DE486644C - Photomechanische Trockenplatte fuer Rasteraufnahmen - Google Patents

Description

• Photomechanische Trockenplatte- für Rasteraufnahmen Es ist bekannt, daß die bisher vorwiegenct für mittels Raster verwendeten Bromsilber-Collodium. Emulsionsplatten wesenrtlche Nachtseile aufweisen, die in der Empfmdlichkeät gegen Witterungs- und Temperatureinflüsse und in der Schwierigkeit der Verarbeitung und des Aufgiießens der Emulsion liegen.. Es ist weiter bekannte, daß für Rasteraufnahmen photomechanische Trockenplatten mit normaler, dicker Schicht nicht verwendbar sind,. weil der einzelne Rasterpunkt nicht scharf genug wird und ein blei- oder kupferhaltiger Verstärker bis in die Tiefe eindringt und sich nicht ohne großen Zeitverlust, also ungewöhnlich langes Wässern, wieder entfernen läßt. Von photomechanischen: Trockenplatten sind daher nur solche brauchbar, die eine sehr dünne, Nichtempfindliche Sehsicht aufweisen. Die fabrikmäßige und völlig gleichmäßige Herstellung solcher Platten trifft aber auf nahezu unüberwindliche Schwierigkeiten.
• Gegenstand der Erfindung isst nun eine photarrnechaniGche Trockenplatte für ein- oder mehrfarbige Rasteraufnahmen, die die Vort ei ite der Msheriigen nassen Collodium-Ernulsi#onsplatte und der bester, bisher verwandten photomechanischen Trockenplatte unter Beseitigung der Nachteile beider miteinander verbindet. Die neue Trockenpliatte ist so ausgebildet, daß sie, trotzdem sie eine lichtempfindliche Schicht normaler und leicht herzustellender Dicke ,aufweist, dennoch von dem Entwickler, Verstärker usw. nur an einer dünnen Oberflächenschicht durchdrungen wird. Dies wird dadurch .erreicht, daß die Emu1-si,ons-Gelatineschi.cht eine von ihrer Oberfläche bis zum Grunde allmählich zunehmende Härte aufweist. Die Platte hat also die Eigenschaften einer solchen mit sehr dünner, lichtempfindlicher Schicht,: ,ohne aber deren Herstellungsschwierigkeiten mit sich zu bringen..
• Die Herstellung solcher Trockenplatten geschieht in an sich bekannter Weise durch auf einanderfolgendes Aufgießen einer gehärteten Gelatineschicht und einer Emul.sions-Gelatineschicht auf den Schichtträger. Die gehärtete Gelatineschicht pflegt bekanntlich deshalb verwendet zu werden, um zwischen dem Schichtträger und der Emulsion,s,-Galatineschicht eine beide verbindende. Zwischenschicht zu schaffen. Die Härtung der Gelatineschicht .erfolgt, -damit sie sich beim späteren Aufgießen. der warmen Emulsionsschicht nicht wieder löst. Das Neue besteht nun darin, daß die Härtwag der zuerst gegossenen Gelatineschicht mit einem Dampf entwickelnden, an sich bekannten Härtemittel, wie Formalin, erfolgt, dessen Dämpfe vom Grunde her in die zu. zweit aufgegossene Emulsionsschickt eindringen: und diese so härten, daß ihr Härtegrad vom Grunde bis zur Oberfläche allmählich abnimmt und eigne dünne Oberflächenschicht verbleibt, die gansz oder im wesentlichen unigehärtet und allein vom Entwickler, Verstärker usw. durchdrinigbar-ist. Um diese von.. der Oberfläche bis zum Grunde der Emulsionsschicht allmählich. zunehmeude Härtung zu erreichen, ist :es allerddüngs notwendig, besondere Vorsichtsmaßregieln zu trefren. Es muß nämlich entweder die Menge des zur Härtung der Gelatinezwischenschn;cht verwendeten. lfärtemittels oder der Zeitpunkt des Aufgießens der Emulsionsschicht so..gewählt werden, daß die sich aus dem in der Gelatineschicht nicht gebundenen Härtemittel entwickelnden und vom Grunde her in die Emulsionsschicht eindringenden Dämpfe nicht ausreichen, um die Emulsiansschicht innganzer Stärke durchzuhärten, aber jgennügen, um sie bis auf eine düntne Ob.erflächensclücht so zu härten, daß nur letztere vom Entwickler, Verstärker usw. durchdrungen werden kann. Mit :anderen. Worten: Wird von vornherein: die für die Gelatinezwischenschicht verwendete Menge des Härtemittels (Formalin.) richtig gewählt, so kann das Aufgießen der Emulsionsschicht sofort erfolgen,. Ist die Menge des verwendeten Härtemittels zu groß, so muß mit dem Aufgießen der Emulsionsschicht gewartet werden, bis sich leine Dampfentwicklung vollzogen hat, die die später noch von dem Härtemittel in der Gelatineschicht zu entwickelnden Dämpfe in ihrer Menge so verringert, daß sie für den angestrebten Zweck ausreichen. Andererseits muß naturgemäß immer dafür gesorgt werden, daß nicht die Menge des Härtemittels für die Gelatinezwischenschicht so gering ist, daß sie von letzterer voll gebunden wird und daher nicht mehr einer späteren.. D,ampfmnmwicklung fähig ist.
• Erfolgt der Aufguß der Emulsionsschicht unmittelbar -nach Trocknen der Gelatinezwischenschicht, so kann beispielsweise für je ioo ccm Gelatine als Härtemittel etwa 3o ccm fünfprozentige Formalinlösung verwendet werden, wenn die Emulsionsschicht normaler Dicke den am sie gemäß der Erfindung gestellten Anforderungen entsprechen soll.

Claims (2)

1. PATENTANSPRÜCHE: i. Photomechanische Trockenplatte für Rasteraufnahmen, dadurch gekennzeichnet, daß die Emulsions-Gelatineschichteinevon ihrer Oberfläche bis zum Grunde allmählich zunehmende Härtung derart aufweist, daß eine dünne Oberflächenschlicht ganz oder kn wesentlichen unb härieit und allein vom Entwickler, Verstärker usw. durchdringbar ist.
2. 2. Herstellung von Trockenplatten nach Anspruch i durch aufeinanderfolgendes Aufgießen einer gehärtetem Gielatineschicht und einer Emulsions-Gelaaineschicht auf den Schichtträger, dadurch gekenmeichnet,, daß die Härtung der zuerst gegossenen Gelatineschicht mit einem Dampf entwickelnden, an sich bekannten: Hämtemitted, -wie Formalen, erfolgt und die Menge dieses Härtemittels bzw. der Zeitpunkt des Aufgießens der Emulsonsschicht so gewählt wird, daß die sich aus denn in der Gelatineschleht nicht- gebundenen Härtemittel entwickelnden und vom Grunde her in. die Emulsionsschicht eindringenden Dämpfe nicht -ausreichen, um die Emulsionsschicht in, ganzer Stärke - durchzuhärten, aber =genügen, um sie bis auf eine dünne Oberflächenschlicht so zu härten, daß nur - letztere vom Entwickler; Verstärker usw. durchdrungen werden kann.