DE69102240T2 - Abstimmbarer Halbleiterlaser. - Google Patents

Abstimmbarer Halbleiterlaser.

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen abstimmbaren Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung, der einen breiten Abstimmbereich hat und eine Charakteristik schmaler Linienbreite zeigt.
  • Ein Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung (distributed feedback (DFB)) mit drei Elektroden ist auf Wellenlängenabstimmung und Linienbreitenreduzierung hin untersucht worden. Es ist jedoch nicht verwirklicht worden, einen wellenlängenabstimmbaren Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung zu erhalten, der notwendigerweise und ausreichenderweise einen breiten Abstimmbereich und eine schmale Linienbreite hat.
  • Es ist ein Ziel der Erfindung, einen wellenlängenabstimmbaren Halbleiterlaser zu schaffen, der einen breiteren Abstimmbereich und bessere Linienbreiten-Charakteristika hat als in der Vergangenheit.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung gemäß Anspruch 1 geschaffen.
  • Das heißt gemäß der vorliegenden Erfindung, daß in einem Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung (im folgenden als DFB-Laser bezeichnet), von dem erwartet werden kann, daß er eine exzellente Einzel-Wellenlängen-Lasercharakteristik sogar im Fall einer Hochgeschwindigkeits-Modulation zeigt, die Elektrode zur Strominjektion in vier oder mehr Elektroden in der Richtung des Hohlraumes aufgeteilt ist, von denen nicht- benachbarte miteinander elektrisch verbunden sind, um zwei Elektrodengruppen zu bilden, so daß die Strominjektion zu aktiven Schichten in den den jeweiligen Elektroden entsprechenden Bereichen erreicht werden kann, indem man die individuellen Elektroden benutzt. Diese Bereiche sind in zwei Gruppen von Wellenlängensteuerbereichen bzw. Verstärkungssteuerbereichen entsprechend der zwei Elektrodengruppen unterteilt, und die beiden Bereiche sind abwechselnd zueinander angeordnet. In diesem Fall sind die Längen jeder Elektrode und jedes Bereiches so eingestellt, daß die Gesamtlänge der Wellenlängensteuerbereiche größer als die Gesamtlänge der Verstärkungssteuerbereiche ist. Es ist bevorzugt, daß das Verhältnis der Gesamtlängen der Wellenlängensteuerbereiche und der Verstärkungssteuerbereiche im Bereich von 5:1 bis 5:4 liegt. Der Brechungsindex in jedem Wellenlängensteuerbereich wird durch Änderung der Strominjektion in diesen verändert, um die Laserwellenlänge zu variieren, und die Gesamtverstärkung wird konstant gehalten durch Steuerung der Strominjektion in die Verstärkungssteuerbereiche, wodurch es möglich wird, Ausgangs(Output)licht mit konstanter Ausgangsleistung und einer variablen einzelnen Wellenlänge zu erhalten.
  • Einheitliche Strominjektion in den DFB-Laser schafft Ausgangslicht einer Wellenlänge λ&sub0;, die gegeben ist durch λ&sub0; = 2Λn, wobei Λ die Periode des Beugungsgitters und n der Brechungsindex der lichtemittierenden Schicht ist. Weil der Brechungsindex n mit der Trägerdichte in der lichtemittierenden Schicht durch Nutzung des Plasmaeffektes variiert werden kann, ist gefunden worden, daß die Laserwellenlänge mit der Änderung des Brechungsindex variiert.
  • In der oben beschriebenen Struktur, in der die Gesamtlänge der Wellenlängensteuerbereiche größer ist als die Gesamtlänge der Verstärkungssteuerbereiche, bestimmt, wenn der Brechungsindex des Wellenlängensteuerbereiches durch Änderung der Strominjektion in diesen nach n' verändert wird, die Änderung im Brechungsindex des Wellenlängensteuerbereiches die Gesamt- Laserwellenlänge, die sich zu einer Wellenlänge λ', gegeben durchs λ' = 2Λn' verändert. Auf der anderen Seite verändert sich die Intensität des Ausgangslichtes auch entsprechend, aber die Gesamtverstärkung kann durch Steuerung des Injektionsstromes zu den Verstärkungssteuerbereichen konstant gehalten werden, indem er mit Anstieg oder Abfall des Stromes in die Wellenlängensteuerbereiche verändert wird.
  • Außerdem wird, weil die Wellenlängensteuerbereiche und die Verstärkungssteuerbereiche über den Hohlraum des Lasers fein verteilt sind, eine Uneinheitlichkeit von Parametern wie des Brechungsindex und der Verstärkung im Laser-Hohlraum auch effektiv unterdrückt in Bezug auf Variationen der Laserwellenlänge, und infolgedessen ist die Linienbreite weniger verschlechtert.
  • Im folgenden werden Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung anhand von Beispielen detailliert im Vergleich zum Stand der Technik und in Bezug zu den begleitenden Zeichnungen beschrieben werden, in denen
  • Fig. 1 eine Querschnittsansicht ist, die einen Halbleiterlaser einer Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung veranschaulicht;
  • Fig. 2 eine Querschnittsansicht eines Halbleiterlasers einer anderen Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung ist und
  • Fig. 3 eine Querschnittsansicht eines konventionellen abstimmbaren Halbleiterlasers mit schmaler Linienbreite ist.
  • Um die Unterschiede zwischen dem Stand der Technik und der vorliegenden Erfindung klar zu machen, wird zuerst ein Beispiel des Standes der Technik beschrieben.
  • Ein Halbleiterlaser, der bezüglich Wellenlängenabstimmung und Linienbreitenreduzierung untersucht wurde, ist ein DFB(distributed feedback)-Halbleiterlaser mit langem Hohlraum mit drei Elektroden, so wie in Fig. 3 gezeigt, und es ist berichtet worden, daß der Halbleiterlaser einen maximalen kontinuierlichen Abstimmbereich von 1.9 nm und eine minimale Linienbreite von 550 kHz aufweist ("TUNABLE, NARROW-LINEWIDTH AND HIGH-POWER λ/4-SHIFTED DFB LASER", ELECTRONICS LETTERS, 20. Juli 1989, Vol. 25, No. 15, pp 990-992).
  • Mit der veranschaulichten Struktur wird der Lochbrenneffekt (hole burning effect) durch Steuerung des Verhältnisses eines Stromes Ic eines Mittelbereiches zu einem Strom Is von Seitenbereichen gesteuert, um die Schwellen-Trägerdichte zu variieren und so eine Wellenlängenabstimmung zu erreichen.
  • In Systemen mit kohärenter Übertragung, von denen erwartet werden kann, daß sie, Verglichen mit konventionellen Übertragungssystemen, den Wiederholer(repeater)abstand verlängern und die Leitungskapazität vergrößern, ist es unentbehrlich, daß die Lichtquelle an der übertragenden Seite und die als lokaler Oszillator dienende Lichtquelle an der Empfangsseite in ihrer Linienbreite schmal und in ihrer Oszillationswellenlänge variabel ist, und es ist gefordert, daß ihre Linienbreite unabhängig von Wellenlängenveränderungen schmal bleibt.
  • In solch einem wellenlängenabstimmbaren Halbleiterlaser des Standes der Technik wie in Fig. 3 gezeigt, der durch Steuerung des Lochbrenneffektes in dem Mittelbereich gesteuert wird, ist jedoch der Wellenlängenabstimmbereich wegen einer Grenze für die Variation der Trägerdichte durch Unterdrückung des Lochbrenneffektes nicht so breit wie angestrebt. Außerdem ist es zur Vergrößerung des Wellenlängenabstimmbereiches bis nahe an seine Grenze notwendig, das Verhältnis des Stroms des Mittelbereiches zu dem Strom der Seitenbereiche wesentlich zu verändern. Mit großer Variation des Stromverhältnisses jedoch werden die Trägerdichte und die Verteilung des Brechungsindex in dem Laser deutlich ungleichförmig in Richtung der Lichtausbreitung, was zu erhöhter Linienbreite führt.
  • Entsprechend ist es unmöglich, einen wellenlängenabstimmbaren Halbleiterlaser zu erhalten, der notwendigerweise und ausreichenderweise einen breiten Abstimmbereich und eine schmale Linienbreite hat.
  • Ein anderer abstimmbarer DFB-Laser, der aus zwei Gruppen von Bereichen mit gemeinsamen Elektroden besteht, ist in DE-A-37 06 866 offenbart.
  • Die vorliegende Erfindung wird jetzt beschrieben werden.
  • Fig. 1 veranschaulicht eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In Fig. 1 bezeichnet die Bezugsziffer 1 ein n-Typ- InP Substrat, 2 eine n-Typ InGaAsP Wellenleiterschicht, 3 eine aktive Schicht InGaAsP, 4 eine InGaAsP-Ausgleichs(Puffer)schicht und 5 ein Beugungsgitter mit einem Viertel- Wellenlängen-Phasenverschiebungs-Punkt 6 in seiner Mitte. Die aktive Schicht 3 ist in fünf Regionen 7, 8, 9, 10 und 11 entlang der Ausbreitungsrichtung des Lichts aufgeteilt, und es sind Elektroden 12, 13, 14, 15 und 16 auf den entsprechenden Bereichen gebildet. Die Elektroden 12, 14 und 16 sind elektrisch untereinander verbunden, um eine erste Elektrodengruppe zu bilden, während die Elektroden 13 und 15 elektrisch miteinander verbunden sind, um eine zweite Elektrodengruppe zu bilden. Die Längen der Bereiche 7, 8, 9, 10 und 11 sind 225um, 100um, 150um, 100um bzw. 225um, und die Gesamt- Hohlraumlänge ist 800um. Die Bezugszeichen 17, 18, 19 und 20 bezeichnen Bereiche mit hohem Widerstand zur elektrischen Isolation, die durch Implantation von Protonen usw. gebildet werden können. Bezugszeichen 21 weist eine n-Seiten-Elektrode aus. In der Nähe beider Facetten sind Fensterstrukturen 22 und 23 zur Verhinderung der Reflektion von den Facetten vorgesehen.
  • In dieser Ausführungsform sind die Bereiche 7, 9 und 11 Wellenlängensteuerbereiche und die Bereiche 8 und 10 sind Verstärkungssteuerbereiche. Das Längenverhältnis zwischen beiden Bereichen ist ungefähr 3:1. Wie vorher beschrieben ist es möglich, die Laserwellenlänge durch Änderung eines Stromes I&sub1; zu ändern, der in die Wellenlängensteuerbereiche injiziert wird, und die Gesamtverstärkung durch Steuerung eines Stromes I&sub2;, der in die Verstärkungssteuerbereiche injiziert wird, konstant zu halten.
  • Fig. 2 veranschaulicht eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Diese Ausführungsform ist in ihrer Struktur identisch mit der in Fig. 1 gezeigten, außer daß in jedem Verstärkungssteuerbereich kein Beugungsgitter vorgesehen ist, und die Mechanismen zur Wellenlängenabstimmung und zur Verstärkungssteuerung sind auch dieselben wie die in der Ausführungsform der Fig. 1. Wenn der Strom zum Verstärkungssteuerbereich für die Verstärkungssteuerung geändert wird, verändert sich auch der Brechungsindex des Bereiches, weil aber der Bereich in dieser Struktur kein Beugungsgitter hat, wird die Brechungsindexveränderung überhaupt keine Störung der Laserwellenlänge verursachen. Entsprechend kann von dieser Ausführungsform erwartet werden, daß sie einen stabileren Einzelwellenlängen-Betrieb und einen breiteren Abstimmbereich erreicht.
  • Wenn die Laserwellenlänge stark von λ abweicht, vergrößert sich das Ungleichgewicht zwischen den Mengen der Injektionsströme entsprechend, aber durch Anwendung einer Struktur, in der z.B. die Länge pro Einheitsbereich weiter reduziert wird, um die Anzahl der Bereiche für eine weitere Homogenisierung des Brechungsindex und anderer Parameter in dem Hohlraum zu erhöhen, kann die effektive Hohlraumlänge im wesentlichen konstant gehalten werden und somit die Verschlechterung der Linienbreite verhindert werden. Entsprechend verbessert sich in diesen Ausführungsformen, obwohl beschrieben ist, daß sie fünf Elektroden (d.h. Bereiche) haben, die Homogenität solcher Parameter wie des Brechungsindex und der Verstärkung innerhalb des Hohlraums, wenn die Anzahl der Elektroden über mindestens vier hinaus erhöht wird.
  • Die Linienbreite kann durch Verlängerung der Gesamtlänge des Hohlraums verschmälert werden.
  • Darüberhinaus kann ein Gerät mit schmaler Linienbreite durch Einführung eines solchen Quanteneffektes wie MQW oder dergleichen in die lichtemittierende Schicht erreicht werden.
  • Obwohl im obigen nicht besonders auf die Struktur des optischen Wellenleiters Bezug genommen wurde, können alle Wellenleiterstrukturen, auch eine unterirdische (buried) Struktur, angewendet werden. Außerdem, was die Halbleitermaterialien betrifft, kann die vorliegende Erfindung nicht nur mit solchen der vorher erwähnten InGaASP/InP-Systeme benutzt werden, sondern auch mit anderen Halbleitermaterialien der InAlGaAs/InP, AlGaAs/GaAS-Systeme usw..
  • Wie oben beschrieben ist es gemäß der vorliegenden Erfindung möglich, einen Halbleiterlaser zu verwirklichen, der kontinuierlich abstimmbar ist, einen breiten Abstimmbereich und gleichmäßig über den gesamten Abstimmbereich eine schmale Linienbreite hat und der als Lichtquelle mit Einzelwellenlänge benutzt werden kann.
  • Von Ausführungsformen des erfindungsgemäßen abstimmbaren Halbleiterlasers kann theoretisch erwartet werden, daß sie einen kontinuierlichen Abstimmbereich von 5 nm oder mehr und eine Linienbreite unterhalb 500 kHz erreichen.
  • Von einer Ausführungsform des abstimmbaren Halbleiterlasers, in der die periodischen Riffelungen auf keiner der aktiven Schichten und der den aktiven Schichten benachbarten Schichten der Verstärkungssteuerbereiche ausgebildet sind, kann erwartet werden, daß sie einen stabileren Einzelwellenlängenbetrieb und einen breiteren Abstimmbereich aufweist.
  • Der erfindungsgemäße Halbleiterlaser ist sehr vielversprechend als Lichtquelle für kohärente Übertragung, optische Messungen usw. und ist daher von großem Nutzen.

Claims (2)

1. Ein abstimmbarer Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung mit einer mehrlagigen Struktur, in der ein Beugungsgitter (5) mit periodischen Riffelungen senkrecht zur Ausbreitungsrichtung des ausgesendeten Laserlichts auf mindestens einer von einer aktiven Schicht (3) und von zu dieser benachbarten Schichten (2) ausgebildet ist, bei dem eine Elektrode an der Oberseite der Struktur in vier oder mehr Elektroden (12 bis 16) in Richtung des Hohlraums des Lasers aufgeteilt ist, wobei nicht-benachbarte Elektroden elektrisch verbunden sind, um zwei Elektrodengruppen zu bilden, geteilt in erste Bereiche (7, 9, 11), die einer der Elektrodengruppen (12, 14, 16) entsprechen, und zweite Bereiche (8, 10), die der anderen Elektrodengruppe (13, 15) entsprechen, wobei das Beugungsgitter zumindest in den ersten Bereichen ausgebildet ist und der Verstärkungsfaktor jeder der zweiten Bereiche durch Strominjektionen zu der entsprechenden Elektrodengruppe kontrolliert ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtlänge der ersten Bereiche (7, 9, 11) größer ist als die Gesamtlänge der zweiten Bereiche (8, 10), so daß die Brechungsindexänderung der ersten Bereiche, die durch Strominjektions- Änderung zu der einen Elektrodengruppe verursacht wird, die Verände-rung der Laserwellenlänge bestimmt, wobei Ausgangslicht mit konstanter Ausgangsleistung und einer variablen Einzel-Wellenlänge erzeugt wird.
2. Ein abstimmbarer Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß periodische Riffelungen nicht auf irgendeiner der aktiven Schichten und zu diesen aktiven Schichten benachbarten Schichten der zweiten Bereiche (8; 10) ausgebildet sind.
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5247536A (en) * 1990-07-25 1993-09-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor laser distributed feedback laser including mode interrupt means
US5325392A (en) * 1992-03-06 1994-06-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Distributed reflector and wavelength-tunable semiconductor laser
US5347526A (en) * 1992-03-31 1994-09-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Wavelength-tunable semiconductor laser
DE4301830A1 (de) * 1993-01-23 1994-07-28 Ant Nachrichtentech 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich
JP2770714B2 (ja) * 1993-09-10 1998-07-02 日本電気株式会社 分布帰還型半導体レーザおよびその電流注入方法
US6728290B1 (en) * 2000-09-13 2004-04-27 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Current biased dual DBR grating semiconductor laser
WO2002075867A2 (en) * 2001-03-19 2002-09-26 Bookham Technology Tuneable laser
US6717964B2 (en) * 2001-07-02 2004-04-06 E20 Communications, Inc. Method and apparatus for wavelength tuning of optically pumped vertical cavity surface emitting lasers
GB2381123B (en) * 2001-10-17 2005-02-23 Marconi Optical Components Ltd Tuneable laser
JP4594816B2 (ja) * 2005-03-17 2010-12-08 富士通株式会社 波長可変レーザ
JP4231854B2 (ja) * 2005-03-17 2009-03-04 アンリツ株式会社 半導体レーザ素子及びガス検知装置
US7366220B2 (en) 2005-03-17 2008-04-29 Fujitsu Limited Tunable laser
JP4469759B2 (ja) * 2005-03-17 2010-05-26 富士通株式会社 波長可変レーザ
JP4579033B2 (ja) * 2005-03-31 2010-11-10 富士通株式会社 光半導体装置とその駆動方法
JP4904874B2 (ja) * 2006-03-24 2012-03-28 富士通株式会社 波長可変レーザ
JP2008085214A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Fujitsu Ltd 波長可変レーザ
JP4926641B2 (ja) * 2006-10-18 2012-05-09 日本電信電話株式会社 半導体レーザ
WO2008120375A1 (ja) 2007-03-29 2008-10-09 Fujitsu Limited 光伝送装置および光伝送方法
JP5625459B2 (ja) * 2009-05-21 2014-11-19 住友電気工業株式会社 半導体レーザ素子及びその作製方法
CN112448266B (zh) * 2019-08-30 2022-03-25 华为技术有限公司 一种多波长激光器以及波长控制方法
CN112542769B (zh) * 2020-10-20 2022-04-08 武汉敏芯半导体股份有限公司 宽谱多波长法布里-珀罗激光器及其制造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6045088A (ja) * 1983-08-23 1985-03-11 Fujitsu Ltd 半導体発光装置
DE3706866A1 (de) * 1987-03-04 1988-09-15 Licentia Gmbh Dfb-halbleiterlaser
JPH0656908B2 (ja) * 1987-03-31 1994-07-27 日本電信電話株式会社 波長変換素子
JP2563196B2 (ja) * 1988-03-11 1996-12-11 日本電信電話株式会社 結合分布帰還型半導体レーザ
US4835779A (en) * 1987-05-04 1989-05-30 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Method and apparatus for the operation of a distributed feedback laser
JPS6414988A (en) * 1987-07-08 1989-01-19 Nec Corp Wavelength-tunable semiconductor laser
JP2825508B2 (ja) * 1987-10-09 1998-11-18 株式会社日立製作所 半導体レーザ装置および光通信システム
JPH084186B2 (ja) * 1987-10-28 1996-01-17 国際電信電話株式会社 半導体レーザ
JP2544410B2 (ja) * 1987-11-11 1996-10-16 株式会社日立製作所 波長可変半導体装置
JP2567437B2 (ja) * 1988-01-08 1996-12-25 住友電気工業株式会社 半導体レーザ装置及びその評価方法ならびにその製造方法
GB2234632A (en) * 1989-08-01 1991-02-06 British Telecomm Distributed feedback laser
US5012484A (en) * 1990-01-02 1991-04-30 At&T Bell Laboratories Analog optical fiber communication system, and laser adapted for use in such a system

Also Published As

Publication number Publication date
JP2804838B2 (ja) 1998-09-30
JPH04147686A (ja) 1992-05-21
US5187717A (en) 1993-02-16
EP0480697A3 (en) 1992-05-20
DE69102240D1 (de) 1994-07-07
EP0480697A2 (de) 1992-04-15
EP0480697B1 (de) 1994-06-01

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