DE69220284T2

DE69220284T2 - Magnetkopf und Verfahren zur Herstellung desselben

Info

Publication number: DE69220284T2
Application number: DE69220284T
Authority: DE
Inventors: Tatsuhi Yamamoto
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1991-04-16
Filing date: 1992-04-14
Publication date: 1998-01-22
Anticipated expiration: 2012-04-15
Also published as: JPH04318304A; EP0509461A2; DE69220284D1; EP0509461A3; EP0509461B1; US5276959A; JP2633097B2

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Gebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft einen Magnetkopf und ein Verfahren zum Herstellen desselben, und spezieller betrifft sie einen rotierenden Magnetkopf, wie er in Systemen wie VCR, R-DAT und digitalem VCR und dergleichen montiert ist, und ein Verfahren zum Herstellen desselben gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1 oder Anspruch 2.

Beschreibung der einschlägigen Technik

In den letzten Jahren wurden mit den Fortschritten der magnetischen Aufzeichnungstechnik hinsichtlich der Weiterentwicklung breitbandiger Aufzeichnung mit hoher Dichte Medien mit hoher Koerzitivkraft, wie Bänder mit Metallteilchen und dergleichen zu Aufzeichnungsträgern. Demgemäß wird als Kernmaterial eines Magnetkopfs ein Dünnfilm aus einer weichmagnetischen Legierung mit hoher Sättigungsmagnetflussdichte verwendet. Gemäß den Zeichnungen wurde z.B. ein Magnetkopf 21 mit einer Konfiguration, bei der ein Dünnfilm 22 aus einer weichmagnetischen Legierung in ein unmagnetisches Material 23 eingebettet ist, wie in Fig. 15 dargestellt, gemäß JP-A-1235011 vorgeschlagen, und es wurde ein anderes Beispiel mit einer Konfiguration vorgeschlagen, bei der die Dicke des Kerns eines Magnetkopfs in einem vorderen Spalt zu der gemacht ist, wie sie für eine Spurbreite erforderlich ist, während die Dicken in allen anderen Teilen größer gemacht sind, um den Kernwirkungsgrad zu verbessern.
Der Erfinder der vorliegenden Erfindung und seine Mitarbeiter schlugen in der Veröffentlichung Heisei Nr. 1-33709 zu einem ungeprüften japanischen Patent einen Magnetkopf vor, und sie schlugen auch ein Verfahren zum Herstellen eines solchen Magnetkopfs vor. D.h., dass ein Magnetkern nur in einem Bereich dünner gemacht wird, in dem die Spurbreite im Magnetkopf durch gerichtete Teilchen, wie beim lonenfräsen, bestimmt wird.
Fig. 16 zeigt einen Magnetkopf 24, wie er in derselben Veröffentlichung Heisei No. 1-33709 zu einem ungeprüften japanischen Patent offenbart ist. Gemäß Fig. 16 weist ein Dünnfilm 26 aus weichmagnetischen Dünnfilmen oder einer Kombination weichmagnetischer Dünnfilme und isolierender Dünnfilme eine Dicke auf, die in einem Spaltbereich 25 der Spurbreite entspricht, während er in allen anderen Teilen dicker ist. Ein Magnetkern 26 mit derartiger Konfiguration weist einen großen Querschnitt des Magnetkerns auf, um den Kernwirkungsgrad durch Verringern des magnetischen Widerstands des Kerns zu verbessern.
Fig. 17 ist eine perspektivische Ansicht zweier Halbkörper des Magnetkopfs 24, wo er zwischen seinen im Spalt zugewandten Ebenen unterteilt ist, so dass die sich ergebenden, dem Spalt zugewandten Ebenen betrachtet werden können. Es sei angenommen, dass ideale Bearbeitungsgenauigkeit erzielbar ist, und selbst wenn dabei nur ein Magnetkern 26 in einem Teil (vorderer Spalt) 29, auf dem ein Aufzeichnungsträger am schließlichen Magnetkopf 24 gleiten soll, beim Verfahren dünn gemacht wird, wie es ebenfalls in der Veröffentlichung Heisei Nr. 1-33709 zu einem ungeprüften japanischen Patent, wie oben angegeben, offenbart ist, stehen die jeweiligen Magnetkerne des Paars Hälften 21 des Magnetkopfs 24 einander lediglich mit der Breite C gegenüber, was der Dicke des Kerns im vorderen Spalt 29 entspricht, wie in Fig. 17 dargestellt, und zwar in der dem Spalt zugewandten Ebene, wo das Paar Hälften des Magnetkerns 24 miteinander verbunden ist. Anders gesagt, ist, obwohl der Magnetkern in einem hinteren Spalt 30 dicker ausgeführt ist und der magnetische Widerstand entsprechend verringert ist, um den Kemwirkungsgrad des Magnetkopfs 24 zu verbessern, die Querschnittsfläche des Magnetkerns im hinteren Spalt 30 kleiner, was größeren magnetischen Widerstand hervorruft, und demgemäß tritt das Problem auf, dass keine Wirkung einer ausreichenden Verbesserung des Kernwirkungsgrads erzielbar ist.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Daher ist es die Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Herstellen eines Magnetkopfs und einen Magnetkopf mit geringem magnetischen Widerstand und hohem Kernwirkungsgrad zu schaffen.
Diese Aufgabe ist durch die Merkmale gelöst, wie sie im kennzeichnenden Teil von Anspruch 1 oder Anspruch 2 angegeben sind.
Bevorzugte Ausführungsformen der beanspruchten Erfindung sind in den Unteransprüchen 3 bis 9 definiert.
Vorzugsweise werden die unmagnetischen Filme im Schritt des Herstellens derselben an den Seitenwänden der V-förmigen Gräben durch eine Dünnfilm Herstellmaßnahme wie elektronenstrahl-unterstützte Abscheidung im Vakuum, Sputtern und dergleichen hergestellt.
Vorzugsweise werden die magnetischen Filme im Schritt des Herstellens derselben an den Seitenwänden der V-förmigen Gräben durch eine Dünnfilm-Herstellmaßnahme wie elektronenstrahl-unterstützte Abscheidung im Vakuum, Sputtern und dergleichen hergestellt.
Vorzugsweise werden die magnetischen Filme im Schritt des Dünnermachens derselben durch lonenfräsen bearbeitet, um dünner zu werden.
Vorzugsweise bilden die an den Seitenwänden der V-förmigen Gräben ausgebildeten magnetischen Filme Lagen aus abwechselnden weichmagnetischen Metallfilmen und elektrisch isolierenden Filmen.
Vorzugsweise werden die unmagnetischen Filme im Schritt des Herstellens derselben an den Seitenwänden der V-förmigen Gräben mit einer Dicke von ungefähr 1/2 der Differenz zwischen der Dicke der Magnetkerne, wie für die Spurbreite des Magnetkopfs erforderlich, und der Dicke der Magnetkerne in jedem anderen Teil hergestellt.
Vorzugsweise bestehen die unmagnetischen Filme aus einem Oxid oder einem Verbindungsoxid, wie Aluminiurnoxid, Magnesiumoxid, Steatit, Forsterit usw.
Demgemäß werden die Magnetkerne in der Verbindungsebene zwischen einem Paar Magnetkerne so ausgerichtet, dass sie im hinteren Spalt einander mit größerer Breite als im vorderen Spalt gegenüberstehen, weswegen die Querschnittsfläche der Magnetkerne im hinteren Spalt größer ist.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht, die einen erfindungsgemäßen Magnetkopf zeigt;
Fig. 2 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Variation der Erfindung zeigt;
Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein erfindungsgemäßer Magnetkopf in einer dem Spalt zugewandten Ebene so unterteilt ist, dass sich ergebende, dem Spalt zugewandte Ebenen betrachtet werden können;
Fig. 4 bis 14 sind Diagramme zum Erläutern eines Herstellverfahrens für einen Magnetkopf gemäß der Erfindung;
Fig. 15 ist eine perspektivische Ansicht, die einen herkömmlichen Magnetkopf zeigt;
Fig. 16 ist eine perspektivische Ansicht, die einen anderen herkömmlichen Magnetkopf zeigt; und
Fig. 17 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem der in Fig. 16 dargestellte Magnetkopf in einer dem Spalt zugewandten Ebene unterteilt ist, und die sich ergebenden, dem Spalt zugewandten Ebenen freigelegt sind.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DES BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS

Die Erfindung wird nachfolgend im Einzelnen in Zusammenhang mit bevorzugten Ausführungsbeispielen beschrieben, wie sie in den beigefügten Zeichnungen dargestellt sind. Die Erfindung soll nicht genau auf die Beschreibung beschränkt sein.
Bei den hier bevorzugten Ausführungsbeispielen wird ein Dünnfilm aus der Familie der FeAlSi-Legierungen als Dünnfilm aus einer weichmagnetischen Legierung verwendet, während kristallisiertes Glas als unmagnetisches Substrat verwendet wird, jedoch können z.B. Legierungen aus dem NiFe-System, FeSiGa-Legierungen, Legierungen aus der CoNBZr-Familie oder dergleichen als weichmagnetische Legierung verwendet werden, während für das unmagnetische Substrat Keramiken aus Titanoxid, Strontiumoxid, Nickeloxid, Magnesiumoxid oder einer Verbindung aus zweien oder mehreren derselben verwendet werden kann. Das Material des Substrats kann geeignet abhängig von der Anpassbarkeit der Wärmeexpansion an das weichmagnetische Material und an Abriebeigenschaften ausgewählt werden.
Die Fig. 1 und 2 sind perspektivische Ansichten, die bevorzugte Ausführungsbeispiele eines erfindungsgemäßen Magnetkopfs zeigen. In diesen Figuren sind die jeweiligen Magnetköpfe in Dickenrichtung und um einen Spalt herum vergrößert. Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Magnetkopf zeigt, der so halbiert ist, dass jeweilige Schnittebenen vorliegen, an denen zweigeteilte, dem Spalt zugewandte Ebenen einander gegenüberstehen, die hier freigelegt sind.
Wie es in den Fig. 1 bis 3 dargestellt ist, verfügt ein Magnetkern 3 aus einem Legierungsdünnfilm aus der FeAlSi-Familie in einem vorderen Spalt 5 über eine Dicke, wie sie für die Spurbreite erforderlich ist, während er in jedem anderen Teil dicker ist. Ferner ist der Magnetkopf 3 im vorderen Spalt 5 dünner, da ein unmagnetisches Substrat 7 und eine Glasplatte 8 an der gegenüberliegenden Seite von entgegengesetzten Seiten des Magnetkerns 3 in eben diesem Teil in diesen einschneiden.
Andererseits ist der Magnetkern, gemäß einem üblichen Aufbau, durch das unmagnetische Substrat 7 aus kristallisiertem Glas und das Glas 8 mit niedrigem Schmelzpunkt mit einer Abriebsfestigkeit, die der des unmagnetischen Substrats entspricht, eingebettet. Abhängig von der Form und der Weite eines unten angegebenen V-förmigen Grabens verläuft eine freigelegte Fläche 9 des Magnetkerns 3 schräg in Bezug auf eine Kante 10 an der Oberseite des Magnetkopfs 1. Ein Spalt 2 wird durch das Glas 8 mit niedrigem Schmelzpunkt begrenzt. In den Fig. 1 bis 3 sind Drähte weggelassen, die um den Magnetkopf 1 und einen Spaltabstandshalter zu wickeln sind.
Nun wird unter Bezugnahme auf die Fig. 4 bis 14 ein Verfahren zum Herstellen des Magnetkopfs 1 erläutert.
Als erstes werden, wie es in Fig. 4 dargestellt ist, V-förmige Gräben 11 aufeinanderfolgend parallel zueinander mit einer Schrittweite A ausgebildet, die so bestimmt ist, dass die Dicke eines vorgesehenen Magnetkopfs zusätzlich einer Toleranz an der Oberfläche des Substrats 7 aus kristallisiertem Glas dort einschneiden. Ein Winkel Φ, der durch die Seitenwände 9 der V-förmigen Gräben, wo ein Dünnfilm aus einer weichmagnetischen Legierung herzustellen ist, der schließlich als Magnetkern 3 dient, und einer Linie normal zur Ausgangsfläche des Substrats 7 gebildet ist, und die Schrittweite A werden durch die Breite des Magnetkerns 3 und den für den vorgesehenen Magnetkopf 1 beabsichtigten Azimutwert bestimmt.
Dann werden, wie es in den Fig. 5 und 6 dargestellt ist, eine Einrichtung zum Festlegen des Ausbildungsbereichs für den Dünnfilm, wie eine Metallmaske und dergleichen, und ein Selbstabschattungseffekt durch die Oberseite 12 jeder der Seitenwände 9 der V-förmigen Gräben 11 gemeinsam dazu verwendet, einen unmagnetischen Dünnfilm 20 an den Seitenwänden 9 der V-förmigen Gräben 11 und nur in einem Teil, der dem vorderen Spalt 5 des vorgesehenen Magnetkopfs 1 entspricht, durch eine Dünnfilm-Herstellrnaßnahme wie elektronenstrahl-unterstützte Abscheidung im Vakuum, Sputtern oder dergleichen herzustellen. Der unmagnetische Dünnfilm 20 verfügt über eine solche Dicke, dass der Magnetkern in einem hinteren Spalt 6 im Magnetkopf 1 breiter als im Magnetkern im vorderen Spalt 5 sein kann. Die Obergrenze der Dicke entspricht der Differenz zwischen der Dicke des Magnetkerns, wie für die Spurbreite des Magnetkopfs 1 erforderlich, und der Dicke des Magnetkerns in jedem anderen Teil. Es ist bevorzugt, dass die Dicke des unmagnetischen Dünnfilms 20 ungefähr 1/2 der Differenz zwischen der Dicke des Magnetkerns, wie für die Spurbreite des Magnetkopfs 1 erforderlich, und der Dicke des Magnetkerns in jedem anderen Teil beträgt. Da die Dicke des unmagnetischen Dünnfilms 20 einige Mikrometer bis einige 10 Mikrometer beträgt, ist das Material für den unmagnetischen Dünnfilm vorzugsweise ein Oxid oder ein zusammengesetztes Oxid wie Aluminiumoxid, Magnesiumoxid, Steatit, Forsterit usw., das ungefähr dieselbe Wärmeexpansion wie das Substrat 7 aufweist.
Danach wird, wie es in den Fig. 7 und 8 dargestellt ist, der Legierungsdünnfilm 3 aus der FeAlSi-Familie an den Seitenwänden 9 hergestellt, wodurch der unmagnetische Dünnfilm 20 teilweise ausgebildet wird, was durch eine Dünnfilm-Herstellmaßnahme wie elektronenstrahl-unterstützte Abscheidung im Vakuum, Sputtern usw. so erfolgt, dass größere Dicke vorliegt, als sie für die Spurbreite des Magnetkopfs 1 erforderlich ist. Bei einem Verfahren, bei dem ein Film bei beträchtlich hohem Vakuum abgeschieden wird, ist die mittlere freie Weglänge von Teilchen, die zur Abscheidung im Vakuum beitragen, ausreichend lang, und demgemäß kann, durch geeignetes Einstellen des Einfallswinkels der abzuscheidenen Teilchen, der Legierungsdünnfilm 3 aus der FeAlSi-Familie durch einen Abschattungseffekt an der Oberseite 12 angrenzend an die Seite jeder Seitenwand 9 an nur einer Seite jeder der Seitenwände 9 hergestellt werden, wie in Fig. 7 dargestellt. Vorzugsweise verfügt der Magnetkern 3 über eine mehrlagige Struktur, bei der isolierende Schichten aus SiO&sub2; oder dergleichen durch Metallfilme 3 eingebettet sind, was den Frequenzbereich ermöglicht, in dem der Magnetkopf 1 arbeitet. Darüber hinaus wird, nachdem der Dünnfilm 3 aus der weichmagnetischen Legierung mit einer Dicke hergestellt wurde, die für die Spurbreite des Magnetkopfs 1 erforderlich ist, dieser Dünnfilm aus der weichmagnetischen Legierung mittels eines Dünnfilms mit einer Dicke von ungefähr 1 µm und eines Metalls, das beim Ionenfräsen in einem späteren Schritt als Maske verwendet wird (z.B. Ti, für das beim Ionenfräsen ein Selektionsverhältnis gegenüber dem weichmagnetischen, unmagnetischen Dünnfilm erhalten werden kann) dicker ausgebildet. Auf diese Weise kann selbst dann, wenn beim unten angegebenen Schritt des Ionenfräsens eine leichte Ungleichmäßigkeit der Geschwindigkeit besteht, ein Magnetkopf mit spezifizierter Spurweite mit hoher Ausbeute dadurch erhalten werden, dass ein Zustand mit geringem Überfräsen eingestellt wird.
Dann werden, wie es in Fig. 9 dargestellt ist, eine Maßnahme zum Festlegen eines Bereichs, in dem eine Metallmaske und dergleichen zu Ätzen sind, und ein Selbstabschattungseffekt durch die Oberseite 12 der Seitenwand 9 gemeinsam dazu verwendet, lonenfräsen so auszuüben, dass nur ein Teil des Dünnfilms 3 aus der weichmagnetischen Legierung im vorderen Spalt 5 des Magnetkopfs 1 eine Dicke aufweist, die für die Spurbreite geeignet ist.
Als Ergebnis der oben genannten Schritte ist, wie es in Fig. 10 dargestellt ist, ein Kernblock-Grundmaterial 13 bereitgestellt, bei dem die Dicke des Magnetkerns 3 im vorderen Spalt 5, wovon die Spurbreite des Magnetkopfs 1 abhängt, kleiner als die Dicke in jedem anderen Teil ist, und es ist der Dünnfilm 3 aus der weichmagnetischen Legierung geschaffen, bei dem es sich um den Magnetkern 3 handelt, der durch den unmagnetischen Film im durch die Abscheidung begrenzten Bereich und das Glas 8 an der entgegengesetzten Seite, die in den Magnetkern 3 einschneiden, im vorderen Spalt 5 dünner gemacht ist.
Dann werden, nach anschließendem Abscheiden von SiO&sub2; oder dergleichen zur Passivierung sowie eines Metalls (Cr oder dergleichen) zum Gewährleisten guter Benetzung von Glas (nicht dargestellt) an den Seitenwänden der V- förmigen Gräben 11, diese V-förmigen Gräben mit dem Glas 8 mit niedrigem Schmelzpunkt aufgefüllt, wie in Fig. 11 dargestellt, und das überschüssige Glas mit niedrigem Schmelzpunkt wird entfernt, um die Oberseite des Substrats einzuebnen. Auf diese Weise kann ein Kernblock 14 erhalten werden.
Dann wird, wie es in Fig. 12 dargestellt ist, der Kernblock 14 entlang einer Ebene 50 rechtwinklig zur Bodenfläche des unmagnetischen Substrats 7 und den V-förmigen Gräben 11 mit vorbestimmter Schrittweite zum Herstellen von Kernstücken 16 zerteilt. Dabei muss der vordere Spalt 5 mit einer Kante jedes der Kernstücke 16 ausgerichtet werden. In Fig. 12 ist der einzelne Kernblock 14 der Einfachheit halber so dargestellt, dass er viergeteilt ist, jedoch kann er in der Praxis in mehr Stücke unterteilt werden.
Die auf diese Weise erhaltenen Kernstücke 16 werden einem Prozess ähnlich dem bei einem wohlbekannten VCR-Ferritkopf unterzogen; z.B. erfolgen Schritte wie das Herstellen von Gräben für Fenster für einen Spulendraht, ein Feinpolieren entgegengesetzter, freigelegter Ebenen des Spalts (dem Spalt zugewandte Ebenen) sowie des Herstellens von Spaltabstandshaltern. In diesem Fall sind die tatsächlichen Ebenen des Spalts durch die Bezugszahl 17 in Fig. 12 gekennzeichnet. Danach wird, wie es in Fig. 13 dargestellt ist, ein Paar Kernstücke 16 durch Glas bei Bedingungen verbunden, gemäß denen die Temperatur erhöht wird, bis das Glas 8 mit niedrigem Schmelzpunkt Haftungskraft zeigt, während die Kernstücke 16 zusammengedrückt werden, wobei ihre jeweiligen Magnetkerne 3, die in den jeweiligen, dem Spalt zugewandten Ebenen freiliegen, gegeneinander ausgerichtet sind, wodurch ein Magnetkopf-Kernblock 18 hergestellt wird. Dieser Magnetkopf-Kernblock 18 besteht aus mehreren Magnetkcpfchips 19, die miteinander verbunden sind, und er wird im nächsten Schritt in die gesonderten Magnetkopfchips 19 zerteilt.
Genauer gesagt, wird, wie es in Fig. 14 dargestellt ist, der Magnetkopf- Kernblock 18 mit einer Schnittweite zerteilt, die in der Zeichnung schraffiert dargestellt ist. Abhängig von der Form und der Schrittweite der V- förmigen Gräben 11 verläuft die Schnittebene manchmal nicht parallel zum Magnetkern 3.
Die so erhaltenen Magnetkopfchips 19 erfordern, ähnlich wie ein herkömmlicher Magnetkopf, eine Endbearbeitung, wie das Befestigen an einer Trägerplatte durch Kleben, ein Bewickeln, ein Bandpolieren und dergleichen, um den Magnetkopf 1 fertigzustellen (siehe Fig. 1 und 2).
Wenn ein Magnetkern in einem hinteren Spalt eines Magnetkopfs dicker auszuführen ist, um den magnetischen Widerstand zu verringern und den Kemwirkungsgrad zu verbessern, wird der Magnetkern im vorderen Spalt so strukturiert, dass er dadurch dünner ausgebildet wird, dass ein Substrat und ein diesem gegenüberstehendes Element von entgegengesetzten Seiten des Magnetkerns in eben diesem Teil in diesen einschneiden, weswegen die Magnetkerne in einer dem Spalt zugewandten Ebene, in der die Hälften eines Paars Magnetkerne aneinander angrenzen, zueinander so ausgerichtet, dass sie einander im hinteren Spalt mit größerer Breite als im vorderen Spalt gegenüberstehen können. Im Ergebnis kann selbst dann, wenn die Toleranz beim Herstellprozess beträchtlich gelockert ist, ein Magnetkopf mit hohem Kernwirkungsgrad mit hoher Ausbeute erhalten werden.

Claims

1. Magnetischer Aufzeichnungskopf (1) mit einer Gleitfläche, auf der ein Träger gleiten kann, mit zwei Substraten (7), die mit Magnetkernhälften (3) aus einem magnetischen Film mit vorbestimmter Dicke darauf versehen sind, und die so in einer Ebene befestigt sind, dass ein Magnetspalt (5) zwischen den Magnetkernhälften (3) gebildet ist, wobei die Seiten der Magnetkernhälften (3) mit dem Spalt (5) an der Gleitfläche freiliegen, wobei der freigelegte Kernteil nahe dem Spalt eine geringere Kernbreite als die vorbestimmte Dicke aufweist und der Rest des freigelegten Magnetkerns eine Kernbreite aufweist, die der vorbestimmten Dicke entspricht, dadurch gekennzeichnet, dass der Magnetkopfferner einen unmagnetischen Film (20) zwischen dem freigelegten Kernteil nahe dem Spalt (5) und dem Substrat (7) aufweist.

2. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungskopfs (1), bei dem zwei Substrate (7) vorhanden sind, wobei Magnetkerne (3) aus einem Magnetfilm an ihrer Oberfläche in einer Ebene so verbunden sind, dass zwischen den Magnetkernen (3) ein Magnetspalt (5) gebildet ist, mit den folgenden Schritten:

(a) Herstellen mehrerer gerader V-förmiger Gräben (11) parallel zueinander an Oberflächen der Substrate (7);

(b) Herstellen magnetischer Filme (3) an den Seitenwänden (9) der V-förmigen Gräben (11);

(c) Dünnermachen der Magnetfilme (3) an dieser Oberfläche der Substrate bis auf spezifizierte Tiefe;

(d) Auffüllen der Gräben (11) mit Glas (8) und anschließendes Einebnen der Oberflächen der Substrate (7);

(e) Zerteilen der Substrate (7) entlang einer Ebene rechtwinklig zu den V- förmigen Gräben (11), um sie in erste und zweite Substrate (7) zu unterteilen;

(f) Herstellen von Gräben für einen Einwickelvorgang an der Ober- und Unterseite sowohl des ersten als auch des zweiten Substrats (7) in einer Richtung rechtwinklig zu den V-förmigen Gräben (11);

(g) Auflegen des ersten Substrats (7) auf das zweite Substrat (7) in solcher Weise, dass die jeweiligen Oberflächen des ersten und des zweiten Substrats (7) in Kontakt miteinander stehen können und dass die Magnetfilme (3) des ersten und des zweiten Substrats (7) gemeinsam einen Magnetspalt (5) bilden, und dann das Glas (8) in den V-förmigen Gräben (11) geschmolzen wird und das erste und das zweite Substrat (7) als Einheit verbunden werden; und

(h) Zerteilen der Einheit entlang einer Ebene, die unter einem speziellen Winkel geneigt ist, der mit einer Übergangsebene zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat (7) in Beziehung steht;

dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren ferner zwischen den Schritten (a) und (b) den Schritt des Herstellens unmagnetischer Filme (20) mit spezieller Weite nahe den Oberseiten der Seitenwand (9) der Gräben (11) aufweist, und jeder unmagnetische Film (20) so hergestellt wird, dass die Dicke (t) der unmagnetischen Filme (20) durch die folgende Formel repräsentiert ist:

t = (1/2) (T - W),

wobei T die Dicke des magnetischen Films (3) ist und W die Breite des Magnetspalts (5) ist.

3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die unmagnetischen Filme im Schritt des Herstellens derselben an den Seitenwänden der V-förmigen Gräben durch eine Dünnfilm-Herstellmaßnahme wie elektronenstrahl-unterstützte Abscheidung im Vakuum, Sputtern und dergleichen hergestellt werden.

4. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die magnetischen Filme (3) im Schritt des Herstellens derselben an den Seitenwänden (9) der V-förmigen Gräben durch eine Dünnfilm-Herstellmaßnahme wie elektronenstrahl-unterstützte Abscheidung im Vakuum, Sputtern und dergleichen hergestellt werden.

5. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die magnetischen Filme im Schritt des Dünnermachens derselben durch lonenfräsen bearbeitet werden, um dünner zu werden.

6. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die magnetischen Filme (3), die an den Seitenwänden (9) der V-förmigen Gräben (11) ausgebildet werden, Lagen aus abwechselnden weichmagnetischen Metallfilmen und elektrisch isolierenden Filmen bilden.

7. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die unmagnetischen Filme (20) aus einem Oxid oder einem zusammengesetzten Oxid wie Aluminiumoxid, Magnesiumoxid, Steatit, Forsterit usw. bestehen.

8. Magnetkopf nach Anspruch 1, bei dem der freigelegte Kernteil nahe dem Spalt (5) dadurch hergestellt wird, dass die Dicke des Magnetfilms symmetrisch verkleinert wird.