DE821060C - Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes

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DE821060C
DE821060C DEP44786A DEP0044786A DE821060C DE 821060 C DE821060 C DE 821060C DE P44786 A DEP44786 A DE P44786A DE P0044786 A DEP0044786 A DE P0044786A DE 821060 C DE821060 C DE 821060C
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DE
Germany
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resistance layer
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carbonyls
electrical sheet
sheet resistor
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Expired
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DEP44786A
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English (en)
Inventor
Erich Dipl-Ing Weides
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Steatit Magnesia AG
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Steatit Magnesia AG
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
    • H01C17/288—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals by thin film techniques
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes. Schichtwiderstände bestehen aus einem Isolierstofftragkörper, vorzugsweise aus Keramik, auf dem eine Widerstandsschicht, meistens in Form von Kohle, aufgebracht ist. Das Aufbringen der Kohleschicht kann durch Auftragen einer Kohlenstofflösung und Entfernen des Lösungsmittels durch nachfolgende Erwärmung geschehen. Auch können nichtflüchtige Kohlen stoffverbindungen nach Niederschlagen einer Lösung auf dem Isolierkörper durch Auftrocknen zersetzt werden. Ferner läßt sich eine Kohle-schicht durch Abscheidung von Kohlenstoff aus gasförmigen Kohlenwasserstoffen bei hoher Temperatur herstellen. Die Kontaktierung der Schichtwiderstände geschieht gewöhnlich durch Aufpressen von Kontaktstücken, z. B. Kappen, Schellen oder Lötösen, auf die Enden der Tragkörper.
  • Es hat sich nun gezeigt, daß solche Schichtwiderstände bei hoher elektrischer Stoßbelastung unter den Kontaktstücken durch Abbrand zerstört werden.
  • Dieser unerwünschte Abbranid wird gemäß der Erfindung dadurch vermieden, daß die Widerstandsschicht unter oder über einer an den Kontaktstellen vorgesehenen dicht anliegenden Metallschicht aufgebracht wird.
  • Nach einem weiteren Verfahren nach der Erfindung geschieht das Aufbringen der Widerstandsschicht durch thermische Verdampfung der Karbonyle von Eisen, Kobalt, Nickel, Chrom, Wolfram oder Molybdän. Ferner kann das Aufbringen der Widerstandsschicht durch Tauchen in verdünnte Karbonyle sowie durch Spritzen mit verdünnten Karbonylen geschehen. Zweckmäßig wird dazu der Isolierstoffträger vorher erwärmt, gegebenenfalls auf elektrischem Wege.
  • Durch Änderung der Verdünnung der Karbonyle lassen sich Widerstände von wenigen Ohm bis zu 3000 Megohm herstellen. Das Aufbringen der dicht anliegenden Metallschicht über oder unter der Widerstandsschicht geschieht in bekannter Weise durch Tauchen, Galvanisieren, Kathodenzerstäubung, thermische Verdampfung, Spritzen oder Aufbrennen.

Claims (5)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes, bestehend aus einem Isolierstoffträger, auf dessen Oberfläche eine Widerstandsschicht aufgebracht ist und an dessen Kontaktstellen Kontaktstücke, z. B. Kappen, Schellen oder Lötösen vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Widerstandsschicht unter oder über einer an den Kontaktstellen vorgesehenen dicht anliegenden Metallschicht aufgebracht wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der Widerstandsschicht durch thermische Verdampfung der Karbonyle von Eisen Kobalt, Nickel, Chrom, Wolfram oder Molybdän geschieht.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der Widerstandsschicht durch Tauchen in verdünnte Karbonyle geschieht.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der Widerstandsschicht durch Spritzen mit verdünnten Karbonylen geschieht.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der Metallschicht durch Tauchen, Galvanisieren, Kathodenzerstäubung, thermische Verdampfung, Spritzen oder Aufbrennen geschieht.
DEP44786A 1949-06-03 1949-06-03 Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Schichtwiderstandes Expired DE821060C (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1079166B (de) * 1953-01-09 1960-04-07 Resista Fabrik Elek Scher Wide Verfahren zum Herstellen der elektrischen und mechanischen Verbindungen zwischen denAnschlussteilen elektrischer Widerstaende und dem Widerstands-material bzw. dem Tragkoerper
DE1125046B (de) * 1960-08-16 1962-03-08 Werk Fuer Bauelemente Der Nach Verfahren zur Kontaktierung von Schichtwiderstaenden, insbesondere Metallschichtwiderstaenden

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1079166B (de) * 1953-01-09 1960-04-07 Resista Fabrik Elek Scher Wide Verfahren zum Herstellen der elektrischen und mechanischen Verbindungen zwischen denAnschlussteilen elektrischer Widerstaende und dem Widerstands-material bzw. dem Tragkoerper
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