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GEBIET DER
ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren und eine Vorrichtung
für die
Herstellung einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte
und insbesondere eine Verbesserung in einem Verfahren zum Herstellen
einer photoempfindlichen lithographischen Druckplatte, welche es
ermöglicht
zu verhindern, daß deren
photoempfindliche Schicht ihre Empfindlichkeit verliert. Die vorliegende
Erfindung betrifft auch eine mittels dieses Verfahrens hergestellte
photopolymerisierende lithographische Druckplatte.
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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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Eine
photopolymerisierende lithographische Druckplatte ist im Fachgebiet
bekannt. Verschiedene Verfahren für die Herstellung derselben
wurden bisher bereits vorgeschlagen. Beispielsweise ermöglicht die
in JP-A-10-161317/1998 (der Ausdruck "JP-A",
so wie er hierin verwendet wird, bedeutet eine "Ungeprüfte Japanische Patent Kokai
Offenlegung") offenbarte
Erfindung die Bereitstellung einer negativ abbildenden lithographischen
Druckplatte, welche die Erzeugung einer Direktplatte zuläßt. Eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung wird in dieser lithographischen
Druckplatte verwendet. Die lithographische Druckplatte ist gegenüber einem
Laserstrahl, insbesondere in dem Bereich von sichtbarem Licht hoch
empfindlich und in Druckeigenschaften, wie z. B. der Tonwiedergabe,
der Beständigkeit
gegenüber
dem Druckvorgang, der Anhaftung von Schmutz und dergleichen hervorragend.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Es
wurden jedoch die nachstehenden Probleme in Verlauf der Untersuchungen
für die
vorliegende Erfindung angetroffen. Nämlich, daß eine empfindlichere lithographische
Druckplatte, die Herstellung einer Direktplatten zuläßt, ist
ein fortwährendes
Thema.
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Demzufolge
ist die Entwicklung einer photoempfindlicheren photopolymerisierenden
lithographischen Druckplatte nun erforderlich.
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Demzufolge
ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Verbesserung
in einem Verfahren und/oder einer Vorrichtung für die Herstellung einer photopolymerisierenden
lithographischen Platte, welches einen Beschichtungsschritt und
die Verwendung von Gummiwalzen vor und nach dem Beschichtungsschritt umfaßt, bereitzustellen.
Genauer gesagt, versucht die vorliegende Erfindung ein Verfahren
für die
Herstellung einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte
mit einer höher
empfindlichen photoempfindlichen Schicht zu entwickeln.
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Es
ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine verbesserte
photopolymerisierende lithographische Druckplatte bereitzustellen.
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Die
vorliegenden Erfinder haben gewissenhafte Untersuchungen zur Verbesserung
des Verfahrens für die
Herstellung einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte
durchgeführt,
um die photoempfindliche Schicht der photopolymerisierenden lithographischen
Druckplatte im Hinblick auf die Empfindlichkeit zu verbessern. Demzufolge
hat sich herausgestellt, daß die
Empfindlichkeit auf der Basis eines (ein Alterungsverzögerungsmittel
enthaltenden) Antioxidans verschlechtert wird). Dieses in einer
Gummiwalze enthaltene Antioxidans wird üblicherweise verwendet und
auch die zu verwendete photopolymerisierende photoempfindliche Schicht übertragen.
Das Antioxidans übt
einen Polymerisierungshemmungseffekt nach der Verwendung der Gummiwalze
in Kontakt mit einem Substrat auf einer Bahn für die Handhabung des Substrates
für eine längere Zeitdauer
oder bei höheren
Temperaturen aus. Dieses kann in einem Verfahren für die Herstellung
der lithographischen Platte beobachtet werden, welcher einen Schritt
einer kontinuierlichen Beschichtung der photoempfindlichen Schicht
auf dem Substrat, bevorzugt einem Aluminiumsubstrat enthält. Außerdem hat
sich herausgestellt, daß eine
Verringerung der Empfindlichkeit verhindert wird und eine photoempfindliche
Schicht mit einer stabilen und hohen Empfindlichkeit erzielt wird,
wenn eine Gummiwalze oder Walzen verwendet werden, auf deren Oberfläche im wesentlichen
kein Antioxidans vorhanden ist. Die vorliegende Erfindung wurde
auf der Basis dieser Erkenntnisse gemacht.
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Gemäß einem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur
Herstellung einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte
bereitgestellt, welches einen Schritt einer Beschichtung umfaßt, in welchem
Gummiwalzen für
Transport/Beförderung
einer Bahn vor und nach dem Beschichtungsschritt verwendet werden.
Die Oberfläche
der wenigstens unmittelbar vor und nach dem Beschichtungsschritt
zu verwendenden Gummiwalzen enthält
kein Antioxidans und/oder Alterungsverzögerungsmittel in einer solchen Menge,
daß eine Übertragung
des Antioxidans und/oder des Alterungsverzögerungsmittels auf eine photoempfindliche
Schicht, die auf ein Substrat auf der Bahn laminiert ist, bei Verwendung
der Gummiwalzen für eine
längere
Zeitdauer oder bei hohen Temperaturen auftritt.
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Dadurch
wird im wesentlichen kein Antioxidans und/oder Alterungsverzögerungsmittel
auf eine photoempfindliche Schicht übertragen, die auf ein Substrat
auf der Bahn laminiert ist, wenn die Gummiwalzen für eine längere Zeitdauer
oder bei hohen Temperaturen verwendet werden.
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Die
Gummiwalzen sind wenigstens vor und nach dem Beschichtungsschritt
an einer Beschichtungsstelle vorhanden. Gemäß der vorliegenden Erfindung
ist es nur erforderlich, daß eine
Oberfläche
von wenigstens einer Gummiwalze, welche jeweils unmittelbar vor
und nach der Beschichtungsstelle angeordnet ist, kein Antioxidans
und/oder Alterungsverzögerungsmittel
enthält.
Es wird bevorzugt, daß die
die Beschichtungsoberfläche
enthaltenden Gummiwalzen diese Anforderung erfüllen. In einem weiteren Aspekt
wird ein verbessertes Produkt bereitgestellt, das durch das Verfahren
der vorliegenden Erfindung erzielbar ist, sowie in einem weiteren
Aspekt eine Vorrichtung für
die Herstellung einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte.
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Weitere
Merkmale und Aspekte der vorliegenden Erfindung werden aus der vollständigen Offenbarung,
insbesondere aus den beigefügten
Ansprüchen
ersichtlich.
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BEVORZUGTE
AUSFÜHRUNGSFORMEN
DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung erfaßt
auch die nachstehenden Ausführungsformen.
- 1. Das vorstehende Verfahren, in welchem die
Gummiwalze eine Walze ist, deren Oberfläche mit Gummi beschichtet ist.
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Arten
und Formen der Gummiwalze sind nicht eingeschränkt mit der Ausnahme, daß sie ein
Substrat darauf fördern
können.
Beispielsweise werden solche Walzen, deren Oberflächen beschichtet
oder mit einem Gummi abgedeckt sind, als die "Walze für den Transport einer Bahn" (siehe JP-A-6-144667/1994)
häufig
verwendet. Diese Walzen können
wiederverwendet werden, indem ein verbrauchte Beschichtung/Abdeckung
aus Gummi durch eine Neue ersetzt wird. Die Beschreibung bezüglich dieser
Gummiwalze findet man in JP-A-6-144667/1994.
- 2.
Das vorstehende Verfahren, in welchem das Substrat ein Aluminiumsubstrat
ist.
- 3. Das vorstehende Verfahren, in welchem der Gummi, welcher
wenigstens die Oberfläche
der Gummiwalze bildet, aus wenigstens einem von Ethylen/Propylen-
oder Urethan-Gummis
ausgewählt
wird.
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Als
eine in der vorliegenden Erfindung verwendete Gummiwalze #nnen Gummiwalzen,
welches sich im allgemeinen Gebrauch befinden, verwendet werden.
Das wenigstens an der Oberfläche
der Walze verwendete Gummimaterial kann Gummi zur Verwendung in
verschiedenen Walzen sein. Bevorzugt kann eine Gummiwalze für Transport/Förderung
einer Bahn verwendet werden. Ethylen-Propylen- und Urethan-Gummis
sind im Hinblick auf die Vermeidung einer Verringerung der Empfindlichkeit
zu bevorzugen.
- 4. Das vorstehende Verfahren,
in welchem das Antioxidans wenigstens eine Verbindung ist, die in
Phenol-, Amin-, und Phosphorreihen von Antioxidantien enthalten
ist.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung enthält
der Gummi auf der Oberfläche
der Walze im wesentlichen kein Antioxidans und/oder Alterungsverzögerungsmittel.
Diese Mittel umfassen Antioxidantien und Alterungsverzögerungsmittel,
welche sind im allgemeinen Gebrauch befinden. Beispiele dieser Mittel
sind in "Handbook of
Chemicals for Rubber and Plastic Formulations" (revised second edition, Yoshimichi
Mitsumori "Handbook" editorial room,
Rubber Digest Co. Ltd. offenbart.
- 5. Alterungsverzögerungsmittel,
Antioxidans und Antiozonans, p. 76 to 121). Natürlich wird die Beschreibung
dieser Mittel in diesem Dokument offenbart.
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Konkrete
Beispiele dieser Mittel umfassen, a) Naphthylamine, wie z. B. Phenyl-α-Naphthylamine und dergleichen,
b) Diphenylamine, wie z. B. p-(p-Toluolsulfonylamid)-Diphenylamin, c)
p-Phenylenediamine. wie z. B. N,N'-Diphenyl-p-Phenylendiamin, d) weitere
Amine, wie z. B. Kondensationsprodukte of aromatischer Amine and
alophatischer Ketone und dergleichen, e) Gemische von Aminen, wie
z. B. Gemische von Phenyl-α-Naphthylamin
mit Diphenyl-p-Phenylendiamin und dergleichen, f) Chinolin, wie
z. B. ein Polymer of 2,2,4-Trimethyl-1,2-Dihydrochinolin und dergleichen,
g) Hydrochinonderivate, wie z. B. 2,5-Di-(Tert-Amyl)-Hydrochinon,
h) Mono-Phenoles, wie z. B. I-Oxy-3-Methyl-4-Isopropylbenzol,
i) Bis-, Tris- and Poly-Phenole, wie z. B. 2,2'-Methylene-bis-(4-Methyl-6-Tert-Butylphenol),
j) Thiobisphenole, wie z. B. 4,4'-Thiobis-(6-Tert-Butyl-3-Methylphenol)
and dergleichen, k) gestörte
Phenole, wie z. B. 1,1,3-Tris-(2-Methyl-4-hydroxy-5-Tert-Butylphenyl)-Butan,
l) Phosphite (Ester), wie z. B. Tris(Nonylphenyl)Phosphite und dergleichen,
m) weitere Alterungsverzögerungsmittel,
wie z. B. Dilaurylthiodipropionat und dergleichen, n) Verkupferungs-Verzögerungsmittel
und Metalldeaktivierungsmittel, wie z. B. 1,2,3-Benzothiazol und
dergleichen und o) Wachse, wie z. B. Spezialwachse und dergleichen.
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Es
ist von einem Aspekt des Effektes einer Vermeidung der Empfindlichkeitsabnahme
zu bevorzugen, daß der
Gummi keine Antioxidantien (Alterungsverzögerungsmittel), insbesondere
Phenol-, Armin- und Phosphorreihen von Verbindungen zwischen diesen
enthält.
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Bezüglich der
Verwendung eines Antioxidans und/oder Alterungsverzögerungsmittels
wird keine Verwendung empfohlen, da diese die beste Möglichkeit
ist. Die übliche
Verwendung dieser Mittel, welche wirksam für die Verbesserung von Gummieigenschaften,
wie z. B. Beständigkeit
gegen Oxidation, Alterungseigenschaften und dergleichen ist, reicht
beispielsweise von 0,1 bis 10 Gewichtsprozent, bevorzugt von 0,5
bis 5 Gewichtsprozent. Dieser Nutzungsgrad bewirkt jedoch nachteilige
Effekte. Demzufolge gehört
es zu dem Verfahren der Erfindung, das Mittel in einer geringen
Menge in einem solchem Umfang zu verwenden, daß diese Effekte nicht auftreten,
oder daß es
im we sentlichen nicht auf die photoempfindliche Schicht übertragen
wird, die auf das zu transportierende/befördernde Substrat laminiert
ist.
- 5. Eine photopolymerisierende lithographische
Druckplatte, welche durch das vorstehende Verfahren hergestellt
wird.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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1 ist eine schematische
Querschnittsansicht einer exemplarischen Trocknungsvorrichtung,
welche nach einer Beschichtungsstelle angeordnet ist, und welche
die Position von Gummiwalzen zeigt, welche in der vorliegenden Erfindung
im Bezug auf die Trocknungsvorrichtung verwendet werden.
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DETAILLIERTE
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Anschließend werden
bevorzugte Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung wie folgt erläutert.
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In
dem Verfahren für
die Herstellung einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte
der vorliegenden Erfindung besitzt die Gummizusammensetzung auf
der Oberfläche
einer zu verwendenden Gummiwalze die vorstehend beschriebenen Merkmale.
Mit Ausnahme dieser Merkmale kann jedes Verfahren zur Herstellung
einer photopolymerisierenden lithographischen Druckplatte, welches
bekannt ist oder in der Zukunft entwickelt werden wird, so effektiv
wie möglich
genutzt werden.
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Demzufolge
können
bezüglich
des Beschichtungsschrittes einer photoempfindlichen Zusammensetzung
auf einem Substrat aus Aluminium und dergleichen bekannte Beschichtungsschritte
und Verfahren angewendet werden, welche beispielsweise in JP-A-62-251739/1987, JP-A-6-342597/1994,
JP-B-58-4589/1983, JP-A-59-123568/1984, JP-A-4-244265/1992, JP-B-1-57629/1989 und
JP-A-10-128215/1998 offenbart sind (der Ausdruck "JP-A", so wie er hierin
verwendet wird, bedeutet eine "Ungeprüfte Japanische
Patent Kokai Offenlegung" und
der Ausdruck "JP-B,
so wie er hierin verwendet wird, bedeutet eine "Geprüfte
Japanische Patent Kokoku Offenlegung"). Natürlich kann jeder Beschichtungsprozeß und dergleichen,
welcher in der Zukunft entwickelt wird, ebenfalls verwendet werden.
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Vor
und nach dem Beschichtungsschritt (oder der Stelle), insbesondere
unmittelbar vor und nach denselben werden Gummiwalzen, deren Oberfläche keinerlei
Antioxidans oder Alterungsverzögerungsmittel
aufweist in der vorliegenden Erfindung verwendet.
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1 ist eine schematische
Querschnittsansicht, welche eine Ausführungsform einer Trocknungsvorrichtung
darstellt. Eine exemplarische Anordnung der in dieser Erfindung
verwendeten Gummiwalzen wird im Bezug auf die Position einer Trocknungsvorrichtung
erläutert.
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Eine
lange Aluminiumbahn 121, welche geführt von Gummiführungswalzen
R1 bis R8 kontinuierlich läuft,
wird mit einer ein Lösungsmittel
an einer Beschichtungsstelle (oder – punkt) 122 enthaltenden
Beschichtungslösung
in erste und zweite Schritttrocknungszonen 123, 124 eingeführt und
darin getrocknet. Die Beschichtungsstelle 122 ist auf dem
Außenumfang
einer Stützwalze
CR angeordnet, um welche die Bahn 122 in ihren Verlauf
rotiert. Die Stützwalze
besitzt eine metallische Oberfläche
aus einer harten Chromplattierung.
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Die
erste Trocknungszone besitzt eine Kammer mit einer Luftzuführungsöffnung 125,
einer Strömungsanpassungsplatte 129 und
einer Auslaßöffnung 126 und
zwei Walzen R3 und R4 darin. Die zweite Trocknungszone 124 besitzt
eine Kammer mit einer Luftzuführungsöffnung 127,
Schlitzdüsen 130 und
einer Auslaßöffnung 128,
und ebenfalls zwei Walzen R5 und R6. Zusätzlich sind zwei Ablenkungswalzen
R7 und R8, welche die beschichtete Oberfläche berühren, außerhalb der zweiten Trocknungszone 124 abstromseitig davon
angeordnet. Die zwei Ablenkungsführungswalzen
R1 und R2, welche die zu beschichtende Oberfläche berühren, sind anstromseitig von
der Beschichtungsstelle 122 angeordnet. Die Stützwalzen
CR, über
welche die Bahn über
180 Grad hinweg verläuft,
besitzt einen großen
Durchmesser und ist an der Beschichtungsstelle unmittelbar vor der
ersten Trocknungszone 123 angeordnet.
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Hier
ist es erforderlich, daß die
Oberfläche
der Gummiwalze R2, welche unmittelbar vor der Beschichtungsstelle
angeordnet ist, im wesentlichen kein Antioxidans oder Alte rungsverzögerungsmittel
enthält.
Und es ist zu bevorzugen, daß weder
ein Antioxidans noch ein Alterungsverzögerungsmittel in wesentlichen
Umfang in der Oberfläche
der Gummiwalze R1, welche vor der Gummiwalze R2 angeordnet ist,
und in anderen Gummiwalzen enthalten ist, wenn sie vor (anstromseitig)
von der Gummiwalze R1 angeordnet sind.
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Andererseits
wird es empfohlen, grundsätzlich
ein Antioxidans oder ein Alterungsmittel von der Oberfläche der
Gummiwalzen R3 bis R6 auszuschließen, welche hinter (abstromseitig)
der Beschichtungsstelle angeordnet sind. Von diesem ist die Gummiwalze
R3 unmittelbar nach der Beschichtungsstelle angeordnet. Es wird
ebenfalls empfohlen, daß im
wesentlichen kein Antioxidans oder Alterungsverzögerungsmittel, insbesondere
auf der Oberfläche
der Gummiwalzen R7 und R8 enthalten ist, welche mit der Beschichtung
in Kontakt stehen.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung sind Verbindungen, welche als "Antioxidans und Alterungsverzögerungsmittel" bezeichnet werden,
und im wesentlichen aus der Gummizusammensetzung ausgeschlossen sind,
welche die Oberfläche
der Gummiwalzen bilden, diejenigen, welche als ein Polymerisationshemmer
im Verlauf der in der photoempfindlichen Schicht ablaufenden Polymerisation
wirken. Demzufolge ist jedes in der Zukunft entwickelte Antioxidans
und Alterungsverzögerungsmittel,
wenn es eine derartige Funktion besitzt, ebenfalls in dem "Antioxidans und Alterungsverzögerungsmittel" enthalten, welche
in keinem Fall in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Im
Gegensatz dazu ist jedes Antioxidans oder Alterungsverzögerungsmittel,
welches keine derartige Funktion zeigt, nicht in diesen Mittel ("Antioxidans oder
Alterungsverhinderungsmittel")
im Sinne der vorliegenden Erfindung enthalten.
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[BEISPIELE]
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Die
vorliegende Erfindung wird detaillierter mittels der nachstehenden
Beispiele und Vergleichsbeispiele erläutert.
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Beispiel 1
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Unmittelbar
nach der Beschichtung wurde die Oberfläche einer aufgebrachten photoempfindlichen Schicht
in Kontakt mit einer Walze gebracht, deren Oberfläche mit
einer in der nachstehenden Tabelle 1 dargestellten Gummiprobe bedeckt
war. Dann wurde die G/S-Empfindlichkeit der photoempfindlichen Schicht
gemessen.
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Messung der G/S-Empfindlichkeit
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Eine
Grauskala (G/S) wurde auf einer Druckplatte aufgebracht. Mit einer
festgelegten Lichtintensität wurde
deren Oberseite belichtet. Bei der Entwicklung wurde eine unter
der Bezeichnung DP-4 von Fuji Photofilm Co., Ltd. verkaufte Entwicklerlösung nach
einer Verdünnung
auf 1/18 mit Wasser, gefolgt von einer Vorentwicklung von 10 m2 der exemplarischen Druckplatte, unter Verwendung
von 1 Liter des verdünnten
Entwicklers verwendet. Die Entwicklung der mit Licht belichteten
Druckplatte wurde mittels einer automatischen Entwicklungsmaschine
850 NX®,
hergestellt von Fuji Photofilm Co., Ltd. und durch Eintauchen in
die Entwicklerlösung
bei 30°C
für 15
Sekunden ausgeführt.
Hier bedeutet die "G/S-Empfindlichkeit" eine unterscheidbare
Anzahl von Schritten (Graden), die auf einem ausgebildeten Bildabschnitt
von den Nicht-Bildabschnitt auf der entwickelten Druckplatte nach
der Belichtung an Licht über
die G/S unterscheidbar sind. Die Lichtdurchlässigkeit durch die G/S wird
schrittweise variiert. Dadurch wird das Belichtungslicht auf der
Druckplatte ebenfalls schrittweise verändert. Eine hohe Anzahl von
Schritten zeigt die Möglichkeit
einer Bilderzeugung mit einer Belichtung bei niedriger Lichtintensität, d. h.,
eine hohe Empfindlichkeit an.
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Die
Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt.
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Wie
es aus den Ergebnissen der Tabelle 1 ersichtlich ist, hat es sich
herausgestellt, daß Gummiwalzen,
deren Gummizusammensetzungsoberflächen kein Antioxidans enthalten,
insbesondere im Hinblick auf die G/S-Empfindlichkeit ausgezeichnet
sind.
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Einige
der vorteilhaften Effekte der Erfindung sind nachstehend zusammengefaßt.
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Die
vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren für die Herstellung einer photopolymerisierenden
lithographischen Druckplatte mit einem Beschichtungsschritt und
unter Verwendung von Gummiwalzen vor und nach dem Beschichtungsschritt
dar. Eine Walze, deren Gummioberfläche im wesentlichen kein Antioxidans und/oder
Alterungsverzögerungsmittel
enthält,
wird in der vorliegenden Erfindung verwendet, um so kein Antioxidans
oder Alterungsverzögerungsmittel
auf die photoempfindliche Schicht zu übertragen, die auf ein Substrat
der Platte laminiert ist. Dadurch wird die Verringerung der Empfindlichkeit
der photoempfindlichen Schicht vermieden und es kann eine stabile
und hohe Empfindlichkeit erreicht werden.
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Es
sei angemerkt, daß weitere
Aufgaben, Merkmale und Aspekte der vorliegenden Erfindung in der vollständigen Offenbarung
ersichtlich werden, und das Modifikationen ausgeführt werden
können,
ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung gemäß Definition
in den beigefügten
Ansprüchen
abzuweichen.
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Es
sei ferner angemerkt, daß jede
Kombination der offenbarten und/oder beanspruchten Elemente, Materialien
und/oder Punkte unter die vorstehend erwähnten Modifikationen fallen
kann.