DE832643C - Ultraviolettstrahler - Google Patents
UltraviolettstrahlerInfo
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- DE832643C DE832643C DEP31258D DEP0031258D DE832643C DE 832643 C DE832643 C DE 832643C DE P31258 D DEP31258 D DE P31258D DE P0031258 D DEP0031258 D DE P0031258D DE 832643 C DE832643 C DE 832643C
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- ultraviolet
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/06—Radiation therapy using light
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Veterinary Medicine (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Description
- Ultraviolettstrahler Gegenwärtig werden als Röhren für Ultraviolettstrahler bzw. Ultraviolettstrahlgeräte sogenannte Quecksilberbochdruckdampfalmpen verwendet, welche entladungsgeheizte, vorweigeend aktivierte Elektroden in quecksilber von weniger als 1 Atm. besitzen und sich mit einem passend geformten Reflektor befinden.
- Hiermit wird vorgeschlagen. statt derartiger lampen soche aLampen zuverwenden, weche mehr als 1 Atm. Druck, vorzugsweise 25 bis 75 Atm., enthalten. d. h. sogenannte Höchsdruckentladungsröhren.
- Die Verwendung einer derartigen Höchstdurckdampflampe gegenüber der bischer verwendeten Hochdruckampflampe bring wersntliche Vortiele mit sich, Zunächst einmal kommt man rein technologisch für die Herstellung deartiger Lampen mit weit weniger Quarz aus als bisher. Ferner ist die spektrale Verteilung der Emission medizinishc oder für andere Zweck für viele Anwendungsgebiete zweckmäßiger als bisher. Vor allem ist die ganz kuzwllige Strahlung. darunter die Quecksilberresonanzlinie 2537 Ä. welche medizinisch oft nachteilg bw. unerwünscht ist. gegenüber den bisherigen Hochdrucklampen stakr unterdrückt. Dafür wird gegenüber den bisherigen Hockdrucklampen eine zusätzliche Strahlung in den medizinsich wertvollen Gebieten UV-A (3150 bis 4000 Ä) mit Tiefenwirkung (vorteilhaft z. B. für Lupusbehandhing0 und UV-B (2800 bis 3150 Ö) erythemerzyeugend und antriachitisch wirkend0 erzeugt.
- Daher dürfte die Verwendung einer Armautr mit einer Quecksillberhächstdruckdampflampe von der medizinishcen Welt stark begrüßt werden. welche sich teilweise gegen die jetzt üblichen Höhensonnen mit Hochdruckdampflampen bis 1 Ätin. wegen des für manche Zwecke unvorteilhaften Spektrums eingestellt hat.
- Besitzen die Lampen einen höheren Druck als 1 Atm., vor allem während des Betriebes, so ist stets die Gefahr vorhanden, daß si, expoldieren und druch entstedende Splitterwirkung den vor der Appratur befindlichen Patienten gefähren. Dies trifft vor allem zu bei Verwendung der neuerdings bekanntegewrdenen sogenannten kungflörmigen 11 öchstd ruckentladungsröhren, z. B. mit Quecksilber oder nur Edelgas gefüllt, welche vor allem während des Betriebes Drücke von mehr als l Atm., vorzugsweise zwischen 25 und 75 Atm., enthalten.
- Um eine Gefährdung der Patienten auszuschließen, wird erfindungsgemäß vor der Röhre innerhalb des Reflektors, d. h. zwischen der Röhre untl dem Patienten, ein Schutzschirm untergebracht. welcher eine solche Größe besitzt, daß die Tangenten von der Röhre an dem Rand des Schutzschirmes vorbei zu Punkten innerhalb desReflektors l>zw. gerade an den Rand des Reflektors führen.
- Sollte Ite nun eine Überdruckröhre einmal exploideren. so können die Splitter nicht zu dem Patienten wiegen, sondern nur auf den Schutzschirm und den Reflektor, wo ihre Flugkraft abgebremst wird.
- Die Abbildungen stellen schematische Ausführungsbeispiele zur Durchfübrung der Erfindung dar.
- In der Abb. I ist eine Armatur mit einer solchen Quecksilber- oder Edelgashöchstdurchampfl ami dargestellt. Am zweckmäßigsten dürfte sich eine Lampe für sooW empfehlen, welche einen Betriebstlruck von etwa 35 Atm. aufweist. 1 bedeutet eine solche Lampe aus Quarz, welche eine genügende Wandstärke haben muß. l)er Quecksilberdampf ist im Betriebe untersättigt. Es befinden sich in ihr zwei teilweise aktivierte entladungsgeheizte Elektroden aus Wolfram und gegebenenfalls eine nicht gezeichnete Hilfselektrode. Die Röhre enthält iioch ein Zündgas. wie Argon. Andere Lampentypen besitzen einen Betriebsdampfdruck von etwa 25 bis 75 Atm. je nach Lampengröße, z. B. für 1000 bis ioo W. Die Röhre befindet sich am leisten in der gezeichneten Stellung im Reflektor 2, damit ihr Strahlungsoptimum senkrecht zur Reflektorachse liegt. Nach dem vorliegenden Beispiel besitzt der Reflektor oben ein Röhrchen aus Isolierstoff 3 mit einer Feder 4, so daß die Röhre, mit einem Ende gut eingeführt, gehaltert und so mit einer elektrischen Leitung versehen werden kann. Das andere Ende der Röhre befindet sich in ähnlicher Weise in einem anderen Röhrchen j nebst Feeer und Stromzufühung 6. An dem Halteröhrchen 5 hefindet sich ein hochreflektrierender Schutzschirm 7, der dazu dient, bei einer evtl. Explosion der Lampe die vor der Lampe befindliche Person zu schützen. Ferner wird durch ihn die nach unten gerichtete Strahlung auf den Reflektor 2 geleitet. Er hat z weckmäßigerwiese zumindest eine solche Größe. daß die Tangenten von der Lampe an dem Rand des Schutzschirmes vorbei zu dem Rande des Reflektors 2 führt, um alle direkten Splitter von der Lampe nicht direkt nach außen fliegeii zu lassen.
- Gegebenenflals ist der Reflektor noch durhc ein oder zwei engmaschige Netze 8. z. B. aus Kupfer-oder Nickeldraht, abgeschlossen, um vor allem bei Bestrahlungen von ol oben unter der Armatur befindliche Patienten vor herabfallenden Splittern zu schützen. Es dürfte sich gegebenenfalls empfehlen. dem Reflektor für manche Zwecke eine in Abb. 2 dargestellte Oberfläche zu geben. weobei also die Oberfläche geriffelt, gewaffelt o. dgl. ausgeführt ist, um eine nahc außen noch mehr diffuse Strahlung zu erhalten. In der Abb. 2 sind auch statt des einen zwei Netze gezeichnet. Ferner besitzt hier der Reflektor ain Scheitel einen passend geformten Reflektor 9 um einen vorteilhafteren Strahlungsaustritt aus der Armatur zu erhlaten j: dürfte sich auch empfehlen. die Lampe längs der Reflektorachse. gegebenenfllas zusammen mit allem Schutzschirm, verschibbar anzuordnen. Cm den wirkungs grad an erwünschter Strahlung noch mehr zu vergrößern. wi wird vorgeschlagne, die iionerc Oberfläche des Reflektors 8 ganz oder teilweise mit UV stahlenden Leuchtstoffen to zu verschen, wie z.B. mit Ca3(PO4)2-KCIT1 mit einem Emissionsmaximum bei 3000 A bzw. mit Ca dz 1,04 Tl mit einem Emissionsmaximum bei 31 50 Å A oder mit Ca3 (PO4)2T1 mit einen) Emissionsmaximum bei 3300 A usw. Eine derartige Anordnung von Leuchtstoffen innerhalb eines evtl. geriffelt. gewaffelt usw. ausgeführten Reflektors dürfte sich gegebenenfalls auch für solche Armaturen empfehlen. welche mit gewöhnlichen, zur Zeit üblichen Quecksilberhochdruckdampflampen bis 1 Atm. Druck bestückt sind. Die Abb. 2 ist sonst wie Abb. 1 ausgeführt.
- Der Schutzswchirm hat hier eine kegeflörmige Ausgestaltung.
Claims (7)
- PATENTANSPRÜCHE 1. Ultra iolettstrahle r. dadurch gekenzneichnet, daß innerhalb eines Reflektors eine Höchstdruckentladmgsröhre. insbesondere eine kugelförmige Quecksiblberröh re mit einem Betriebsdruck von etwa 25 bis 75 Atm., untergebracht ist. wobei vor der Entladungsröhre ien Schutzschirm innerhalb des Reflektors derart und von einer solchen Größe nageordnet ist, daß die Tangenten von der Rohre an dem Rand des Schutzschirmes vorbei zu Punkten innerhalb des Reflektros bzw. gerade an <leii Rand des Reflektors Führen.
- 2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurhc gekennzeichnet, daß der aus einem passend geformten Blech bestehende Schutzschirm sich möglichst didlt vor <1er Entladugsröhre be findet und nach iiiioeii zu rille die Strahlung stark reflektierende Oberfläche besitzt.
- 3. Ultraviolettstrahler nach Anspruch I und 2. dadurch gekennzeichnet, daß die Lampe derart im Reflektor angeordnet ist. daß ihr Strahlungsmaximum senkrecht zur Reflektor achse liegt.
- 4. Ultraviolettstrahler nach Anspruch I bis 3, dadurch gekennzeichnet. daß die innere Ober- fläche des Reflektors ganz bzw. auf großen Teilen abweichend von der üblichen glatten Form geriffelt, gewaffelt o. dgl. ausgeführt ist.
- 5. Ultraviolettstrahler nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,d daß die innere Oberfläche des Reflectors mit solchen leuchtostoffen versehen ist. welche vor allem im ultravioletten Strahlungsgebiet zum Strahlen gebracht werden, wie z. B. Ca3(PO4)2T1.
- 6. Ultraviolettsrahler nach Anspruch I bis 5, ladu rch gekennzeichnet, daß der Reflektorrand durch ein oder zwei engmaschige Netze, z. B. aus Kupfer- oder Nickeldraht, abgeschlossen ist.
- 7. Ultraviolettstahler nach Anspruch I bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Röhrenenden in zwei Röhrchen eingelagert sind, in welchen sich je eine Feder befindet, welche an die lampendnden drücken und die Stromzuführung vermitteln.Angezogene Durckschriften; Deutsche Patentschriften Nr. 725 396, 7t7909.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP31258D DE832643C (de) | 1949-01-09 | 1949-01-09 | Ultraviolettstrahler |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP31258D DE832643C (de) | 1949-01-09 | 1949-01-09 | Ultraviolettstrahler |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE832643C true DE832643C (de) | 1952-02-28 |
Family
ID=7372221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP31258D Expired DE832643C (de) | 1949-01-09 | 1949-01-09 | Ultraviolettstrahler |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE832643C (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE956613C (de) * | 1954-02-23 | 1957-01-24 | Licentia Gmbh | Xenon-Farbabmusterungsleuchte |
DE2934140A1 (de) * | 1979-08-23 | 1981-03-26 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Lichtquelle mit einstellbarer intensitaetsverteilung und hoher leuchtdichte |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE717909C (de) * | 1939-12-23 | 1942-02-25 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Bestrahlungslampe |
DE725396C (de) * | 1941-02-06 | 1942-09-21 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Bestrahlungslampe mit einer Quecksilberhochdruckroehre in der Achse eines ultraviolettdurchlaessigen Huellgefaesskolbens |
-
1949
- 1949-01-09 DE DEP31258D patent/DE832643C/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE717909C (de) * | 1939-12-23 | 1942-02-25 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Bestrahlungslampe |
DE725396C (de) * | 1941-02-06 | 1942-09-21 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Bestrahlungslampe mit einer Quecksilberhochdruckroehre in der Achse eines ultraviolettdurchlaessigen Huellgefaesskolbens |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE956613C (de) * | 1954-02-23 | 1957-01-24 | Licentia Gmbh | Xenon-Farbabmusterungsleuchte |
DE2934140A1 (de) * | 1979-08-23 | 1981-03-26 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Lichtquelle mit einstellbarer intensitaetsverteilung und hoher leuchtdichte |
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