DE728424C - Entladungsgefaess mit im Innern angeordnetem, hochschmelzendem, auch bei Betriebstemperatur gasbindendem Metall

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Entladungsgefäß mit im Innern angeordnetem, hochschmelzendem, auch bei Betriebstemperatur gasbindendem Metall Zusatz zum Patent 725 521 Das Hauptpatent 725 521 bezieht sich auf ein Entladungsgefäß mit im Innern angeordneten, hochschmelzenden, auch bei Betriebstemperatur gasbindenden. Metallen, wie z. B. Zirkon oder Tantal, wobei sich diese Metalle in poröser fester Schicht auf einer Elektrode-, z. B. der Anode, befinden. Als Träger für die Metallschicht, z. B. für :das sich in poröser fester Schicht befindende Zirkon, ist dort die Verwendung eines mit diesem Metall sich legierenden Metalls, wie z. B. Nickel, vorgeschlagen.
Erfindungsgemäß kommt nun als Zwischenschicht zwischen Elektrode und gasbindendem, hochschmelzendem Metall Eisen. zur Verwendung. Es hat sich herausgestellt, .daß sich für diesen Zweck Eisen wesentlich besser eignet ,als Nickel, das. sonst im allgemeinen wegen seiner günstigeren Vakuumeigenschaften dem Eisen überlegen ist. Bei Verwendung von Eisen besteht in geringerem Maße die Gefahr, daß sich die gasbindende Metallschicht, z,B. :die Zirkonschicht, beulenartig abhebt und abblättert.
Das Aufbringen der Eisenschicht kann nach bekannten Verfahren, z. B. durch Elektrolyse, erfolgen.

PATENTANSPRUCH: Entladungsgefäß mit im Innern auf einer Elektrode in poröser fester Form, angeordnetem, hochschmelzendem, auch bei Betriebstemperatur gasbindendem Metall nach Patent 725 524 :dadurch gekennzeichnet, daß als Träger für die gas: bindende Metallschicht ein- Zwischenschicht aus Eisen auf der Elektro.d:enoberfläche vorgesehen ist.