, используя иридиевый тигель с иридиевым формообразователем, имеющим сечение внешней кромки 2х 2 мм2, которое задавало сечение растущего кристалла. Для получения кристалла Се0,045Ь11,з00Еи8,905816О25,995, кристаллизующегося в гексагональной сингонии, применяли шихту стехиометрического состава, химическая формула которого в формульных единицах имеет вид Се0,045Ь11,з00Еи8,905816О25,995. Для приготовления шихты использовали следующую методику. Исходные реактивы карбонат лития, оксид лютеция и оксид кремния тщательно перемешивали и частично синтезировали порошок в платиновом тигле в течение 10 ч при 1Э00°С. Затем посредством индукционного нагрева порошок расплавляли в иридиевом тигле в проточной защитной атмосфере (99,7 об.% Ы2+0,з об.% О2). Перед выращиванием в расплав добавляли оксид церия. Формообразователь позволял выращивать от 1 до 9 профилированных кристаллов одновременно. Затравление осуществляли на кристалл, полученный методом Чохральского. Затравочный кристалл был вырезан в кристаллографическом направлении оптической оси шестого порядка. Профилированные кристаллы вытягивали из расплава со скоростью з-20 мм/ч без вращения. После достижения кристаллами длины 50 мм их отрывали от формообразователя резким увеличением скорости вытягивания и через з0 мин извлекали из установки.
Профилированные кристаллические стержни распиливали на несколько сцинтилляционных элементов размером 2х2х10 ммз. Полированные образцы из кристалла Се0,04Ь11,з00Еи8,905816О25,995 были использованы для измерения параметров, которые представлены в таблице ниже.
По такой же технологической схеме выращивали и распиливали кристаллы составов Се0.001Ь1Еи8,998816О26, Се0,04Ь1Ьи8,96816О26, Се0,1Е1ЕИ8,9816О26, Се0,002Ь11,45Ьи8,798-р816О25,8. Се0,0015Ь11,зЬи8,8985-р816О25,9.
Пример 11.
Сцинтилляционное вещество по варианту № 10 на основе силиката лютеция-церия, содержащее литий Ь1 в количестве более 1 ф.ед. и имеющее состав, который выражается химической формулой СехЬ11+ч+рЬи9-х-р-^816О26-р, где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ; х - от 1 х 10-4 до 0,1 ф.ед.; д - от 1 х 10-4 до 0,з ф.ед.; р - от 1 х 10-4 до 0,25 ф.ед.; ζ - от 5х10-4 до 8,9 ф.ед.
Для получения сцинтилляционного вещества Се0,045Е11,1Еио,08Еао,о^8,755816О26, кристаллизующегося в гексагональной сингонии, применяли шихту стехиометрического состава, химическая формула в формульных единицах имеет вид Се0,045Е11,1Еи0,08Еао,0^8,755816О26. Выращивание кристалла осуществляли из иридиевого тигля диаметром 40 мм в защитной атмосфере (99,5 об.% Ν2+0,5 об.% О2), со скоростью роста 5 и 10 мм/ч и частотой вращения 11 об./мин. В этих условиях был выращен кристалл длиной з5 мм и диаметром 18 мм, который был светло-желтого цвета и не содержал центров рассеяния света даже при скорости роста 10 мм/ч. Полированный образец из этого кристалла продемонстрировал при гамма-возбуждении световой выход примерно в 10 раз более низкий, чем эталонный образец Ьи1,998Се0,002481О5, методика изготовления которого описана в примере 1. На основании этого для веществ варианта № 10 с общей формулой СехЕ11+ч+рЬи9-х-р-;!А^16О26-р был определен верхний предел замещения (ζ=8,9 ф.ед.) ионов лютеция на другие элементы. Верхний предел установлен на значение 8,9 ф.ед., в этом случае кристаллы имеют значительно меньшую плотность и световой выход при резком уменьшении стоимости исходных реактивов, а, следовательно, стоимости кристалла. Такие кристаллы могут представлять интерес для использования в датчиках, где важнейшими параметрами являются низкая стоимость и высокая стойкость сцинтилляционного кристалла к внешним факторам, которые выводят из строя дозиметрический прибор (повышенная температура, высокая влажность, высокий уровень радиации).
По такой же технологической схеме выращивали кристаллы составов Се0,001Е11,2Еиз,898Об5,1816О26, Се0,04Е11,2Ьи8,66ЕИ0,2816О25,9, Се0,1Е11,2Еи7,98с0,8816О25,8. Се0,00^^^1,45^и6^298Υ2,58^бΘ25,8, Се0,0015Ь11,зЪи8,з985Ьа0,5816О25,9.
В таблице представлены результаты тестирования синтезированных сцинтилляционных веществ на
- 19 009436 эффект послесвечения, величину светового выхода, времени затухания, плотности, Ζγψ.
Время СЦИНТИ лляций (НС) Световой выход (отн. ед.) Наличие послесвечения (отн. ед) Плотность (г/см3) Область люминес -ценции (нм) Атомный номер 7зфф
θ®0.0024ΐ-4ΐ.998θϊθ5 43.3 1.0 1.0 7.406 415-430 63.8
001 ЬЧг Ο76δίο,962θ5 038 44.5 1.05 1.0 7.409 420-440 64.0
Сво, 0021-1¼. 074 3ίθ. 9β2θ5.Ο38 43.4 1.0 0.8 7.408 420-440 64.0
Сео.0015Ци2,о445ТЬо.Оз8|о.96205.038 34.2 0.33 1.0 7.399 420-440 535-550 64.0
Св|) 001 Ζ ОадзТЬо ООбЕи 0 ΟΟϊδίο.962θ5.04 34.7 0.32 1.05 7.406 420-440 535-550 620-635 64.0
0®0.00251·<12.0685Υθ005δίθ.9β2θ5.038 42.7 1.09 0.9 7.403 425-445 64.0
Сбо.00251-и2.0ба58Со ΟΟδδϊο 962θ5.038 41 0.95 0.8 7.403 420-440 64.0
θ®0.00251-υ2.0β851-3ο.0055ίο.962θ5.038 43 1.12 0.8 7.404 430-450 64.0
Се000251-и2.0491-а0.02®10.962О5.0Э8 44.1 1.27 0.9 7.394 430-450 63.9
Ο®0.003ΐ-ϊθ.005ΐ-υ2.049ΐ-3ο.025ϊο.9β2θ5.03β 41.3 1.38 0.9 7.393 430-450 63.9
С®о.о21-|1-иа ο$5ΐβθ26 36 0.8 0.7 7.314 415-430 62.6
θ®ο.οι&Ι-ίΙ-ΐΐβ Сбг.здзЗиОгв 35.2 0.4 нет 7.012 420-440 60.6
С®0.015Ь|0.45Ьив.93581вО25 65 36 0.9 0.2 7.331 415-430 62.6
Ово.0151-Н-иб1-Э2,9в581б026 38 1.4 0.3 6.701 420-440 59.1
Сво ООзОБиз 997δΐβθ2θ 39.7 1.2 0.3 7.318 415-430 62.6
Сво оозк ί 1 сек ЙЗ.047® ίβθ25 97 39 1.2 0.3 7.310 415-430 62.6
Οβο.015ίΐΐ,55 Ьи8.7358|вО25 9 35 0.75 0.2 7.270 415-430 62.6
С®оо151-|ЬизСЭ059В58 ϊβΟ^ 31 0.3 нет 6.691 430-440 58.3
Οθο.00ΐΐ-ίΐ.2 Ьиз в98<Зб5.15|вО2вЛ 34 0.35 нет 6.784 430-440 59.0
С®о.041-11,2Ьи8гввЕио.251б025.95 33 0.25 0.2 7.285 420-440 620-635 62.3
Сво. 1 Ьй .г^и? 9ΥоУТЬод 3ΐβθ25.8 28 0.35 0.2 7.095 420-440 535-550 61.3
Сво ООгЬЙ 45ίυ6 29βΥ2.5® ϊβθ25.93 42 1.1 0.5 6.645 425-445 58.3
Св(Ю0151-Й зЬив 39851-а0 581 бОгв 42 1.2 0.5 7.198 430-450 62.0
Сво 0151-Ϊ 0 11—Ыб 33θ^2 ЭвДо 67®кО26 06 32 0.4 нет 7.083 430-440 61.0
Сво, 0151-ί О.ЗзЬи? ,зЕ и 1,985^ 0.67®1бО26.1 34.5 0.09 нет 7.019 420-440 620-635 61.4
Сво 0151-ΐο 2б1-ив 2вСс12.9850о.675|б026.05 36 0.5 нет 7.073 430-440 60.9
Сво.011 ίίθ.2ί«2.23Υ6.989θθ.β7δϊβθ25 95 41 1.0 0.7 5.261 425-445 46.6
Св0.011 Й1о,1 Ьйз 33Υ5.989θθ.β73ΐβθ2β 44 1.4 1.0 5.749 425-445 51.0
Сво.о12Ь1о.051-и5ззказ.9в80о.678|б026 44 1.2 1.0 6.570 430-450 58.3
Сво ООзЙ1о.5бЙ0771-®βΟθ.67θ·βθ25.9 41 0.8 нет 5.549 430-450 51.4
ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ

Claims (23)

1. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что состав вещества выражается химической формулой Сеx^и2+2у-x8^!-уО5+у где х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.
2. Сцинтилляционное вещество по п.1, отличающееся тем, что состав вещества в виде монокристалла выражается химической формулой СехЬИ2,07б-х810,9б2О5,038 где х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.
3. Способ получения сцинтилляционного вещества по п.1, отличающийся тем, что выращивают монокристалл направленной кристаллизацией из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Еи2О3+Се2О3):48,1% 81О2.
4. Способ получения сцинтилляционного вещества по п.1, включающий использование метода
5+у-р где х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,2 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
5. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что состав вещества в виде монокристалла выражается химической формулой СехЬИ2+2у-х^А^8!1-уО5+у где А - по крайней мере один из элементов группы Сй, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ, Са;
х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.;
ζ - от 1х 10-4 до 0,05 ф.ед.
6. Сцинтилляционное вещество по п.5, отличающееся тем, что состав вещества в виде монокристалла выражается химической формулой СехЬИ2,076-х^ А..81 ,962О5,038 где А - по крайней мере один из элементов группы Сй, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ, Са;
х - от 1х10-4 до 0,02 ф.ед.;
ζ - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
7. Сцинтилляционное вещество по п.5, отличающееся тем, что состав вещества в виде монокристалла выражается химической формулой СехЬи2,076-х-т-пЬат'Уп81О0,962О5,038 где х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
т - не более чем 0,05 ф.ед.;
п - от 1 х 10-4 до 2,0 ф.ед.
8. Способ получения сцинтилляционного вещества по п.5, отличающийся тем, что выращивание монокристалла направленной кристаллизацией производится из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2О32О3 +Се2О3):48,1% 81О2, где А - по крайней мере один из элементов группы Сй, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ.
9. Способ получения сцинтилляционного вещества по п.5, отличающийся тем, что выращивание сверхкрупных монокристаллов производится методом Киропулуса из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2О32О3+Се2О3):48,1% 81О2, где А - по крайней мере один из элементов группы Сй, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ.
10. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., и состав выражается химической формулой СехЬ1д+рЬИ2-р+2у-х811-уО
11. Сцинтилляционное вещество по п.10, отличающееся тем, что состав вещества в виде монокристалла, содержащего литий в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., выражается химической формулой СехЬ1д+рЬИ2,076-р-х810,962О5,038-р где х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,2 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
12. Способ получения сцинтилляционного вещества по п.10, отличающийся тем, что выращивают монокристалл направленной кристаллизацией из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2О3+Ь12О+Се2О3):48,1% 81О2.
13. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., и состав выражается химической формулой СехЬ1д+рЬи2-р+2у-х^А^811-уО5+у-р где А - по крайней мере один из элементов группы Сй, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
у - от 0,024 до 0,09 ф.ед.;
ζ - от 1х 10-4 до 0,05 ф.ед.;
д - от 1 х 10-4 до 0,02 ф.ед.;
р - от 1 х 10-4 до 0,05 ф.ед.
14. Сцинтилляционное вещество по п.13, отличающееся тем, что состав вещества в виде монокристалла, содержащего литий Ь1 в количестве, не превышающем 0,25 ф.ед., выражается химической формулой СехЬ1д+рЬи2,076-р-х^ А..81 ,962О5,038-р где А - по крайней мере один из элементов группы Сй, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
15. Способ получения сцинтилляционного вещества по п.13, отличающийся тем, что выращивают монокристалл направленной кристаллизацией из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2О32О+А2О3+Се2О3):48,1% 81О2.
16. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно имеет состав, который выражается химической формулой СехЬИ9,33-хП0,67 516О26 где х - от 1 χ 104 до 0,1 ф.ед.
17. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 и имеет состав, который выражается химической формулой СехЕ14+рЪи9,33-х-рС0,67516О26-р где х - от 1 χ 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 χ 10-4 до 0,3 ф.ед.;
р - от 1 χ 10-4 до 0,25 ф.ед.
18. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 и имеет состав, который выражается химической формулой Се.Е1р1 .. А.81..О .р где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 χ 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 χ 10-4 до 0,3 ф.ед.;
р - от 1 χ 10-4 до 0,25 ф.ед.;
ζ - от 5χ 10-4 до 8,9 ф.ед.
19. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 и состав вещества выражается химической формулой СехЕ1Еи9-х816О26 где х - от 1 χ 10-4 до 0,1 ф.ед.
20. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 в количестве более одной формульной единицы и состав вещества выражается химической формулой СехС11+9+рСи9-х-р816О26-р где х - от 1 χ 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 χ 10-4 до 0,3 ф.ед.;
р - от 1 χ 10-4 до 0,25 ф.ед.
- 20 009436
Чохральского, отличающийся тем, что выращивают монокристалл из расплава, приготовленного из шихты состава, характеризуемого молярным соотношением окислов 51,9% (Ьи2О3+Се2О3):48,1% 81О2.
21. Сцинтилляционное вещество на основе кристалла силиката, содержащего лютеций Ьи и церий Се, отличающееся тем, что оно содержит литий Ь1 в количестве более одной формульной единицы и состав вещества выражается химической формулой СехЕ11+9+рЕи9-х-р^А^816О26-р где А - по крайней мере один из элементов группы Об, 8с, Υ, Ьа, Ей, ТЬ;
х - от 1 χ 10-4 до 0,1 ф.ед.;
д - от 1 χ 10-4 до 0,3 ф.ед.;
р - от 1 χ 10-4 до 0,25 ф.ед.;
ζ - от 5χ 10-4 до 8,9 ф.ед.
- 21 009436 х - от 1 χ 10-4 до 0,02 ф.ед.;
ζ - от 1 χ 10-4 до 0,05 ф.ед.;
д - от 1 χ 10-4 до 0,2 ф.ед.;
р - от 1 χ 10-4 до 0,05 ф.ед.
- 22 009436 <- 100% Ьи2
44 46 48 50 52 54 1_и28|2О7+» $Ю2, мол.%
Фиг. 1
- 23 009436
2Θ, градус
EA200600835A 2003-11-04 2004-03-12 Сцинтилляционное вещество (варианты) EA009436B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003132127/15A RU2242545C1 (ru) 2003-11-04 2003-11-04 Сцинтиляционное вещество (варианты)
PCT/RU2004/000094 WO2005042812A1 (en) 2003-11-04 2004-03-12 Scintillation substances (variants)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA200600835A1 EA200600835A1 (ru) 2007-02-27
EA009436B1 true EA009436B1 (ru) 2007-12-28

Family

ID=34388641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA200600835A EA009436B1 (ru) 2003-11-04 2004-03-12 Сцинтилляционное вещество (варианты)

Country Status (10)

Country Link
EP (1) EP1689916B1 (ru)
JP (1) JP4115503B2 (ru)
CN (1) CN100436660C (ru)
AT (1) ATE417145T1 (ru)
AU (1) AU2004286178B2 (ru)
CA (1) CA2555754C (ru)
DE (1) DE602004018378D1 (ru)
EA (1) EA009436B1 (ru)
RU (1) RU2242545C1 (ru)
WO (1) WO2005042812A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015152773A1 (ru) * 2014-04-03 2015-10-08 Георгий Алексеевич ДОСОВИЦКИЙ Способ получения люминесцентных силикатных стекол и композитов
RU2693875C1 (ru) * 2018-04-05 2019-07-08 Сергей Александрович Кутовой Химическое соединение на основе оксиортосиликатов, содержащих иттрий и скандий, для квантовой электроники

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2874021B1 (fr) 2004-08-09 2006-09-29 Saint Gobain Cristaux Detecteu Materiau scintillateur dense et rapide a faible luminescence retardee
JP4682718B2 (ja) * 2005-06-28 2011-05-11 日立化成工業株式会社 無機シンチレータ
CZ298519B6 (cs) * 2006-01-09 2007-10-24 Crytur S. R. O. Monokrystal LYGSO: Ce, využitelný pro výrobu scintilacních detektoru a zpusob jejich výroby
JP5055910B2 (ja) * 2006-06-02 2012-10-24 日立化成工業株式会社 単結晶の熱処理方法
JP5027463B2 (ja) * 2006-09-06 2012-09-19 株式会社日立製作所 画像表示装置
EP2109652B1 (en) * 2007-02-06 2017-10-04 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Red emitting luminescent material
US20090136731A1 (en) * 2007-10-23 2009-05-28 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Scintillator crystals and methods of forming
WO2009083852A2 (en) * 2007-12-21 2009-07-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Radiation-sensitive detector with a scintillator in a composite resin
DE102009030205A1 (de) * 2009-06-24 2010-12-30 Litec-Lp Gmbh Leuchtstoffe mit Eu(II)-dotierten silikatischen Luminophore
US20130075659A1 (en) * 2010-07-19 2013-03-28 Mingjie Zhou Luminescent material of silicate and preparing method thereof
RU2466428C2 (ru) * 2010-08-17 2012-11-10 Учреждение Российской академии наук Институт синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова РАН (ИСПМ РАН) Металлосодержащий пластмассовый сцинтиллятор
US20120061577A1 (en) 2010-09-14 2012-03-15 Zecotek Imaging Systems Pte. Ltd. Depth-of-interaction scintillation detectors
JP5770298B2 (ja) * 2010-10-22 2015-08-26 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ 発光物質と当該発光物質を有する発光装置
WO2012066425A2 (en) 2010-11-16 2012-05-24 Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs Scintillation compound including a rare earth element and a process of forming the same
RU2596765C2 (ru) * 2011-04-04 2016-09-10 Токуяма Корпорейшн Сцинтиллятор, радиационный детектор и способ обнаружения излучения
US20140061537A1 (en) * 2012-04-13 2014-03-06 Zecotek Imaging Systems Singapore Pte Ltd Multi-doped lutetium based oxyorthosilicate scintillators having improved photonic properties
CN104271706A (zh) * 2012-05-08 2015-01-07 海洋王照明科技股份有限公司 核壳结构的硅酸盐发光材料及其制备方法
RU2564038C1 (ru) * 2014-04-03 2015-09-27 Общество с ограниченной ответственностью"НеоСцинт" Сцинтилляционное вещество
CN103951206B (zh) * 2014-05-08 2016-05-04 宁波大学 稀土离子掺杂的BaGdBr5微晶玻璃及其制备方法
WO2015185988A1 (en) * 2014-06-03 2015-12-10 Zecotek Imaging Systems Singapore Pte. Ltd Cerium doped rare-earth ortosilicate materials having defects for improvement or scintillation parameters
RU2579135C1 (ru) * 2014-12-09 2016-03-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии твердого тела Уральского Отделения РАН Силикат редкоземельных элементов в наноаморфном состоянии
CN107406764B (zh) 2015-02-26 2021-03-09 圣戈班晶体及检测公司 包括共掺杂稀土硅酸盐的闪烁晶体、包括闪烁晶体的辐射检测仪器及其形成方法
CN105986320A (zh) * 2016-02-16 2016-10-05 安徽火天晶体科技有限公司 Sc,Ce共掺杂的硅酸镥、硅酸钇镥晶体及其熔体法生长方法
JP6451700B2 (ja) * 2016-06-29 2019-01-16 住友金属鉱山株式会社 酸化物単結晶の育成方法
RU2627573C1 (ru) * 2016-09-02 2017-08-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Сцинтилляционный материал для регистрации ионизирующего излучения (варианты)
CN108059957A (zh) * 2016-11-07 2018-05-22 上海新漫晶体材料科技有限公司 阴阳离子共掺杂高光输出低余辉闪烁体材料
CN108585853B (zh) * 2017-12-11 2021-12-24 上海大学 一种铕掺杂氧化钪闪烁体及其制备方法和用途
CN110629287A (zh) * 2019-10-23 2019-12-31 安徽工业大学 一种铈掺杂钽铌酸镧闪烁晶体材料及其制备方法
CN112390278B (zh) * 2020-11-16 2022-02-08 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种强吸电子元素掺杂稀土正硅酸盐闪烁材料及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2157552C2 (ru) * 1998-01-12 2000-10-10 Таср Лимитед Сцинтилляционное вещество (варианты) и сцинтилляционный волноводный элемент
US20030062465A1 (en) * 2000-08-15 2003-04-03 Crismatec Scintillator crystals and their applications and manufacturing process

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4958080A (en) * 1988-10-06 1990-09-18 Schlumberger Technology Corporation Lutetium orthosilicate single crystal scintillator detector
JPH0778215B2 (ja) * 1990-04-20 1995-08-23 日立化成工業株式会社 単結晶シンチレータ及びそれを用いた地下層探査装置
DE69122987T2 (de) * 1990-04-20 1997-03-06 Hitachi Chemical Co Ltd Vorrichtung zur Bestimmung der Eigenschaften von Erdformationen mittels einzelner Szintillationskristalldetektoren
US6413311B2 (en) * 1998-04-16 2002-07-02 Cti, Inc. Method for manufacturing a cerium-doped lutetium oxyorthosilicate scintillator boule having a graded decay time
US20030159643A1 (en) * 2002-02-05 2003-08-28 Keiji Sumiya GSO Single crystal and scintillator for PET

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2157552C2 (ru) * 1998-01-12 2000-10-10 Таср Лимитед Сцинтилляционное вещество (варианты) и сцинтилляционный волноводный элемент
US20030062465A1 (en) * 2000-08-15 2003-04-03 Crismatec Scintillator crystals and their applications and manufacturing process

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BONDAR I.A. et al.: Khimiya redkikh elementov. Soedineniya redkozemelnykh elementov. Silikaty, germanaty, fosfaty, arsenaty, vanadaty. Moscow, Nauka, 1983, pages 5, 12-13 *
KOROVKIN A.M. et al.: Opticheskie i spektralno-ljuminestsentnye svoistva kristallov optosilikatov lantanoidov. "Optika i spektroskopiya", vol. 58, issue 6, 1985, pages 1266-1269 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015152773A1 (ru) * 2014-04-03 2015-10-08 Георгий Алексеевич ДОСОВИЦКИЙ Способ получения люминесцентных силикатных стекол и композитов
RU2693875C1 (ru) * 2018-04-05 2019-07-08 Сергей Александрович Кутовой Химическое соединение на основе оксиортосиликатов, содержащих иттрий и скандий, для квантовой электроники

Also Published As

Publication number Publication date
AU2004286178B2 (en) 2008-11-13
CA2555754A1 (en) 2005-05-12
EA200600835A1 (ru) 2007-02-27
CN100436660C (zh) 2008-11-26
DE602004018378D1 (de) 2009-01-22
EP1689916B1 (en) 2008-12-10
CN1902341A (zh) 2007-01-24
EP1689916A1 (en) 2006-08-16
CA2555754C (en) 2009-06-02
ATE417145T1 (de) 2008-12-15
EP1689916A4 (en) 2008-02-27
JP4115503B2 (ja) 2008-07-09
AU2004286178A1 (en) 2005-05-12
JP2007514631A (ja) 2007-06-07
WO2005042812A1 (en) 2005-05-12
RU2242545C1 (ru) 2004-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2242545C1 (ru) Сцинтиляционное вещество (варианты)
JP6644010B2 (ja) 向上した耐放射線性を有する多重ドープルテチウム系オキシオルトシリケートシンチレータ
US7132060B2 (en) Scintillation substances (variants)
RU2157552C2 (ru) Сцинтилляционное вещество (варианты) и сцинтилляционный волноводный элемент
CN101016454B (zh) 闪烁体组合物以及相关制造方法和制品
JP5462515B2 (ja) 透明セラミックス及びその製造方法並びにその透明セラミックスを用いたデバイス
US20140291580A1 (en) Cerium doped rare-earth ortosilicate materials having defects for improvement of scintillation parameters
KR101311695B1 (ko) 고광산출량의 고속 섬광체
WO2015185988A1 (en) Cerium doped rare-earth ortosilicate materials having defects for improvement or scintillation parameters
CN102165107B (zh) 单晶闪烁体材料及其制造方法、放射线检测器和pet装置
JP2006016251A (ja) 放射線検出用Lu3Al5O12結晶材料の製造方法
JP4905756B2 (ja) 放射線検出用フッ化物単結晶及びシンチレータ並びに放射線検出器
JP2011202118A (ja) 単結晶シンチレータ材料およびその製造方法、放射線検出器、並びにpet装置
KR101641946B1 (ko) 섬광체 및 이의 제조 방법
JP5842292B2 (ja) 中性子シンチレータ用酸化物結晶及びこれを用いた中性子シンチレータ