DE3228586C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen abstimmbaren Halb
leiterlaser gemäß dem Oberbegriff der Patentansprüche 1,
5 bzw. 6.
Es ist eine Doppelheterostruktur-GaAs-Ga₁-x Al x As-Laser
diode mit verteilter Rückkopplung als einer der Halbleiterlaser
für Monolongitudinalmode-Oszillation bekannt, die für optische
Übertragungen über große Entfernungen entwickelt worden
sind. Die Laserdiode enthält eine aktive Schicht, die mit
einem Gitter versehen ist, das durch äquidistante parallele
Kerben gegeben ist. Die Laserdiode bewirkt eine stabile Oszillation
bei einer ausgewählten Wellenlänge, die durch folgende Gleichung
λ = 2n Λ /m (1)
gegeben ist, wobei n der Brechungsindex der aktiven Schicht, Λ
der Abstand zwischen den Kerben des Gitters und m die Ordnung
der Bragg-Beugung ist. Die Gleichung (1) gibt an, daß die Wellen
länge λ des abgegebenen Laserstrahls und damit die stabile
Oszillation von dem Abstand Λ des Gitters abhängt, während andererseits die
Diode das Problem beinhaltet, daß die Schwingungswellenlänge
nicht geändert werden kann. Die Laserdiode läßt sich wellenlängen
abstimmbar machen, indem man die Tatsache ausnutzt, daß
sich der Brechungsindex n mit der Temperatur ändert, das Verän
dern der Temperatur über einen größeren Bereich erfordert je
doch eine Heiz- oder Kühlvorrichtung, wobei sich die Notwendigkeit
der Verwendung einer Temperaturkonstanzkammer oder eines
Thermostaten ergibt, um die Diode konstant auf der gewünschten
Temperatur zu halten. Die Verwendung einer solchen Vorrichtung
ist nicht wünschenswert, wenn die Diode in Form einer integrierten
Einheit vorliegt, die auch eine optische Schaltung und andere
Elemente enthält. Da ferner die Ga₁-x Al x As-Überzugschicht
nach Ausbildung des Gitters auf der aktiven Schicht aufgewachsen
werden muß, läßt sich die Diode nur mit Schwierigkeiten
herstellen, wobei sie mit hoher Wahrscheinlichkeit Defekte am
Übergang zwischen aktiver Schicht und Überzugschicht aufweist.
Aus Applied Physics Letters 33 (1978), Nr. 3, S. 251-253
ist ein abstimmbarer Halbleiterlaser gemäß dem Ober
begriff der Patentansprüche 1, 5 bzw. 6 bekannt, bei welchem
die Reflexionseinrichtung in der aktiven Schicht ausgebildet
ist und aus zwei Bragg-Reflektoren und einem auch auf der
aktiven Schicht ausgebildeten akustischen Modenwandler
besteht, der aus einer Volumenwelle eine akustische Ober
flächenwelle erzeugt. Abstimmbarkeit wird erzielt, indem eine
sich räumlich verändernde Gitterstruktur erzeugt wird.
Das Ausbilden der Gitterstruktur in bzw. auf der aktiven
Schicht bringt Schwierigkeiten bei der Herstellung des
Lasers mit sich.
Aus der US-PS 42 16 440 ist ein auf einem piezoelektrischen
Material ausgebildeter Interdigitalwandler bekannt, jedoch
ist dieser auf einem gesondert vom Lasermedium vorgesehenen
Prisma vorhanden.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen abstimmbaren Halbleiter
laser der eingangs genannten Art mit vereinfachter Herstell
barkeit zu schaffen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch einen
abstimmbaren Halbleiterlaser, wie er in den Patentansprüchen 1,
5 bzw. 6 gekennzeichnet ist.
Das Vorhandensein der akustischen Oberflächenwelle (SAW
(surface acoustic wave)) erzeugt auf der aktiven Schicht eine
Verteilung von Brechungsindizes, die sich in einem bestimmten
Abstand wiederholen, wobei ausschließlich Licht derjenigen
Wellenlänge, die durch diesen Abstand bestimmt wird,
ausgewählt reflektiert wird, so daß die Laserschwingung bei
der einzigen ausgewählten Wellenlänge auftritt. Da die
Frequenz der SAW abstimmbar ist und sich von Ort zu Ort
unterscheidet, läßt sich ein Laserstrahl einer gewünschten
Wellenlänge erzielen. Da der Interdigitalwandler (IDT
(interdigital transducer)) bzw. die Gunn-Dioden bzw. das
Gitter mit den seitlich angeordneten Elektroden nur auf einem
piezoelektrischen bzw. elektrooptischen Isolationsfilm, der
auf oder über der aktiven Schicht vorgesehen ist, aufgebracht
zu werden braucht, läßt sich ein solcher Laser leicht
herstellen und auch leicht in Form einer integrierten Einheit
vorsehen.
Im folgenden werden Ausführungsformen der Erfindung in Ver
bindung mit der Zeichnung beschrieben. Auf dieser
zeigt bzw. zeigen
Fig. 1 eine Ausführungsform der Erfindung in schematischer per
spektivischer Darstellung,
Fig. 2 eine weitere Ausführungsform der Erfindung in schemati
scher perspektivischer Darstellung,
Fig. 3 eine Abwandlung der Ausführungsform der Fig. 1 in sche
matischer perspektivischer Darstellung,
Fig. 4 die Art und Weise der Ausbreitung einer SAW,
Fig. 5 eine weitere Ausführungsform in schematischer perspek
tivischer Darstellung,
Fig. 6 eine vergrößerte Schwingungsfrequenz-Bandbreite,
Fig. 7 bis 9 Draufsichten weiterer Abwandlungen,
Fig. 10 eine weitere Ausführungsform der Erfindung in schematischer
perspektivischer Darstellung,
Fig. 11 eine wiederum weitere Ausführungsform der Erfindung in
schematischer perspektivischer Darstellung, und
Fig. 12 ein Blockschaltbild eines Wellenlängenmultiplex-Nachrichten
übertragungssystems.
Fig. 1 zeigt einen Doppelheterostruktur-(DH-Struktur-)Laser,
der die Erfindung verkörpert. Der DH-Struktur-Laser wird,
dies ist bekannt, hergestellt, indem auf einem n-GaAs-Einkristall
substrat 1 eine n-Ga₁-x Al x As-Überzugsschicht 2, eine als
aktiver Bereich dienende p-GaAs-Schicht 3, eine p-Ga₁-x Al x As-
Überzugsschicht 4 und eine p-GaAs-Schicht 5 durch ein Flüssig
phasen-Epitaxialverfahren aufgewachsen werden, Kontakte 6 auf der
Ober- und Unterseite des sich ergebenden Aufbaus durch Aufdampfen
im Vakuum ausgebildet werden und der Aufbau auf eine geeig
nete Größe gespalten oder geschnitten wird. Bei dieser Laserdiode
schaffen die Spaltflächen an entgegengesetzten Enden einen
optischen Resonator, so daß, wenn ein Durchlaßstrom durch die
Diode geschickt wird und dieser einen Schwellenwert überschreitet, die
p-GaAs-Schicht 3 als aktive Schicht zur Eingrenzung von Licht
und Ladungsträgern in dieser dient und ein Laserstrahl A abge
geben wird.
Ein Teil der DH-Struktur wird etwa durch Ätzen ausgeschnitten,
um die p-GaAs-Schicht 3 freizulegen. Auf dem freigelegten
Teil der Schicht 3 wird ein Isolationsfilm 8 aus piezoelektri
schem Material ausgebildet und ein IDT 9 auf dem Film 8 bei
spielsweise photolithographisch vorgesehen.
An den IDT 9 wird mittels eines frequenzvariablen Oszilla
tors 10 ein elektrisches Hochfrequenzfeld angelegt. Dieses er
zeugt am IDT 9 eine SAW, die sich auf dem Isolations
film 8 in Emissionsrichtung des Laserstrahls A ausbreitet.
Die SAW verleiht dem Isolationsfilm 8 eine Verteilung von Bre
chungsindizes, die sich in einem bestimmten Abstand in Richtung
der Ausbreitung des Strahls wiederholen. Nur Licht einer Wellen
länge, die durch den durch die Verteilung gegebenen Abstand be
stimmt wird, wird reflektiert, mit dem Ergebnis, daß eine Mono
longitudinalmode-Laseroszillation bei einer ausgewählten Wellen
länge auftritt. Wenn man die Wellenlänge der SAW zu Λ annimmt,
erhält man einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge λ, die durch
die Gleichung (1) gegeben ist. Ferner ist die Wellenlänge Λ der
SAW durch Veränderung der Frequenz des an den IDT 9 zu legenden
elektrischen Feldes veränderbar, so daß die ausgewählte Wellen
länge ebenfalls veränderbar ist.
Es sei angenommen, daß die Frequenz f des an den IDT 9 ge
legten elektrischen Feldes zur Erzeugung einer Variation ΔΛ
der Wellenlänge Λ der SAW um Δ f variiert wird. Nach Gleichung
(1) beträgt die sich ergebende Variation Δλ der Schwingungs
wellenlänge
Δλ = 2n ΔΛ /m (2)
Wenn V die Ausbreitungsgeschwindigkeit der SAW ist, dann gilt
V = f Λ (3)
deshalb ist
Aus Gleichungen (4) und (2) ergibt sich
Wenn beispielsweise m gleich 1, V gleich 3300 m/s, n gleich 3,37,
f gleich 20 GHz und Δ f gleich 2 GHz in Gleichung (4) ist, dann ergibt sich
Δλ = 0,11 µm.
Es sei angenommen, daß der IDT 9 eine Schwingungsfrequenz von
20 GHz hat und damit einen Laserstrahl einer Wellenlänge von 1 µm er
gibt. Wen die Frequenz dann um 2 GHz variiert wird, ändert sich
die Wellenlänge des Laserstrahls um 0,11 µm=110 nm.
Fig. 2 zeigt eine integrierte Zwillingswellenleiter-(ITG-(in
tegrated twin guide)) Laserdiode, die die Erfindung verkörpert.
Die Diode umfaßt Ga₁-x Al x As-Überzugsschichten 12, 14 und 16,
als aktive Schichten dienende GaAs-Schichten 13 und 15 und eine
p-GaAs-Schicht 17, die auf einem n-GaAs-Substrat 11 ausgebildet
sind. Auf der Ober- und Unterseite des Aufbaus werden durch
Aufdampfen im Vakuum Kontakte 18 ausgebildet. An beiden Enden
des Lasers sind die Überzugsschicht 14 und die darüberliegenden
Schichten ausgeschnitten, wobei der freigelegte Teil mit einem
Isolationsfilm 19 abgedeckt ist. Wenigstens einer der beiden
parallel zu GaAs-Schicht 13 verlaufenden Teile des Films 19 wird
mit einem IDT 9 versehen. Wie der in Fig. 1 gezeigte DH-Struktur-
Laser ist der ITG-Laser durch Veränderung der Frequenz des
an den IDT 9 gelegten elektrischen Treiberfeldes wellenlängen
abstimmbar.
Fig. 3 zeigt einen modifizierten DH-Struktur-Laser, der die
Erfindung verkörpert und einen IDT 20 aufweist, der sich von dem
in Fig. 1 gezeigten IDT 9 im Aufbau unterscheidet. Der IDT 9 um
faßt eine große Anzahl paralleler Linearelektroden 9 a und zwei
parallele gemeinsame Elektroden 9 b, die jeweils übernächste Elek
troden 9 a miteinander verbinden. Der IDT 20 umfaßt Linearelek
troden 20 a in Form eines Kreisbogens und gemeinsame Elektroden
20 b, die nicht parallel, sondern gegeneinander geneigt verlaufen.
Die Kreisbogenanordnung der Linearelektroden 20 a des IDT
dient dazu, ein Ausbreiten des Schwingungsmodes und des ausge
henden Laserstrahls nach der Seite zu hemmen.
Mit dem in Fig. 4, Abschnitt a gezeigten IDT 9 mit seinen
geraden Linearelektroden 9 a breitet sich wegen eines Beugungs
effekts die erzeugte SAW unter Verbreitung über einen Winkel R aus,
was eine Verbreiterung des Laserschwingungsmodes bzw. Laser
strahls zur Folge hat. Mit dem in Fig. 4, Abschnitt b gezeigten
IDT 20 mit seinen kreisbogenförmigen Linearelektroden 20 a je
doch breitet sich die SAW konvergierend und folglich im wesent
lichen ohne Verbreiterung aus, selbst wenn man den Verbreiterungs
winkel R mitberücksichtigt. Dies verhindert eine Verbreite
rung des Laserstrahls A und führt zu einem stabilen Schwingungs
mode. Das Licht läßt sich wirksam eingrenzen, was eine verbesserte
Laserschwingungsfrequenz sicherstellt und damit die Leistung
für das an den IDT 20 zu legende elektrische Hochfrequenz
feld vermindert.
Fig. 5 zeigt eine weitere Abwandlung. Ein auf einem Isola
tionsfilm 8 vorgesehener IDT 21 umfaßt gerade Elektroden 21 a,
wobei sich der Abstand zwischen mit einer gemeinsamen Elektrode
21 b verbundenen benachbarten Elektroden 21 a in Ausbreitungsrich
tung der erzeugten SAW ändert. Wenn der Abstand aller Linearelek
troden 9 a wie im Falle des in Fig. 1 gezeigten IDT 9 stets der
gleiche ist, beschränkt sich das abstimmbare Wellenlängenband
auf einen engen Bereich, da die Mittellängenwelle der SAW von
diesem Abstand abhängig ist. Im Falle des in Fig. 5 gezeigten
IDT 21 jedoch sind die Abstände zwischen mit der gleichen Elek
trode 21 b verbundenen Elektroden 21 a in Entsprechung zu den ver
schiedenen Wellenlängen Λ 1 bis Λ j der SAW verschieden. Dement
sprechend läßt sich die Wellenlänge der mit dem IDT 21 erzeugten
SAW um Δ1 mit Mittelpunkt an allen Wellenlängen Λ1 bis Λ j
variieren. Ausgedrückt in der Frequenz f des an den IDT 21 gelegten
elektrischen Feldes läßt sich mit den Frequenzen, die den
Wellenlängen Λ1 bis Λ j entsprechen und durch f1 bis fj dargestellt
sind, die Frequenz um Δ f mit Mitte an allen Frequenzen f1 bis fj
variieren. Wenn also die Abstände Λ1 bis Λ j geeignet festgelegt
sind, beträgt die Bandbreite F der abstimmbaren Frequenzen j-mal
die Bandbreite des Falles, in dem die Abstände gleich sind,
nämlich F=j · Δ f, wie dies in Fig. 6 dargestellt ist. Daraus er
gibt sich, daß, wenn die Schwingungswellenlängen des DH-Struktur-Lasers
λ1 bis λ j in Entsprechung zu den Frequenzen f1 bis fj
sind, die Laser-Schwingungswellenlänge um Δλ aus Gleichung (5)
mit Mitte an allen Wellenlängen λ1 bis λ j variiert werden kann.
Die Schwingungswellenlänge des abstimmbaren Halbleiterlasers ist
also über den weiten Bereich von j · Δλ veränderbar.
Fig. 7 zeigt eine weitere Abwandlung, bei der zur Bildung
eines IDT 22 Linearelektroden 22 a bis 22 c mit unterschiedlichen
Abständen im rechten Winkel zur Ausbreitungsrichtung des Laser
strahls angeordnet sind. Der Laser erzeugt Strahlen verschiedener
Wellenlängen λ1 bis λ j (j=3) an verschiedenen Strahlen
emissionsstellen.
Fig. 8 zeigt eine weitere Abwandlung, bei welcher drei Arten
von kreisbogenförmigen Linearelektroden 23 a bis 23 c, die in
verschiedenen Abständen liegen, einen IDT 23 bilden. Die Elek
troden sind miteinander verbunden. Da solche kreisbogenförmigen
Linearelektroden, wie bereits ausgeführt, dazu führen, daß die
SAWs konvergieren, ist verhindert, daß sich der ausgehende Laser
strahl nach der Seite verbreitet.
Fig. 9 zeigt eine wiederum weitere Abwandlung, nach welcher
ein IDT 24 kreisbogenförmige Linearelektroden mit sich kontinu
ierlich ändernden Abständen aufweist. In diesem Fall variiert
die Wellenlänge des emittierten Laserstrahls mit der Emissionsstelle,
und der Strahl konvergiert auf einen Punkt. Dies erleichtert
die optische Kopplung beispielsweise mit einer optischen Faser.
Bei den Abwandlungen der Fig. 5 und 7 bis 9 kann eine
Gleichspannung an den IDT angelegt werden, weil dann Brechungsindex
verteilungen unmittelbar darunter erzeugt werden.
Fig. 10 zeigt eine weitere Ausführungsform. Der gezeigte
DH-Struktur-Laser ist mit einem Feld 25 aus Gunn-Dioden 25 c ver
sehen, die auf einem Isolationsfilm 8 ausgebildet und voneinander
isoliert in einer zur Emissionsrichtung eines Laserstrahls
senkrechten Reihe angeordnet sind. Der Abstand zwischen Elek
troden 25 a und 25 b unterscheidet sich von Diode zu Diode. Jeweils
eine der Gunn-Dioden 25 c des Feldes 25 wird ausgewählt über
einen Umschalter 26 angesteuert, womit die ausgewählte Gunn-Diode
eine SAW erzeugt wird, die sich auf dem Film 8 in der Emissions
richtung ausbreitet. Wie bereits ausgeführt, tritt eine
Monomode-Laseroszillation bei einer Wellenlänge auf, die im
Einklang mit der Wellenlänge der SAW ausgewählt ist. Die Wellen
länge der SAW wird ausgewählt bestimmt, indem ausgewählt eine
der Gunn-Dioden, die sich hinsichtlich des Abstandes der Elek
troden und damit der Schwingungswellenlänge unterscheiden, ange
steuert wird. Natürlich können auch alle Gunn-Dioden
gleichzeitig angesteuert werden.
Im allgemeinen bewirkt eine Gunn-Diode eine Oszillation
bei einer Frequenz f die durch
ausgedrückt wird, wobei Vd die Elektronendriftgeschwindigkeit
(ungefähr 10⁷ cm/s) und L der Elektrodenabstand der Gunn-Diode
ist. Wenn beispielsweise L 10 µm ist, so ist f 10 GHz. Da die
Gunn-Dioden 25c des Feldes 25 unterschiedliche Abstände zwischen
den Elektroden 25a und 25b von L1 bis L5 haben, erzeugt eine der
Gunn-Dioden, wenn sie für die Schwingung ausgewählt wird, eine
SAW mit einer durch Gleichung (6) unter Verwendung des betreffenden
Abstands gegebenen Frequenz. Wenn die Periode der SAW Λ
ist, wird die Laser-Schwingungswellenlänge λ durch Gleichung (1)
ausgedrückt. Die Laserschwingung tritt also bei der einen der
Wellenlängen λ1 bis λ5 auf, die dem Elektrodenabstand der ausgewählten
Gunn-Diode entspricht.
Fig. 11 zeigt eine wiederum weitere Ausführungsform. Der
DH-Struktur-Laser enthält eine aktive Schicht 3, wobei ein Film
29 aus einem einen elektrooptischen Effekt zeigenden Material,
beispielsweise BaTiO₃, auf einem freigelegten Teil der Schicht
3 ausgebildet ist. Auf dem Film 29 ist ein periodisches Gitter
27, beispielsweise durch die Kombination einer Elektronenstrahl-
oder holographischen Belichtung mit einer Ionenstrahlätztechnik,
ausgebildet. Auf den beiden gegenüberliegenden Seiten des Gitters
27 sind auf dem BaTiO₃-Film 29 entgegengesetzte Elektroden 28
vorgesehen.
Wenn mittels einer Spannungsquelle 30 eine Gleich- oder
Wechselspannung zwischen den Elektroden angelegt wird, verändert
der sich ergebende elektrooptische Effekt den Brechungsindex n des
mit dem Gitter 27 versehenen Films 29 und damit die Schwingungswellenlänge.
Wenn die Spannung E, der Abstand zwischen den Elektroden
28d und die elektrooptische Konstante des Films 29 q ist,
dann wird die Variation Δn des Brechungsindex ausgedrückt durch
Δ ∝ γ n³E/d (7)
Dementsprechend ergibt sich die Variation Δλ der Laser-Schwingungswellenlänge
aus Gleichung (1) zu
Δλ = 2ΔnΛ/m ∝ 2n³EΛ/dm (8)
Wenn also die Spannung E variiert wird, wird die Laser-Schwingungswellenlänge
um Δλ variiert. Da BaTiO₃ eine große
elektrooptische Konstante hat (γ₄₂= 8 · 2 · 10-10³m/V) erhält man
mit der Verwendung dieses Materials große Variationen des Brechungsindex,
was die Bandbreite der abstimmbaren Wellenlängen
vergrößert.
Die Ausführungsformen der Fig. 3 bis 11 sind alle die Erfindung
enthaltende DH-Struktur-Laser, die Erfindung ist natürlich
aber auch auf Halbleiterlaser anderer Arten anwendbar.
Der abstimmbare Halbleiterlaser gemäß der Erfindung ist
mit Vorteil für ein Wellenlängenmultiplex-Nachrichtenübertragungssystem
verwendbar. Gemäß Fig. 12 werden ansprechend auf Steuersignale
einer Zentraleinheit 31 Laserstrahlsignale unterschiedlicher
Wellenlängen über eine Lichtleitfaser 33 von einem abstimmbaren
Halbleiterlaser 32 gemäß der Erfindung auf eine Lichtwellenverzweigungseinheit
34 gegeben. Die Verzweigungseinheit 34
ist mit Lichtleitfasern 35 für Kanäle 1, 2, . . ., i verbunden. Die
Laserstrahlsignale verschiedener Wellenlängen werden auf die
Lichtleitfasern 35 durch Realzeitübertragung mit Schalten gegeben.
Der abstimmbare Halbleiterlaser gemäß der Erfindung gibt,
auch wenn er allein verwendet wird, Laserstrahlsignale verschiedener
Wellenlängen in Ansprechung auf Steuersignale ab und bietet
daher ein Wellenlängenmultiplex-Übertragungssystem einfachen
Aufbaus.
Claims (9)
1. Abstimmbarer Halbleiterlaser mit einer aktiven
Schicht und einer Einrichtung zur Erzeugung einer Reflexion
von Licht einer bestimmten Wellenlänge des in der aktiven
Schicht erzeugten Lichts, wobei die Reflexionseinrichtung für
eine Veränderung der Wellenlänge des reflektierten Lichts
vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Isolationsfilm (8) aus einem piezoelektrischen Material
auf oder über mindestens einem Teil der aktiven Schicht
(3, 13) vorgesehen ist und daß die Reflexionseinrichtung ein
auf dem Isolationsfilm ausgebildeter Interdigitalwandler ist.
2. Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Interdigitalwandler (9,
20, 21, 22, 23, 24) zur Erzeugung einer akustischen Oberflächenwelle
veränderbarer Frequenz ausgebildet ist.
3. Halbleiterlaser nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der Interdigitalwandler
(22, 23, 24) zur Erzeugung von akustischen Oberflächenwellen
verschiedener Frequenzen an verschiedenen Stellen ausgebildet
ist.
4. Halbleiterlaser nach mindestens einem der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der
Interdigitalwandler (9, 20, 21, 22, 23, 24) durch einen frequenzvariablen
Hochfrequenzoszillator (10) angesteuert wird.
5. Abstimmbarer Halbleiterlaser mit einer aktiven
Schicht und einer Einrichtung zur Erzeugung einer Reflexion
von Licht einer bestimmten Wellenlänge des in der aktiven
Schicht erzeugten Lichts, wobei die Reflexionseinrichtung für
eine Veränderung der Wellenlänge des reflektierten Lichts
vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Isolationsfilm (8) aus einem piezoelektrischen Material
auf oder über mindestens einem Teil der aktiven Schicht (3)
vorgesehen ist und daß die Reflexionseinrichtung durch eine
Anzahl von Gunn-Dioden (25c) gebildet ist, die sich zur
Bewirkung von akustischen Oberflächenwellen bei verschiedenen
Frequenzen im Abstand ihrer Elektroden (25a, 25b)
unterscheiden und ausgewählt steuerbar sind.
6. Abstimmbarer Halbleiterlaser mit einer aktiven
Schicht und einer Einrichtung zur Erzeugung einer Reflexion
von Licht einer bestimmten Wellenlänge des in der aktiven
Schicht erzeugten Lichts, wobei die Reflexionseinrichtung für
eine Veränderung der Wellenlänge des reflektierten Lichts
vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Isolationsfilm (29) aus einem elektrooptischen Material
auf oder über mindestens einem Teil der aktiven Schicht (3)
vorgesehen ist und daß die Reflexionseinrichtung durch ein
Gitter (27) und ein Paar von Elektroden (28), die auf gegenüberliegenden
Seiten des Gitters angeordnet sind, gebildet
ist.
7. Halbleiterlaser nach mindestens einem der Ansprüche 2
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der
Interdigitalwandler (22, 23, 24) eine Anzahl von Linearelektroden
aufweist, die zur Verhinderung einer seitlichen Ausbreitung
der akustischen Oberflächenwelle in der Form eines
Kreisbogens ausgebildet sind.
8. Halbleiterlaser nach mindestens einem der Ansprüche
3, 4 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß der
Interdigitalwandler (21, 22, 23) eine Anzahl von Linearelektroden
aufweist, deren Abstand sich von Ort zu Ort unterscheidet.
9. Halbleiterlaser nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Spannungsquelle (30) zur
Aufgabe einer Gleich- oder Wechselspannung auf das Paar von
Elektroden (28) vorgesehen ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56120852A JPS5821888A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | 可変波長半導体レ−ザ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3228586A1 DE3228586A1 (de) | 1983-02-17 |
DE3228586C2 true DE3228586C2 (de) | 1990-12-06 |
Family
ID=14796536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823228586 Granted DE3228586A1 (de) | 1981-07-31 | 1982-07-30 | Abstimmbarer halbleiterlaser |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4532632A (de) |
JP (1) | JPS5821888A (de) |
DE (1) | DE3228586A1 (de) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3517814A1 (de) * | 1985-05-17 | 1986-11-20 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Laseranordnung |
US4750801A (en) * | 1985-09-30 | 1988-06-14 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Optical waveguide resonator filters |
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JP2574752B2 (ja) * | 1986-01-22 | 1997-01-22 | 株式会社日立製作所 | 情報記録媒体および記録再生方法 |
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FR2648576B1 (fr) * | 1989-06-15 | 1991-08-30 | France Etat | Dispositif acousto-optique utilisant un super-reseau en tant que milieu d'interaction |
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US5345466A (en) * | 1992-11-12 | 1994-09-06 | Hughes Aircraft Company | Curved grating surface emitting distributed feedback semiconductor laser |
JP2920738B2 (ja) * | 1995-06-15 | 1999-07-19 | 株式会社村田製作所 | 音響光学偏向素子 |
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JP2856183B2 (ja) * | 1996-12-19 | 1999-02-10 | 日本電気株式会社 | 光波長フィルタ |
GB2363011B (en) * | 2000-05-31 | 2002-04-17 | Acoustical Tech Sg Pte Ltd | Surface acoustic wave device |
US6898217B2 (en) * | 2002-12-31 | 2005-05-24 | Intel Corporation | Ultrasonic tunable laser |
JP4536488B2 (ja) * | 2004-11-09 | 2010-09-01 | 浜松ホトニクス株式会社 | 半導体レーザ素子 |
DE602007003480D1 (de) | 2007-10-11 | 2010-01-07 | Alcatel Lucent | Lasermodul und Verfahren zur Herstellung eines Lasermoduls |
NL1038419C2 (en) * | 2010-12-02 | 2012-06-05 | Rotterdam Res B V | Wavelength tunable laser diode comprising a surface acoustic wave generator. |
DE102013210561B4 (de) * | 2013-06-06 | 2016-11-10 | Albert-Ludwig-Universität Freiburg | Biegewandler mit einem piezoelektrischen Element |
US9519163B2 (en) * | 2013-09-24 | 2016-12-13 | Oracle International Corporation | Tunable silicon grating couplers |
CN103490280B (zh) * | 2013-09-27 | 2016-01-20 | 中国科学院半导体研究所 | 可调谐分布反馈量子级联激光器阵列器件及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3755671A (en) * | 1972-09-29 | 1973-08-28 | Rca Corp | Method of providing a semiconductor body with piezoelectric properties |
US4039249A (en) * | 1973-03-28 | 1977-08-02 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Integrated optical devices including tunable fixed grating |
JPS5214392A (en) * | 1975-07-24 | 1977-02-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Semiconductor laser |
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-
1981
- 1981-07-31 JP JP56120852A patent/JPS5821888A/ja active Granted
-
1982
- 1982-07-30 US US06/403,819 patent/US4532632A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-07-30 DE DE19823228586 patent/DE3228586A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5821888A (ja) | 1983-02-08 |
US4532632A (en) | 1985-07-30 |
JPH0376038B2 (de) | 1991-12-04 |
DE3228586A1 (de) | 1983-02-17 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8125 | Change of the main classification |
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|
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |