DE69420879T2

DE69420879T2 - Dünnfilmmagnetkopf und dessen Herstellungsverfahren

Info

Publication number: DE69420879T2
Application number: DE69420879T
Authority: DE
Inventors: Akiyoshi Fujii; Hiromi Nishino
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1993-03-16
Filing date: 1994-03-16
Publication date: 2000-02-03
Anticipated expiration: 2014-03-17
Also published as: EP0616317A3; EP0616317A2; DE69420879D1; JPH06325322A; EP0616317B1; US5586385A

Description

Dünnfilzmmagnetkopf und dessen Herstellungsverfahren

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Gebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft Dünnfilmmagnetköpfe für magnetische Aufzeichnungsvorrichtungen wie audiovisuelle Vorrichtungen sowie ein Verfahren zum Herstellen derselben, insbesondere einen Dünnfilmmagnetkopf mit verbesserter Produktivität, Kostenfunktion und Bandlaufeigenschaften sowie ein Verfahren zum Herstellen desselben.

Beschreibung der hintergrundbildenden Technik

Nachfolgend erfolgt unter Bezugnahme auf die Fig. 9A bis 9F und Fig. 10 eine Beschreibung eines herkömmlichen Verfahrens zum Herstellen eines Dünnfilmmagnetkopfs.
Bei einem herkömmlichen Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf wird, wie es in Fig. 9A dargestellt ist, eine Schicht, die eine untere Magnetkernschicht 22 bilden soll und aus einem weichmagnetischen Dünnfilm aus Ni-Fe, Fe-Al-Si, Fe-Al-N, Co-Zr oder dergleichen mit hohen Sättigungsmagnetisierungseigenschaften besteht, durch ein Sputterverfahren oder dergleichen auf einem Wafersubstrat 21 aus kristallisiertem Glas, Mn-Zn-Ferrit oder dergleichen mit hervorragender Abnutzungsfestigkeit hergestellt. Nach dem Strukturieren dieser Schicht mit vorbestimmter Konfiguration zum Ausbilden einer unteren Magnetkernschicht 22 wird ein Magnetspalt 23 aus einer anorganischen Isolierschicht aus SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4;, Al&sub2;O&sub3; oder dergleichen durch ein Sputterverfahren auf der unteren Magnetkernschicht 22 hergestellt. Es werden eine Vormagnetisierungsleitung 30 und ein magnetoresistives Element (nachfolgend als "Mr-Element" bezeichnet) 31 hergestellt und einer isolierenden Beschichtung unterzogen. Dann wird eine obere Magnetkernschicht 24 mit vorgeschriebener Konfiguration, ähnlich der unteren Magnetkernschicht 22, hergestellt, um die in Fig. 9A dargestellte Struktur zu bilden.
Wie es in Fig. 9B dargestellt ist, wird auf einem Elementabschnitt auf dem Substrat mit Ausnahme eines Leitungsanschlussabschnitts P durch ein Sputterverfahren, ein Plasma-CVD(chemische Dampfniederschlagung)-Verfahren oder dergleichen ein Passivierungsfilm aus SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4;, Al&sub2;O&sub3; oder dergleichen hergestellt.
Anschließend wird ein vorstehender Abschnitt des Passivierungsfilms 25 auf dem Elementabschnitt 5 durch einebnendes Polieren eingeebnet (Fig. 9C). Darauf wird durch Dampfniederschlagung oder ein Sputterverfahren ein Cr- Film als Kontaktschicht hergestellt, und es wird eine Schutzplatte 26 aus Zn-Ferrit, CaTiO&sub3; oder dergleichen durch einen Kleber aus der Epoxidfamilie oder dergleichen befestigt (Fig. 9D). Dann wird ein Wafersubstrat 21, auf dem eine Anzahl von Magnetköpfen ausgebildet ist, zerschnitten und zylindrischem Schleifen und Bandläppen unterzogen, um eine Magnetband-Gleitfläche B mit vorgeschriebener Spalttiefe auszubilden (Fig. 9E). Mit dem Leitungsanschlussabschnitt P auf dem Substrat 21 wird durch ein bekanntes Drahtbondverfahren oder durch ein automatisiertes, klebeband-unterstütztes Bondverfahren (nachfolgend als TAB bezeichnet) ein flexibles, bedrucktes Substrat 27 als Anschlussverdrahtung verbunden und mit einem Harzverguss 28 bedeckt (Fig. 9F).
Der Dünnfilmmagnetkopf mit abgeschnittener Spitze wird mit vorgeschriebener Genauigkeit in eine Bandführung 29 eingebaut (Fig. 10), um eine Dünnfilmmagnetkopfeinheit herzustellen, wie sie in Fig. 11 dargestellt ist, in der ein magnetisches Aufzeichnungsmedium 20 in Gleitkontakt mit der Magnetkopf- Gleitfläche 8 steht.
Während die Fig. 9A bis 9F und Fig. 10 den herkömmlichen Herstellprozess für einen Dünnfilmmagnetkopf vom Typ mit Magnetowiderstandseffekt mit Vormagnetisierungsleitung 30 und MR-Element 31 veranschaulichen, kann ein ähnlicher Prozess bei einem Dünnfilmmagnetkopf vom Typ mit magnetischer Induktion mit der Ausnahme angewandt werden, dass an Stelle der Vormagnetisierungsleitung 30 und des MR-Elements 31 eine Leiterspule hergestellt wird.
Beim herkömmlichen Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf, wie es oben beschrieben ist, sind jedoch verschiedene und komplizierte Schritte erforderlich, um die Kopfeinheit nach der Herstellung des Elementabschnitts 5 auf dem Substrat 21 fertigzustellen, was zu den folgenden Problemen führt:
(i) Um die Stufe im Elementabschnitt S vollständig zu überdecken, muss ein Passivierungsfilm 25 aus einem organischen Material, wie in Fig. 9B dargestellt, mit einer Dicke von 10 bis 20 um hergestellt werden, was die lange Zeit von 6 bis 12 Stunden selbst dann benötigt, wenn ein Plasma-CVD-Verfahren verwendet wird.
(ii) Eine Differenz hinsichtlich des Polierausmaßes beim einebnenden Polieren des Passivierungsfilms 29, wie in Fig. 9C dargestellt, kann durch einen Dickenfehler, eine Verformung des Substrats oder dergleichen hervorgerufen werden, so dass die obere Magnetkernschicht 22 auf dem Elementabschnitt S teilweise aus dem Passivierungsfilm 25 heraus frei liegt.
(iii) Die Magnetband-Gleitfläche kann durch einen Riss im Passivierungsfilm 25 beschädigt werden, wie er durch Polieren dieser Magnetband-Gleitfläche, wie in Fig. 9E dargestellt, verursacht wird.
(iv) Die Schutzplatte 26, die so befestigt wird, wie es in Fig. 9D dargestellt ist, kann durch thermische Spannungen beim Anschließen oder Vergießen der Anschlussverdrahtung, wie in Fig. 9F dargestellt, verschoben werden.
(v) Wegen dieser nachteiligen Ereignisse gemäß (i) bis (iv) ist die Ausbeute verringert und die Herstellkosten sind erhöht.
Außerdem verursacht eine Abnutzung der Bandgleitfläche eine Beeinträchtigung der Frequenzcharakteristik und eine Abweichung zwischen Spuren bei einem Abspielausgangssignal. So ist eine Verbesserung der Abnutzungsfestigkeit der Magnetkopf-Gleitfläche erwünscht.
Das Dokument US 4,733,455, gemäß dem die zweiteilige Form des Anspruchs 10 abgegrenzt ist, offenbart einen Magnetkopf mit einem Leiterrahmen, an dem ein MR-Element und ein Permanetmagnet montiert sind und der mit Leitungsanschlussabschnitten versehen ist und in eine Metallform mit vorbestimmter Konfiguration eingesetzt wird und vor Ort in Kunstharz eingebettet und darin fixiert wird.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Es ist wünschenswert, einen Herstellprozess für einen Dünnfilmmagnetkopf zu schaffen, der keine Herstellung eines Passivierungsfilms und ein einebnendes Polieren desselben benötigt, wie dies beim oben beschriebenen herkömmlichen Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf unabdingbar war, was den Prozess vereinfacht, um dadurch verkürzte Zeit zu erzielen, um so die Herstellkosten zu verringern und die Ausbeute zu erhöhen.
Es ist auch wünschenswert, einen Dünnfilmmagnetkopf mit verbesserter Abnutzungsfestigkeit an einer Magnetband-Gleitfläche sowie ein Verfahren zum Herstellen desselben zu schaffen.
Demgemäß ist durch die Erfindung ein Verfahren geschaffen, wie es im Anspruch 1 dargelegt ist.
Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren kann der herkömmliche komplizierte zweistufige Prozess des Herstellens eines Films aus organischem Material, d. h. das Herstellen eines Passivierungsfilms auf dem Elementabschnitt und das einebnende Polieren desselben durch einen Einzelschritt der einstückigen Herstellung eines Harzvergusses ersetzt werden. Demgemäß ist der Prozess im Vergleich mit dem herkömmlichen Prozess, bei dem ein Passivierungsfilm aus einem organischen Material hergestellt wird, beträchtlich verkürzt und vereinfacht, so dass die Zeit und die Kosten für die Herstellung verringert werden können.
Außerdem sind, da kein Passivierungsfilm aus einem organischen Material verwendet wird, Probleme wie Rissbildung hervorgerufen durch das Polieren der Magnetband-Gleitfläche sowie eine Verformung der Schutzplatte beim Anschließen der Anschlussverdrahtung vermieden, wodurch die Produktausbeute verbessert werden kann.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße Verfahren zum Herstellen eines Dünnfilmmagnetkopfs vor dem Schritt des einstückigen Herstellens des Harzvergusses den Schritt des Herstellens eines Siliziumoxidfilms mit vorgeschriebener Dicke auf der Oberseite einer im Elementabschnitt enthaltenen oberen Magnetkernschicht.
Gemäß diesem Verfahren wird verhindert, dass Wasser von außen in den Elementabschnitt eindringt, so dass die Feuchtigkeitsbeständigkeit des Dünnfilmmagnetkopfs verbessert sein kann.
Bei einer anderen Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach dem Schritt des Formens eines Abschnitts, der die Magnetband-Gleitfläche bilden soll, den Schritt des Herstellens eines abnutzungsfesten Films vorbestimmter Dicke zum Bedecken der geformten Gleitfläche für das magnetische Aufzeichnungsmedium.
Gemäß diesem Verfahren ist das Abnutzungsausmaß an der Gleitfläche des magnetischen Aufzeichnungsmediums beim Gleitvorgang eines Magnetbands verringert, so dass die Lebensdauer des Dünnfilmmagnetkopfs verbessert sein kann.
Durch die Erfindung ist auch ein Dünnfilmmagnetkopf geschaffen, wie er im Anspruch 11 dargelegt ist.
Wie oben beschrieben, kann, gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren, ein Dünnfilmmagnetkopf durch einen vergleichsweise einfachen Prozess ohne komplizierten Schritt wie die Herstellung eines Films aus einem organischen Material wirkungsvoll hergestellt werden. Der Dünnfilmmagnetkopf mit hervorragender Abriebs- und Feuchtigkeitsbeständigkeit kann so mit hoher Ausbeute und vergleichsweise niedrigen Herstellkosten hergestellt werden.
Nur beispielhaft werden nun Ausführungsformen der Erfindung im einzelnen unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Die Ausführungsbeispiele hinsichtlich des ersten Verfahrens sind Ausführungsbeispiele zur Erfindung. Die Ausführungsbeispiele hinsichtlich des zweiten Verfahrens dienen nur zu veranschaulichendem Zweck.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Fig. 1A bis 1E sind Schnittansichten zum Veranschaulichen aufeinanderfolgender jeweiliger Schritte bei einem Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die einen auf den in Fig. 1A dargestellten Schritt folgenden Schritt zeigt.
Fig. 3 ist eine Schnittansicht, die die Struktur des Dünnfilmmagnetkopfs zeigt, wobei, nach dem Herstellen einer Magnetband-Gleitfläche ein abnutzungsfester Film 7 auf dieser beim Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung hergestellt wird.
Fig. 4A bis 4E sind Schnittansichten zum Veranschaulichen aufeinanderfolgender jeweiliger Schritte bei einem zweiten Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf.
Fig. 5 ist eine Schnittansicht, die einen auf den in Fig. 4E dargestellten Schritt folgenden Schritt zeigt.
Fig. 6 ist eine Schnittansicht, die die Struktur eines Dünnfilmmagnetkopfs zeigt, bei dem eine Metallplatte 18 nur im Bereich eines Elementabschnitts 5 beim zweiten Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf angebracht wird.
Fig. 7 ist eine Schnittansicht, die die Struktur eines Dünnfilmmagnetkopfs zeigt, bei dem ein Siliziumoxidfilm 33 beim Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung zwischen einer oberen Magnetkernschicht 14 und einem Harzverguss 17 hergestellt wird.
Fig. 8 ist eine Schnittansicht, die ein Beispiel der Struktur eines Dünnfilmmagnetkopfs mit allen Eigenschaften derjenigen zeigt, die in den Fig. 3, 6 und 7 dargestellt sind.
Fig. 9A bis 9F sind Schnittansichten, die aufeinanderfolgend den ersten bis sechsten Schritt eines herkömmlichen Herstellverfahrens für einen Dünnfilmmagnetkopf zeigen.
Fig. 10 ist eine Schnittansicht, die einen Schritt zeigt, der auf den in Fig. 9F dargestellten Schritt beim herkömmlichen Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf folgt.
Fig. 11 ist eine perspektivische, Ansicht, die das Aussehen einer Magnetkopfeinheit zeigt, die durch ein übliches Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf, einschließlich des herkömmlichen Verfahrens, hergestellt wurde.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE

Nun wird unter Bezugnahme auf die Fig. 1A bis 1E und Fig. 2 das Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben. Während die Erfindung bei allen folgenden Ausführungsbeispielen in Zusammenhang mit der Herstellung eines Magnetkopfs vom Typ mit Magnetowiderstandseffekt beschrieben wird, kann sie in ähnlicher Weise auf einen Magnetkopf vom Typ mit magnetischer Induktion angewandt werden, mit der Ausnahme, dass eine Vormagnetisierungsleitung und ein MR- Element durch eine Leiterspule ersetzt werden.
Beim Herstellverfahren gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel wird, wie es in Fig. 1A dargestellt ist, anfangs ein Elementabschnitt S auf einem Wafersubstrat 1 hergestellt. Als Material für das Substrat 1 kann ein Harz der Phenolfamilie verwendet werden, das Glasfasern, Glaskugeln, Graphit oder dergleichen enthält.
Auf dem Substrat 1 wird eine untere Magnetkernschicht 2 hergestellt, die aus einem weichmagnetischen Dünnfilm aus Ni-Fe, Fe-Al-Si, Fe-Al-N, Co-Zr oder dergleichen besteht, der Eigenschaften hoher Sättigungsmagnetisierung aufweist. Auf der Oberseite der unteren Magnetkernschicht 2 wird durch ein Sputterverfahren oder dergleichen ein Magnetspalt 3 aus einer Isolierschicht aus anorganischem Material aus SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4;, Al&sub2;O&sub3; oder dergleichen hergestellt.
Es werden eine Vormagnetisierungsleitung 30 und ein MR-Element 31 hergestellt und durch eine Isolierschicht bedeckt, woraufhin darauf eine obere Magnetkernschicht 4 hergestellt wird. Der oben beschriebene Herstellprozess für den Elementabschnitt S ist derselbe wie beim herkömmlichen Herstellprozess.
Wie es in Fig. 1B dargestellt ist, wird das Wafersubstrat 1 parallel zu einer Fläche, die eine Magnetband-Gleitfläche werden soll, in eine Reihe oder einen Chip zerschnitten. Mit einem Leitungsanschlussabschnitt P auf dem Substrat 1 wird durch ein Drahtbondverfahren oder ein TAB-Verfahren über eine Anschlussverdrahtung mit einem flexiblem, bedruckten Substrat 5 verbunden.
Wie es in Fig. 1C dargestellt ist, wird das Substrat 1 zwischen Harzformwerkzeuge 6a und 6b eingesetzt, und in die Formwerkzeuge wird Phenolharz 7a eingespritzt, wie es durch den Pfeil A gekennzeichnet ist. In das Phenolharz 7 werden Glasfasern, Glaskugeln, Graphit oder dergleichen eingeführt, um die Abriebsbeständigkeit und das Gleitvermögen zu verbessern. Durch dieses Spritzgießverfahren wird Phenolharz 7a unter Druck in die Formwerkzeugte 6a und 6b, zwischen die das Substrat 1 eingesetzt ist, eingespritzt, und es wird durch Erwärmen ausgehärtet, so dass auf dem Substrat 1 einschließlich dem Elementabschnitt 5 und dem Leitungsanschlussabschnitt P einstückig ein Harzverguss 7 ausgebildet ist, wie es in Fig. 1D dargestellt ist.
Wie es in Fig. 1E dargestellt ist, wird durch zylindrisches Schleifen und Bandläppen eine Magnetband-Gleitfläche 8 mit vorbeschriebener Spalttiefe hergestellt. Ein Dünnfilmmagnetkopf mit abgeschnittener Spitze kann mit vorgeschriebener Genauigkeit in eine Bandführung 8 eingesetzt werden, wie es in Fig. 2 dargestellt ist, wodurch eine Dünnfilmmagnetkopfeinheit, wie sie in Fig. 11 dargestellt ist, fertiggestellt wird.
Die obigen Schritte in den Fig. 1B bis 1E und Fig. 2 können entweder an einer Reihe oder einem Chip auf dem Wafersubstrat ausgeführt werden. Die Bandführung 8 wird beim in Fig. 1A dargestellten Harzvergießvorgang einstückig ausgebildet.
Es ist wünschenswert, nach dem Herstellen der in Fig. 1E dargestellten Magnetband-Gleitfläche B beim vorliegenden Ausführungsbeispiel einen abnutzungsfesten Film 10 auf der Oberfläche der Magnetband-Gleitfläche B herzustellen, wie es in Fig. 3 dargestellt ist, um die Abriebsbeständigkeit der Magnetband-Gleitfläche B zu verbessern. Ein Verfahren zum Herstellen des abriebbeständigen Films 10 besteht z. B. darin, dass nach dem Fertigstellten der Magnetband-Gleitfläche B durch zylindrisches Schleifen und Bandläppen ein Film aus dem Metall Cr durch Sputtern oder Dampfniederschlagung hergestellt wird und danach ein Film aus CrN, Cr&sub2;O&sub3; oder dergleichen mit hoher Abriebsbeständigkeit hergestellt wird. Die Dicke des abriebbeständigen Films 10, der aus einem derartigen Stapel dieser Filme besteht, beträgt vorzugsweise ungefähr 600-1000 Å.
Der Metallfilm aus Cr sollte vorzugsweise vor der Herstellung von CrN mit Abriebsbeständigkeit hergestellt werden, da Cr gutes Haftvermögen für Harz zeigt. Bei der Herstellung des Cr-Films können viele Glasfasern aus Graphit enthaltendem SiO&sub2; in das Phenolharz 7 eingeführt werden, um die Anhaftung des Cr-Films an der Phenolharzfläche zu verbessern. Ein Verfahren zum Herstellen eines CrN-Films oder eines Cr&sub2;O&sub3;-Films nach dem Herstellen eines Cr-Films besteht im Ausführen reaktiven Sputterns mit dem Sputtergas N&sub2; oder O&sub2;, wenn die Herstellung des Cr-Films durch Sputtern abgeschlossen wurde, um sequentiell den Cr-Film und den CrN-Film und dergleichen herzustellen, wobei die sich ergebenden Filme hervorragende physikalische Festigkeit aufweisen.
Nun wird unter Bezugnahme auf die Fig. 4A bis 4E und Fig. 5 das zweite Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf beschrieben.
Bei diesem Verfahren wird der Elementabschnitt S mit den in den Fig. 4A und 4B dargestellten Schritten, ähnlich denen, die in den Fig. 1A und 1B dargestellt sind, auf einem Substrat 11 hergestellt, und mit einem Leitungsanschlussabschnitt P wird eine Anschlussverdrahtung 15 wie ein flexibles Substrat verbunden. Wie es in Fig. 4C dargestellt ist, werden Metallplatten 18a und 18b in Formwerkzeuge 16a, 16b eingesetzt, in die Formwerkzeuge 16a und 16b wird ein Substrat 11 eingesetzt, und es wird Phenolharz 17 eingespritzt, wie es durch den Pfeil A gekennzeichnet ist. Durch dieses Spritzgießen wird Phenolharz 17 unter Druck in die Formwerkzeuge 16a und 16b eingespritzt. Ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel werden so der Elementabschnitt S und der Leitungsanschluss P gleichzeitig durch Harzverguss am Substrat 11 ausgebildet. Der Harzverguss 17 wird einstückig am Substrat 11 so ausgebildet, dass die Metallplatten 18a und 18b an der Oberseite des Harzvergusses 17 bzw. der Unterseite des Substrats 11 befestigt sind, wie es in den Fig. 4E und 5 dargestellt ist, wobei eine Magnetband- Gleitfläche B ausgebildet und in eine Bandführung 19 eingebaut wird, wie bei den in der Fig. 1E und der Fig. 2 des ersten Ausführungsbeispiels dargestellten Schritten, so dass ein Dünnfilmmagnetkopf fertiggestellt ist.
Die Abriebsbeständigkeit der Magnetband-Gleitfläche kann dadurch verbessert werden, dass der Harzverguss 17 einstückig mit den Metallplatten 18a und 18b am Substrat 11 ausgebildet wird, die, wie oben beschrieben, an der Oberseite des Harzvergusses 17 bzw. der Unterseite des Substrats 11 befestigt sind. In diesem Fall ist die Abriebsbeständigkeit umso stärker erhöht, je näher die obere und die untere Metallplatte 18a und 18b am Elementabschnitt S liegen. Wenn für die Metallplatten 18a und 18b eine magnetische Substanz verwendet wird, dienen diese Metallplatten 18a und 18b als magnetische Abschirmung, so dass auch die magnetischen Eigenschaften verbessert werden können.
Die Metallplatten 18a und 18b können dadurch so befestigt werden, dass sie einstückig ausgebildet sind, wenn ein Kleber aus der Epoxidfamilie oder ein Kleber vom Kautschuktyp an den Befestigungsflächen der in die Formwerkzeuge 16a und 16b eingesetzten Metallplatten 18a und 18b vor dem Einspritzen von Phenolharz 17a unter Druck aufgetragen wird. Da die Metallplatten 18a und 18b zum Erhöhen der Abriebsbeständigkeit des Elementabschnitts S an der Magnetband-Gleitfläche B befestigt werden, müssen diese Metallplatten 18a und 18b nicht notwendigerweise an der gesamten Ober- und Unterseite des Substrats 11 vorhanden sein. Wie es in Fig. 6 dargestellt ist, kann z. B. die Metallplatte 18 nur im Bereich von der Magnetband-Gleitfläche B über den Elementabschnitt S an der Oberseite des Substrats 11 ausgebildet sein.
Während bei diesen beschriebenen Verfahren der Harzverguss 17 einstückig in direktem Kontakt mit der Oberseite der oberen Magnetkernschicht 14 hergestellt wird, kann zwischen die Oberseite der oberen Magnetkernschicht 14 und den Harzverguss 17 ein Siliziumoxidfilm 33 eingefügt werden, wie es in Fig. 7 dargestellt ist, so dass das Eindringen von Wasser in den Elementabschnitt S verhindert werden kann, was die Feuchtigkeitsbeständigkeit des Dünnfilmmagnetkopfs verbessert.
Zum Herstellen des Siliziumoxidfilms 33 ist es nur erforderlich, einen Siliziumfilm mit einer Dicke von 2000 Å bis 1 um durch Aufsputtern von Siliziumdioxid vor dem Einspritzen von Phenolharz 17a unter Druck zum Herstellen des Harzvergusses 17 herzustellen. Es ist auch möglich, den Siliziumoxidfilm über die gesamte Fläche des Substrats 11 anschließend an das Herstellen des Elementabschnitts S auszubilden, um die Anschlussverdrahtung mit einem Abschnitt für einen Anschlusskontaktfleck an der Anschlussverdrahtung 15 anzuschließen, nachdem der Siliziumoxidfilm durch reaktives Ionenätzen entfernt wurde, woraufhin Phenolharz 17a unter Druck eingespritzt wird.
Da bei einer solchen Struktur mit eingefügtem Siliziumoxid 33 die obere Magnetkernschicht 14 zwischen die Spaltschicht 13 und den Siliziumoxidfilm 33 in der Nähe der Magnetband-Gleitfläche B eingebettet ist, kann auch die Abriebsbeständigkeit der oberen Magnetkernschicht 14 verbessert sein. Ein derartiger Siliziumoxidfilm 33, der auch als Passivierungsfilm dient, erhöht die Herstellkosten nicht besonders, da er nur eine Dicke von 2000 Å - 1 um benötigt, während der Passivierungsfilm beim herkömmlichen Herstellprozess für einen Dünnfilmmagnetkopf eine Dicke von 10-20 um aufweist und einen Einebnungsprozess benötigt.
Fig. 8 zeigt einen Querschnitt der Struktur eines Dünnfilmmagnetkopfs gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel, das alle Eigenschaften der in den Fig. 3, 6 und 7 dargestellten Ausführungsbeispiele beinhaltet. Bei diesem Dünnfilmmagnetkopf ist die Oberfläche der Magnetband-Gleitfläche B mit einem abriebsbeständigen Film 10 beschichtet, eine Metallplatte 18 ist im Bereich des Elementabschnitts S auf der Oberseite des Harzvergusses 17 vorhanden, und zwischen die Oberseite der oberen Magnetkernschicht 14 und den Harzverguss 17 ist ein Siliziumoxidfilm 33 eingefügt. Mittels einer derartigen Struktur können die Abriebsbeständigkeit des Harzvergusses 17 und die Feuchtigkeitsbeständigkeit des Dünnfilmmagnetkopfs verbessert werden. Ein Dünnfilmmagnetkopf mit einer derartigen Struktur kann leicht dadurch realisiert werden, dass die oben beschriebenen Prozesse zum Herstellen der Strukturen in den Fig. 3, 6 und 7 kombiniert werden.
Obwohl die Erfindung im einzelnen beschrieben und veranschaulicht wurde, ist deutlich zu beachten, dass dies nur zur Veranschaulichung und als Beispiel erfolgte und nicht zur Beschränkung zu verwenden ist, da der Schutzumfang der Erfindung nur durch die Begriffe der beigefügten Ansprüche begrenzt ist.

Claims

1. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf mit einem Substrat (1), einem Element (S) zum Lesen eines magnetischen Signals und einem mit einer Anschlussverdrahtung (5) verbundenen Leitungsanschlussabschnitt (P) zum Entnehmen eines elektrischen Signals vom Element (S), mit den folgenden Schritten:

- Herstellen des Elementabschnitts (S) auf dem Substrat (1);

- Verbinden der Anschlussverdrahtung (5) mit dem Leitungsanschlussabschnitt (P);

- Einsetzen des Harzsubstrats und der Anschlussverdrahtung in ein Formwerkzeug;

- Einspritzen von Harzmaterial in das Formwerkzeug, um einen Harzverguss (7) für den Magnetkopf herzustellen und um eine Bandführung des Magnetkopfs herzustellen, wobei der Harzverguss (7) und die Bandführung materialmäßig und miteinander einstückig aus demselben Harz bestehen; und

- Formen eines Endes des Substrats (1) in der Nähe des Elements (S), um eine Gleitfläche (B) für ein magnetische Aufzeichnungsmedium auszubilden.

2. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, bei dem das Substrat (1) aus einem Harz der Phenolfamilie und einem Material hergestellt wird, das aus der aus Glasfasern, Glaskugeln oder Graphit bestehenden Gruppe ausgewählt ist.

3. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, ferner mit dem Schritt des Herstellens eines Siliziumoxidfilms (33) mit vorgeschriebener Dicke auf der Oberseite einer oberen Magnetkernschicht (14) im genannten Element (5) vor dem Schritt des Herstellens des Harzvergusses (7).

4. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, ferner mit dem Schritt des Herstellens nach dem Schritt des Formens des Endes des Substrats zum Ausbilden der Gleitfläche (B) für das magnetische Aufzeichnungsmedium, eines abriebsbeständigen Films (10) vorgeschriebener Dicke auf der hergestellten Gleitfläche (B) für das magnetische Aufzeichnungsmedium.

5. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, bei dem der Schritt des Formens des Endes des Substrats zum Ausbilden der Gleitfläche (B) für das magnetische Aufzeichnungsmedium den Schritt des Fertigstellens dieser Magnetband-Gleitfläche (B) durch zylindrisches Schleifen und Bandläppen beinhaltet.

6. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, bei dem das eingespritzte Harzmaterial Phenolharz enthält.

7. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 6, bei dem das aus der aus Glasfasern, Glaskugeln und Graphit bestehenden Gruppe ausgewählte Material in das Phenolharz eingeführt wird, bevor dieses in das Formwerkzeug eingespritzt wird.

8. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 4, bei dem der Schritt des Herstellens des abriebsbeständigen Films (10) den Schritt des Herstellens eines Chromfilms auf der Gleitfläche (B) für das magnetische Aufzeichnungsmedium und ferner das Herstellen eines Films aus Chromnitrid oder Chromoxid auf dem Chromfilm beinhaltet.

9. Herstellverfahren für einen Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 8, bei dem der abriebsbeständige Film (10) im genannten Schritt zu seiner Herstellung so hergestellt wird, dass er eine Dicke von 600 bis 1000 Å aufweist.

10. Dünnfilmmagnetkopf mit:

- einem Substrat (1) mit einem vorderen und einem hinteren Ende;

- einem Elementabschnitt (S) zum Lesen eines magnetischen Signals, der auf dem Substrat (1) in der Nähe das vorderen Endes vorhanden ist und der einen Magnetspalt (3) aufweist;

- einem Leitungsanschlussabschnitt (P), der in der Nähe des hinteren Endes am Substrat (1, 11) vorhanden ist und mit einer Anschlussverdrahtung (5) zum Entnehmen eines elektrischen Signals aus dem Element (S) verbunden ist;

- einem Harzverguss (7), der so ausgebildet ist, dass er einen Bereich vom vorderen Ende bis zum hinteren Ende des Substrats (1) bedeckt, der das Element (S) und den Leitungsanschlussabschnitt (P) enthält;

- wobei an den vorderen Enden des Substrats (1, 11) und des Harzvergusses (7) eine Gleitfläche (B) für ein magnetisches Aufzeichnungsmedium ausgebildet ist;

dadurch gekennzeichnet, dass der Kopf ferner eine Bandführung aufweist, die durch den Harzverguss einstückig aus Harzmaterial ausgebildet ist.

11. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 10, bei dem das Substrat (1) aus einem Harz der Phenolfamilie und einem aus der aus Glasfasern, Glaskugeln und Graphit bestehenden Gruppe ausgewählten Material besteht.

12. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 10, bei dem die Gleitfläche (B) für das magnetische Aufzeichnungsmedium mit einem abriebsbeständigen Film (10) vorgeschriebener Dicke bedeckt ist.

13. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 12, bei dem der abriebsbeständige Film (10) eine Stapelstruktur aus auf der Gleitfläche (B) für das magnetische Aufzeichnungsmedium hergestellten Chromfilm und einem auf diesem Chromfilm hergestellten Film aus Chromnitrid oder Chromoxid aufweist.

14. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 12, bei dem

- das Element (S) eine obere Kernschicht (14) aufweist und

- zwischen den Harzverguss (7) und diese obere Kernschicht (14) ein Siliziumoxidfilm (33) vorgeschriebener Dicke eingefügt ist.