DE707897C - Verfahren zur Herstellung elementares Silicium enthaltender Formkoerper - Google Patents

Verfahren zur Herstellung elementares Silicium enthaltender Formkoerper

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DE707897C
DE707897C DEI49338D DEI0049338D DE707897C DE 707897 C DE707897 C DE 707897C DE I49338 D DEI49338 D DE I49338D DE I0049338 D DEI0049338 D DE I0049338D DE 707897 C DE707897 C DE 707897C
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elemental silicon
silicon
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DEI49338D
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Dr Fritz Stoewener
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IG Farbenindustrie AG
Original Assignee
IG Farbenindustrie AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B33/00Clay-wares
    • C04B33/02Preparing or treating the raw materials individually or as batches
    • C04B33/13Compounding ingredients
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Description

  • Verfahren zur Herstellung elementares Silicium enthaltender Formkörper Zusatz zum Patent 695 382 Im Hauptpatent 695 382 ist ein Verfahren zur Herstellung von Formkörpern durch Verformen von elementarem Silicium oder dessen Legierungen mit Bindemitteln und Brennen der Formlinge beschrieben, wobei man unter Fortlassung keramischer Bindemittel, wie Kieselsäure, Silikate und Metalloxyde, als Bindemittel geringe bis zu etwa i o % betragende Mengen Säuren oder Säureanhydride, vorzugsweise fester Metalloide der 5. oder 6. Gruppe des periodischen Systems einschließlich der Kieselfluorwasserstoffsäure oder Alkalien verwendet.
  • Es hat sich nun gezeigt, daß insbesondere dann, wenn es sich um die Herstelrung weniger einfach gestalteter Gegenstände handelt, z. B. Gefäße oder sehr lange Rohre, wobei die Töpferscheibe oder eine Strangpresse oder ähnliche Vorrichtungen benutzt werden müssen, es besonders vorteilhaft ist, wenn man als Bindemittel organische Kolloide oder umkehrbare anorganische Kolloide verwendet. Als geeignete Kolloide kommen beispielsweise wasserlösliche Tonerde, insbesondere aber organische Stoffe, wie Latex oder Kautschuklösungen bzw. -emulsionen, ferner Lösungen von Dextrin, Gelatine und Seifen, künstlichen oder natürlichen Harzen bzw. Harnstoffkondensationsprodukten u. dgl. in Betracht.
  • Bei Verwendung von Lösungen von Kautschuk in leicht verdunstbaren Lösungsmitteln, z. B. Benzin, Benzol, Methylenchlorid .oder Tetrachlorkohlenstoff; verfestigt sich die Masse sehr stark schon beim Stehen oder beim Erwärmen im Vakuum, wobei das Lösungsmittel wiedergewonnen werden kann, zu einem noch elastischen, aber trotzdem leicht bearbeitbaren Formling, der langsam getrocknet und sodann bei allmählich bis auf i3oo°.ansteigender Temperatur.gebranntwird, wobei porige Gegenstände entstehen, die sich je nach der Form als Filter für Flüssigkeiten und Gase, als Mischdüse oder Zerteiler für Flüssigkeiten und Gase in Flüssigkeiten und Gasen, als Elektrofilter und Elektrodenmaterial, insbesondere für Lichtbögen, eignen, ferner .als Diaphragmen, elektrische Heizwiderstände, Detektoren und Gleichrichter sowie als Ausgangsstoff für die Herstellung von Siliciumnitrid usw., .als Ausgangsstoff für Zündkerzen, Dochte usw., Kontaktträger, Füllkörper usw. Durch Glasierung der porigen Massen kann man diese dicht machen, wobei man als Glasur außer den üblichen Glasuren auch feinstes Siliciumpulver oder aus diesem durch Vermischen mit Kochsalz, Borax und anderen Stoffen, Brennen und Mahlen erhaltene Fritteglasuren benutzen kann. Eine zusätzliche Verwendung von Glycerin oder Glykol ist auch beim Arbeiten mit Kolloiden vorteilhaft.
  • Wenn es sich um Plättchen handelt, die zum Auskleiden eines Eisengefäßes Verwendung finden sollen, ist es zweckmäßig, diese aus mehreren Schichten zu erzeugen, deren beide äußersten aus Eisen bzw. reinem oder technisch reinem Silicium bestehen, während die dazwischenliegenden Schichten aus Gemischen oder Legierungen des Eisens und Siliciums mit von der Eisen- zur Siliciumseite steigendem Siliciumgehalt bestehen. Entsprechend kann beispielsweise ein Kupferkessel mit Platten ausgekleidet werden, die in gleicher Weise, aber unter Verwendung von Kupfer statt Eisen hergestellt sind. Die Verwendung solcher Platten, die überdies gegenüber gleichdicker Platten aus Silicium allein eine höhere Wärmeleitfähigkeit besitzen, bietet infolge Angleichung der thermischen Eigenschaften von Platte und Kesselwand den Vorteil größerer Haftfestigkeit der Platten bei Temperaturschwankungen. Derartige Platten lassen sich herstellen durch übereinanderwalzen mehrerer Schichten plastischen Materials von in der beschriebenen Weise wechselnder Zusammensetzung und gegebenenfalls Pressen und Formen der Masse oder durch Ausschleudern in einer um die lotrechte Achse mit großer Geschwindigkeit umlaufenden Trommel, in die man ,dis Masse laufend unter allmählicher Änderung der Zusammensetzung zugibt, worauf man die Masse der Trommel als Zylinder oder Halbzylinder entnimmt und sie, gegebenenfalls nach Zerlegung des ersteren durch Aufschneiden längs der Mantelfläche in zwei Halbzylinder, zu einer Schicht von geeigneter Stärke walzt, sodann trocknet, formt und brennt. Bei der Herstellung entsprechender Rohre unterbleibt das Aufschneiden und Plattwalzen des entstandenen Zylinders. Beispiel ioo Gewichtsteile Silicium, das gooö Silicium und i o ofo Eisen enthält, werden mit 5 Gewichtsteilen Dextrin, 5 Gewichtsteilen kristallisierter 'Borsäure und 15 Gewichtsteilen Wasser in einer Knetmaschine gründlich gemischt, bei etwa 3o bis 3oo,at gepreßt und einige Stunden an der Luft grelagert und bei i 2o' getrocknet. Die Formtücke werden durch Sägen, Schleifen oder gehen in gewünschter Weise bearbeitet und \odann unter allmählicher Temperatursteigerung. bei 1300' gebrannt.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Verfahren zur Herstellung elementares Silicium enthaltender- Formkörper nach Patent 695382, dadurch gekennzeichnet, daß als Bindemittel organische Kolloide' oder umkehrbare anorganische Kolloide verwendet werden.
DEI49338D 1932-10-19 1932-10-19 Verfahren zur Herstellung elementares Silicium enthaltender Formkoerper Expired DE707897C (de)

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