DE923496C - Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Selen-TrockengleichrichternInfo
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Description
Es wurde bereits ein Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern vorgeschlagen, bei
welchen auf eine Grundplatte aus einem Metall der Eisengruppe eine Wis-mutschicht aufgebracht wird,
bevor auf diese in irgendeiner Weise, sei es durch Aufdampfen, durch elektrolytische oder galvanische
Methoden, die Selengleichrichterschicht aufgebracht wird. Besonders vorteilhaft ist es dabei, -die Selenschicht
durch Aufdampfen auf die Wismutschicht niederzuschlagen. Es zeigt sich jedoch, daß die auf
die Wismutschicht aufgedampfte Selenschicht zur Blasenbildung neigt, also mindestens teilweise in
sehr mangelhafter mechanischer Verbindung mit der Grundplatte steht. Wie Versuche ergeben haben,
tritt dieser Mangel dann ein, wenn in der aufgebrachten Wismutschicht Luft absorbiert ist.
Sorgt man dagegen erfindungsgemäß dafür, daß die Wismutschicht vor der Bedampfung mit Selen mit
einem geeigneten Gas, etwa mit Stickstoff, in Berührung kommt, wobei gegebenenfalls die am Wisr
mut adsorbierte Luft, insbesondere der Sauerstoff der Luft durch Vakuumanwendung entfernt wird
und die Wismutschicht mit Stickstoff z. B. von Atmosphärendruck in Berührung gebracht, gewissermaßen
aufgeladen wird, dann unterbleibt Blasenbildung. Es zeigt sich nämlich, daß für die
Blasenbildung der Sauerstoff der Luft infolge von Oxydationsvorgängen verantwortlich ist. Dies
ergibt sich durch den folgenden Versuch: Bringt man eine mit Wismut überzogene Trägerplatte, die
mit Luft in Berührung war, in ain Vakuumgefäß, evakuiert und läßt alsdann Stickstoff in· das Gefäß,
dann tritt keine Blasenbildung nach der Aufdampfung des Selens ein. Ist aber die Wismutschicht
einmal mit Stickstoff aufgeladen, dann ist die Wirkung so nachhaltig, daß auch nach längerem Verweilen
der Trägerplatte an der Luft bei später aufgedampfter Selenschicht keine Blasenbildung mehr
eintritt. Dabei ist es so, daß das bei der nachträgliehen Selenaufdampfung erforderliche Vakuum
die an der Wismutschicht adsorbierte Luft nicht zu entfernen vermag. Vielmehr ist ein Aufladen mit
einem geeigneten Gas notwendig, um die Berührung der Wismutschicht mit atmosphärischer Luft unwirksam
zu machen. Man kann zwar, wie es bereits vorgeschlagen wurde, im selben Vakuum nach dem
Bedampfen der Grundplatte mit Wismut gleich das Selen auf diese Wismutschicht aufbringen. Dieses
Verfahren hat jedoch die Nachteile, daß nicht nur eine komplizierte Apparatur mit zwei Verdampfern
benötigt wird, sondern daß auch durch vagabundierende Dämpfe beide Schmelzen verunreinigt
werden. Das erfindungsgemäße Verfahren vermeidet diese Nachteile und hat den Vorteil, daß die mit
Wismut bedampften Grundplatten dem Vakuumraum der ersten Apparatur entnommen und (nach
eventueller Lagerung) in einer zweiten Apparatur oder in der ersten nach Auswechseln des Verdampfers
mit Selen bedampft werden können.
Auf diese Weise erhält man reine Wismut- und Selenschichten, wie sie in einer Apparatur mit zwei
Verdampfern nicht erhalten werden können. Außerdem kann beispielsweise das Aufdampfen des
Selens in einer Halogenatmosphäre, wie an sich bekannt, durchgeführt werden, ohne daß das Wismut
davon angegriffen wird.
Es ist auch bekannt, zu bedampfende Teile zu entgasen und in einem Schutzgas zu lagern. Abgesehen
davon, daß dieses Verfahren nicht bei der Herstellung von Selengleichrichtern bekanntgeworden
ist oder angewendet wurde, hielt man es nicht für möglich, daß die mit Schutzgas Geladenen
Teile auch für längere Zeit an der Luft gelagert werden könnten, ohne daß die Schutzwirkung verlorengeht.
Gemäß der Erfindung erfolgt also die Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern, bei
welchen auf eine Trägerplatte aus Eisen, vernickeltem
Eisen oder aus einem Werkstoff der Eisengruppe des Periodischen Systems der Elemente eine
Wismutschicht aufgebracht worden ist, um auf diese die Selenschicht aufzudampfen, in der Weise,
daß die wismutierte Trägerelektrode vor der Bedampfung mit Selen durch Evakuierung und durch
anschließende Aufladung mit einem geeigneten Gas, wie Stickstoff, vorzugsweise unter Atmosphärendruck,
von den an der Wismutschicht adsorbierten Luft- bzw. Sauerstoffresten befreit wird.
Als geeignet hat sich neben Stickstoff z. B. noch Leuchtgas gezeigt.
Mit diesem Verfahren werden Selengleichrichter erzielt, bei welchen die Neigung zur Blasenbildung
unterdrückt ist und welche vorzügliche elektrische Eigenschaften und nur geringe Alterung aufweisen.
Wenn einmal die Wismutschicht mit Stickstoff aufgeladen ist, kann eine längere Zeit bis zur Bedampfung
mit Selen verstreichen, ohne daß Blasenbildung zu befürchten ist, d. h., die Platte kann auch mit
Luft in Berührung kommen. Die Wismut- und die Selenfoedampfung kann also mit Zeitabstand in zwei
getrennten Vorgängen erfolgen. Es wird bemerkt, daß auch ibei . Leichtmetallgrundplatten Blasenbildung
eintritt, welche mit denselben Maßnahmen, wie sie für Eisengrundplatten vorgesehen worden
sind, unterbunden werden kann.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern, bei welchen auf eine Trägerplatte aus Eisen, vernickeltem Eisen oder aus einem Werkstoff der Eisengruppe des Periodischen Systems der Elemente oder auch aus Leichtmetall eine Wismutschicht aufgebracht worden ist, um auf diese die gleichrichtende Selenschicht aufzudampfen, dadurch gekennzeichnet, daß bei Berührung der aufgedampften oder sonstwie aufgebrachten Wismutschicht mit der Luft die wismutierte Trägerelektrode vor der Bedampfung mit Selen durch Evakuierung und durch anschließende Aufladung mit einem geeigneten Gas, z. B. Stickstoff oder Leuchtgas, vorzugsweise unter Atmosphärendruck, von den in der Wismutschicht adsorbierten Luft- bzw. Sauerstoffresten befreit wird.Angezogene Druckschriften: Espe und Kno-Il »Handbuch der Vakuumtechnik«, Verlag Springer, Berlin 1936, S. 120.9596 2.55
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