DE602005015676D1 - Reaktor, Mikrochip und Mikroreaktorsystem sowie Verfahren zur Herstellung des Reaktors - Google Patents

Reaktor, Mikrochip und Mikroreaktorsystem sowie Verfahren zur Herstellung des Reaktors

Info

Publication number
DE602005015676D1
DE602005015676D1 DE602005015676T DE602005015676T DE602005015676D1 DE 602005015676 D1 DE602005015676 D1 DE 602005015676D1 DE 602005015676 T DE602005015676 T DE 602005015676T DE 602005015676 T DE602005015676 T DE 602005015676T DE 602005015676 D1 DE602005015676 D1 DE 602005015676D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
reactor
microchip
making
microreactor system
microreactor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE602005015676T
Other languages
English (en)
Inventor
Yoko Shinohara
Minao Yamamoto
Masataka Shinogi
Haruki Kato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Publication of DE602005015676D1 publication Critical patent/DE602005015676D1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/02Analysing fluids
    • G01N29/036Analysing fluids by measuring frequency or resonance of acoustic waves
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/025Change of phase or condition
    • G01N2291/0256Adsorption, desorption, surface mass change, e.g. on biosensors
DE602005015676T 2005-01-26 2005-12-22 Reaktor, Mikrochip und Mikroreaktorsystem sowie Verfahren zur Herstellung des Reaktors Active DE602005015676D1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005018352 2005-01-26
JP2005312290A JP4694945B2 (ja) 2005-01-26 2005-10-27 反応器、マイクロリアクタチップ、及びマイクロリアクタシステム、並びに反応器の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE602005015676D1 true DE602005015676D1 (de) 2009-09-10

Family

ID=36607258

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE602005015676T Active DE602005015676D1 (de) 2005-01-26 2005-12-22 Reaktor, Mikrochip und Mikroreaktorsystem sowie Verfahren zur Herstellung des Reaktors

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8828321B2 (de)
EP (1) EP1688735B1 (de)
JP (1) JP4694945B2 (de)
DE (1) DE602005015676D1 (de)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4760315B2 (ja) * 2005-11-09 2011-08-31 ウシオ電機株式会社 接合方法
JP5239149B2 (ja) * 2006-11-29 2013-07-17 凸版印刷株式会社 弾性表面波周回素子及び溶液中の物質測定装置
JP4942094B2 (ja) * 2007-01-12 2012-05-30 独立行政法人産業技術総合研究所 電極付きガラス製マイクロチップ基板の製造方法
JPWO2008090681A1 (ja) * 2007-01-22 2010-05-13 コニカミノルタエムジー株式会社 マイクロチップ検査装置及びポンプカートリッジ
US20080245740A1 (en) * 2007-01-29 2008-10-09 Searete Llc, A Limited Liability Corporation Of The State Of Delaware Fluidic methods
GB0708346D0 (en) * 2007-04-30 2007-06-06 Attana Ab Sensor
JP4966752B2 (ja) * 2007-06-06 2012-07-04 日本電信電話株式会社 流体測定基板、分析装置及び分析方法
JP5040019B2 (ja) * 2007-06-15 2012-10-03 セイコーインスツル株式会社 マイクロリアクター及びマイクロリアクターシステム
JP4972799B2 (ja) * 2007-06-15 2012-07-11 セイコーインスツル株式会社 マイクロリアクター及びマイクロリアクターシステム
JP5051638B2 (ja) * 2007-06-15 2012-10-17 セイコーインスツル株式会社 マイクロリアクター及びマイクロリアクターシステム
US7802466B2 (en) * 2007-11-28 2010-09-28 Sierra Sensors Gmbh Oscillating sensor and fluid sample analysis using an oscillating sensor
EP2215466A2 (de) * 2007-11-28 2010-08-11 Sierra Sensors Gmbh Sensorbefestigung auf der trockenen seite für eine sensorchip-konstruktion
KR100906144B1 (ko) * 2007-12-05 2009-07-07 한국전자통신연구원 검출 소자 및 검출 소자의 제조 방법
KR100918025B1 (ko) * 2007-12-05 2009-09-18 한국전자통신연구원 검출 소자
US9044774B2 (en) * 2007-12-18 2015-06-02 Intermolecular, Inc. Vented combinatorial processing cell
JP4722977B2 (ja) * 2008-08-27 2011-07-13 シャープ株式会社 検出器具、分析装置、検出方法および検出器具の制御方法
KR101657094B1 (ko) * 2009-06-18 2016-09-13 삼성전자주식회사 Saw 센서 디바이스 및 이를 이용한 유체 제어 방법
JP5516954B2 (ja) * 2010-01-19 2014-06-11 国立大学法人東京工業大学 微細構造を有する基板の接合方法および当該接合方法を利用したマイクロ流体デバイスの製造方法
KR20120120241A (ko) 2010-01-19 2012-11-01 고쿠리츠다이가쿠호진 토쿄고교 다이가꾸 경질 실리콘 수지의 접착 방법, 미세 구조를 갖는 기판의 접합 방법 및 해당 접합 방법을 이용한 마이크로 유체 디바이스의 제조 방법
JP5218443B2 (ja) 2010-02-10 2013-06-26 ソニー株式会社 マイクロチップ及びマイクロチップの製造方法
JP5708683B2 (ja) * 2013-02-26 2015-04-30 ソニー株式会社 マイクロチップ及びマイクロチップの製造方法
US10155244B2 (en) * 2013-09-16 2018-12-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Fluid deposition appartus and method
WO2017167575A1 (en) 2016-03-29 2017-10-05 Ge Healthcare Bio-Sciences Corp. Self-contained slide processing unit for biological specimens

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4735906A (en) * 1984-11-28 1988-04-05 Texas A&M University Sensor having piezoelectric crystal for microgravimetric immunoassays
JPS61292039A (ja) * 1985-06-19 1986-12-22 Inoue Japax Res Inc ガス吸着量判別装置
JPH0737940B2 (ja) * 1989-08-21 1995-04-26 工業技術院長 検出器
US5413955A (en) * 1993-12-21 1995-05-09 Delco Electronics Corporation Method of bonding silicon wafers at temperatures below 500 degrees centigrade for sensor applications
JPH10242795A (ja) * 1997-02-26 1998-09-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電素子とその製造方法
JPH1114525A (ja) * 1997-06-19 1999-01-22 Showa Crystal:Kk 圧電素子保持構造
EP1174183B1 (de) * 1998-08-13 2004-10-20 Symyx Technologies, Inc. Vorrichtung zur parallelen Behandlung von Reaktionsgemischen
EP1102559B1 (de) * 1998-09-30 2003-06-04 Cygnus, Inc. Verfahren und vorrichtung zum vorhersagen von physiologischen messwerten
JP2000338022A (ja) * 1999-05-25 2000-12-08 Hokuto Denko Kk マルチチャンネルqcmセンサデバイス及びマルチチャンネルqcm測定システム
SE0004547D0 (sv) * 2000-12-07 2000-12-07 Amersham Pharmacia Biotech Kk Chip quartz oscillator and sensor
JP2003114229A (ja) * 2001-10-03 2003-04-18 Mitsubishi Chemicals Corp マイクロチャネルチップ,マイクロチャネルチップを使用した測定装置及び測定方法
JP2003240695A (ja) * 2002-02-19 2003-08-27 Canon Inc 微量質量測定装置における反射拡散構造
JP4083452B2 (ja) * 2002-03-28 2008-04-30 旭化成株式会社 バルブ機構
JP2003307480A (ja) * 2002-04-17 2003-10-31 Canon Inc 微少質量測定装置、微少質量測定システムおよび電極取り出し方法
US6921603B2 (en) * 2002-04-24 2005-07-26 The Regents Of The University Of California Microfluidic fuel cell systems with embedded materials and structures and method thereof
JP2004074339A (ja) * 2002-08-15 2004-03-11 Fuji Electric Holdings Co Ltd マイクロチャンネルチップ
JP2004154898A (ja) * 2002-11-07 2004-06-03 Aida Eng Ltd マイクロチップの製造方法
JP2004245719A (ja) * 2003-02-14 2004-09-02 Seiko Epson Corp 質量測定方法および質量測定装置
JP4039284B2 (ja) * 2003-03-17 2008-01-30 セイコーエプソン株式会社 質量測定用圧電振動子の製造方法および質量測定用圧電振動子並びに質量測定装置
JP2005134372A (ja) * 2003-10-06 2005-05-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 被検物質測定装置
JP4602162B2 (ja) * 2004-06-15 2010-12-22 セイコーインスツル株式会社 マイクロチップシステム

Also Published As

Publication number Publication date
JP4694945B2 (ja) 2011-06-08
JP2006234791A (ja) 2006-09-07
EP1688735A3 (de) 2008-01-23
US20060169045A1 (en) 2006-08-03
EP1688735A2 (de) 2006-08-09
US8828321B2 (en) 2014-09-09
EP1688735B1 (de) 2009-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE602005015676D1 (de) Reaktor, Mikrochip und Mikroreaktorsystem sowie Verfahren zur Herstellung des Reaktors
ATE452883T1 (de) KRISTALLINE FORM VON 1-CHLOR-4-(ß-D-GLUCOPYRANOS- 1-YL)-2-Ä4-((S)-TETRAHYDROFURAN-3-YLOXY)- BENZYLÜBENZOL, VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG UND DESSEN VERWENDUNG ZUR HERSTELLUNG VON MEDIKAMENTEN
DE602006011469D1 (de) Verfahren zur herstellung und verwendung eines selektiven hydrierungkatalysators
DE60141983D1 (de) Verbundstützmittel, filtrationsmittel, kiespackungsmittel und sportplatzmittel sowie verfahren zur herstellung und verwendung derselben
DE602005010709D1 (de) Verfahren zur herstellung von pflanzenextrakten und heimtierfuttermitteln
DE602007007096D1 (de) Ultraschall-behandlungssystem und verfahren zur verwendung des systems
DE502005002059D1 (de) Verfahren zur herstellung von polyetheralkoholen
DE502006001806D1 (de) Steuerventil und Verfahren zur Herstellung desselben
AT500656A3 (de) Mehrteilige baugruppe, verfahren und schweissanlage zur herstellung der baugruppe
DE102005001078A8 (de) Glaspulver, insbesondere biologisch aktives Glaspulver und Verfahren zur Herstellung von Glaspulver, insbesondere biologisch aktivem Glaspulver
DE502006006498D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Organopolysiloxanen
DE502006000138D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Triorganosiloxygruppen aufweisenden Organopolysiloxanen
DE602005019686D1 (de) Faserbehandlungsflüssigkeit, modifiziertes tuch und verfahren zur herstellung davon
EP1997554A4 (de) Oxidations- bzw. ammoxidationskatalysator und verfahren zu seiner herstellung
DE602006010302D1 (de) Verfahren zur Herstellung von 5-methyl-2-furfural
DE112005003550A5 (de) Flüssige Bio-Brennstoffmischung sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung derselben
DE502006009351D1 (de) Feinteiliges azopigment und verfahren zu seiner herstellung
ATE488508T1 (de) Verfahren zur herstellung von irbesartan und zwischenprodukte davon
DE602006009562D1 (de) Verfahren zur herstellung von ferrisuccinylcasein
DE502006005961D1 (de) Endoskop und Verfahren zu seiner Herstellung
ATE406372T1 (de) Verfahren zur herstellung von 3-o-geschützten morphinonen und 3-o-geschützten morphinondienolcarboxylaten
DE102005032999A8 (de) Sensor und Verfahren zur Herstellung desselben
DE502006004187D1 (de) Verfahren zur herstellung von diorganopolysiloxanen
DE502006005862D1 (de) Filterlage für einen, insbesondere konischen, wabenkörper zur abgasbehandlung und verfahren zur herstellung der filterlage
EP1859826A4 (de) Kontrastmittel-entfernungssystem und verfahren zur aktivierung des kontrastmittel-entfernungssystems

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition