DE60111753T2 - Dickschicht-millimeterwellen-sende-empfängermodul - Google Patents
Dickschicht-millimeterwellen-sende-empfängermodul Download PDFInfo
- Publication number
- DE60111753T2 DE60111753T2 DE60111753T DE60111753T DE60111753T2 DE 60111753 T2 DE60111753 T2 DE 60111753T2 DE 60111753 T DE60111753 T DE 60111753T DE 60111753 T DE60111753 T DE 60111753T DE 60111753 T2 DE60111753 T2 DE 60111753T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- mmic
- layers
- thick
- carrier board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 5
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 61
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N copper tungsten Chemical compound [Cu].[W] SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 235000012773 waffles Nutrition 0.000 description 3
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N gold tin Chemical compound [Sn].[Au] JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 241001136792 Alle Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
- H01Q23/00—Antennas with active circuits or circuit elements integrated within them or attached to them
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
- H01L23/66—High-frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/043—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5383—Multilayer substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5389—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
- H01L25/165—Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29111—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/2919—Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/831—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
- H01L2224/83101—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8312—Aligning
- H01L2224/83136—Aligning involving guiding structures, e.g. spacers or supporting members
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01027—Cobalt [Co]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/06—Polymers
- H01L2924/0665—Epoxy resin
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1032—III-V
- H01L2924/10329—Gallium arsenide [GaAs]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
- H01L2924/141—Analog devices
- H01L2924/1423—Monolithic Microwave Integrated Circuit [MMIC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19041—Component type being a capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19043—Component type being a resistor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0237—High frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
- H05K1/162—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
- H05K1/167—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed resistors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0058—Laminating printed circuit boards onto other substrates, e.g. metallic substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
- H05K3/4629—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Transceivers (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Structure Of Receivers (AREA)
- Input Circuits Of Receivers And Coupling Of Receivers And Audio Equipment (AREA)
Description
- Gebiet der Erfindung
- Diese Erfindung betrifft monolithische integrierte Mikrowellenschaltkreise (MMIC), und insbesondere bezieht sich diese Erfindung auf die verbesserte Verpackung eines MMIC und Sende-Empfängermoduls.
- Hintergrund der Erfindung
- Die Chipverpackung für MMIC-Chips wird zunehmend relevant. MMIC-Funkfrequenzmodule wurden nie in hohen Mengen hergestellt, da die MMIC-Chips brüchig sind, typischerweise 0,0508 bis ungefähr 0,1016 mm [2 bis ungefähr 4 mil] dick, und schwer zu handhaben. Luftbrücken, die über der Oberfläche der Chips liegen, machen es schwer, die Chips von oben zu greifen und Druck auf die Chips auszuüben.
- Spezielle Greifwerkzeuge mit Ausrüstung zum Greifen an Ort und Stelle (Pick-In-Place) wurden verwendet, um die MMIC-Chips automatisch an Ort und Stelle zu greifen. Diese Werkzeuge sind teuer herzustellen und üblicherweise erfordern unterschiedliche MMIC-Chips unterschiedliche Werkzeuge. Dies stellte eine Herausforderung für verschiedene Herstellungsfirmen dar, da die meisten automatischen Maschinen zur Aufnahme an Ort und Stelle auf eine beschränkte Anzahl von Werkzeugen für MMIC-Chips beschränkt sind. In einigen Fällen muss ein Hersteller eine Reihe verschiedener Maschinen zur Aufnahme an Ort und Stelle verwenden, um ein Hochfrequenzmodul zusammenzubauen. Dies ist ineffizient.
- Diese MMIC-Hochfrequenzmodule werden auch in geringen Mengen hergestellt, weil es üblicherweise eine hohe Anzahl von MMIC-Chips, Substraten und Peri pheriebauteilen gibt, die in jedem Modul installiert sind. Zum Beispiel würde ein typischer Millimeterwellen-Sender-Empfänger ungefähr 10 bis ungefähr 15 MMIC-Chips, 15 bis 20 Stücke Substrat und ungefähr 50 bis 60 andere Peripheriebauteile besitzen, wie etwa Widerstände und Kondensatoren. Es gibt auch eine Anforderung, dass jede der Komponenten über Draht- oder Bandverbindungen verbunden wird. Dies hat auch eine Herausforderung für Millimeterwellen-Modulherstellerfirmen dargestellt.
- Was die zwei zitierten Dokumente, US-Patent Nr. 5,423,080 von Perret et al. und den Artikel mit dem Titel „Co-Fired Ceramic on Metal Multichip Modules for Advanced Military Packaging" von Prabhu et al., angeht, offenbaren diese Dokumente entweder ein unterschiedliches Substratmaterial oder die Verwendung von mehrschichtigen Platinen. Perret et al. lehren eine mehrschichtige Platine, die eine weiche Platine aus Polytetrafluoroethylen, einem Epoxidharzlaminat ist, das bis 15 GHz arbeitet, anstelle einer LTCC-Keramikplatine, um eine Leistung bei Millimeterwellenfrequenzen von bis zu 50 GHz zu erzielen. Perret et al. lehren Oberflächemontagetechnologie anstelle von bloßen integrierten Millimeterwellen-Schaltkreisen (MMIC-Chips). Perret et al. haben keine eingebetteten Kondensatoren oder Widerstände, wie in der vorliegenden Erfindung, in welcher alle passiven Elemente in einer Zwischenschicht der mehrschichtigen Platine eingebettet sind.
- Die vorliegende Erfindung widmet sich einem Missverhältnis von thermischen Expansionskoeffizienten, während Perret et al. es nicht tun.
- Prabhu et al. lehren die Verwendung einer allgemeinen LTCC-Technologie für eine Multichip-Modulverpackung, zeigen aber alle passiven Bauelemente, wie Widerstände und Kondensatoren als auf einer oberen Schicht der LTCC-Platine befestigt, verglichen mit der vorliegenden Erfindung, in welcher die passiven Bauelemente in einer Zwischenschicht der LTCC-Platine eingebettet sind, um die benötigte Platinenfläche zu reduzieren.
- Zusammenfassung der Erfindung
- Ein Dickschicht-Millimeterwellen-Sende-Empfängermodul umfasst eine Basisplatte. Eine mehrschichtige Substratplatine besitzt eine Vielzahl von Schichten von Niedrigtemperatur-Übertragungsband, die auf der Basisplatte aufgenommen werden. Die Schichten umfassen mindestens eine aus einer Gleichstrom-Signalschicht mit Signalspuren und -verbindungen, einer Masseschicht mit Masseverbindungen, einer Bauteil- oder Geräteschicht mit darin eingebetteten Kondensatoren und Widerständen und einer oberen Schicht mit Aussparungen zur Aufnahme von MMIC-Chips hierin. Eine vorgeformte Lötschicht liegt zwischen der Geräteschicht und der oberen Schicht zum Sichern jeglicher MMIC-Chips. Eine Kanalisierungsplatte wird über der mehrschichtigen Platine aufgenommen und besitzt Kanäle, die gebildet wurden, um MMIC-Chips aufzunehmen und Isolierung zwischen Übertragungs- und Empfangssignalen bereitzustellen.
- In noch einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung kann das Modul Isolations-Vias umfassen, welche sich durch mehrere Schichten hinunter zur Masseschicht erstrecken. Eine Funkfrequenzabdeckung wird über der Kanalisierungsplatte aufgenommen. Jede der Schichten innerhalb der mehrschichtigen Platine kann ungefähr 0,0508 bis ungefähr 0,1016 mm [2 bis ungefähr 4 mil] dick sein. Typischerweise sind die Schichten ungefähr 0,0762 mm [3 mil] dick, und die obere Schicht ist ungefähr 0,1016 mm [4 mil] dick. Die Basisplatte kann aus Kupfer-Wolfram oder einem anderen CTE-abgestimmten Material sein. Die Basisplatte ist ungefähr 0,254 [0,1] bis ungefähr 0,762 [0,3] cm [Zoll] dick. In noch einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist die Basisplatte ungefähr 0,3175 cm [0,125 Zoll] dick.
- Ein Verfahren wird auch offenbart und umfasst das Bilden eines Dickschicht-Millimeterwellenlängen-Sende-Empfängermoduls durch Bilden einer Basisplatte und Bilden einer mehrschichtigen Platine mit einer Vielzahl von Schichten von Niedrigtemperatur-Übertragungsband. Die Platine wird auf der Basisplatte emp fangen und umfasst eine von mindestens einer Gleichstrom-Signalschicht mit Signalspuren und -verbindungen; einer Masseschicht mit Masseverbindungen; eine Bauteil- oder Geräteschicht mit darin eingebetteten Kondensatoren und Widerständen; und eine obere Schicht mit Aussparungen zur Aufnahme von MMIC-Chips hierin. Der MMIC-Chip ist mit Lötzinn befestigt.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
- Weitere Aufgaben, Eigenschaften und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der detaillierten Beschreibung der Erfindung ersichtlich, die folgt, wenn im Licht der begleitenden Zeichnung betrachtet, in welcher:
-
1 eine isometrische Explosionsdarstellung einer Verpackung eines integrierten monolithischen Mikrowellen-Schaltkreises (MMIC) der vorliegenden Erfindung ist. -
2A eine ebene Ansicht der in1 gezeigten MMIC-Verpackung ist. -
2B eine Seitenansicht der in1 gezeigten MMIC-Verpackung ist. -
3 eine isometrische Explosionsdarstellung eines mehrschichtigen, Dickschicht-Millimeterwellen-Funkfrequenz-Sender-Empfängermoduls ist, und die Abdeckung, den Kanalisierungsabschnitt, den Mehrschicht-Dickschicht-Abschnitt und die Grundplatte zeigt. -
4 eine isometrische Explosionsdarstellung der verschiedenen Schichten des Dickschichtabschnitts ist. -
5 eine isometrische Explosionsdarstellung eines Sende-Empfängermoduls ist und die verschiedenen Verbindungen zeigt. - Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
- Die vorliegende Erfindung stellt eine verbesserte MMIC-Chip-Verpackung, wie in
2 ,2A und2B gezeigt, bereit. Die MMIC-Verpackung40 hat verschiedene Vorteile. - 1. Schutz der MMIC-Chips in Verpackungen mit abgestimmten Wärmeausdehnungskoeffizienten (CTE).
- 2. Verpackung von MMIC-Chips zu niedrigen Kosten.
- 3. Verbessertes automatisches Greifen und Platzierung, direkte Drahtverbindung und Bandverbindung, ohne Schaden an einem brüchigen MMIC zu verursachen.
- 4. Verbesserte Chip-Leistung (Isolierung) aufgrund von Miniaturverpackung.
- 5. Ein HF-Modul-Gehäuse, das aus einem Material mit niedrigen Kosten gebildet wird, wie etwa Aluminium.
-
2 stellt eine isometrische Explosionsdarstellung der Verpackung40 dar und zeigt den MMIC-Chip42 und eine Grundplatte44 , die im Hinblick auf ihren Wärmeausdehnungskoeffizienten (CTE) mit dem MMIC abgestimmt ist. Eine vorgeformte Lötschicht46 ist auf der Basisplatte44 enthalten, und der MMIC wird auf der vorgeformten Lötschicht46 montiert. Eine Chip-Abdeckung48 bedeckt den MMIC. Wie gezeigt, umfasst die Basisplatte gegenüberliegende Seitenschienen44a , die sich entlang eines Teils der gebildeten Kanten erstrecken, um die Endbereiche offenzulassen. Die Chip-Abdeckung48 umfasst gegenüberliegende und zwei beabstandete Überlappungsbeine48a . Die gegenüberliegenden Seitenschienen44a und Überlappungsbeine48a sind angeordnet, so dass, wenn die Chip-Abdeckung über dem MMIC-Chip42 angebracht wird, die vorgeformte Lötschicht46 und CTE-abgestimmte Basisplatte44 , die Seitenschienen und Überlappungsbeine die jeweilige Chip-Abdeckung und die Basisplatte in Eingriff nehmen, wie in2A und2B gezeigt, um offene Bereiche am oberen Ende und der Seite der Ecken zu bilden und jegliche Lötstellen50 auf dem MMIC offenzulassen, zur Draht- und Bandverbindung hiermit. - Die MMIC-Modul-Produktion kann ähnlich zur Oberflächenmontagetechnologie sein, durch Verpacken der MMIC-Chips, um die Handhabung der Chips zu erleichtern. Die Basisplatte
44 wird aus preiswertem Wärmeausdehnungskoeffizienten-(CTE)-abgestimmtem Material gebildet, wie etwa einer Kupfer-Wolfram-Legierung, CuW, oder einer Aluminium-Silicium-Legierung, ALSi, mit einer Dicke von ungefähr 0,254 bis 0,3809 mm [10 bis 15 mil]. Die Abdeckung48 kann aus einem einer Vielzahl von Materialtypen einschließlich Kunststoff gefertigt sein. Eine vorgeformte Lötschicht von [1 bis 2 mil] (wie etwa Goldzinn) wird auf einer Basisplatte44 aufgenommen. Die Abdeckung48 ist in einer Weise geformt, dass sie nicht die Eingangs- und Ausgangslötstellen und die Gleichstromlötstellen (Gate und Drain) bedeckt. - Die Basisplatte
44 , die Abdeckung48 , die vorgeformte Lötschicht46 und die MMIC-Chips42 werden in „Waffel"-Verpackungen oder ähnlichen Verpackungen geliefert. Diese Verpackungen werden auf einer automatischen Bestückungsmaschine (P&P) platziert, wie dem Fachmann bekannt ist. Die P&P-Maschine wird programmiert, die Basisplatte aufzunehmen und sie in einer „Waffel"-Verpackung" abzulegen, welche bei einer hohen Temperatur zum eutektischen Löten (wie etwa Graphit) benutzt werden kann, unter Verwendung von Temperaturbereichen, welche den Fachleuten bekannt sind. Die P&P-Maschine nimmt die vorgeformte Lötschicht46 auf und platziert sie in der Basisplatte44 . Der MMIC-Chip wird auf der vorgeformten Lötschicht46 platziert. Die Abdeckung wird über der Oberseite des Chips42 platziert. Dieses Verfahren wird für jeden MMIC-Chip wiederholt. - Es wird geschätzt, dass die gesamte P&P pro Chip-Verpackung ungefähr 10 Sekunden benötigt. Die Anzahl von Chips, die an einem Tag verpackt werden können, unter Verwendung einer einzelnen P&P-Maschine, ist weit über 8000. Die gesamte „Waffel"-Paket wird mit der Verpackungsanordnung, einschließlich den MMIC-Chips, in einem eutektischen Lötofen platziert, um den Lötzinn zu verflüs sigen und den Chip auf der Basisplatte zu befestigen und die Abdeckung auf der Basisplatte zu befestigen.
-
3 bis5 stellen ein verbessertes Funkfrequenz-Sende-Empfängermodul unter Verwendung von Dickschicht-Technologie dar, wie etwa die bei niedriger Temperatur gemeinsam gebrannte Keramiktechnologie, die als Grünband (green tape) bekannt ist. Insbesondere stellt4 eine Mehrschicht-Platine50 dar, mit unterschiedlichen Schichten von auf Niedrigtemperatur-Übertragungsband-Technologien (LTTT) basierenden Lagen, einschließlich einer Gleichstrom-Signalschicht52 , Masseschicht54 , einer Schicht56 mit eingebetteten Kondensatoren und Widerständen, einer vorgeformten Lötschicht58 und einer oberen Schicht60 . -
3 stellt dar, wie die unterschiedlichen Schichten in4 kombiniert werden, um eine mehrschichtige Dickschichtplatine50 zu bilden, die auf einer Basisplatte62 mit einer Kanalisierungsplatte64 und einer Funkfrequenz-Abdeckung66 aufgenommen wird. Isolations-Vias67 werden gezeigt und dargestellt. Diese Vias können sich über mehrere Schichten hinunter zur Masseschicht erstrecken. Sie können durch Techniken gebildet werden, welche den Fachleuten bekannt sind. -
5 zeigt ein MMIC-Sende-Empfängermodul70 , bei welchem die Wellenführungs-Schnittstelle72 in die Kanalisierungsplatte64 eingebaut ist und welches die Zwischenfrequenzausgänge74 , den lokalen Oszillatoreingang76 , Zwischenfrequenzeingänge78 , verschiedene Gleichstrom-Pins80 , Modul-Konnektoren82 und externe Konnektoren84 auf einem CCA zeigt. - Die vorliegende Erfindung verbessert den MMIC-Modul-Herstellungsprozess durch Verwendung einer preisgünstigen Mehrschicht-Übertragungsband-Dickschichtplatine
50 zur Befestigung der MMIC-Chips86 und durch Einbettung aller Peripheriebauteile und elektrischen Verbindungen in die mehrschichtige Dickschicht. Die vorliegende Erfindung bietet verschiedene Vorteile. - 1. Eine neue Verwendung von Niedrigtemperatur-Transferband-Technologie-(LTTT)-Mehrschicht-Platinen für MMW-Modulentwurf und -herstellung.
- 2. Vereinfachung der MMIC-Modulherstellung durch Reduzieren der Teileanzahl um einen Faktor von 5.
- 3. Reduzieren der Anzahl peripherer Komponenten durch Einbetten aller Widerstände und Kondensatoren in eine Mehrschicht-Dickschicht-Platine.
- 4. Einbetten elektrischer Verbindungen in die Mehrschicht-Platine, wodurch die Anzahl von Draht- und Bandverbindungen reduziert wird.
- 5. Verwendung einer ebenen Modulkonfiguration zur Einfachheit der Herstellung, dann Befestigen der HF-Kanalisierung nach Zusammenbau der Plättchen bzw. Dies.
- 6. Verbessern der HF-Isolierung durch Kanalisierung, Abteilungsbildung und Masse-Vias.
- 7. Reduzieren der Gehäusekosten durch Verwendung des Draht-EDM-Verfahrens zur Kanalisierung, anstelle maschineller Bearbeitung.
- 8. Direkte Befestigung der SMA- und K-Konnektoren direkt auf der Mehrschicht-Platine.
- Die Herstellung von MMIC-Modulen wird ähnlich zur Oberflächenmontagetechnologie durchgeführt durch Verpacken der MMIC-Module, um vollständige Automatisierung des Herstellungsprozesses zu erlauben. Wie in
3 gezeigt, wird das Modul aus der Basisplatte62 , mehrschichtigem Aluminiumsubstrat50 , welches aus den Schichten gebildet wird, einer Kanalisierungsplatte64 und einer Bedeckung66 gebildet. - Die Basisplatte
62 ist eine goldbeschichtete flache Lage von preisgünstigem CTE-abgestimmtem Material, wie etwa Kupfer-Wolfram (CuW), ungefähr 3,175 mm [1/8 Zoll] dick, in einem Aspekt der Erfindung. Die Platte wird nur auf Größe zugeschnitten und erfordert keine maschinelle Bearbeitung. - Die Mehrschicht-Platine
50 wird unter Verwendung von Niedrigtemperatur-Transferband-(LTTT)-Technologie hergestellt, wie ähnlich zur Grünbandtechnologie, wie dem Fachmann wohl bekannt ist, ähnlich zu bei niedriger Temperatur gemeinsam gebrannten keramischen (LTCC)-Lagen. Die LTTT-Verarbeitung folgt eng den Schritten, die in der wohletablierten Mehrschicht-Dickschicht-Verarbeitung verwendet werden, wie dem Fachmann bekannt ist. Das mehrfache dielektrische Bedrucken pro Schicht wird durch einen Band-Laminierungsschritt ersetzt. Sowohl Gold- als auch Silberleitersysteme können mit LTTT benutzt werden. Verbindungen und Vias werden durch Techniken gebildet, die dem Fachmann bekannt sind. - Obwohl der LTTT-Prozess zur Bildung von Mehrschichtstrukturen auf eine Vielzahl von dielektrischen Materialien und Substrate angewandt werden kann, ist das für diesen dargestellten Aspekt der vorliegenden Erfindung ausgewählte Material ein Standard-96%-Aluminiumsubstrat. Die besonders formulierten Leitermaterialien werden auf das Aluminiumsubstrat gedruckt (screen printed), unter Verwendung von Standard-Dickschicht-Ausrüstungs- und Verarbeitungstechniken, die zur Bildung leitender Verbindungen und Zwischenschicht-Vias entwickelt wurden. Die Bandlagen werden auf dem Substrat befestigt unter Verwendung einer Kombination von Wärme und Druck.
-
4 zeigt ein Beispiel des Typs von Schichten, welche zur Bildung von Aluminiumplatten verwendet werden können. Die Anzahl von Schichten kann bis zu 12 betragen. Die Schichten könnten auf einem Basissubstrat (S) gebildet werden, wie dargestellt, von dem dem Fachmann bekannten Typ. Jede Schicht ist ungefähr 0,0508 bis ungefähr 0,1016 mm [ungefähr 2 bis ungefähr 4 mil] dick und typischerweise 0,0762 mm [3 mil] dick und kann verwendet werden, um niedrigfrequente HF-Signale zu tragen, Gleichstrom-Signale, Masse, oder eingebettete passive Bauteile, wie etwa Kondensatoren und Widerstände. - Verbindungs- oder Masse-Vias können über eine oder mehrere Schichten von LTTT-Schichten implementiert werden.
- Dieses mehrschichtige LTTT-Aluminiumsubstrat ist besonders attraktiv zur Verwendung mit Galliumarsenid-Chips (GaAs) wegen seines CTE-Koeffizienten (7,1). Auch besitzt dieses Material exzellente thermische Leitung (25–200 W/MK). Die MMIC-GaAs-Chips können direkt an dem Substrat unter Verwendung von Pre-form-Loten aus Goldzinn oder Silberepoxid befestigt werden. Bei thermischen Bedenken können die Chips direkt auf der Basisplatte unter Verwendung von CTE-abgestimmten Unterlegscheiben befestigt werden oder auf thermischen Vias, die mit der unteren Fläche verbunden sind. Diese Vias können durch Techniken gebildet werden, welche dem Fachmann bekannt sind. Zur Erleichterung des Zusammenbaus und der Drahtverbindung wird die obere Schicht (0,0762 bis 0,1016 mm dick) Aussparungen besitzen, die exakt der Größe der Chips entsprechen (siehe
5 ). - Die mehrschichtige Platine kostet im Durchschnitt ungefähr $ 0,23 [$ 1,5] bis $ 0,9 [$ 2,5] pro Schicht pro Quadratzentimeter [Quadratzoll]. Bis zu 43 [275] Vias pro Quadratzentimeter [Quadratzoll] sind möglich.
- Die Kanalisierungsplatte
64 ist in einem Aspekt der vorliegenden Erfindung aus goldbeschichtetem Aluminium gebildet, obwohl andere Materialien verwendet werden können. Die Kanäle64a werden unter Verwendung von Draht-EDM-Verfahren ausgeschnitten. Die Kanäle64a werden erzeugt, um die Isolation bereitzustellen, die zwischen den Übertragungs- und Empfangssignalen benötigt wird, und um Signale niederer Frequenz abzuschneiden. Die HF-Abdeckung wird auch aus goldbeschichtetem Aluminium gemacht. -
5 stellt ein MMW-Sende-Empfängermodul dar, einschließlich des oberflächenmontierten Schaltkreiskartenaufbaus (CCA), das benutzt wird, um die Regler-Controller-Funktion bereitzustellen. Die SMA-Konnektoren werden direkt auf der mehrschichtigen Platine befestigt. Der HF-Schnittstellen-Hohlleiter wird als Teil der Kanalisierungsplatte bereitgestellt. - Das in
5 gezeigte Modul kann durch die folgende Technik als ein nicht-beschränkendes Beispiel zusammengebaut werden. - 1. Bestücke das mehrschichtige Aluminiumsubstrat mit allen MMIC-Chips. Das Substrat sollte alle Niedrigfrequenz-Signalanschlüsse, Gleichstromanschlüsse, Masseanschlüsse, bereits in den Schichten eingebettete passiven Bauteile und die vorgeformte Lötschicht besitzen.
- 2. Bestücke mit dem Gleichstrom-Konnektor und den Niedrigfrequenz-SMA-Konnektoren, welche für IF- und LO-Signale verwendet werden.
- 3. Verflüssige den Lötzinn in einem Vakuumofen, um den MMIC-Chip und die Konnektoren auf der Platine zu befestigen. Silberepoxid kann anstelle des Lötzinns benutzt werden.
- 4. Verdrahte/Klemmverbinde die MMIC-Chips auf der Platine.
- 5. Befestige die Platine an der Basisplatte und der Kanalisierungsplatte mit Epoxidharz.
- 6. Installiere die HF-Abdeckung.
- 7. Installiere den oberflächenmontierten Regler-/Controller-CCA.
- Diese Anmeldung ist verwandt mit gleichfalls anhängigen Anmeldungen betitelt „MICROWAVE MONOLITHIC INTEGRATED CIRCUIT PACKAGE", und „SELF-TUNED MILLIMETER WAVE RF TRANSCEIVER MODULE", die zum gleichen Datum eingereicht wurden und durch dieselben Anmelder und Erfinder.
- Viele Modifikationen und weitere Ausführungsformen der Erfindung werden dem Fachmann in den Sinn kommen, welcher den Vorteil der in der vorhergehenden Beschreibung und den zugehörigen Zeichnungen dargestellten Lehren besitzt. Daher versteht sich, dass die Erfindung nicht auf die spezifischen Ausführungs formen zu beschränken ist, die offenbart wurden, und dass die Modifikation und Ausführungsformen in den Schutzbereich der abhängigen Ansprüche eingeschlossen sein sollen.
Claims (7)
- Mehrschichtige Dickschicht-Trägerplatine zur Verwendung in Sende-Empfangsmodulen, gekennzeichnet durch: eine Vielzahl von gemeinsam bei niedriger Temperatur gebrannten Keramikschichten, wobei diese Schichten umfassen: eine Gleichstrom-Signalschicht (
52 ) mit Gleichstrom-Signalspuren und -verbindungen; eine Masseschicht (54 ) mit Masseanschlüssen; eine Bauteil-Schicht (56 ); eine obere Schicht (60 ), die MMIC-Chips (86 ) aufnimmt; und eine vorgeformte Lötschicht (58 ), die zwischen der Bauteil-Schicht (56 ) und der oberen Schicht (60 ) liegt, zur Befestigung von MMIC-Chips (86 ), die in die obere Schicht (60 ) aufgenommen wurden, dadurch gekennzeichnet, dass die Bauteil-Schicht (56 ) eingebettete Kondensatoren und Widerstände aufweist. - Mehrschichtige Dickschicht-Trägerplatine nach Anspruch 1, ferner Isolierungs-Vias (
67 ) umfassend, die sich über mehrere Schichten hinunter zur Masseschicht (54 ) erstrecken. - Trägerplatine nach Anspruch 1, in welcher jede der Schichten in der mehrschichtigen Trägerplatine (
50 ) ungefähr 0,0254 bis ungefähr 0,1016 mm dick ist. - Trägerplatine nach Anspruch 3, in welcher die Schichten ungefähr 0,0762 mm dick sind.
- Trägerplatine nach Anspruch 1, in welcher die obere Schicht (
60 ) ungefähr 0,1016 mm dick ist. - Trägerplatine nach Anspruch 1, in welcher die Basisplatte (
62 ) aus einem CTE-abgestimmten Material gebildet wird. - Verfahren zur Bildung eines Dickschicht-Millimeterwellen-Sende-Empfangsmoduls (
70 ), aufweisend die Schritte: Bilden einer Basisplatte (62 ), Bilden einer mehrschichtigen Trägerplatine (50 ) mit einer Vielzahl von Schichten von gemeinsam bei niedriger Temperatur gebranntem keramischem Material; Aufnehmen der Trägerplatine auf der Basisplatte (62 ), wobei die Trägerplatine mindestens eine von einer Gleichstrom-Signalschicht (52 ) mit Signalspuren und -verbindungen; einer Masseschicht (54 ) mit Masseanschlüssen; einer Bauteil-Schicht (56 ), dadurch gekennzeichnet, dass sie eingebettete Kondensatoren und Widerstände besitzt; einer oberen Schicht (60 ) mit Ausschnitten zur Aufnahme von MMIC-Chips (86 ) umfasst; und Befestigen des MMIC-Chips durch Löten.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23192600P | 2000-09-11 | 2000-09-11 | |
US231926P | 2000-09-11 | ||
US863030 | 2001-05-22 | ||
US09/863,030 US6759743B2 (en) | 2000-09-11 | 2001-05-22 | Thick film millimeter wave transceiver module |
PCT/US2001/026965 WO2002023674A2 (en) | 2000-09-11 | 2001-08-29 | Thick film millimeter wave transceiver module |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60111753D1 DE60111753D1 (de) | 2005-08-04 |
DE60111753T2 true DE60111753T2 (de) | 2005-12-15 |
Family
ID=26925545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60111753T Expired - Fee Related DE60111753T2 (de) | 2000-09-11 | 2001-08-29 | Dickschicht-millimeterwellen-sende-empfängermodul |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6759743B2 (de) |
EP (1) | EP1317801B1 (de) |
JP (1) | JP2004509537A (de) |
KR (1) | KR20030032019A (de) |
CN (1) | CN1223097C (de) |
AU (1) | AU2001285347A1 (de) |
DE (1) | DE60111753T2 (de) |
WO (1) | WO2002023674A2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007004815A1 (de) * | 2007-01-31 | 2007-11-22 | Siemens Ag | Manipulationsgeschütztes Funkgerät |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6627992B2 (en) * | 2001-05-21 | 2003-09-30 | Xytrans, Inc. | Millimeter wave (MMW) transceiver module with transmitter, receiver and local oscillator frequency multiplier surface mounted chip set |
US6788171B2 (en) | 2002-03-05 | 2004-09-07 | Xytrans, Inc. | Millimeter wave (MMW) radio frequency transceiver module and method of forming same |
US7076201B2 (en) * | 2002-09-05 | 2006-07-11 | Xytrans, Inc. | Low cost VSAT MMIC transceiver with automatic power control |
US7042307B2 (en) * | 2003-09-10 | 2006-05-09 | Merrimac Industries, Inc. | Coupler resource module |
CN100407587C (zh) * | 2003-09-27 | 2008-07-30 | 中兴通讯股份有限公司 | 一种毫米波接收模块 |
JP4087803B2 (ja) * | 2004-02-10 | 2008-05-21 | 三菱電機株式会社 | ミリ波送受信モジュールおよびバイアス調整方法 |
US7248129B2 (en) | 2004-05-19 | 2007-07-24 | Xytrans, Inc. | Microstrip directional coupler |
JP4134004B2 (ja) * | 2004-11-15 | 2008-08-13 | Tdk株式会社 | 高周波モジュール |
US20060160500A1 (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Xytrans, Inc. | VSAT block up converter (BUC) chip |
KR100751065B1 (ko) * | 2005-12-07 | 2007-08-22 | 한국전자통신연구원 | Rf 송수신 모듈 및 이를 이용한 밀리미터파 fmcw레이더 센서 |
JP4466552B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2010-05-26 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
US7492313B1 (en) * | 2006-10-31 | 2009-02-17 | Lockheed Martin Corporation | Digital processing radar system |
US8345716B1 (en) | 2007-06-26 | 2013-01-01 | Lockheed Martin Corporation | Polarization diverse antenna array arrangement |
JP4755657B2 (ja) * | 2008-01-18 | 2011-08-24 | 三菱電機株式会社 | ミリ波送受信モジュール |
US8872333B2 (en) | 2008-02-14 | 2014-10-28 | Viasat, Inc. | System and method for integrated waveguide packaging |
US8072065B2 (en) * | 2008-02-14 | 2011-12-06 | Viasat, Inc. | System and method for integrated waveguide packaging |
JP2009180737A (ja) * | 2009-04-17 | 2009-08-13 | Mitsubishi Electric Corp | ミリ波送受信モジュール |
KR100941694B1 (ko) * | 2009-08-28 | 2010-02-12 | 삼성탈레스 주식회사 | 송수신 모듈용 회로 기판 |
US20110250861A1 (en) * | 2010-04-08 | 2011-10-13 | Viasat, Inc. | Highly integrated, high frequency, high power operation mmic |
US8592960B2 (en) | 2010-08-31 | 2013-11-26 | Viasat, Inc. | Leadframe package with integrated partial waveguide interface |
US8854255B1 (en) | 2011-03-28 | 2014-10-07 | Lockheed Martin Corporation | Ground moving target indicating radar |
CN102332414A (zh) * | 2011-09-01 | 2012-01-25 | 安徽四创电子股份有限公司 | 一种薄膜限幅低噪声放大器小型化方法和工艺 |
US20140306111A1 (en) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | Telekom Malaysia Berhad | Low Temperature Co-Fired Ceramic System on Package for Millimeter Wave Optical Receiver and Method of Fabrication |
KR101434114B1 (ko) * | 2013-09-27 | 2014-08-26 | 주식회사 에이스테크놀로지 | 송수신 회로 모듈 |
EP2887776A1 (de) * | 2013-12-18 | 2015-06-24 | Advanced Digital Broadcast S.A. | Leiterplatte mit HF-Signalwegen |
FR3026529B1 (fr) * | 2014-09-30 | 2017-12-29 | Linxens Holding | Procede de fabrication de carte a puce et carte a puce obtenue par ce procede. |
CN104968141B (zh) * | 2015-06-16 | 2017-08-25 | 安徽四创电子股份有限公司 | 一种多层微波数字复合基板及其压制方法 |
FR3038121B1 (fr) * | 2015-06-25 | 2017-08-18 | Thales Sa | Transformateur ameliore pour un circuit en technologie mmic |
US10977540B2 (en) | 2016-07-27 | 2021-04-13 | Composecure, Llc | RFID device |
US10762412B2 (en) | 2018-01-30 | 2020-09-01 | Composecure, Llc | DI capacitive embedded metal card |
AU2018330181B2 (en) * | 2017-09-07 | 2022-03-31 | Composecure, Llc | Transaction card with embedded electronic components and process for manufacture |
US11151437B2 (en) | 2017-09-07 | 2021-10-19 | Composecure, Llc | Metal, ceramic, or ceramic-coated transaction card with window or window pattern and optional backlighting |
PT3698280T (pt) | 2017-10-18 | 2022-10-26 | Composecure Llc | Cartão de transação de metal, cerâmica ou revestido a cerâmica com janela ou padrão de janela e opcionalmente retroiluminação |
CN115734464B (zh) * | 2023-01-06 | 2023-05-05 | 四川斯艾普电子科技有限公司 | 一种厚薄膜电路基板tr组件及其封装方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US586085A (en) * | 1897-07-06 | Gas-burner | ||
US4453142A (en) * | 1981-11-02 | 1984-06-05 | Motorola Inc. | Microstrip to waveguide transition |
US5049978A (en) * | 1990-09-10 | 1991-09-17 | General Electric Company | Conductively enclosed hybrid integrated circuit assembly using a silicon substrate |
FR2674078B1 (fr) * | 1991-03-12 | 1994-10-07 | Thomson Trt Defense | Emetteur-recepteur hyperfrequence utilisant la technique des circuits imprimes multicouches. |
US5239685A (en) * | 1991-10-08 | 1993-08-24 | Qualcomm Incorporated | Process for fabricating a MMIC hybrid device and a transceiver fabricated thereby |
US5254941A (en) * | 1991-10-29 | 1993-10-19 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Structure and method for determining isolation of integrated circuit |
US5249355A (en) * | 1991-10-31 | 1993-10-05 | Hughes Aircraft Company | Method of fabricating a multilayer electrical circuit structure |
US5319329A (en) * | 1992-08-21 | 1994-06-07 | Trw Inc. | Miniature, high performance MMIC compatible filter |
US5545924A (en) * | 1993-08-05 | 1996-08-13 | Honeywell Inc. | Three dimensional package for monolithic microwave/millimeterwave integrated circuits |
US5406122A (en) * | 1993-10-27 | 1995-04-11 | Hughes Aircraft Company | Microelectronic circuit structure including conductor bridges encapsulated in inorganic dielectric passivation layer |
US5451818A (en) * | 1994-03-18 | 1995-09-19 | Trw Inc. | Millimeter wave ceramic package |
JPH09134981A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-20 | Fujitsu Ltd | マイクロ波・ミリ波帯の機能モジュールパッケージ |
US6175287B1 (en) * | 1997-05-28 | 2001-01-16 | Raytheon Company | Direct backside interconnect for multiple chip assemblies |
US5982250A (en) * | 1997-11-26 | 1999-11-09 | Twr Inc. | Millimeter-wave LTCC package |
JP3013831B2 (ja) * | 1998-01-26 | 2000-02-28 | 日本電気株式会社 | Mmicパッケージ |
US6114986A (en) * | 1998-03-04 | 2000-09-05 | Northrop Grumman Corporation | Dual channel microwave transmit/receive module for an active aperture of a radar system |
US6178097B1 (en) * | 1999-01-22 | 2001-01-23 | Dial Tool Industries, Inc. | RF shield having removable cover |
US6426686B1 (en) * | 1999-06-16 | 2002-07-30 | Microsubstrates Corporation | Microwave circuit packages having a reduced number of vias in the substrate |
US6501415B1 (en) * | 2000-08-16 | 2002-12-31 | Raytheon Company | Highly integrated single substrate MMW multi-beam sensor |
US20020176485A1 (en) * | 2001-04-03 | 2002-11-28 | Hudson John E. | Multi-cast communication system and method of estimating channel impulse responses therein |
-
2001
- 2001-05-22 US US09/863,030 patent/US6759743B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-29 AU AU2001285347A patent/AU2001285347A1/en not_active Abandoned
- 2001-08-29 DE DE60111753T patent/DE60111753T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-29 CN CNB018154190A patent/CN1223097C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-29 WO PCT/US2001/026965 patent/WO2002023674A2/en active IP Right Grant
- 2001-08-29 EP EP01964502A patent/EP1317801B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-29 JP JP2002527612A patent/JP2004509537A/ja active Pending
- 2001-08-29 KR KR10-2003-7003510A patent/KR20030032019A/ko not_active Application Discontinuation
-
2004
- 2004-05-20 US US10/850,224 patent/US7005740B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007004815A1 (de) * | 2007-01-31 | 2007-11-22 | Siemens Ag | Manipulationsgeschütztes Funkgerät |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002023674A3 (en) | 2002-08-22 |
US6759743B2 (en) | 2004-07-06 |
KR20030032019A (ko) | 2003-04-23 |
CN1468467A (zh) | 2004-01-14 |
WO2002023674A2 (en) | 2002-03-21 |
EP1317801A2 (de) | 2003-06-11 |
US20020030250A1 (en) | 2002-03-14 |
CN1223097C (zh) | 2005-10-12 |
US7005740B2 (en) | 2006-02-28 |
AU2001285347A1 (en) | 2002-03-26 |
US20040212084A1 (en) | 2004-10-28 |
DE60111753D1 (de) | 2005-08-04 |
EP1317801B1 (de) | 2005-06-29 |
JP2004509537A (ja) | 2004-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60111753T2 (de) | Dickschicht-millimeterwellen-sende-empfängermodul | |
DE60026978T2 (de) | Mehrchipgehäuse mit integrierten rf-fähigkeiten | |
DE60218101T2 (de) | Hochfrequenzschaltungsmodul | |
DE68910512T2 (de) | Bei niedriger temperatur zusammengebrannte keramische packungen für integrierte mikrowellen- und millimeterwellen-galliumarsenid-schaltungen. | |
DE69632003T2 (de) | Starre-flexible Leiterplatte mit einer Öffnung für einen isolierten Montierungsbereich | |
US6627992B2 (en) | Millimeter wave (MMW) transceiver module with transmitter, receiver and local oscillator frequency multiplier surface mounted chip set | |
DE69935628T2 (de) | Hybridmodul | |
DE69605286T2 (de) | Organischer chipträger für chips des drahtbondtpys | |
EP1652232B1 (de) | Multichip-Schaltungsmodul und Verfahren zur Herstellung hierzu | |
DE69729673T2 (de) | Chipträger und Halbleiteranordnung mit diesem Chipträger | |
DE102010038246B4 (de) | Oberflächenmontierbares drahtloses Package mit offenem Hohlraum für Hochleistungs-HF-Anwendungen, Verfahren zum Herstellen eines HF Halbleiterpackage und einer HF Halbleiterpackagebaugruppe | |
DE69321052T2 (de) | Oberflächenmontierte Hybrid-Mikroschaltung | |
DE69325749T2 (de) | Gestapelte Mehrchip-Module und Verfahren zur Herstellung | |
DE69433736T2 (de) | Mehrchipmodul | |
DE69232912T2 (de) | Halbleitergehäuse | |
DE69325232T2 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE602004003191T2 (de) | Mehrschichtige Hochfrequenzvorrichtung mit Planarantenne und Herstellungsverfahren | |
DE10118742B4 (de) | Mikrowellen-Millimeterwellen-Modul mit integrierter Antenne | |
EP0920055A2 (de) | Kühlvorrichtung für ein auf einer Leiterplatte angeordnetes, wärmeerzeugendes Bauelement | |
DE4305793A1 (de) | Leistungsmodul | |
DE60131643T2 (de) | Leiterplatte und entsprechendes Herstellungsverfahren zur Installation von Mikrowellenchips bis zu 80 Ghz | |
DE69915903T2 (de) | Gehäuse für Halbleiterbauelemente und Halbleitermodul, das das Gehäuse verwendet | |
DE19935804A1 (de) | Millimeterwellen-Modul | |
EP0881866B1 (de) | Steuergerät | |
DE10329329B4 (de) | Hochfrequenz-Gehäuse und Verfahren zu seiner Herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |