DE69208349T2 - Allgemeine Schutzvorrichtung eines integrierten Schaltkreises gegen Überlastungen und elektrostatische Entladungen - Google Patents

Allgemeine Schutzvorrichtung eines integrierten Schaltkreises gegen Überlastungen und elektrostatische Entladungen

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Description

  • Die Erfindung betrifft integrierte Schaltungen und deren Schutz gemäß einem gemeinsamen Prinzip gegen elektrostatische Entladungen, andauernde Überbeanspruchungen wie beispielsweise Polaritätsumkehr bzw. Verpolung oder Überspannungen, und Sekundärvorgänge wie beispielsweise Verriegelungsvorgänge zugleich.
  • Die Erfindung erlaubt, integrierte Schaltungen in einem weiten Bereich gegen bewußt böswillige oder betrügerische Zerstörungen als auch gegen ungewollte Zerstörungen durch statische Elektrizität, Blitzschlag, magnetische Gewitter oder durch falsche Handhabung oder menschliche Fehler (Verpolung, Überspannung) zu schützen.
  • Nun führt die allgemeine Verwendung integrierter Schaltungen zu neuen Problemen, im Bereich des Münzwesens insbesondere in Zusammenhang mit Bankkarten, die einen einzigen Mikroschaltkreis für die gesamte Elektronik verwenden. Infolgedessen ist keine elektronische Umgebung mehr vorhanden, welche einen externen Schutz der integrierten Schaltung ermöglichen könnte. So können beispielsweise diskrete Schutzkomponenten, z.B. Dioden mit spezieller Spitzenwertbegrenzung und nichtlineare Widerstände, die als Schutz gegen andauernde Überbeanspruchungen eingesetzt werden, nicht länger verwendet werden.
  • Aus denselben Gründen sowie auch dadurch, daß neue Technologien zu immer empfindlicheren Schaltkreisen führen, ist es darüber hinaus zweckmäßig, sämtliche Vorgänge mit zerstörerischer Wirkung zu erfassen und die gesamte integrierte Schaltung zu schützen und nicht länger nur bestimmte Eingänge oder Ausgänge gegen bestimmte Vorgänge mit zerstörerischer Wirkung. Es ist infolgedessen notwendig, die integrierte Schaltung durch eine integrierte Schutzstruktur gegen elektrostatische Entladungen sowie gegen andauernde Überspannungen, Verpolungen eingeschlossen, zugleich vollständig "selbstschützend" zu machen.
  • Üblicherweise wird mit einer bestimmten Art von Anschluß- oder Verbindungsbeinchen versucht, dem sich für einen speziellen Vorgang ergebenden Problem zu begegnen und dieses zu lösen. Beispielsweise wird so in dem Patent FR 2681193 desselben Erfinders eine Spannungsfolger-Vorrichtung zwischen dem Drain-Anschluß und dem Gate- Anschluß eines Transistors mit offenem Drain-Ausgang als Vorrichtung zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen, welche das Gateoxid in der Drainzone beeinträchtigen, angeordnet. Das Patent US 4,922,371 beschreibt eine andere Schaltung zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen für integrierte Schaltungen.
  • Erfindungsgemäß wird eine Schutzstrategie vorgeschlagen, welche gleichzeitig auf alle Vorgänge mit zerstörerischer Wirkung anwendbar ist. Die ursprüngliche Lösung gemäß der Erfindung besteht im Modifizieren der Strom-Spannungs-Eingangskennlinie jedes der Verbindungsbeinchen der integrierten Schaltung bezüglich eines gemeinsamen, im Innern der integrierten Schaltung liegenden elektrischen Knotens. Vorteilhaft ist der interne elektrische Knoten der elektrische Knoten des Halbleitersubstrats der integrierten Schaltung. Während das Halbleitersubstrat üblicherweise an einem Verbindungsbeinchen mit einer externen Bezugsspannung kurzgeschlossen wird, wie z.B. ein üblicherweise zu der Masse Vss hin polarisiertes Substrat P, wird erfindungsgemäß das Halbleitersubstrat von diesem Verbindungsbeinchen isoliert und intern polarisiert. Diese ursprüngliche Lösung erlaubt außerdem, vorteilhaft das Problem des Schutzes gegen Verpolung zu lösen.
  • Die Erfindung betrifft demzufolge eine integrierte Schaltung, die aus einem Halbleitersubstrat eines ersten Dotierungstyps hergestellt ist, Verbindungsbeinchen von internen Funktionsknoten zu externen Signalen umfaßt und über eine erste interne Referenzspannung verfügt, die über ein Verbindungsbeinchen an eine erste externe Spannungsquelle abgegeben wird, wobei das Halbleitersubstrat auf eine zweite interne Bezugsspannung polarisiert ist, gekennzeichnet durch eine Vorrichtung zum Schutz gegen Überspannungen zwischen jedem der Verbindungsbeinchen und dem Halbleitersubstrat, eine zwischen dem Halbleitersubstrat und einem Verbindungsbeinchen mit einer zweiten externen Referenzspannungsquelle verbundene Diode, und einen zwischen der ersten und der zweiten internen Bezugsspannung verschalteten Polarisationswiderstand, so daß die Diode bei normaler Polarisation der integrierten Schaltung in Vorwärtsrichtung und bei umgekehrter Polarisation der integrierten Schaltung in Rückwärtsrichtung betrieben wird, um das Halbleitersubstrat von dem Verbindungsbeinchen an der zweiten externen Spannungsquelle, an dem es üblicherweise kurzgeschlossen wird, zu isolieren.
  • Es wird so ein umfassender Schutz der integrierten Schaltung gegen die Gesamtheit der Vorgänge mit zerstörerischer Wirkung erzielt.
  • Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltung, die durch eine erste externe und eine zweite externe Spannungsquelle polarisiert wird, dadurch gekennzeichnet, daß in einem Halbleitersubstrat eines ersten Dotierungstyps eine Diffusion eines zweiten Dotierungstyps, die mit der zweiten externen Spannungsquelle verbunden ist, und ein Polarisationswiderstand, der an einer Klemme mit der ersten internen Bezugsspannung und an der anderen Klemme mit einer Diffusion des ersten Dotierungstyps verbunden ist, erzeugt werden, um das Substrat auf eine zweite interne Bezugsspannung zu polarisieren, wobei das Substrat und die Diffusion eines zweiten Dotierungstyps eine Diode bilden, die bei normaler Polarisation der integrierten Schaltung in Vorwärtsrichtung und bei umgekehrter Polarisation der integrierten Schaltung in Rückwärtsrichtung betrieben wird, und wobei die integrierte Schaltung eine Vorrichtung zum Schutz gegen Überspannungen zwischen jedem Verbindungsbeinchen und dem Substrat umfaßt.
  • Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Lektüre der nachstehenden, detaillierten Beschreibung, welche beispielhaft und nicht beschränkend für die Erfindung sowie unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung erfolgt. Es zeigen:
  • Fig. 1 ein allgemeines elektrisches Schema einer erfindungsgemäß modifizierten integrierten Schaltung;
  • Fig. 2 eine Vorrichtung zum erfindungsgemäßen Isolieren eines Substrats P unter Verwendung einer Diode D2;
  • Fig. 3 die Strom-Spannungs-Kurve an den Klemmen der Diode D2 der Vorrichtung gemäß Fig. 2;
  • Fig. 4 die jeweiligen Strom-Spannungs-Kurven zweier erfindungsgemäß geschützter Verbindungsbeinchen und die sich zwischen diesen beiden Beinchen ergebende Strom- Spannungs-Kurve;
  • Fig. 5 eine Vorrichtung zum Schutz eines Verbindungsbeinchens zu einer externen Versorgungsspannung gemäß der Erfindung;
  • Fig. 6 die Strom-Spannungs-Kurve des Verbindungsbeinchens zu der externen Versorgungsspannung der Vorrichtung gemäß Fig. 5;
  • Fig. 7a und 7b einen erfindungsgemäß jeweils verwendeten, durch Diffusion hergestellten Strombegrenzungswiderstand in der Aufsicht und entlang des Schnittes AA;
  • Fig. 8 eine Vorrichtung zum Schutz eines N-Ausgangstransistors für ein P- Halbleitersubstrat gemäß der Erfindung;
  • Fig. 9 die Strom-Spannungs-Kurve des N-Ausgangstransistors der Vorrichtung gemäß Fig. 8;
  • Fig. 10 eine Vorrichtung zum Schutz eines P-Ausgangstransistors für ein P- Halbleitersubstrat gemäß der Erfindung;
  • Fig. 11 die Strom-Spannungs-Kurve des P-Ausgangstransistors der Vorrichtung gemäß Fig. 10;
  • Fig. 12 eine Vorrichtung zum Schutz des Eingangsgates eines CMOS-Inverters gemäß der Erfindung;
  • Fig. 13 die Strom-Spannungs-Kurve am Eingang des CMOS-Inverters der Vorrichtung gemäß Fig. 12;
  • Fig. 14 eine besondere Ausführungsform eines Neben-Bipolartransistors zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen gemäß der Erfindung; und
  • Fig. 15 eine Strom-Spannungs-Kennlinie des Neben-Bipolartransistors gemäß Fig. 14.
  • Fig. 1 zeigt eine selbstschützende integrierte Schaltung CI gemäß der Erfindung. Die integrierte Schaltung umfaßt Verbindungsbeinchen P1, P2, P3, P4, P5 von internen elektrischen Knoten N1, N2, N3, N4, N5 zu externen Signalen V1, V2, S1, S2, E1.
  • Das externe Signal V1 wird durch eine erste, in der Figur nicht dargestellte Versorgungsquelle bereitgestellt. Das externe Signal V2 wird durch eine zweite, in der Figur nicht dargestellte Versorgungsquelle bereitgestellt.
  • Im folgenden wird das Verbindungsbeinchen anhand des zugeordneten externen Signals identifiziert. So bezeichnet V1 sowohl das Verbindungsbeinchen als auch das externe Versorgungssignal.
  • Zwischen dem internen elektrischen Knoten N1 und einem internen Knoten N0 ist eine Diode D1 angeordnet. Zwischen dem internen Knoten N0 und dem internen elektrischen Knoten N2 ist eine Diode D2 angeordnet. Die Dioden D1 und D2 sind zwischen den internen elektrischen Knoten N1 und N2 entgegengesetzt verschaltet: bei normaler Polarisation V1, V2 ist die Diode D1 gesperrt und die Diode D2 durchlässig; bei umgekehrter Polarisation ist es umgekehrt. In dem nachstehend beschriebenen Beispiel einer Schaltung mit P-Substrat, in dem V1 eine positive Spannung von etwa 5V und V2 eine Spannung mit dem Wert Null ist, sind daher die Kathode der Diode D1 mit dem V1 zugeordneten internen elektrischen Knoten N1, die Kathode der Diode D2 mit dem V2 zugeordneten internen elektrischen Knoten N2, und die Anoden der Dioden D1 und D2 gemeinsam mit dem Knoten N0 verbunden. In dem nachstehend nicht beschriebenen Beispiel einer Schaltung mit P-Substrat, in dem V2 eine positive Spannung von etwa 5V und V1 eine Spannung mit dem Wert Null ist, sind daher die Anode der Diode D1 mit dem V1 zugeordneten internen elektrischen Knoten N1, die Anode der Diode D2 mit dem V2 zugeordneten internen elektrischen Knoten N2, und die Kathoden der Dioden D1 und D2 gemeinsam mit dem Knoten N0 verbunden.
  • Ein Polarisationswiderstand Rp ist parallel zu der Diode D1 zwischen den Knoten N1 und N0 angeordnet.
  • Der Knoten N1 stellt eine erste interne Bezugsspannung Vref1 für den Schaltkreis C der integrierten Schaltung bereit.
  • Der Knoten N0 stellt eine zweite interne Bezugsspannung Vref2 für den Schaltkreis C der integrierten Schaltung bereit und polarisiert das Substrat auf diese Spannung Vref2. Im folgenden wird der Knoten N0 als Substratknoten N0 bezeichnet. Die Spannung am Substratknoten N0 wird durch VN0 angegeben und ist gleich Vref2. Der Schaltkreis empfängt seine weiteren Eingangs- und Ausgangssignale S1, S2, E1 von den internen elektrischen Knoten N3, N4, N5, die den anderen Verbindungsbeinchen P3, P4 und P5 zugeordnet sind.
  • Zwischen jedem Verbindungsbeinchen Pi und dem zugeordneten internen elektrischen Knoten Ni ist eine Vorrichtung zum Schutz gegen Überspannungen 10i angeordnet, die mit dem elektrischen Substratknoten N0 verbunden ist. Parallel hierzu ist zwischen jedem Verbindungsbeinchen Pi und dem Substratknoten N0 eine Vorrichtung zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen 20i (i [1,5]) angeordnet. Die Eigenschaften dieser Schutzvorrichtungen werden nachstehend im einzelnen beschrieben.
  • Bei einer herkömmlichen integrierten Schaltung entspricht die Strom-Spannungs- Kennlinie zwischen V1 und dem mit V2 kurzgeschlossenen Halbleitersubstrat der einer in der Struktur der Schaltung inherenten Diode D1 (Fig. 1). Diese Diode D1 besitzt typisch, entsprechend den Kenngrößen der Herstellung der integrierten Schaltung, eine Durchlaßspannung von etwa 0,6 V und eine Durchbruchspannung von etwa 15 bis 20 V.
  • Die in der Struktur der Schaltung inherente Diode D1 ist bei normaler Polarisation der integrierten Schaltung gesperrt und leitet bei umgekehrter Polarisation (Umkehr der Spannungen V1 und V2) der integrierten Schaltung in Vorwärtsrichtung. Da darüber hinaus das Halbleitersubstrat einer integrierten Schaltung üblicherweise über einen Substratkontakt mit V2 kurzgeschlossen ist, leitet, falls eine Polaritätsumkehr zwischen V1 und V2 auftritt und falls diese Umkehrspannung zwischen V1 und V2 größer ist als die Durchlaßschwelle (0,6 V) der Diode D1, diese letztgenannte in Vorwärtsrichtung und führt einen großen Strom zwischen V1 und V2, der die integrierten Schaltung zerstört (Kurzschluß zwischen V1 und V2).
  • Erfindungsgemäß (Fig. 1) wird zwischen dem Substrat und der externen Spannung V2 eine bei normaler Polarisation der Schaltung geringfügig in Vorwärtsrichtung polarisierte Diode D2 angeordnet. In dem dargestellten Beispiel wird die Polarisation der Diode D2 durch den zwischen dem Knoten N1 und dem Substratknoten N0 angeordneten und infolgedessen parallel zu der parasitären Diode D1 verschalteten Polarisationswiderstand Rp gewährleistet. Dieser Polarisationswiderstand beaufschlagt den Substratknoten N0 mit einer Spannung etwa gleich der zweiten externen Bezugsspannung V2, die gewöhnlich zum Polarisieren des Substrats verwendet wird.
  • Erfindungsgemäß wird diese Polarisationsspannung am Substratknoten N0 als zweite interne Bezugsspannung Vref2 des Schaltkreises C der integrierten Schaltung verwendet: diese zweite interne Bezugsspannung Vref2 wird infolgedessen bezogen auf die im Stand der Technik als zweite interne Bezugsspannung und als Spannung zur Polarisation des Substrats verwendete zweite externe Bezugsspannung V2 um näherungsweise 0,6 V (Durchlaßschwelle der Diode) verschoben.
  • Im folgenden wird ein Beispiel einer in CMOS-Technologie hergestellten integrierten Schaltung mit einem P&supmin;-Substrat beschrieben. Es handelt sich hierbei um ein nicht beschränkendes Beispiel, welches ohne weiteres auf andere Technologien (CMOS mit N&supmin;-Substrat, NMOS, PMOS, bipolar oder eine Vermischung dieser Technologien) übertragbar ist. In diesem Beispiel ist die erste externe Bezugsspannung V1 eine positive Spannung Vcc, und die zweite externe Bezugsspannung V2 ist eine negative Spannung Vss. Unter diesen Bedingungen beträgt die zweite interne Bezugsspannung Vref2 etwa 0,6 V.
  • Fig. 2 zeigt ein Schema eines CMOS-Inverters mit einer Vorrichtung 102 zum Schutz des Substrats gemäß der Erfindung. Der herkömmliche CMOS-Inverter besteht aus einem P-Transistor Tp1 mit einem Gatebereich gp1, einem Sourcebereich sp1 und einem Drainbereich dp1, und einem N-Transistor Tn1 mit einem Gatebereich gn1, einem Sourcebereich sn1 und einem Drainbereich dn1. Der mit Tp1 bezeichnete P-Transistor ist in einer N&supmin;-Wanne bzw. -Senke und der mit Tn1 bezeichnete N-Transistor ist in dem P&supmin;- Substrat ausgebildet. Die Gatebereiche gp1 und gn1 der Transistoren Tp1 und Tn1 sind miteinander verbunden und bilden den Eingang E des Inverters. Die Drainbereiche dp1 und dn1 der Transistoren Tp1 und Tn1 sind miteinander verbunden und bilden den Ausgang S des Inverters.
  • Der Source-Bereich sn1 des Transistors Tn1 ist mit der zweiten internen Bezugsspannung Vref2 verbunden. Ein Substratanschluß ps (eine in dem P&supmin;-Substrat hergestellte P&spplus;- Diffusion) verbindet darüber hinaus das P&supmin;-Substrat mit dieser zweiten internen Bezugsspannung. Die zweite interne Bezugsspannung wird an einer Klemme b1 des Polarisationswiderstands abgegeben, der über seine andere Klemme b2 mit der ersten internen Bezugsspannung Vref1 verbunden ist.
  • Der Sourcebereich des Transistors Tp1 ist mit dem der externen Spannung V zugeordneten internen elektrischen Knoten N1 verbunden. Der Knoten N1 ist darüber hinaus durch einen Wannenanschluß pc (eine N&spplus;-Diffusion in der N&supmin;-Wanne) mit der N&supmin;-Wanne verbunden.
  • Die Isolationsdiode D2 der Schutzvorrichtung 102 ist durch eine N&spplus;-Diffusion 10 und das P&supmin;-Substrat realisiert. Die N&spplus;-Diffusion 10 ist mit dem der externen Spannung V2 zugeordneten internen elektrischen Knoten N2 verbunden. Eine solche Diode besitzt eine Schwellenspannung von etwa 0,6 V in Vorwärtsrichtung und zwischen 15 und 20 V in Rückwärtsrichtung.
  • Bevorzugt - und wie in Fig. 2 dargestellt - wird die Diode D2 in CMOS- Wannentechnologie realisiert, wobei die N&spplus;-Diffusion 10 vollständig in einer N&supmin;-Wanne 11 eingebettet ist (das Zeichen + oder - gibt eine mehr oder wenige starke Konzentration von dotierenden Verunreinigungen an). Es wird so eine Dioden-Durchbruch- Schwellenspannung von etwa einhundert Volt erzielt.
  • Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Isolation des Substrats leitet die Diode D1 im Falle einer Polaritätsumkehr in Vorwärtsrichtung wie im Stand der Technik, die Isolationsdiode D2 jedoch wird gesperrt. Für eine negative Spannung zwischen V1 und V2, die kleiner ist als die Durchbruch-Schwellenspannung der Diode D2, ist zwischen V1 und V2 keine Stromleitung mehr vorhanden. Der hinsichtlich V1 zulässige negative Spannungsanstieg wird jedoch durch die Durchbruch-Schwellenspannung der Diode D2 begrenzt: auf 15 bis 20 V bei herkömmlicher Diodentechnologie, und auf 100 V bei der CMOS-Wannentechnologie. Jenseits der Durchbruch-Schwellenspannung leitet die Diode D2 lawinenartig.
  • Eine zusätzliche, mit dem Knoten N0 verbundene N&spplus;-Diffusion 17 ist in Fig. 2 dargestellt, angeordnet zwischen dem Substratanschluß und der N&supmin;-Wanne 11. Die Nützlichkeit dieser Diffusion wird nachstehend noch beschrieben.
  • Die in Fig. 3 dargestellte Strom-Spannungs-Kennlinie ist die des Verbindungsbeinchens P2 zu der Spannung V2 bezogen auf den Substratknoten N0. Es ist demzufolge die Strom-Spannungs-Kurve an den Klemmen der Diode D2. Im beispielhaften Fall einer in CMOS-Wannentechnologie ausgeführten Diode D2 beträgt deren Durchlaßschwelle etwa 0,6 V und deren Durchbruchschwelle etwa einhundert Volt. Die Kurve gibt den Strom in Abhängigkeit von der Spannung V2-VN0. Aus diesem Grund werden die Durchlaßschwelle negativ (VD2- = -0,6 V) und die Durchbruchschwelle positiv (VD2+ = 100 V) angegeben. Zwischen -0,6 V und 100 V ist der Diodenstrom praktisch gleich Null (offener Kreis). Jenseits der beiden Absolutwert-Schwellen wächst der Strom sehr stark an, vor allem jenseits der Durchbruch-Schwellenspannung VD2+ mit dem Versetzen der Diode D2 in den Lawinenleitungszustand. Bevorzugt wird daher die in CMOS- Wannentechnologie ausgeführte Diode D2 verwendet, die eine höhere Durchbruch- Schwellenspannung aufweist. Diese Wahl wiederum kann ein zusätzliches Implantationsniveau zur Herstellung der Wanne der Diode (D2) erfordern, beispielsweise für eine integrierte Schaltung in NMOS-Technologie, wodurch sich die Herstellungskosten erhöhen werden. In bestimmten Fällen kann dann eine herkömmliche N&spplus;/P&supmin;-Technologie bevorzugt werden.
  • Erfindungsgemäß wurde demzufolge das Substrat des zu V2 führenden Verbindungsbeinchens durch die im Normalbetrieb in Vorwärtsrichtung polarisierte Diode D2 isoliert. Dies löst einerseits wirksam das Problem der Spannungsumkehr und erlaubt andererseits, daß Substrat intern zu isolieren. Erfindungsgemäß wird vorteilhaft eine Schutzvorrichtung 101, ..., 105 zwischen jedem der Verbindungsbeinchen V1, V2, S1, S2 und E1 und dem Substratknoten N0 (Fig. 1) angeordnet, um die Strom-Spannungs-Kennlinie jedes der Verbindungsbeinchen bezüglich des gemeinsamen Knotens N0 zu modifizieren. Mit jeder der Schutzvorrichtungen ergibt sich somit für das zugeordnete Verbindungsbeinchen eine Strom-Spannungs-Kennlinie bezüglich des Substratknotens N0 mit dem in Fig. 4 dargestellten Aussehen: Für eine Spannung VPi-VN0 zwischen dem Verbindungsbeinchen Pi und dem Substratknoten N0 zwischen einer negativen Schwelle Vi- und einer positiven Schwelle Vi+ liegt der Strom IPi zwischen einem Grenzstrom -I0 und +I0 mit kleinem Wert. Dieser Grenzstrom I0 wird für eine gegebene integrierte Schaltung als der kleinste Wert des maximal zulässigen Stroms Imax in einem Verbindungsbeinchen Pi über der Gesamtheit der n Verbindungsbeinchen der integrierten Schaltung ermittelt.
  • In der Praxis besitzt I0 einen Wert von etwa zehn Milliampere, beispielsweise 10 Milliampere.
  • Nachstehen wird gezeigt, daß mit einer derartigen erfindungsgemäßen Struktur ein allgemeiner Schutz der integrierten Schaltung gegen Überspannungen oder andere Vorgänge mit zerstörerischer Wirkung erzielt wird. Demzufolge seien zwei Verbindungsbeinchen Pi, Pj vorhanden, für welche eine solche zugeordnete Strom-Spannungs-Kennlinie ci, cj existiert (Fig. 4). Die Kennlinie ci ist für den Grenzstrom I0 definiert mit einer negativen Schwelle Vi- und einer positiven Schwelle Vi+ bezüglich des gemeinsamen Knotens N0. Die Kennlinie cj ist für den Grenzstrom I0 definiert mit einer positiven Schwelle Vj- und einer negativen Schwelle Vj+ bezüglich des gemeinsamen Knotens N0.
  • Die resultierende Kennlinie cij zwischen dem Verbindungsbeinchen Pi und dem Verbindungsbeinchen Pj ergibt sich dann leicht aus dem folgenden Zusammenhang:
  • Vi-Vj = (Vi-VN0) - (Vj-VN0)
  • Somit ist für eine Spannung zwischen einer negativen Schwelle Vij-, die durch den Zusammenhang (1) gegeben ist:
  • Vij-=Vi- - Vj+ (1)
  • und einer positiven Schwelle Vij+, die durch den Zusammenhang (2) gegeben ist:
  • Vij+ = Vi+ - Vj- (2)
  • der in dem Verbindungsbeinchen Pi oder Pj fließende Strom kleiner als der Grenzstrom I0.
  • Wird diese Überlegung auf die Gesamtheit der Verbindungsbeinchen der integrierten Schaltung verallgemeinert, wobei für jedes eine Strom-Spannungs-Kennlinie gilt, die der in Fig. 4 dargestellten gleicht, so liegt dann ein durch den Zusammenhang (3) gegebener Spannungswert VM vor, dessen Absolutwert kleiner ist als alle möglichen Werte von Vij+ oder Vij-:
  • Dieser Spannungswert VM ist derart daß, angelegt zwischen zwei beliebigen Verbindungsbeinchen der integrierten Schaltung, der Strom in jedem der beiden Verbindungsbeinchen in seinem Absolutwert kleiner ist als der Grenzstrom I0. Somit wird dadurch, daß das erfindungsgemäß isolierte Substrat als allen Schutzbeinchen gemeinsamer Knoten N0 verwendet wird, und dadurch, daß eine Schutzvorrichtung 10i zwischen jedem der Verbindungsbeinchen Pi und dem Substrat angeordnet wird, ein guter umfassender Schutz der integrierten Schaltung erzielt. Erfindungsgemäß wird versucht, VM so groß wie möglich, etwa zu einhundert Volt zu machen. Es ist daher für jedes Verbindungsbeinchen Pi erforderlich, daß die positive Schwelle Vi+ und die negative Schwelle Vi- so groß wie möglich sind.
  • Nun folgt aus den Beziehungen (1), (2) und (3), daß dann, wenn nur auf einen einzigen der Parameter der Beziehungen (1) und (2) eingewirkt wird, gleichbedeutend mit beispielsweise der positiven Schwelle Vi+, Vj+ in jeder der Beziehungen (1) und (2), um diesen Parameter Vi+, Vj+ mit etwa 100 V zu erhalten, die negative Schwelle Vij- und die positive Schwelle Vij+, die durch den Zusammenhang (3) gegeben sind, für jedes mögliche Paar von Verbindungsbeinchen bei zumindest etwa 100 V liegen, selbst wenn die negativen Schwellen Vi-, Vj- der Verbindungsbeinchen nur bei -0,6 V liegen.
  • Erfindungsgemäß wird daher vorteilhaft vorgeschlagen, eine Schutzvorrichtung gegen positive Überspannungen zwischen jedem Verbindungsbeinchen und dem Substratknoten N0 anzuordnen. Die sich ergebende Struktur erlaubt einen umfassenden Schutz gegen positive und negative Überspannungen. Denn falls sich eine negative Überspannung an einem Verbindungsbeinchen Pi aufbaut, existiert ein anderes Verbindungsbeinchen Pj, für welches diese Überspannung als positiv in bezug auf den Substratknoten N0 erscheint, und die zugeordnete Schutzvorrichtung 10j kann den geführten Strom begrenzen. Es gibt mehrere Betriebsarten, die mit den Schutzvorrichtungen gegen entweder lediglich positive Überspannungen oder gegen lediglich negative Überspannungen, oder auch mit gemischten Vorrichtungen möglich sind. Nachstehend wird eine bevorzugte Ausführungsform mit Vorrichtungen zum Schutz der Verbindungsbeinchen gegen positive Überspannungen bis zu einhundert Volt beschrieben.
  • Fig. 5 repräsentiert ein Beispiel einer Vorrichtung 101 zum Schutz des Verbindungsbeinchens zu einer externen Versorgungsquelle, umfassend einen Spannungsbegrenzer e0 und einen Strombegrenzungswiderstand R0.
  • Der Spannungsbegrenzer e0 ist zwischen dem V1 zugeordneten Knoten N1 und dem Substratknoten N0 angeordnet. Stromab des Spannungsbegrenzers befindet sich zwischen dem Knoten N1 und dem Substratknoten N0 der interne Schaltkreis C der integrierten Schaltung, welcher die erste interne Bezugsspannung Vref1 von dem Knoten N1 und die zweite interne Bezugsspannung Vref2 von dem Knoten N0 empfängt. Der Begrenzer besitzt eine Auslöseschwelle ve0, die kleiner ist als die Sperrschwelle der Diode D1 (10-15 V). Diese Auslöseschwelle ve0 beträgt beispielsweise 12 V. Infolgedessen löst im Falle einer bezüglich N0 positiven Überspannung der Begrenzer e0 vor der Diode D1 aus und absorbiert den gesamten Strom Ie. In dem Beispiel gemäß Fig. 5 ist der Begrenzer e0 mittels serieller und in Rückwärtsrichtung betriebener Zenerdioden z1 und z2 gemäß dem in dem italienischen, im Namen von SGS-Thomson Microelectronics s.r.l. am 31. Oktober 1989 hinterlegten Patent Nr. 2 222 8 A/89 sowie in dem entsprechenden europäischen Patent Nr. 90/202840.6 (EP-A-426241) beschriebenen Verfahren realisiert. Andere Realisierungen sind möglich, beispielsweise mit in Diodenschaltung verschalteten Transistoren.
  • Der Strombegrenzungswiderstand R0 ist zwischen V1 und dem zum Begrenzen des in dem Begrenzer e0 fließenden Stroms Ie auf für den Begrenzer e0 nicht zerstörend wirkende Werte zugeordneten internen Knoten N1 angeordnet. Der Wert dieses Begrenzungswiderstands muß ausreichend klein sein, um nicht zu einem Spannungsabfall der ersten internen Bezugsspannung Vref1 zu führen, da dann Vref1 = V1 - (R0 x Ist) gilt, worin Ist die Stromaufnahme der integrierten Schaltung an V1 bei Normalbetrieb ist. Der Wert des Begrenzungswiderstands muß auch hinreichend hoch sein, um den Strom Ie in dem Begrenzer e0 ausreichend zu begrenzen. Wird der in dem Begrenzer zulässige Strom mit Icrit bezeichnet und ein Schutz gegen Überspannungen bis hin zu VM gewünscht, wird mit der Begrenzerschwelle ve0 des Begrenzers e0 in der Praxis R0 zu:
  • Icrit=VM-ve0/R0
  • Somit ist der Begrenzer e0 bis hin zu VM Volt in der Lage, den gesamten geführten Strom zu absorbieren, und die integrierte Schaltung wird nicht beschädigt. Für VM gleich 100 V, Ve0 gleich 12 V und für einen kritischem Strom Icrit von 440 mA beträgt R0 zum Beispiel 200 Ohm. Falls die Schaltung an V1 unter Normalbetrieb 1 mA aufnimmt, beträgt der Spannungsabfall an dem Begrenzungswiderstand R0 etwa 200 mV und ist somit akzeptabel.
  • Allgemein sind die Parameter der verschiedenen Elemente der Schutzvorrichtung 101 (Begrenzer, Widerstand) gut bekannt und werden gemäß den Fachleuten bekannten Verfahren berechnet oder gewählt. Der Widerstand R0 kann mittels Polysilizium oder durch eine N+-Diffusion realisiert werden.
  • In einem in den Fig. 7a und 7b dargestellten bevorzugten Beispiel ist der Widerstand R0 eine N+-Diffusion 12, die vollständig in einer N&supmin;-Wanne 13 liegend realisiert ist. Die Anschlußklemmen b1 und b2 sind am Rand der Wanne ausgeführt, jede an einem entgegengesetzten Ende der Diffusion 11. Denn falls der Begrenzungswiderstand eine einfache N+-Diffusion des Drain-Typs eines N-Transistors ist, wird eine parasitäre N&spplus;/P&supmin;-Diode mit dem Substrat mit einer Sperrschwelle zwischen 15 und 20 V erzeugt. Der Begrenzer e0 hat dann keine Funktion mehr, da die parasitäre Diode des Widerstands zwischen 10 und 15 V lawinenartig leitet und die Spannung an den Klemmen des Begrenzers diese Lawinenspannung niemals überschreiten kann.
  • Die sich zwischen dem Verbindungsbeichen zu V1 und dem Substratknoten N0 ergebende Strom-Spannungs-Kennlinie ist in Fig. 6 dargestellt. Für eine in bezug auf die Spannung VN0 des Substratknotens Substrats negative Spannung ist immer ein PN- Übergang zum Leiten in Vorwärtsrichtung (nach Art der Diode D1) vorhanden. Dieser PN-Übergang begrenzt typisch die Spannung V1-VN0 auf -0,6V. Für eine an V1 angelegte, bezogen auf die Spannung VN0 des Substratknotens N0 positive Spannung wächst der über V1 geführte Strom IV1 zwischen 0 V und der Auslöse-Schwellenspannung ve0 des Begrenzers geringfügig an. Dieser Teil der Kennlinie entspricht der statischen Stromaufnahme der integrierten Schaltung an V1. Der Begrenzer löst für eine positive Spannung V1 - VN0, die größer ist als ve0 mit etwa 12V, aus, bevor die parasitären Dioden nach Art der Diode D1 (Fig. 1, 2) lawinenartig leiten. Der ausgelöste Begrenzer absorbiert den gesamten Strom. Die Strom-Spannungs-Kennlinie besitzt eine Steigung, die zu dem Strombegrenzungswiderstand R0 umgekehrt proportional ist: wenn der Begrenzer ausgelöst hat, besteht die äquivalente Schaltung zwischen V1 und N0 in einer Reihenschaltung aus dem Strombegrenzungswiderstand R0 und einem Spannungsgenerator ve0.
  • Eine solche für die positive Spannung V1 anwendbare Vorrichtung 101 ist auch für jede andere externe positive Spannung (Vcc) anwendbar. Wäre die Spannung V1 negativ, beispielsweise für eine integrierte Schaltung mit N&supmin;-Substrat, so wäre die Schutzvorrichtung 101 für die anderen externen negativen Spannungen anwendbar. Im Stand der Technik leitet im Falle einer Überspannung an V1 die jeder Struktur einer integrierten Schaltung inherente Diode D1 zwischen V1 und V2 jenseits von 15 bis 20 V lawinenartig, und der geführte, sehr starke Strom zerstört die Schaltung durch Erzeugen eines Kurzschlusses zwischen V1 und V2.
  • Fig. 8 zeigt eine Vorrichtung 103 zum Schutz 103 eines Drainbereichs dn2 eines mit offenem Drain am Ausgang verschalteten N-Transistors Tn2: Der Drainbereich dn2 ist beispielsweise mit dem Verbindungsbeinchen S1 (Fig. 1) verbunden, das Gate gn2 des Transistors Tn2 wird durch ein nicht dargestelltes internes Element der integrierten Schaltung gesteuert, und der Sourcebereich sn2 ist mit dem Substratknoten N0 verbunden. In diesem Beispiel (Fig. 8) wird derselbe Typ von Schutzvorrichtung mit einem Spannungsbegrenzer e1 und einem Strombegrenzungswiderstand R1 vorgeschlagen. Für eine positive Überspannung läuft die Drain-Substrat-Diode des Transistors Tn2 Gefahr, bei etwa 15 bis 20 V lawinenartig zu leiten: es stellt sich dasselbe, bereits in Zusammenhang mit der externen Bezugsspannung Vref1 erkannte Problem. Es wird infolgedessen eine identische Lösung vorgeschlagen.
  • Der Widerstand R1 ist zwischen S1 und dem zugeordneten internen elektrischen Knoten N3 verschaltet, und der Spannungsbegrenzer e1 ist parallel zu dem Transistor Tn2 zwischen dem Knoten N3 und dem Substratknoten N0 verschaltet. Die der Schutzvorrichtung 103 (beispielsweise der Wert von R1) eigenen Eigenschaften hängen von den Eigenschaften der Ausgangsstufe ab. Hat diese beispielsweise eine kleine Ausgangs- Impedanz, muß auch R1 so klein wie möglich sein.
  • Die Strom-Spannungs-Kennlinie des Verbindungsbeinchens S1 der erfindungsgemäßen Schutzvorrichtung bezüglich des Substratknotens N0 ist in Fig. 9 gezeigt. Je nachdem, ob der Transistor Tn2 leitet (positive Steuerspannung an gn2) oder nicht, ergeben sich mit der Schutzvorrichtung zwei Strom-Spannungs-Kennlinien a und b. Für eine Spannung VS1-VN0 zwischen 0 und der Auslöseschwelle ve1 des Begrenzers (etwa 12 V) ist dies, wenn der Ausgangstransistor Tn2 leitet (Kennlinie a), äquivalent zu einem Widerstand R0N. Die äquivalente Schaltung vu von S1 zwischen S1 und N0 entspricht infolgedessen einer Reihenschaltung des Strombegrenzungswidersands R1 mit dem äquivalenten Widerstand R0N des Transistors Tn2, gleichbedeutend mit einem Gesamtwiderstand von Req1 = R1 + R0N. Die Strom-Spannungs-Kennlinie besitzt demzufolge eine Steigung mit dem Wert 1/Req1. Jenseits der Auslöseschwelle ve1 des Begrenzers löst dieser aus und absorbiert den gesamten Strom: der in dem Transistor Tn2 fließende Strom wird dann auf Ve1/R0N begrenzt, und die äquivalente Schaltung reduziert sich auf die Reihenschaltung aus dem Strombegrenzungswiderstand R1 und einem Spannungsgenerator ve1. Jenseits der Auslöseschwelle ve1 besitzt die Strom-Spannungs-Kennlinie infolgedessen eine Steigung mit dem Wert 1/R1.
  • Wenn der Transistor Tn2 gesperrt ist (Kennlinie b), so ist dies äquivalent zu einer offenen Schaltung, solange die Sperrschwelle der Drain-Substrat-Diode nicht erreicht ist. Für eine Spannung VS1-VN0 kleiner als die Auslöseschwelle ve1, für welche auch der Begrenzer e1 gesperrt ist, fließt kein Strom: die äquivalente Schaltung zwischen S1 und N0 ist eine offene Schaltung: die Strom-Spannungs-Kennlinie hat die Steigung Null. Jenseits von ve1 löst der Begrenzer e1 aus, und die äquivalente Schaltung zwischen S1 und N0 besteht aus dem Strombegrenzungswiderstand R1 in Reihe mit einem Spannungsgenerator ve1. Die Strom-Spannungs-Kennlinie ab der Spannung VS1-VN0, die gleich ve1 ist, besitzt die Steigung 1/R1.
  • Fig. 10 zeigt eine Vorrichtung 104 zum Schutz des Drainbereichs eines mit offenem Drain am Ausgang verschalteten P-Transistors Tp2, umfassend einen Strombegrenzungswiderstand R2.
  • Der Drain-Anschluß dp2 des Transistors Tp2 ist beispielsweise an dem zugeordneten internen Knoten N4 mit dem Verbindungsbeinchen S2 gemäß Fig. 1 verbunden. Der Source-Anschluß sp2 des Transistors Tp2 ist an dem Knoten N1 mit der internen positiven Bezugsspannung Vref1 verbunden. Der Gate-Anschluß gp2 des Transistors Tp2 wird durch ein internes, nicht dargestelltes Schaltungselement gesteuert. Die N&supmin;-Wanne, in welcher der Transistor Tp2 (CMOS-Technologie mit P&supmin;-Substrat) ausgebildet ist, ist durch einen Wannenanschluß an dem Knoten N1 mit der ersten internen Bezugsspannung Vref1 verbunden. Diese Wannenanschlußverbindung ist in der Figur durch einen senkrecht von dem den Source-Drain-Kanal des Transistors repräsentierenden Balken abgehenden Pfeil (P-Kanal) gekennzeichnet, wobei die Spitze des Pfeils an die Source Sp2 anschließt.
  • Zwischen dem Knoten N1 und dem Substratknoten N0 findet sich wieder der erfindungsgemäße, dem Verbindungsbeinchen zu V1 zugeordnete Spannungsbegrenzer e0.
  • Der Strombegrenzungswiderand R2 in dem Verbindungsbeinchen nach V2 ist seriell zwischen S2 und dem zugeordneten internen Knoten N4 angeordnet.
  • Wenn die Spannung VS2-VN0 positiv ist, leitet der Drain-Wanne-Übergang des Transistors Tp2 ab etwa 0,6 V in Vorwärtsrichtung. Die Wanne ist darüber hinaus mit dem V1 zugeordneten Begrenzer e0 verbunden. Jenseits von 0,6 V wird demzufolge die durch das Verbindungsbeinchen S2 an den Knoten N1 des Begrenzers e0 angelegte Spannung um den Spannungsabfall in dem Begrenzungswiderstand R2 und um den Spannungsabfall von 0,6 V an dem Drain-Wanne-Übergang des Transistors Tp2 verringert. Es liegt praktisch der den V1 zukommenden Schutz betreffende Fall der Fig. 5 vor.
  • In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird indessen nicht der den Drainbereich dp2 des P-Ausgangstransistors Tp2 mit offenem Drain-Anschluß kennzeichnende Spannungsbegrenzer, sondern vorteilhaft der der die Wanne dieses Ausgangstransistors Tp2 polarisierenden Spannung V1 zugeordnete Begrenzer verwendet.
  • Die statischen Strom-Spannungs-Kennlinien a, b (stromlose Schaltung) der Vorrichtung gemäß Fig. 10 sind in Fig. 11 dargestellt. Sie entsprechen denjenigen der Fig. 9 für den leitenden (a) oder gesperrten (b) N-Transistor, mit darüber hinaus der statischen Stromaufnahme an V1, die in den beiden Fällen (a) und (b) hinzukommt, solange die Spannung VS2-VN0 kleiner ist als die Auslöseschwelle ve0 des Begrenzers e0. Jenseits der Schwelle e0 besitzen die beiden Kennlinien eine Steigung mit dem Wert 1/R2.
  • Fig. 12 zeigt eine Vorrichtung 105 zum Schutz einer CMOS-Inverter-Eingangsstufe, umfassend einen Spannungsbegrenzer e3 und einen Strombegrenzungswiderstand R3.
  • Der CMOS-Inverter wird auf bekannte Art und Weise durch einen P-Transistor Tp3 und einen N-Transistor Tn3 gebildet. Ihre Drain-Anschlüsse dp3 bzw. dn3 sind gemeinsam mit dem Ausgang Sinv des Inverters verbunden. Ihre Gate-Anschlüsse gp3 bzw. gn3 sind an dem Knoten N5 gemäß Fig. 1 gemeinsam an das Verbindungsbeinchen E1 geführt. Ihre Source-Anschlüsse sp3 bzw. sn3 sind jeweils an dem Knoten N1 mit der ersten internen Bezugsspannung Vref1 und an dem Substratknoten N0 mit der zweiten internen Bezugsspannung Vref2 verbunden.
  • Der Strombegrenzungswiderstand R3 ist zwischen dem Verbindungsbeinchen E1 und dem Knoten N5 angeordnet, und der Spannungsbegrenzer e3 ist zwischen dem Knoten N5 und dem Substratknoten N0 verschaltet.
  • Im Falle positiver Überspannungen tritt als gut bekanntes Problem der dielektrische Durchschlag des Gateoxids zwischen dem Gate und dem Kanal des Transistors auf, wobei ein solcher Durchschlag durch eine Spannung zwischen dem Gate und dem Substrat hervorgerufen wird, die höher ist als eine typisch etwa 50 V betragende Gateoxid- Durchschlagspannung. Die Auslöseschwelle ve3 des Begrenzers e3 muß infolgedessen kleiner sein als 50 V, und der Widerstand R3 muß demzufolge gemäß den bereits vorangehend erkannten Kriterien berechnet werden. Die Strom-Spannungs-Kennlinie der Vorrichtung gemäß Fig. 12 ist in Fig. 13 dargestellt. Solange die Spannung VE1-VN0 zwischen 0 V und der Auslöseschwelle ve3 des Begrenzers e3 liegt, wird das Verbindungsbeinchen E3 nicht mit Strom beaufschlagt. Die Strom-Spannungs-Kennlinie hat die Steigung Null. Jenseits der Spannung ve3 löst der Begrenzer e3 aus. Die Strom-Spannungs- Kennlinie besitzt eine Steigung mit dem Wert 1/R3.
  • Vorstehend wurde somit eine Anzahl praktischer Fälle beschrieben, in welchen das erfindungsgemäße Prinzip Anwendung findet, d.h. Erzielen einer weitreichenden Schutzeigenschaft für jedes der Verbindungsbeinchen der integrierten Schaltung bezüglich des Substrats, welches einen internen, diesen Verbindungsbeinchen gemeinsamen Knoten bildet, wobei das Substrat von der externen Bezugsspannung, mit der es üblicherweise kurzgeschlossen ist, isoliert wird. Diese praktischen Fälle sind nicht beschränkend und stellen lediglich Anwendungsbeispiele des der Erfindung zugrunde liegenden Prinzips dar sowie Beispiele, die untereinander kombiniert werden können. Für den Ausgang eines CMOS-Inverters werden beispielsweise die in den Fig. 8 und 10 gezeigten Beispiele verwendet.
  • Die Erfindung erlaubt, in vorteilhafter Weise das mit Polaritätsumkehrungen und quasipermanent (mehrere Sekunden oder Minuten) angelegten positiven oder negativen Überspannungen von etwa einhundert Volt verbundene Problem zu lösen.
  • Die Struktur der Erfindung bietet auch einen wirksamen Schutz gegen durch Führen von zu großen Strömen verursachte Auslösevorgänge parasitärer Thyristoren der integrierten Schaltung, die zur Zerstörung der integrierten Schaltung führen; (dies ist der in der englischsprachigen Literatur als "latch-up" bezeichnete Vorgang des Einrastens). Denn die vorgeschlagene Struktur erlaubt, die Ursachen für das Auslösen der Thyristoren und dessen Wirkungen zu unterdrücken:
  • - Sie unterdrückt die Ursachen, da mittels der erfindungsgemäßen Schutzvorrichtungen der über eine beliebige der Verbindungsbeinchen fließende Strom immer kleiner bleibt als ein Grenzstrom 10 von etwa 10 mA für eine Spannung kleiner als etwa einhundert Volt. Diese Strombegrenzung ist ausreichend stark, um das Auslösen eines Thyristors zu verhindern.
  • Im Stand der Technik war immer eine in Vorwärtsrichtung betriebene Diode zwischen einem Verbindungsbeinchen und einer internen Bezugsspannung vorhanden, welche einen starken Strom fließen lassen konnte: ein Einrasten war dann ständig möglich.
  • - Sie unterdrückt die Wirkungen, da der Strom über die Verbindungsbeinchen zu den Spannungen V1 und V2 erfindungsgemäß immer durch die Strombegrenzungswiderstände R0, R1, ... begrenzt wird. Es ist somit im Vergleich zum Stand der Technik zwischen V1 und V2 kein Kurzschluß mehr möglich. Allgemein erlaubt die Struktur einer erfindungsgemäß modifizierten integrierten Schaltung, die Schaltung gegen höhere Ströme, die an den Verbindungsbeinchen der integrierten Schaltung in betrügerischer Absicht, beispielsweise um die Funktion eines Speichers zu verfälschen, erzwungen werden können, zu schützen. Diese mit Betrug verbundenen Probleme betreffen insbesondere die Bankkarten. Die Isolation des Substrats sowie die zwischen jedem der Verbindungsbeinchen und diesem isolierten Substrat angeordneten Schutzvorrichtungen erlauben, diese Machenschaften restlos zu unterbinden.
  • Die vorstehend beschriebenen Schutzvorrichtungen erlauben jedoch nicht, die integrierten Schaltung gegen sehr hohe, aber sehr kurze Überspannungen zu schützen: beispielsweise gegen elektrostatische Entladungen (typisch 2 kV während 1 µs). Sie erlauben lediglich, gegen ("permanente") Überspannungen langer Dauer zu schützen.
  • Infolgedessen wird eine Vorrichtung 201 bis 205 zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen stromauf der zugeordneten Schutzvorrichtung (Fig. 1) zwischen jedem der Verbindungsbeinchen und den Substratknoten N0 hinzugefügt. Eine solche Vorrichtung 205 ist in Fig. 12 dargestellt. Sie ist zwischen dem Verbindungsbeinchen E1 und dem Substrat angeordnet, stromauf des Begrenzungswiderstands R3 und des Begrenzers e3 der zugeordneten Vorrichtung 105 zum Schutz gegen Überspannungen.
  • In dem in Fig. 12 dargestellten Beispiel ist die Vorrichtung zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen ein seitlich angeordneter, bipolarer Transistor bzw. Neben- Bipolartransistor, für ein P&supmin;-Substrat ein NPN-Typ, dessen Kollektor cb mit dem Verbindungsbeinchen E1 und dessen Emitter eb und Basis bb mit dem Substratknoten N0 verbunden sind.
  • Erfindungsgemäß wird eine besondere Ausführungsform dieses Neben-Bipolartransistors vorgeschlagen derart, daß dieser für eine Schwelle von etwa 100 V auslöst. Somit stört er die Funktion der Vorrichtung zum Schutz gegen permanente Überspannungen nicht. Diese besondere Ausführungsform ist in Fig. 13 geeeigt. Der Emitter eb des Transistors ist eine mit dem Substratknoten N0 verbundene N&spplus;-Diffusion 16. Der mit dem Verbindungsbeinchen E1 verbundene Kollektor cb des Transistors ist eine N&spplus;-Diffusion, die vollständig in einer N&supmin;-Wanne 15 eingebettet ist. Der Emitter und der Kollektor liegen einander gegenüber, und das P&supmin;-Substratband, welches die Wanne 14 von dem Emitter eb trennt, bildet die Basis bb dieses Transistors.
  • Für eine negative Spannung VE1-VN0 ist die N&supmin;-Wann/P&supmin;-Substrat-Diode in Vorwärtsrichtung ab -0,6 V durchlässig. Für eine positive Spannung VE1-VN0 leitet die N&supmin;- Wanne/P&supmin;-Substrat-Diode bei etwa 100 V lawinenartig: Die Leitung erfolgt dann durch einen Kollektor-Basis-Durchbruch BVcb (Breakdown Voltage collector-base), gefolgt von einem Kollektor-Emitter-Durchbruch BVce Breakdown Voltage collector-emittor): die typische Strom-Spannungs-Kennlinie dieses Neben-Bipolartransistors ist in Fig. 15 dargestellt.
  • Die in Fig. 13 gezeigte besondere Ausführungsform besteht darin, daß die mit dem zu schützenden Verbindungsbeinchen verbundene Diffusion vollständig in einer Wanne und nicht nur teilweise in einer Wanne oder direkt in dem Substrat ausgebildet wird, was erlaubt, Durchbruchspannungen von etwa 100 V zu erzielen.
  • Mit der zusätzlich zu der vorgeschlagenen erfindungsgemäßen Struktur der integrierten Schaltung hinzugefügten Vorrichtung zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen wird ein umfassender Schutz der integrierten Schaltung gegen alle möglichen externen Vorgänge mit zerstörerischer Wirkung erzielt. Im Fall des Schutzes des Verbindungsbeinchens V2 (Fig. 2) wird der Neben-Bipolartransistor dadurch erzeugt, daß eine mit dem Substratknoten N0 verbundene N&spplus;-Diffusion 17 zwischen dem Substratanschluß ps und der N&supmin;-Wanne 11 hinzugefügt wird: der so durch die Diode selbst und parallel zu der Diode D2 in der Struktur gebildete Neben-Bipolartransistor schützt diese letztgenannte vor elektrostatischen Entladungen.
  • In der Praxis kann eine einzige Schutzvorrichtung global für mehrere Verbindungsbeinchen desselben Typs (mit denselben Beanspruchungen), beispielsweise die Gate- Eingänge des CMOS-Inverters, vorhanden sein, die eine einzige Vorrichtung zum Schutz gegen elektrostatische Überbeanspruchungen und eine einzige Vorrichtung zum Schutz gegen Überspannungen umfaßt.

Claims (10)

1. Integrierte Schaltung, die aus einem Halbleitersubstrat eines ersten Dotierungstyps hergestellt ist, Verbindungsbeinchen (P1, ..., P5) von internen Funktionsknoten (N1, ..., N5) zu externen Signalen (V1, V2, S1, S2, E1) umfaßt und über eine erste interne Referenzspannung (Vref1) verfügt, die über ein Verbindungsbeinchen (P1) an eine erste externe Spannungsquelle (V1) abgegeben wird, wobei das Halbleitersubstrat auf eine zweite interne Bezugsspannung (Vref2) polarisiert ist, gekennzeichnet durch eine Vorrichtung (101, ..., 105) zum Schutz gegen Überspannungen zwischen jedem der Verbindungsbeinchen (P1, ..., P5) und dem Halbleitersubstrat, eine zwischen dem Halbleitersubstrat und einem Verbindungsbeinchen (P2) mit einer zweiten externen Referenzspannungsquelle (V2) verbundene Diode (D2), und einen zwischen der ersten (Vref1) und der zweiten (Vref2) internen Bezugsspannung verschalteten Polarisationswiderstand (RP), so daß die Diode (D2) bei normaler Polarisation der integrierten Schaltung in Vorwärtsrichtung und bei umgekehrter Polarisation der integrierten Schaltung in Rückwärtsrichtung betrieben wird, um das Halbleitersubstrat von dem Verbindungsbeinchen (P2) an der zweiten externen Spannungsquelle, an dem es üblicherweise kurzgeschlossen wird, zu isolieren.
2. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine einem Verbindungsbeinchen (P1) zugeordnete Vorrichtung (101) zum Schutz gegen Überspannungen einen Strombegrenzungswiderstand (e0) zwischen dem Verbindungsbeinchen und dem zugeordneten internen Funktionsknoten (N1) und einen Spannungsbegrenzer (e0) zwischen diesem internen Fukktionsknoten (N1) und dem Halbleitersubstrat (N0) umfaßt.
3. Integrierte Schaltung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Begrenzungswiderstand (R0) und der Spannungsbegrenzer (e0) auf dem Verbindungsbeinchen (P1) zu der ersten externen Spannungsquelle (V1) angeordnet sind, und daß einen Ausgangstransistor (Tp2), der in einer Senke des zweiten, durch die erste interne Spannungsquelle (Vref1) polarisierten Dotierungstyps ausgebildet ist, der Drain- Anschluß (dp2) des Ausgangstransistors (Tp2) mit einem einem Verbindungsbeinchen (P4) der integrierten Schaltung zugeordneten internen Funntionsknoten (N4) verbunden ist, und die zugeordnete Vorrichtung (104) zum Schutz gegen Überspannungen einen Strombegrenzungswiderstand (R2) zwischen dem Verbindungsbeinchen (P4) und dem zugeordneten internen Funktionsknoten (N4) und dem dem Verbindungsbeinchen (P1) zu der ersten externen Spannungsquelle (V1) zugeordneten Spannungsbegrenzer (e0) umfaßt.
4. Integrierte Schaltung nach den Ansprüchen 2 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Strombegrenzungswiderstand einer Vorrichtung zum Schutz gegen Überspannungen durch eine Diffusion (12) des zweiten Dotierungstyps in einen Bereich (13) desselben zweiten Dotierungstyps ausgebildet wird, der zwar größer, jedoch weniger stark dotiert ist als sie (N&spplus;), wobei zwei Kontaktierungsklemmen (b1, b2) dieses Strombegrenzungswiderstands auf der Diffusion (10) gebildet werden.
5. Integrierte Schaltung nach den Ansprüchen 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Spannungsbegrenzer (e0) einer Vorrichtung zum Schutz gegen Überspannungen zwei in Reihe geschaltete Zenerdioden (z1, z2) umfaßt.
6. Integrierte Schaltung nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Vorrichtung zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen (201, ..., 205) zwischen jedem der Verbindungsbeinchen und dem Halbleitersubstrat (N0) angeordnet wird.
7. Integrierte Schaltung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die einem Verbindungsbeinchen (E1) zugeordnete Vorrichtung (205) zum Schutz gegen elektrostatische Entladungen ein seitlich angeordneter, bipolarer Transistor mit einer Basis (bb), einem Emitter (eb) und einem Kollektor (cb) ist, wobei die Basis und der Emitter (eb) mit dem Halbleitersubstrat (N0) verbunden sind, der Kollektor mit dem zugeordneten Verbindungsbeinchen (E1) verbunden ist, der Emitter (eb) und der Kollektor (cb) aus Diffusionen des zweiten Dotierungstyps in das Halbleitersubstrat bestehen, und die Diffusion des Kollektors (ec) vollständig in einem Bereich (14) desselben zweiten Dotierungstyps ausgebildet ist, der zwar größer, jedoch weniger stark dotiert ist als sie.
8. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Diode (D2) zur Verbindung des Halbleitersubstrats (N0) mit dem Verbindungsbeinchen (P2) zu der zweiten externen Spannungsquelle (V2) durch das Halbleitersubstrat und eine Diffusion (10) eines zweiten Dotierungstyps gebildet wird.
9. Integrierte Schaltung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Diffusion (10) der Verbindungsdiode (D2) vollständig in einer Senke (11) eines zweiten Dotierungstyps ausgebildet ist.
10. Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltung, die durch eine erste, eine erste interne Referenzspannung (Vref1) abgebende externe Spannungsquelle (V1) und durch eine zweite externe Spannungsquelle (V2) polarisiert wird, dadurch gekennzeichnet, daß in einem Halbleitersubstrat eines ersten Dotierungstyps eine Diffusion eines zweiten Dotierungstyps (10), die mit der zweiten externen Spannungsquelle (V2) verbunden ist, und ein Polarisationswiderstand (Rp), der an einer Anschlußklemme (b2) mit der ersten internen Bezugsspannung und an der anderen Anschlußklemme (b1) mit einer Diffusion des ersten Dotierungstyps (ps) verbunden ist, um das Substrat auf eine zweite interne Referenzspannung (Vref2) zu polarisieren, ausgebildet werden, wobei das Substrat und die Diffusion eines zweiten Dotierungstyps (10) eine Diode (D2) bilden, die bei normaler Polarisierung der integrierten Schaltung in Vorwärtsrichtung und bei umgekehrter Polarisierung der integrierten Schaltung in Rückwärtsrichtung betrieben wird, und die integrierte Schaltung eine Vorrichtung zum Schutz gegen die Überspannungen zwischen jedem der externen Verbindungsbeinchen und dem Substrat umfaßt.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013106667B4 (de) 2012-06-26 2022-11-24 Infineon Technologies Ag Schutz von Halbleiterbauelementen

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2685817B1 (fr) 1991-12-31 1994-03-11 Sgs Thomson Microelectronics Sa Protection generale d'un circuit integre contre les surcharges permanentes et decharges electrostatiques.
FR2690786A1 (fr) * 1992-04-30 1993-10-29 Sgs Thomson Microelectronics Sa Dispositif de protection d'un circuit intégré contre les décharges électrostatiques.
US5748035A (en) * 1994-05-27 1998-05-05 Arithmos, Inc. Channel coupled feedback circuits
JPH0837284A (ja) * 1994-07-21 1996-02-06 Nippondenso Co Ltd 半導体集積回路装置
US5565367A (en) * 1995-03-24 1996-10-15 Hualon Micro Electronic Corporation Protective device for an integrated circit and manufacturing method thereof
EP0758129B1 (de) * 1995-08-02 2001-05-23 STMicroelectronics S.r.l. Flash-EEPROM mit integrierter Anordnung zur Begrenzung der Löschung der Source-Spannung
US5909134A (en) * 1995-12-18 1999-06-01 Lg Semicon Co., Ltd. Clock generator for generating complementary clock signals with minimal time differences
US5663860A (en) * 1996-06-28 1997-09-02 Harris Corporation High voltage protection circuits
US5966517A (en) 1996-11-01 1999-10-12 Motorola, Inc. Semiconductor device using diode place-holders and method of manufacture thereof
TW307915B (en) * 1996-11-07 1997-06-11 Winbond Electronics Corp Electrostatic discharge protection circuit
US6552594B2 (en) * 1997-03-27 2003-04-22 Winbond Electronics, Corp. Output buffer with improved ESD protection
US5854504A (en) * 1997-04-01 1998-12-29 Maxim Integrated Products, Inc. Process tolerant NMOS transistor for electrostatic discharge protection
US5872378A (en) * 1997-04-07 1999-02-16 International Business Machines Corporation Dual thin oxide ESD network for nonvolatile memory applications
US5847431A (en) * 1997-12-18 1998-12-08 Intel Corporation Reduced capacitance transistor with electro-static discharge protection structure
US5990723A (en) * 1998-01-09 1999-11-23 Maxim Integrated Products, Inc. Filter circuits for protecting against transient electrical pulses
US6111737A (en) * 1998-03-31 2000-08-29 Texas Instruments Incorporated Internal voltage protection circuit
US6137144A (en) * 1998-04-08 2000-10-24 Texas Instruments Incorporated On-chip ESD protection in dual voltage CMOS
US6049112A (en) * 1998-09-14 2000-04-11 Intel Corporation Reduced capacitance transistor with electro-static discharge protection structure and method for forming the same
US6424013B1 (en) * 1999-07-09 2002-07-23 Texas Instruments Incorporated Body-triggered ESD protection circuit
JP3810246B2 (ja) * 2000-03-15 2006-08-16 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置および半導体装置の製造方法
FR2811164B1 (fr) * 2000-06-30 2003-08-29 St Microelectronics Sa Circuit integre avec dispositif de protection
US6664909B1 (en) * 2001-08-13 2003-12-16 Impinj, Inc. Method and apparatus for trimming high-resolution digital-to-analog converter
JP3848263B2 (ja) * 2003-01-15 2006-11-22 沖電気工業株式会社 半導体装置
JP3848265B2 (ja) * 2003-01-21 2006-11-22 ローム株式会社 電子装置
CN1910813A (zh) * 2004-01-09 2007-02-07 罗姆股份有限公司 限流器电路和电机驱动电路
US9842629B2 (en) 2004-06-25 2017-12-12 Cypress Semiconductor Corporation Memory cell array latchup prevention
US7773442B2 (en) * 2004-06-25 2010-08-10 Cypress Semiconductor Corporation Memory cell array latchup prevention
JP4193805B2 (ja) * 2004-07-27 2008-12-10 セイコーエプソン株式会社 発光装置および画像形成装置
JP4942007B2 (ja) 2004-10-25 2012-05-30 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
US7586720B1 (en) * 2004-12-02 2009-09-08 Anadigics, Inc. Electrostatic discharge protection device
US20060291114A1 (en) * 2005-06-27 2006-12-28 Teo Chee K Electrostatic discharge protection circuit and method
FR2904473B1 (fr) * 2006-07-27 2009-01-16 St Microelectronics Sa Dispositif de protection d'un circuit integre contre les decharges electrostatiques
US20110309872A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-22 Cynthia Blair Voltage Spike Protection for Power DMOS Devices
CN113169169A (zh) 2018-12-03 2021-07-23 镁可微波技术有限公司 具有多厚度本征区的pin二极管
EP3925002A1 (de) * 2019-02-12 2021-12-22 MACOM Technology Solutions Holdings, Inc. Monolithische multi-i-zonen-diodenbegrenzer

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3879640A (en) * 1974-02-11 1975-04-22 Rca Corp Protective diode network for MOS devices
US4460935A (en) * 1982-06-18 1984-07-17 Fujitsu Ten Limited Input protecting circuit for a semiconductor circuit component
JPS59121971A (ja) * 1982-12-23 1984-07-14 モトロ−ラ・インコ−ポレ−テツド 基準化cmosデバイス用入力保護回路およびバイアス方法
JPS61121171A (ja) * 1984-11-19 1986-06-09 Oki Electric Ind Co Ltd 電子通帳
JPS61211715A (ja) 1985-03-18 1986-09-19 Casio Comput Co Ltd 太陽電池付小型電子機器
US4939616A (en) * 1988-11-01 1990-07-03 Texas Instruments Incorporated Circuit structure with enhanced electrostatic discharge protection
US4922371A (en) * 1988-11-01 1990-05-01 Teledyne Semiconductor ESD protection circuit for MOS integrated circuits
US5272371A (en) * 1991-11-19 1993-12-21 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Electrostatic discharge protection structure
FR2684816B1 (fr) 1991-12-10 1994-05-27 Sgs Thomson Microelectronics Circuit de protection serie.
FR2685817B1 (fr) 1991-12-31 1994-03-11 Sgs Thomson Microelectronics Sa Protection generale d'un circuit integre contre les surcharges permanentes et decharges electrostatiques.
FR2693853B1 (fr) 1992-07-16 1994-10-21 Sgs Thomson Microelectronics Circuit de protection d'un composant de puissance contre des surtensions directes.
FR2708788B1 (fr) 1993-08-06 1995-10-27 Sgs Thomson Microelectronics Protection d'un circuit intégré à l'encontre de surcharges électrostatiques.
FR2718900B1 (fr) 1994-04-13 1996-09-06 Sgs Thomson Microelectronics Dispositif de protection contre les surintensités.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013106667B4 (de) 2012-06-26 2022-11-24 Infineon Technologies Ag Schutz von Halbleiterbauelementen

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EP0551038A1 (de) 1993-07-14
EP0551038B1 (de) 1996-02-14
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US7288450B1 (en) 2007-10-30
US5438213A (en) 1995-08-01
US5508548A (en) 1996-04-16
FR2685817B1 (fr) 1994-03-11
DE69208349D1 (de) 1996-03-28

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