DE69033123T2 - Verfahren und Gerät zur Wahrnehmung einer Ausrichtungsmarke auf einer Halbleiter-Vorrichtung - Google Patents

Verfahren und Gerät zur Wahrnehmung einer Ausrichtungsmarke auf einer Halbleiter-Vorrichtung

Info

Publication number
DE69033123T2
DE69033123T2 DE69033123T DE69033123T DE69033123T2 DE 69033123 T2 DE69033123 T2 DE 69033123T2 DE 69033123 T DE69033123 T DE 69033123T DE 69033123 T DE69033123 T DE 69033123T DE 69033123 T2 DE69033123 T2 DE 69033123T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
sensing
semiconductor device
alignment mark
mark
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69033123T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69033123D1 (de
Inventor
Yasushi Takahashi
Hiroshi Yasuda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Publication of DE69033123D1 publication Critical patent/DE69033123D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69033123T2 publication Critical patent/DE69033123T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
DE69033123T 1989-03-06 1990-03-03 Verfahren und Gerät zur Wahrnehmung einer Ausrichtungsmarke auf einer Halbleiter-Vorrichtung Expired - Fee Related DE69033123T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1052136A JPH02231708A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 半導体装置の位置合わせマーク検出方法及び装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69033123D1 DE69033123D1 (de) 1999-07-01
DE69033123T2 true DE69033123T2 (de) 1999-09-23

Family

ID=12906453

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69033123T Expired - Fee Related DE69033123T2 (de) 1989-03-06 1990-03-03 Verfahren und Gerät zur Wahrnehmung einer Ausrichtungsmarke auf einer Halbleiter-Vorrichtung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5004925A (de)
EP (1) EP0386666B1 (de)
JP (1) JPH02231708A (de)
KR (1) KR930010723B1 (de)
DE (1) DE69033123T2 (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0927529A (ja) * 1995-07-12 1997-01-28 Sony Corp 位置合わせ検出用半導体装置
JP3666951B2 (ja) * 1995-10-06 2005-06-29 キヤノン株式会社 マーク検出方法、これを用いた位置合わせ方法、露光方法及び装置、ならびにデバイス生産方法
US6576529B1 (en) * 1999-12-07 2003-06-10 Agere Systems Inc. Method of forming an alignment feature in or on a multilayered semiconductor structure
JP3958941B2 (ja) * 2000-04-28 2007-08-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ投影装置、基板の整合マークの位置を決定するための方法およびデバイス製造方法
CA2485989A1 (en) * 2002-05-17 2003-11-27 Esperion Therapeutics, Inc. Methods and compositions for the treatment of ischemic reperfusion
JP4777731B2 (ja) * 2005-03-31 2011-09-21 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置の製造方法
US10495982B2 (en) * 2013-10-28 2019-12-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and method for real-time overlay error reduction
US10121660B2 (en) * 2016-08-18 2018-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for fabricating semiconductor device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2146106B1 (de) * 1971-07-16 1977-08-05 Thomson Csf
US4008402A (en) * 1974-07-18 1977-02-15 Westinghouse Electric Corporation Method and apparatus for electron beam alignment with a member by detecting X-rays
JPS5481782A (en) * 1977-12-13 1979-06-29 Fujitsu Ltd Position mark detecting method of electron beam exposure unit
NL8100449A (nl) * 1981-01-30 1982-08-16 Philips Nv Elektronenmikroskoop met roentgendetektor.
GB2109538A (en) * 1981-11-02 1983-06-02 Philips Electronic Associated Electron beam alignment
JPS58207637A (ja) * 1982-05-28 1983-12-03 Sanyo Electric Co Ltd 電子ビ−ム露光における位置合せ方法
JPS59220922A (ja) * 1983-05-31 1984-12-12 Toshiba Corp 位置合わせ方法
JPS63269445A (ja) * 1987-04-28 1988-11-07 Canon Inc 電子ビーム発生素子
US4885472A (en) * 1988-03-14 1989-12-05 The Perkin-Elmer Corporation Silicon grid as a reference and calibration standard in a particle beam lithography system
US4871919A (en) * 1988-05-20 1989-10-03 International Business Machines Corporation Electron beam lithography alignment using electric field changes to achieve registration

Also Published As

Publication number Publication date
KR900015283A (ko) 1990-10-26
EP0386666A2 (de) 1990-09-12
US5004925A (en) 1991-04-02
EP0386666A3 (de) 1991-11-27
KR930010723B1 (ko) 1993-11-08
EP0386666B1 (de) 1999-05-26
DE69033123D1 (de) 1999-07-01
JPH02231708A (ja) 1990-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3772702D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur konfiguration eines messinstruments und konfigurierbares messinstrument.
DE69218800T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Querregistrierung auf Lichtempfangsbändern
DE69227464T2 (de) Vorrichtung und verfahren zum aufnehmen einer substanz
DE69226480T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Beleuchtung einer Probe
DE69526779D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Detektion einer angezeigten Position
DE3785475D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur passiven abstandsmessung.
DE68928192T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Positionsdetektion
DE69031642D1 (de) Verfahren und Gerät zur Verbesserung eines Multipliziersignals
DE69025985T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung einer Wetterbeständigkeitsprüfung
DE69223207D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung einer Verlagerung
DE68911255D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Detektieren einer Referenzposition einer rotierenden Skala.
DE69222382T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Lageabweichungen
DE69128697D1 (de) Verfahren und Gerät zur Prüfung von Verbindungen auf einer gedruckten Leiterplatte
DE69411778T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung einer Temperaturverteilung
DE69322213D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Kompensation von Positionierfehlern
DE69033123T2 (de) Verfahren und Gerät zur Wahrnehmung einer Ausrichtungsmarke auf einer Halbleiter-Vorrichtung
DE69225443T2 (de) Verfahren und Gerät zur Kalibrierung eines Mehrkanaldruckers
DE59008966D1 (de) Einrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Navigationsanlage.
DE3686803T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur ablesung eines bandmusters.
DE69214471D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Messen einer Probe
DE69207979D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Feststellung der Anwesenheit und der Grösse einer Vorlage
DE69109825D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion der Linienbreiten einer gedruckten Schaltung.
DE59209124D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Messen von Entfernungen
DE69114460T2 (de) Verfahren und Einrichtung zur Überwachung einer Probe.
DE68927600D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung einer Senkung

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee