DE901714C - Verfahren zum Beeinflussen des Korrektionszustandes von optischen Systemen, insbesondere von Mikro-Objektiven - Google Patents
Verfahren zum Beeinflussen des Korrektionszustandes von optischen Systemen, insbesondere von Mikro-ObjektivenInfo
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- DE901714C DE901714C DEL763D DEL0000763D DE901714C DE 901714 C DE901714 C DE 901714C DE L763 D DEL763 D DE L763D DE L0000763 D DEL0000763 D DE L0000763D DE 901714 C DE901714 C DE 901714C
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
Description
- Es ist eine alte Erfahrung der optischen Werkstätten, daß man ein Mikro-Objektiv durch Setzen, d. h. Ändierung der Abstände zwischen dien einzelnen Linsen" einem bestimmten Objekt so anpassen kann, daß bestimmte Einzelheiten besonders deutlich hervortreten. Die Änderung der Linsenabstände verändern die sphärische Aberration, des Systems, was im Sinne der Wellenfläche für die Erkennbarkeit bestimmter Einzelheiten günstig ist. Da es im allgemeinen nicht :angänigig ist, ein Mikro,-Objektiv nur einem ganz bestimmten Objekt anzupassen, hatte die Anwendung dieser Erfahrung bisher nur geringe praktische Bedeutung.
- Zweck der Erfindung Ist es, die, erwähnte Erfahrung im größeren Umfang nutzbar zu machen, was durch Aufbringen dünner Schichten, wie z. B. Aufdampfen im Hochvakuum., ermöglicht wird. Erfindungsgemäß wird ein durchsichtiger im; denn Strahlengang eingeschaltet, deir- mit einem ebenfalls durchsichtigen, einige Weihen,-längen starken Belag versehen ist, der dein jeweiligen Objekt erforderlichenfalls durch Auswahl aus einem Satz von Schichtträgern: mit unterschiedlicher Dickenverteilung angepaßt wird. Diese Schichtträger können ebene oder gewölbte Platten oder auch Linsen aus @Glas oder einem anderen geeigneten durchsichtigen Stoff .sein. Durch den Belag entsteht aus dem Schichtträgeir eine Linse oder ein komplizierteres brechendes Geibilde. Durch Einschalten eines solchen Schichtträgers. in den; Strahlengang, sei es vor, in oder hinter' denn Objektiv, werden die Wellenflächen verbogen. Während aber beim bekannten Setzen durch Änderung der Linsenabstände brauchbare Verbkgungen Gier Welilenfiächen nur in engen, Grenzen zu erreichen sind, insbesondere nur axial-symmetrische und nur stetige, ist man nach dem neuem Verfahren viel freier. Dabei kann auch das Objektiv an sich unverändert bleiben und, je nach dem Objekt, mit den. verschiedenartigsten Korrektionsplatten korm:biniert w emdien. Bringt man die Korrektionsplatten: hinter dem M,ikro,Objektiv an, so kann die gleiche Platte mit den verschiedensten Objektiven benutzt werden.
- Die Erfindung und ihre Wirkungsweise ist in der Zeichnung schematisch erdäuteu^t. Es zeigt Abb. i ein vor einem optischen System angeiardnetes Planparallelglas 2 mit unbeeinflußtem Strahlengang und en:ngiezeichneten Wellenflächen.3 für eine ideale punktförmige Abbildung, Abb. 2 das gleiches optische System i mit davor angeordneter Platte 4, die mit der Korrektionsschicht 5 versehen ist, und die hierdurch veränderten Wellenflächen 3', Abb. 3, 4 und 5 die Plattem 6" 6b und 6, mit verschieden geformten Korrektionsschichten 7" 7b Und 7c.
- Während das in Abb. i den Strahlengang des optischen Systems i bezüglich der Wellenfiächen 3 nicht beeinfiußt', werden in Abb. 2 diuTch die Korrektionsschicht 5, die bei Gier dargestellten Form -wie eine-Zerstreuungslinse wirkt, die Well:enflIchen. 3' in :geeigneter Weisse verbogen.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: Verfahren zum Beeinflussen des Korrektionszustan&s. optischer Systeme, insbesondere von Mikro-Objektiven, d!ädiurch gekennzeichnet, d:aß in den Strahlengang ein durchsichtiger Schichtträger e@inMchalfiet ist, der mit einem ebenfalls durchsichtigen, einige Wellenlängen starken Belag versehen isst, der dem jeweiligen Objekt erforderlichenfalls durch Auswahl aus einem Satz von Schichtträgern mit unterschiedlicher Dickenverteilung angepaßt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEL763D DE901714C (de) | 1942-02-01 | 1942-02-01 | Verfahren zum Beeinflussen des Korrektionszustandes von optischen Systemen, insbesondere von Mikro-Objektiven |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEL763D DE901714C (de) | 1942-02-01 | 1942-02-01 | Verfahren zum Beeinflussen des Korrektionszustandes von optischen Systemen, insbesondere von Mikro-Objektiven |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE901714C true DE901714C (de) | 1954-01-14 |
Family
ID=7255044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEL763D Expired DE901714C (de) | 1942-02-01 | 1942-02-01 | Verfahren zum Beeinflussen des Korrektionszustandes von optischen Systemen, insbesondere von Mikro-Objektiven |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE901714C (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1190217B (de) * | 1963-03-22 | 1965-04-01 | Inst Plasmaphysik G M B H | Verfahren zur Korrektur eines optischen Systems |
EP0315430A2 (de) * | 1987-11-06 | 1989-05-10 | Shimadzu Corporation | Hyperthermiegerät |
DE4426618B4 (de) * | 1993-07-27 | 2005-04-28 | Pentax Corp | Kamerasystem |
-
1942
- 1942-02-01 DE DEL763D patent/DE901714C/de not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1190217B (de) * | 1963-03-22 | 1965-04-01 | Inst Plasmaphysik G M B H | Verfahren zur Korrektur eines optischen Systems |
EP0315430A2 (de) * | 1987-11-06 | 1989-05-10 | Shimadzu Corporation | Hyperthermiegerät |
EP0315430A3 (de) * | 1987-11-06 | 1991-03-27 | Shimadzu Corporation | Hyperthermiegerät |
DE4426618B4 (de) * | 1993-07-27 | 2005-04-28 | Pentax Corp | Kamerasystem |
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