DE69938217T2 - Sonde mit optischem wellenleiter und herstellungsverfahren dafür - Google Patents

Sonde mit optischem wellenleiter und herstellungsverfahren dafür Download PDF

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Koichi Mukasa
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Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Tunnelmikroskop, welches Spin-polarisierte Elektroden verwendet, und genauer eine Sonde, die in einem derartigen Tunnelmikroskop verwendet wird, und ein Verfahren zum Herstellen der Sonde.
  • HINTERGRUNDTECHNIK
  • Wenn eine herkömmliche Sonde bei der Spinmessung verwendet wird, treten die folgenden Probleme auf.
    • (1) Da eine herkömmliche Sonde keinen optischen Wellenleiter hat, wird Licht von außen auf die Spitze der Sonde gestrahlt. Daher wird Licht auf die Sonde unter einem bestimmten Winkel relativ zu der Sonde eingestrahlt, so dass nur ein Teil der Sonde, der Licht empfängt, in einen angeregten Zustand kommt. Das heißt, da Licht nicht gleichförmig auf den Spitzenbereich der Sonde gestrahlt wird, kann eine Anregung des gesamten Spitzenbereiches der Sonde nicht erreicht werden. Daher ist die herkömmliche Sonde schlecht, was den Wirkungsgrad der Elektronenanregung und den Wirkungsgrad beim Herausziehen von Spin-polarisierten Elektronen betrifft. Demgemäß muss starkes Licht auf die Sonde eingestrahlt werden, um Spinpolarisierte Elektronen zu erhalten, die für die Betrachtung unter dem Mikroskop ausreichend sind.
    • (2) Wenn jedoch starkes Licht auf die Sonde gestrahlt wird, wird Anregungslicht auf eine Probenfläche in enger Nähe zu dem Spitzenbereich der Sonde gestrahlt, und somit treten Reflexion und Absorption des Anregungslichtes auf der Seite der Probenoberfläche auf.
    • (3) Weiter wird die Sonde durch Licht angeregt, das von der Probenoberfläche gestreut wird. Da das gestreute Licht ungeordnet polarisiert ist, nimmt der Grad der Spinpolarisation der Spin-polarisierten Elektronen ab, was zu einer Abnahme bei dem Erfassungsgrad in der Spinmessung führt.
    • (4) Die herkömmliche Sonde ist aus GaAs oder einem ähnlichen Material gebildet. Diese Materialien sind weich und für Rißbruch anfällig. Daher ist die mechanische Festigkeit der Sonde gering, und während der Verwendung reißt die Sonde häufig beim Kontakt mit einer Probe. Zusätzlich, da GaAs einen niedrigen Schmelzpunkt hat, schmilzt das Spitzenende der Sonde, wenn es mit starker Licht angeregt wird. Weiter, wenn die GaAs-Sonde zum Reinigen aufgeheizt wird, verdampft As, das einen hohen Dampfdruck hat. Als ein Ergebnis ändert sich die Struktur und der Zustand der Elektronen des Spitzenendes der Sonde, so dass Spinpolarisierte Elektronen mit einem hohen Grad der Spin-Polarisation nicht erhalten werden können. Weiter, aus demselben Grund, kann die herkömmliche Sonde dem Reinigen durch Einbringen von Wärme für die erneute Verwendung nicht unterworfen werden.
  • Die US 5 394 741 offenbart einen einseitig aufgehängten Hebel, der eine Sonde auf einer Seite auf einem Endbereich und einen Spiegel auf der gegenüberliegenden Seite hat. Der einseitig aufgehängte Hebel ist an einem Trägerelement über ein piezoelektrisches Element befestigt. Ein Halbleiterlaser, der sich oberhalb des Spiegels befindet, hat eine Reflexionsspaltebene und bildet einen Fabry-Pérot-Resonator zwischen dem Spiegel und der Reflexionsspaltebene. Die Ausgabe vom Resonator ändert sich entsprechend der Größe der Verlagerung des Endbereiches des einseitig aufgehängten Hebels, das heißt, der Oberflächenkonfiguration der Probe. Diese Änderung wird von einem Detektor über einen Photodetektor erfaßt. Eine Steuerschaltung steuert eine Treiberspannung, die an einen XYZ-Scanner angelegt ist, um so die Änderung der Ausgabe vom Resonator auszulöschen, so dass der Abstand zwischen der Spitze der Sonde und der Oberfläche der Probe konstant gehalten wird. Die Treiberspannung liefert Höhendaten für die Probenoberfläche. Die Treiberspannung, zusammen mit einem Positionssignal, das in bezug zu der Probenoberflächenausgabe aus dem XYZ-Scanner steht, wird an eine bildgebende Einheit geliefert. Die bildgebende Einheit erzeugt ein dreidimensionales Bild, welches die Oberflächengestaltung der Probe darstellt, auf der Basis der Eingangsspannung und des Signals.
  • Die EP 0 355 241 offenbart ein Abtast-Tunnelmikroskop. Die Tunnelspitze besteht aus einem optisch transparenten Körper, der mit einer Halbleiterschicht, so wie einer GaAs-Schicht, beschichtet ist. Die Probe, die untersucht werden soll, ist ein magnetisches Material, und der Betrieb des Tunnelmikroskops erlaubt eine Untersuchung der magnetischen Eigenschaften an oder nahe der Oberfläche der Probe, die ausgeführt wird, wenn ein Spin-polarisierter Licht strahl auf die Probe fällt, entweder durch den transparenten Körper der Tunnelspitze, von unterhalb (und durch) die Probe oder von der Seite der Probe her. Das Tunnelmikroskop umfaßt einen oszillatorgesteuerten phasenempfindlichen Detektor oder eine Gattereinrichtung und eine Anzeigeeinheit zum direkten Betrachten der magnetischen Eigenschaften und der Topographie der Probe.
  • Die JP 62-89035 offenbart eine Sonde zur Verwendung bei einem Spin-abtastenden Tunnelmikroskopsystem. Die Sonde weist eine Halbleiterverbindung auf, so wie GaAs mit einer Sphelerit-Struktur. Die Spitze der Sonde ist spitz geformt, während der Boden der Sonde aufgeweitet ist und die Seitenfläche mit zirkular polarisiertem Licht bestrahlt wird. Die Seitenfläche bildet einen Super-Matis-Film oder einen Spannungsgitterfilm, und ihre Dicke ist für den festgelegten Bereich geeignet.
  • Die EP 0 860 726 offenbart eine Sonde zum Erfassen oder Einstrahlen von Licht, die ein lagerbares Trägerelement auf einem Substrat umfaßt, eine Spitze, die aus dem Trägerelement gebildet ist, und eine Bindeschicht zum Anbinden der Spitze an dem Trägerelement. Die Spitze hat eine Mikroöffnung. Wenn eine lichtabschirmende Schicht weiter auf der Oberfläche der Spitze gebildet ist, ist die Mikroöffnung auf der lichtabschirmenden Schicht gebildet. Die Spitze besteht aus einem lichtdurchlässigen Material. Dieses Dokument fällt unter die Vorschriften des Artikel 54 (3) EPC.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die oben beschriebenen Probleme zu lösen und eine Sonde mit einem optischen Wellenleiter zur Verfügung zu stellen, die (1) die Spin-messung mit hohem Wirkungsgrad selbst bei schwachem Anregungslicht ermöglicht, (2) hohe mechanische Festigkeit hat und weniger anfällig gegen Reißen ist, (3) unter starkem Anregungslicht benutzt werden kann, (4) das Reinigen des Endes der Sondenspitze vereinfacht, (5) das Anregen des Endes der Sondenspitze erlaubt und (6) den Einfluß des Anregungslichts auf eine Probe unterdrückt; d. h. eine Sonde mit einem optischen Wellenleiter, die robust und sehr zuverlässig ist. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zum Herstellen der Sonde zur Verfügung zu stellen.
  • Um zu versuchen, die obigen Aufgaben zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung das Folgende zur Verfügung.
  • Eine Sonde mit einem optischen Wellenleiter, die aufweist:
    • (a) ein Saphirsubstrat;
    • (b) auf einer Oberfläche des Saphirsubstrats gewachsen, einen optischen Wellenleiterabschnitt mit einer doppelten Heterostruktur und mit einer In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht und einer In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht, welche eine In1-x-yGaxAlyN-Schicht einschließen, wobei 0 ≤ x, y, x', y' x'', y'', x + y, x' + y', x'' + y'' ≤ 1 und wobei von den Schichten die In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) die minimale Bandlückenenergie hat; und
    • (c) einen AlxGa1-xN-Sondenabschnitt, der in einer konischen Form gewachsen ist, so dass der Sondenabschnitt mit einem Teil der In1-x-yGaxAlyN-Schicht verbunden ist, wobei Licht, das sich durch eine optische Wellenleiterschicht fortpflanzt, die durch die In1-x-yGaxAlyN-Schicht gebildet wird, zu dem Sondenabschnitt geführt wird, um Elektronen an einem Spitzenende des Sondenabschnittes anzuregen.
  • Vorteilhaft ist die In1-x-yGaxAlyN-Schicht so gebildet, dass sie auf einer Seite, auf der beim Einsatz Anregungslicht eingeführt wird, im Vergleich zu einer Seite, auf der der Sondenabschnitt wachst, eine größere Dicke hat.
  • Ein Verfahren zum Herstellen einer Sonde mit einem optischen Wellenleiter, das aufweist:
    • (a) Wachsenlassen einer doppelten Hetero-Struktur mit einer In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht und einer In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht (3, 13), welche eine In1-x-yGaxAlyN-Schicht einschließen, um somit einen optischen Wellenleiter zu bilden, auf einer Fläche eines Saphirsubstrats, wobei 0 ≤ x, y, x', y', x'', y'', x + y, x' + y', x'' + y'' ≤ 1 und wobei von den Schichten die In1-x-yGaxAlyN-Schicht die minimale Bandlückenenergie hat; und
    • (b) Freilegen eines Teiles der In1-x-yGaxAlyN-Schicht; und
    • (c) Wachsenlassen eines AlxGa1-xN-Sondenabschnittes in einer konischen Form auf dem freiliegenden Abschnitt der In1-x-yGaxAlyN-Schicht.
  • Wie oben beschrieben wird bei der vorliegenden Erfindung die Sonde aus AlxGa1-xN gebildet, das ein hartes Material mit einem hohem Schmelzpunkt ist; und ein optischer Wellenleiter mit einer doppelten Heterostruktur und mit einer In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht, einer In1-x-yGaxAlyN-Schicht und einer In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht wird bevorzugt durch Verwendung organometallischer Gasphasenepitaxie in die Sonde integriert.
  • Das wichtigste Merkmal der vorliegenden Erfindung liegt in der Verwendung von AlxGa1-xN, welches ein Material mit einer geringen Elektronenaffinität ist, als ein Material für die Sonde. Im Gegensatz zu der herkömmlichen Technik wird Anregungslicht zu dem Spitzenende der Sonde über einen Wellenleiter geführt, der innerhalb der Sonde vorgesehen ist. Daher ist es weniger wahrscheinlich, dass eine Probenoberfläche durch Reflexion und Absorption von Anregungslicht beeinflußt wird.
  • Weiter, da der gesamte Spitzenendenbereich der Sonde angeregt wird, hat die Sonde einen hohen Wirkungsgrad für die Elektronenanregung ebenso wie einen hohen Wirkungsgrad beim Herausziehen von Spin-polarisierten Elektronen.
  • Darüber hinaus, anders als die herkömmliche Sonde, ist die Sonde der vorliegenden Erfindung aus einem harten Material gebildet und ist daher weniger anfällig gegen Reißen. Zusätzlich, da der Schmelzpunkt des Materials hoch ist, kann die Sonde einer Elektronenanregung durch die Verwendung einer Anregungslichtquelle mit hoher Ausgabe widerstehen, und Reinigen bei erhöhter Temperatur kann durchgeführt werden. Daher kann die Sonde wegen des Reinigens bei erhöhter Temperatur erneut verwendet werden.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1(a)1(d) sind Schnittansichten, die die Schritte eines Verfahrens zum Herstellen einer Sonde mit einem optischen Wellenleiter gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen;
  • 2 ist eine Schnittansicht der Sonde mit einem optischen Wellenleiter gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 3(a)3(c) sind Schnittansichten, die die Schritte eines Verfahrens zum Herstellen einer Sonde mit einem optischen Wellenleiter gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen; und
  • 4 ist eine Schnittansicht der Sonde mit einem optischen Wellenleiter gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • BESTE ART, DIE ERFINDUNG AUSZUFÜHREN
  • Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun in Einzelheiten beschrieben werden.
  • Die 1(a)1(d) sind Schnittansichten, die die Schritte eines Verfahrens zum Herstellen einer Sonde mit einem optischen Wellenleiter gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen; und die 2 ist eine Schnittansicht der Sonde mit einem optischen Wellenleiter, die nach dem Verfahren hergestellt ist.
    • (1) Zunächst, wie in der 1(a) gezeigt, werden mit Einsatz der organometallischen Gasphasen-Epitaxie nacheinander eine In1-x''-y''Gax''Aly''N-Pufferschicht 2, eine In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht 3, eine In1-x-yGaxAlyN-Schicht 4 und eine In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 5 auf einer (0001) Fläche eines Saphirsubstrats 1 wachsen gelassen.
  • Wie oben beschrieben wird, um einen ebenen Film zu erhalten, zu Beginn des Wachstumsprozesses die In1-x''-y''Gax'Aly''N-Pufferschicht 2 bei einer niedrigen Temperatur wachsen gelassen. Anschließend, um eine Maske für das Erreichen selektiven Wachstums zu bilden, wird ein Siliziumnitridfilm (Si3N4-Film) 6 mit einer Dicke von 0.3 μm über der gesamten Oberfläche durch Plasma-CVD gebildet.
  • Das heißt, es wird eine Hetero-Struktur, welche die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 5, die In1-x-yGaxAlyN-Schicht 4 und die In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht 3 aufweist, auf der (0001)-Fläche des Saphirsubstrats durch organometallische Gasphasenepitaxie wachsengelassen. Anschließend wird der Siliziumnitridfilm (Si3N4-Film) 6, der als eine Maske zum Erlangen selektiven Wachstums dient, gebildet.
    • (2) Anschließend, wie in 1(b) gezeigt, wird ein hart gebackener Photoresistfilm 7, der als eine Ätzmaske dient, gebildet und der Strukturierung unterworfen. Anschließend werden der Siliziumnitridfilm 6 und die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 5 in Bereichen entfernt, in denen Sonden gebildet werden sollen. Dieser Prozess wird durch Verwendung einer Vorrichtung für reaktives Ionenätzen in einer solche Weise durchgeführt, dass zunächst der Siliziumnitridfilm mittels CF4 geätzt wird und dann die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 5 durch Verwendung von Chlorgas geätzt.
    • (3) Anschließend, wie in der 1(c) gezeigt, wird die Photoresistschicht 7 durch Verwendung einer Plasma-Veraschungsvorrichtung entfernt. Anschließend wird AlxGa1-xN 8 in einer konischen Form auf der In1-x-yGaxAlyN-Schicht 4 wachsen gelassen, während Bereiche des Siliziumnitridfilms 6, die nach dem Entfernen der Photoresistschicht 7 verbleiben, als eine Maske zum Erlangen des ausgewählten Wachstums verwendet werden.
    • (4) Anschließend, wie in der 1(d) gezeigt, wird der Siliziumnitridfilm 6 entfernt und das harte Saphirsubstrat 1 wird durch Verwendung von Diamantpaste poliert, um das Schneiden des Substrates in Chips zu vereinfachen. Anschließend wird das Substrat 1 durch Verwenden eines Diamantschneiders in Chips geschnitten. In 1(d) ist die Sonde nach unten gerichtet, was die Ausrichtung während ihres Einsatzes ist. Der nach unten gerichtete Kegel 8 aus AlxGa1-xN dient als der Sondenteil, und die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 5, die In1-x-yGaxAlyN-Schicht 4 und die In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht 3 bildet einen optischen Wellenleiter.
    • (5) In der oben beschriebenen Weise wird eine Sonde mit einem optischen Wellenleiter, wie in der 2 gezeigt, erhalten. Die Sonde umfasst den konischen Bereich 8, der aus AlxGa1-xN gebildet ist, und einen Plattenwellenleiter 10, der aus der In1-x-yGaxAlyN-Schicht 4 mit engem Spalt gebildet ist, die mit dem konischen Bereich 8 verbunden und dazu ausgelegt ist, Anregungslicht zu leiten, ebenso wie die In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht 3 mit breitem Spalt und die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 5, die die In1-x-yGaxAlyN-Schicht 4 einschließen.
  • Als nächstes wird eine zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • 3(a)–(c) sind Schnittansichten, die die Schritte eines Verfahrens zum Herstellen einer Sonde mit einem optischen Wellenleiter gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen; und 4 ist eine Schnittansicht der Sonde mit einem optischen Wellenleiter, die gemäß dem Verfahren hergestellt worden ist.
    • (1) Zunächst, wie in der 3(a) gezeigt, werden nacheinander unter Verwendung der organometallischen Gasphasenepitaxie eine In1-x''-y''Gax''Aly''N-Pufferschicht 12, eine In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht 13 und eine dicke In1-x-yGaxAlyN-Schicht 14 auf einer (0001)-Fläche eines Saphirsubstrats 11 wachsengelassen. Anschließend wird eine Photoresistschicht 15 gebildet und der Strukturierung ausgesetzt. Darauf folgend wird das Ätzen so ausgeführt, dass die In1-x-yGaxAlyN-Schicht 14 auf der Seite, in die Anregungslicht eingeführt wird, eine größere Dicke hat. Anschließend wird die Photoresistschicht 15 entfernt.
    • (2) Danach, wie es in der 3(b) gezeigt ist, wird eine In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 16 wachsen gelassen, und ein Siliziumnitridfilm (Si3N4-Film) mit einer Dicke von 0.3 μm wird über der gesamten Fläche mittels Plasma-CVD gebildet. Anschließend wird eine Photoresistschicht 18 gebildet und der Strukturierung ausgesetzt, und dann wird ein Wellenleiter durch Verwenden des so gebildeten Musters gebildet.
    • (3) Anschließend, wie in 3(c) gezeigt, wird AlxGa1-xN 19 in einer konischen Form wachsen gelassen, damit es als eine Sonde dient. Anschließend wird der Siliziumnitridfilm 17 entfernt und das harte Saphirsubstrat 11 wird durch Verwenden von Diamantpaste poliert, um das Schneiden des Substrats in Chips zu vereinfachen. Anschließend wird das Substrat 11 mit Hilfe eines Diamantschneiders in Chips geschnitten.
    • (4) Auf die oben beschrieben Weise wird eine Sonde mit einem optischen Wellenleiter, wie sie in 4 gezeigt ist, erhalten. Die Sonde umfasst den konischen Bereich 19, der aus AlxGa1-xN gebildet ist, und einen Plattenwellenleiter 20, der aus der relativ dicken In1-x-yGaxAlyN-Schicht 14 mit engem Spalt gebildet ist, die mit dem konischen Bereich 19 verbunden und dazu ausgelegt ist, Anregungslicht zu leiten, ebenso wie die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 13 und die In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht 16, welche die In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht 14 einschließen.
  • Wie oben beschrieben, da der Einlass, durch den Anregungslicht eintritt, eine vergrößerte Fläche hat, erhöht sich der Wirkungsgrad beim Einkoppeln von Anregungslicht in die Sonde, so dass Elektronen in effizienter Weise durch Verwendung eines schwachen Anregungslichts angeregt werden. Das heißt, selbst bei schwachem Licht kann der Wirkungsgrad der Elektronenanregung verbessert werden.
  • Die oben beschriebene Sonde mit einem optischen Wellenleiter hat die folgenden Merkmale.
  • (1) Hoher Wirkungsgrad
  • AlxGa1-xN wird als das Material der Sonde eingesetzt. AlxGa1-xN ist ein Halbleiter mit breitem Spalt. Da AlxGa1-xN Elektronen bei Einstrahlung von Licht mit einer Wellenlänge von 362 nm oder weniger anregen kann, können ein He-Cd-Laser (325 nm), ein Ar-Laser (351 nm), ein SHG-Laser (257.25 nm), ein YAG-Laser (THG: 353 nm), ein N2-Laser (337 nm) oder dergleichen als eine Lichtquelle verwendet werden. In AlxGa1-xN koppeln schwere Löcher leicht mit TE-Lichtwellen, so dass Elektronen mit hohem Wirkungsgrad angeregt werden.
  • Demgemäß können hoch effiziente Spinmessungen selbst bei schwachem Anregungslicht durchgeführt werden.
  • (2) Festigkeit der Sonde
  • AlxGa1-xN, welches die Sonde bildet, ist ein Verbundnitrid mit hoher Härte. Daher kann eine Sonde erhalten werden, die eine hohe mechanische Festigkeit hat und die daher nicht zum Reißen neigt.
  • (3) Widerstand gegen starkes Anregungslicht
  • AlxGa1-xN, welches die Sonde bildet, ist ein Verbundnitrid mit einem hohem Schmelzpunkt. Daher kann eine Sonde erhalten werden, deren Struktur am Spitzenende sich selbst bei starkem Anregungslicht nicht ändert.
  • (4) Reinigen der Spitze der Sonde
  • AlxGa1-xN, welches die Sonde bildet, ist ein Verbundnitrid mit einem hohem Schmelzpunkt. Daher wird es möglich, Gase und Verunreinigungen von dem Spitzenende der Sonde bei hoher Temperatur durch elektrisches Heizen zu beseitigen. Somit kann das Spitzenende der Sonde gereinigt werden.
  • (5) Struktur des optischen Wellenleiters zum Leiten von Anregungslicht an die Sonde, ohne Lichtverluste hervorzurufen.
  • Um den optischen Wellenleiter mit der Sonde zu integrieren, wird ein Plattenwellenleiter, der aus Halbleiter gebildet ist, verwendet. Eine doppelte Heterostruktur, bei der eine Halbleiterschicht mit einem schmalen Bandspalt zwischen Halbleiterschichten mit einem breiten Bandspalt eingeschlossen sind, wirkt als ein Plattenwellenleiter für Licht. Der Lichtmodus, der geleitet werden soll, kann durch Steuerung der Dicke und des Brechungsindex des Materials der mittleren Schicht gesteuert werden. Bei einem beispielhaften Fall, bei dem die Sonde aus AlxGa1-xN, gebildet ist und Licht mit einer Wellenlänge von 325 nm (HeCd-Laser) als Anregungslicht verwendet wird, kann ein Wellenleiter verwendet werden, bei dem eine In1-x-yGaxAlyN-Schicht (20 nm), die das Licht mit 325 nm nicht absorbiert, zwischen In1-x-yGaxAlyN-Schichten gelegt werden. Weiter ist die Gesamtdicke des Wellenleiters in der Größenordnung einer Wellenlänge des Lichtes, das geleitet werden soll, und die Breite des Wellenleiters entspricht der Hälfte der Wellenlänge des Lichtes. Somit kann die Sonde in einfacher Weise auf ein Bauteil gebracht werden, das kompakt sein muss.
  • Da Anregungslicht zu dem Spitzenende von dem inneren Bereich der Sonde geführt werden kann, werden die Nichtgleichförmigkeit bei der Intensität des Lichtes und Fehlordnungen bei polarisierten Wellen, hervorgerufen durch Reflexion und Absorption von Anregungslicht an einer Probenoberfläche, gemildert.
  • (6) Integration des Sondenbereiches mit dem optischen Wellenleiter
  • Der optische Wellenleiter wird durch Verwendung organometallischer Dampfphasenepitaxie gebildet. Ein Einkristall aus AlxGa1-xN wird als ein Sondenbereich auf der Oberfläche der In1-x-yGaxAlyN-Schicht, die durch Ätzen des Mantelbereiches freilegt worden ist, wachsengelassen.
  • Demgemäß kann die Sonde mit dem optischen Wellenleiter integriert werden. Da Anregungslicht durch den Wellenleiter läuft und direkt das gesamte Spitzenende der Sonde anregt, können Elektronen mit hohem Wirkungsgrad angeregt werden. Zusätzlich werden die Nichtgleichförmigkeit bei der Intensität des Lichtes und Fehlordnungen bei polarisierten Wellen, hervorgerufen durch Reflexion und Absorption von Anregungslicht an einer Probenoberfläche, gemildert.
  • Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben beschriebenen Ausführungsformen beschränkt.
  • Wie in Einzelheiten beschrieben ist, liefern Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung die folgenden vorteilhaften Wirkungen.
    • [A] In AlxGa1-xN, welches den Sondenbereich bildet, koppeln schwere Löcher in effizienter Weise mit TE-Lichtwellen. Es wird Anregungslicht nicht in den optischen Wellenleiter absorbiert oder streut nach außen, während Anregungslicht zu dem Sondenbereich über den optischen Wellenleiter geführt wird. Daher erreicht Anregungslicht in effizienter Weise das Spitzenende der Sonde, so dass der gesamte Bereich des Spitzenendes der Sonde angeregt werden kann.
  • Da der Bereich des optischen Wellenleiters, der Anregungslicht empfängt, eine vergrößerte Fläche hat, kann einfallendes Licht von einer Lichtquelle, die außerhalb der Sonde angeordnet ist, in effizienter Weise zu dem optischen Wellenleiter geführt werden. Daher wird eine effiziente Spinmessungen bei schwachem Anregungslicht erwartet. Weiter, da kein starkes Anregungslicht erforderlich ist und eine Menge des Anregungslichtes, das zu einer Probenoberfläche streut, klein ist, beeinflusst das Anregungslicht die Oberflächenbedingungen der Probe nicht.
    • [B] Da die Sonde aus einem harten Material gebildet ist, reißt die Sonde beim Kontakt mit einer Probe während des Messens nicht.
    • [C] Da die Sonde aus einem Material mit einem hohen Schmelzpunkt gebildet ist, schmilzt die Sonde nicht durch starkes Anregungslicht, selbst wenn starkes Anregungslicht verwendet wird, um den Wirkungsgrad der Spinmessung zu erhöhen, und die Struktur der Sonde ändert sich nicht.
    • [D] Da die Sonde aus einem Material mit einem hohen Schmelzpunkt gebildet ist, kann der Spitzenendenbereich der Sonde durch eine Reinigungsoperation gereinigt werden, wenn der Bereich des Spitzenendes der Sonde verunreinigt ist, so dass die Temperatur der Sonde durch Einstrahlung von Licht auf die Sonde oder Wärmeleitung von einem Heizer erhöht wird, um somit Verunreinigungen zu verdampfen. Um die Sonde für das elektrische Heizen leitend zu machen, wird ein mit Si dotiertes Nitrid wachsen gelassen, um die Sonde derart zu erzeugen, dass die Sonde einen spezifischen Widerstand in der Größenordnung von 0.01 Ω·cm hat. Somit wird es möglich, zu bewirken, dass Elektrizität durch die Sonde fließt.
  • Da sich die Form und die Eigenschaften der Sonde nicht ändern, selbst während des Reimgens bei hoher Temperatur, das zum Beispiel durch Heizen über Aufgabe von Elektrizität bewirkt wird, kann der Zustand des Spitzenendes der Sonde konstant gehalten werden. Weiterhin kann eine verunreinigte Sonde erneut verwendet werden.
    • [E] Der Einsatz organometallischer Dampfphasenepitaxie ermöglicht das gleichzeitige Wachsen einer Vielzahl von AlxGa1-xN-Schichten. Das heißt, da eine Vielzahl von Sonden mit derselben Struktur hergestellt werden kann, kann eine Messung für die Vielzahl der Sonden unter denselben Bedingungen durchgeführt werden. Weiter kann die Sonde zu geringen Kosten massenproduziert werden.
  • INDUSTRIELLE ANWENDBARKEIT
  • Die vorliegende Erfindung kann auf dem Gebiet der Spinmessung verwendet werden, um einen effizienten Wirkungsgrad bei der Spinmessung selbst bei schwachem Anregungslicht zu ermöglichen.

Claims (4)

  1. Sonde mit einem optischen Wellenleiter, die aufweist: (a) ein Saphirsubstrat (1, 11); (b) auf einer Oberfläche (0001) des Saphirsubstrats (1, 11) gewachsen, einen optischen Wellenleiterabschnitt mit einer doppelten Heterostruktur und mit einer In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht (5, 16) und einer In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht (3, 13), welche eine In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) einschließen, wobei 0 ≤ x, y, x', y', x'', y'', x + y, x' + y', x'' + y'' ≤ 1 und wobei von den Schichten die In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) die minimale Bandlückenenergie hat; und (c) einen AlxGa1-xN-Sondenabschnitt (8, 19), der in einer konischen Form gewachsen ist, so dass der Sondenabschnitt mit einem Teil der In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) verbunden ist, wobei Licht, das sich durch eine optische Wellenleiterschicht fortpflanzt, die durch die In1-x-yGaxAlyN-Schicht gebildet wird, zu dem Sondenabschnitt (8, 19) geführt wird, um Elektronen an einem spitzen Ende des Sondenabschnittes anzuregen.
  2. Sonde nach Anspruch 1, bei der die In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) so gebildet ist, dass sie auf einer Seite, auf der, beim Einsatz Anregungslicht eingeführt wird, im Vergleich zu einer Seite, auf der der Sondenabschnitt (8, 19) wachst, eine größere Dicke hat.
  3. Verfahren zum Herstellen einer Sonde mit einem optischen Wellenleiter, das aufweist: (a) Wachsenlassen einer doppelten Hetero-Struktur mit einer In1-x'-y'Gax'Aly'N-Schicht (5, 16) und einer In1-x''-y''Gax''Aly''N-Schicht (3, 13), welche eine In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) einschließen, um somit einen optischen Wellenleiter zu bilden, auf einer Fläche (0001) eines Saphirsubstrats, wobei 0 ≤ x, y, x', y', x'', y'', x + y, x' + y', x'' + y '' ≤ 1 und wobei von den Schichten die In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) die minimale Bandlückenenergie hat; und (b) Freilegen eines Teiles der In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14); und (c) Wachsenlassen eines AlxGa1-xN-Sondenabschnittes (8, 19) in einer konischen Form auf dem freiliegenden Abschnitt der In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14).
  4. Verfahren nach Anspruch 3, bei der die In1-x-yGaxAlyN-Schicht (4, 14) so ausgebildet ist, dass sie auf einer Seite, auf der beim Einsatz Anregungslicht einfällt, im Vergleich zu einer Seite, auf der der Sondenabschnitt (8, 19) wächst, eine größere Dicke hat.
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