DE4443001A1 - Sm·2·+ als aktive Ionen enthaltender Kristall vom fehlgeordneten Fluorit-Typ zum photochemischen Lochbrennen - Google Patents
Sm·2·+ als aktive Ionen enthaltender Kristall vom fehlgeordneten Fluorit-Typ zum photochemischen LochbrennenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Sm2+ als aktive
Ionen enthaltenden Kristall vom fehlgeordneten Fluorit-Typ,
wobei der Kristall ein Material zum photochemischen Loch
brennen darstellt, das für die Aufzeichnung mit hoher Dichte
geeignet ist.
Materialien zum photochemischen Lochbrennen (PHB-Mate
rialien) erregen derzeit große Aufmerksamkeit als Aufzeich
nungseinrichtung, die eine sehr viel höhere Aufzeichnungs
dichte ermöglicht als gegenwärtig erhältliche optische Plat
ten.
Ein PHB-Material wird durch Dispergieren lichtempfindli
cher Ionen in einer geeigneten Matrix erzeugt. Da lichtemp
findliche Ionen verschiedene Stellen eines Kristalls einneh
men, besitzt ein Lichtabsorptionsspektrum des Kristalls
keine gleichförmige Bande. Wenn der Kristall mit Laserlicht
mit einem engeren Wellenlängenbereich als die Absorptions
bande belichtet wird, werden nur die mit dem Laserlicht in
Resonanz tretenden lichtempfindlichen Ionen angeregt. Wenn
daher ein Teil der lichtempfindlichen Ionen durch Bestrah
lung mit Laserlicht unempfindlich gemacht wird
(Schreibvorgang), tritt ein steiler Abfall (d. h. ein "Loch")
in einem Absorptionsspektrum auf (Lesevorgang). Eine Auf
zeichnung mit ultrahoher Dichte kann durch Verbinden der Ge
genwart/Abwesenheit eines Lochs mit digitaler Information
verwirklicht werden.
Zu Beginn der Entwicklung wurden photochemische PHB-Ma
terialien durch Dotieren eines anorganischen Polymerkri
stalls mit organischen Molekülen, die das Lochbrennen bewir
ken können, erzeugt.
Kürzlich wurde vorgeschlagen, einen Kristall mit Selten
erdmetallionen zu dotieren. Es wurde zum Beispiel berichtet,
daß in einem BaFCl0,5Br0,5:Sm2+-Kristall bei der Temperatur
flüssigen Stickstoffs ein Loch erzeugt wird (C. Wei, S.
Haung et al., J. Luminescence, Bd. 143, S. 161 (1989)). Die
ser Kristall erfordert zur Bewirkung des Lochbrennens jedoch
eine sehr niedrige Arbeitstemperatur. Bei einer hohen Ar
beitstemperatur verringert eine erhöhte Lochweite die Auf
zeichnungsdichte einer erzeugten Aufzeichnungseinrichtung.
Es wurde berichtet, daß in SrFCl0,5Br0,5:Sm2+ bei Raum
temperatur ein Lochbrennen beobachtet wurde (R. Jaaniso und
H. Bill, Europhys. Lett., Bd. 16, S. 569 (1991)). Dieser
Kristall wird jedoch nur in einer geringen Größe von höch
stens 400 µm erzeugt. Es kann daher nicht behauptet werden,
daß der Kristall in der praktischen Anwendung, insbesondere
im Hinblick auf die Einfachheit der Herstellung und die
Materialgröße, eine ausreichende Leistungsfähigkeit besitzt.
Außerdem ist anzunehmen, daß der Kristall bei der prakti
schen Anwendung ein weiteres Problem aufweist, d. h. eine Er
scheinung der Lochauffüllung, wobei ein beträchtlicher Teil
eines ersten Loches gefüllt wird, wenn ein, zum ersten Loch
benachbartes, zweites Loch erzeugt wird.
Andererseits wurde berichtet, daß bei Raumtemperatur ein
Lochbrennen in nichtoxidischem Glas, insbesondere in Selten
erdmetallionen enthaltendem Fluoridglas, wie HfF₄ und BaF₃,
beobachtet wird (K. Hirao, S. Todoroki et al., J. Non-Cryst.
Solids, Bd. 152, S. 267). Wegen der Erzeugung weiter Löcher
ist diese Art von Materialien jedoch zur praktischen Verwen
dung ungeeignet.
Es wurde auch berichtet, daß Oxidglas, insbesondere
zweiwertige Sm-Ionen enthaltendes Boratglas, bei Raumtempe
ratur ein stabiles Lochbrennmaterial darstellt (K. Hirao, S.
Todoroki et al. Opt. Lett., Bd. 18, S. 1586 (1993)). Obwohl
dieses Material eine geringere Lochweite zur Verfügung
stellt als die vorangehenden nicht oxidischen Materialien,
ist es zur praktischen Verwendung immer noch nicht geeignet.
Gegenwärtig ist kein aus der Schmelze kristallisiertes
Einkristallmaterial bekannt, in dem bei einer Temperatur
über der Temperatur flüssigen Stickstoffs, insbesondere bei
Raumtemperatur, stabiles Lochbrennen auftritt, das ein aus
reichend enges Loch erzeugt und das nicht unter der Erschei
nung des Lochauffüllens leidet.
Im Hinblick auf die vorangehenden Ausführungen ist es
eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Kristall zum
Lochbrennen zur Verfügung zu stellen, in dem bei hoher Tem
peratur, insbesondere bei Raumtemperatur, ein stabiles Loch
brennen auftritt, das ein enges Loch erzeugt.
Diese Aufgabe wurde durch den überraschenden Befund ge
löst, daß neue, Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltende
Kristalle vom Fluorit-Typ, in denen Sm2+-Ionen stabil im
Kristall vorhanden sind, ein Lochbrennen bei einer relativ
hohen Temperatur von etwa der Raumtemperatur ermöglichen und
die Kristalle eine geringe Lochweite und eine hohe Lochan
zahl zur Verfügung stellen können. Diese Kristalle können
durch Schmelzen und Verfestigen eines fehlgeordneten Fluo
ridkristalls (Wirtskristall) in einer nicht oxidierenden
Atmosphäre hergestellt werden.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Sm2+ als aktive
Ionen enthaltender Kristall vom fehlgeordneten Hochtempera
turphasen-Fluorit-Typ zum photochemischen Lochbrennen, in
dem die Zusammensetzung, mit Ausnahme von Sm2+, die allge
meine Formel
α-(MALn)F6-vXv (0 v 1)
aufweist, wobei M ein Element aus der Gruppe Ca, Sr und Ba
bedeutet, A ein Element aus der Gruppe Na, K, Rb und Cs be
deutet, Ln ein Element aus der Gruppe Y, La, Gd und Ce be
deutet und X ein Element aus der Gruppe Cl, Br und I bedeu
tet.
Die Fig. 1-4 zeigen charakteristische Ergebnisse der
Röntgenstreuung von Kristallen gemäß der vorliegenden Erfin
dung;
Die Fig. 5-8 zeigen charakteristische Absorptionsspek
tren der Kristalle gemäß der vorliegenden Erfindung;
Die Fig. 9-12 zeigen charakteristische Anregungsspek
tren der Kristalle gemäß der vorliegenden Erfindung bei
Raumtemperatur;
Fig. 13 zeigt eine Beziehung zwischen der Zeit zur Loch
erzeugung und der Lochtiefe bei Raumtemperatur in Beispiel
33;
Fig. 14 zeigt Anregungsspektren vor und nach einem Loch
brennenvorgang bei Raumtemperatur in Beispiel 34;
Fig. 15 zeigt eine Beziehung zwischen der Zeit zur Loch
erzeugung und der Lochtiefe bei Raumtemperatur in Beispiel
34.
Die vorliegende Erfindung stellt den vorstehend be
schriebenen Kristall vom fehlgeordneten Fluorit-Typ zum pho
tochemischen Lochbrennen zur Verfügung. In der Zusammen
setzung der allgemeinen Formel variiert das Mengenverhältnis
zwischen den Bestandteilen M, A und Ln in Abhängigkeit von
den tatsächlich verwendeten Elementen. Bestimmte Elementkom
binationen werden nachstehend beschrieben.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmxCa1-xNaYF₆
sollte die Variable x der Gleichung 0,001 x
0,5 genügen. Wenn x kleiner ist als 0,001, sind die Ab
sorption und die Lichtemissionsintensität des Kristalls
schwach, was im Hinblick auf die Lochqualität nicht bevor
zugt wird. Eine Variable x mit einem Wert größer als 0,5
wird ebensowenig bevorzugt, da eine Konzentrationsaus
löschung (darunter ist die Erscheinung zu verstehen, daß bei
steigender Sm2+-Ionenkonzentration die Wechselwirkung
zwischen diesen zunimmt und als Folge davon die Intensität
des emittierten Lichts abnimmt) auftreten kann.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmxCa1-x-ySr1-x-zNaYF₆
sollte die Variable x der Gleichung
0,001 x 0,5, die Variable y der Gleichung 0 y 0,5
und die Variable z der Gleichung 0 x 0,5 genügen. Wenn
x, das die Sm2+-Menge bedeutet, kleiner ist als 0,001, sind
die Absorption und die Lichtemissionsintensität des Kri
stalls schwach, was im Hinblick auf die Lochqualität nicht
bevorzugt wird. Eine Variable x mit einem Wert größer als
0,5 wird ebensowenig bevorzugt, da eine Konzentrationsauslö
schung auftreten kann. Übermäßig hohe Werte für y und z wer
den nicht bevorzugt, da viele Kristalldefekte auftreten kön
nen.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmxCa1-x-ySr1-x-zNaqGdpY1-pF₆
sollte die Variable x der
Gleichung 0,001 x 0,5 genügen, und die Variablen y und
z sollten den Gleichungen 0 y, z 1 genügen. Die Varia
blen p und q sollten den Gleichungen 0,5 p, q 1 genü
gen. Wenn x kleiner ist als 0,001, sind die Absorption und
die Lichtemissionsintensität des Kristalls schwach, was im
Hinblick auf die Lochqualität nicht bevorzugt wird. Eine Va
riable x mit einem Wert größer als 0,5 wird ebensowenig be
vorzugt, da eine Konzentrationsauslöschung auftreten kann.
Wenn y, z und p innerhalb der vorangehend angegebenen Berei
che liegen, wird ein Mischkristall mit hoher Fehlordnung er
zeugt. Variable y, z und p mit Werten oberhalb der vorange
hend angegebenen Bereiche werden nicht bevorzugt, da viele
Kristalldefekte auftreten können. Eine Variable q mit einem
Wert unterhalb des vorangehend angegebenen Bereiches wird
nicht bevorzugt, da die Temperatur zur Locherzeugung zu
niedrig sein kann.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmpCa1-p-qSrp+qNatRe1-rRe′rF6-vXv
bedeuten Re und Re′ Y oder
Gd, und X bedeutet Cl, Br oder I. Die Variable p sollte der
Gleichung 0,001 p 0,5 und die Variable q der Gleichung
0 q 0,5 genügen. Die Variable t sollte der Gleichung
0,5 t 1, die Variable r der Gleichung 0 r 0,5 und
die Variable v der Gleichung 0 v 1 genügen. Wenn p
kleiner ist als 0,001, sind die Absorption und die Licht
emissionsintensität des Kristalls schwach, was im Hinblick
auf die Lochqualität nicht bevorzugt wird. Eine Variable p
mit einem Wert größer als 0,5 wird ebensowenig bevorzugt, da
eine Konzentrationsauslöschung auftreten kann.
Wenn q, r und v innerhalb der vorangehend angegebenen
Bereiche liegen, wird ein Mischkristall mit hoher Fehlord
nung erzeugt. Variablen q, r und v mit Werten oberhalb der
vorangehend angegebenen Bereiche werden nicht bevorzugt, da
viele Kristalldefekte auftreten können. Eine Variable t mit
einem Wert unterhalb des angegebenen Bereiches wird nicht
bevorzugt, das die Temperatur zur Locherzeugung zu niedrig
sein kann. Außerdem ist eine Variable v mit einem Wert über
1 nicht bevorzugt, da dann eine zweite Phase auftreten kann
und kein Einphasenkristall erhalten wird.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmpCa1-p-qSrp+qAtNa1-tRe1-rRe′rF6-vXv,
bedeutet A K oder Rb,
Re und Re′ bedeuten Y oder Gd, und X bedeutet Cl, Br oder I.
Die Variable p sollte der Gleichung 0,001 p 0,5 und die
Variable q der Gleichung 0 q 0,5 genügen. Die Variable
t sollte der Gleichung 0 t 0,5, die Variable r der
Gleichung 0 r 0,5 und die Variable v der Gleichung 0 v 1
genügen. Wenn p kleiner ist als 0,001, sind die Ab
sorption und die Lichtemissionsintensität des Kristalls
schwach, was im Hinblick auf die Lochqualität nicht bevor
zugt wird. Eine Variable p mit einem Wert größer als 0,5
wird ebensowenig bevorzugt, da eine Konzentrationsaus
löschung auftreten kann.
Wenn q, t, r und v innerhalb der vorangehend angegebenen
Bereiche liegen, wird ein Mischkristall mit hoher Fehlord
nung erzeugt. Variable q, t, r und v mit Werten oberhalb der
vorangehend angegebenen Bereiche werden nicht bevorzugt, da
viele Kristalldefekte auftreten können.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmpM1-x-ySr1-x-zApNa1-pReqRe′1-qF₆
bedeutet M Ca oder Ba, A
bedeutet K oder Rb, und Re und Re′ bedeuten Y oder Gd. Die
Variablen x, y, z, p und q sollten den Gleichungen 0,001 x 0,5,
0 y, z 1 und 0,5 p, q 1 genügen. Wenn x
kleiner ist als 0,001, sind die Absorption und die Licht
emissionsintensität des Kristalls schwach, was im Hinblick
auf die Lochqualität nicht bevorzugt wird. Eine Variable x
mit einem Wert größer als 0,5 wird ebensowenig bevorzugt, da
eine Konzentrationsauslöschung auftreten kann. Wenn die
Variablen y, z, p und q innerhalb der vorangehend angegebe
nen Bereiche liegen, wird ein Mischkristall mit hoher Fehl
ordnung erzeugt. Variable y, z, p und q mit Werten oberhalb
der vorangehend angegebenen Bereiche werden nicht bevorzugt,
da viele Kristalldefekte auftreten können.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmxM1-x-ySr1-x-zNaCepRe1-pF₆
bedeutet Re Gd oder La. Die
Variablen x, y, z und p sollten den Gleichungen 0,001 x 0,5,
0 y, z 1 und 0,5 p 1 genügen. Wenn x kleiner
ist als 0,001, sind die Absorption und die Lichtemissionsin
tensität des Kristalls schwach, was im Hinblick auf die
Lochqualität nicht bevorzugt wird. Eine Variable x mit einem
Wert größer als 0,5 wird ebensowenig bevorzugt, da eine Kon
zentrationsauslöschung auftreten kann. Wenn die Variablen y,
z und p innerhalb der vorangehend angegebenen Bereiche lie
gen, wird ein Mischkristall mit hoher Fehlordnung erzeugt.
Variable y, z und p mit Werten außerhalb der vorangehend an
gegebenen Bereiche werden nicht bevorzugt, da die Kationen
geringere Fehlordnung aufweisen und kein Einphasenkristall
erhalten wird.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmpCa1-pNaReF6-qXq
bedeutet Re Y oder Gd, und X bedeutet Cl,
Br oder I. Die Variablen p und q sollten den Gleichungen
0,001 p 0,5 und 0 q 1 genügen. Wenn p, das die
Sr2+-Menge bedeutet, kleiner ist als 0,001, sind die Absorp
tion und die Lichtemissionsintensität des Kristalls schwach,
was im Hinblick auf die Lochqualität nicht bevorzugt wird.
Eine Variable x mit einem Wert größer als 0,5 wird ebenso
wenig bevorzugt, da eine Konzentrationsauslöschung auftreten
kann. Wenn die Variable q innerhalb des vorangehend angege
benen Bereiches liegt, d. h. 0 q 1, wird ein Mischkri
stall mit hoher Fehlordnung erzeugt. Eine Variable q mit ei
nem Wert außerhalb dieses Bereiches wird nicht bevorzugt, da
die Kationen geringere Fehlordnung aufweisen und kein Ein
phasenkristall erhalten wird.
In einem Sm2+ als lichtempfindliche Ionen enthaltenden
Kristall vom Fluorit-Typ mit der Zusammensetzung
SmxM1-x-yM′x+yA1-tLnzLn′1-zF6-t
bedeuten M und M′ Ca, Sr
oder Ba, A bedeutet K, Rb oder Cs, und Ln und Ln′ bedeuten
La, Y oder Gd. Die Variablen x, y, z und t sollten den Glei
chungen 0,001 x 0,2, 0 y 0,5, 0 z 1 und 0 t 1
genügen.
Wenn x, das die Sr2+-Menge bedeutet, kleiner ist als
0,001, sind die Absorption und die Lichtemissionsintensität
des Kristalls schwach, was im Hinblick auf die Lochqualität
nicht bevorzugt wird. Eine Variable x mit einem Wert größer
als 0,2 wird ebensowenig bevorzugt, da eine Konzentrations
auslöschung auftreten kann. Wenn die Variablen y und z in
nerhalb der vorangehend angegebenen Bereiche liegen, d. h. 0 y 0,5
und 0 z 1, wird ein Mischkristall mit hoher
Fehlordnung erzeugt, der zur Erhöhung der Lochanzahl bevor
zugt wird. Variable y und z mit Werten außerhalb dieser Be
reiche werden nicht bevorzugt, da die Kationen geringere
Fehlordnung aufweisen und kein Einphasenkristall erhalten
wird. Eine Variable t mit einem Wert außerhalb des vorange
hend angegebenen Bereiches, d. h. 0 t 1, wird nicht be
vorzugt, da viele F-Defekte auftreten, die die Lochweite er
höhen.
Im allgemeinen werden durch Reduktion erhaltene Sm2+-Io
nen in Verfahren zur Herstellung von Kristallen der vorlie
genden Erfindung leicht oxidiert. Im Gegensatz dazu können
Sm2+-Ionen im Kristall vom Fluorit-Typ der vorliegenden Er
findung in einem stabilen Zustand vorhanden sein. Ferner be
sitzt ein Sm2+ enthaltender Kristall eine hohe Aktivierungs
energie der optischen Ionisation, und Sm3+-Ionen, die durch
die Locherzeugung erzeugt werden, sind ebenfalls in einem
stabilen Zustand vorhanden. Daher wird unter den verschiede
nen Materialien zum Lochbrennen vom Kristall vom Fluorit-Typ
der vorliegenden Erfindung erwartet, daß er eine überlegene
Leistung als optisches, bei Raumtemperatur zu handhabendes
Aufzeichnungsmaterial zeigt.
Als nächstes folgt eine Beschreibung eines Herstellungs
verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung.
Materialien eines Zielkristalls, die aus einem Halogenid
oder Oxid von Sm als aktive Ionen und Halogeniden, d. h. ei
nem Fluorid, Bromid, Iodid usw., von Bestandteilen, die von
Sm verschieden sind und zum Beispiel Ca, Na, Ba, Sr, Ce, Y,
Ga und La umfassen, bestehen, werden vorbereitend in einem
Mengenverhältnis vermischt, das ein Atomverhältnis zur Ver
fügung stellt, das durch die Zusammensetzung des Zielkri
stalls als Referenz bestimmt wird. Zum Beispiel werden die
Materialien zur Herstellung eines Kristalls vom Fluorit-Typ
mit einer Zusammensetzung SmxCa1-xNaYF₆
so vermischt, daß
ein Verhältnis Ca : Sm : Na : Y = 1-x : x : 1 : 1 (0,001 x 0,5) zur
Verfügung gestellt wird.
Die Kristallzüchtung erfolgt durch Schmelzen und Verfe
stigen des Materials in einer nichtoxidierenden Atmosphäre
unter Verwendung eines reduzierenden Gases, zum Beispiel ei
nes Wasserstoffgases, eines Gemisches aus einem Wasserstoff
gas und einem Kohlenmonoxidgas, eines Gemisches aus einem
Wasserstoffgas und einem Kohlendioxidgas, eines Gemisches
aus einem Kohlenmonoxidgas und einem Kohlendioxidgas, eines
Gases, das durch Vermischen eines der vorangehenden Gase mit
einem Trägergas, wie Helium, Argon oder Stickstoff, erhalten
wird oder eines Helium-, Argon- oder Stickstoffgases oder
ähnlichem.
Im Verfahren der vorliegenden Erfindung zur Kristallher
stellung beträgt die Schmelztemperatur 1000 bis 1500°C.
Die Verfestigung wird durch ein langsames Abkühlverfahren
oder ein Wärmetauschverfahren mit 0,1 bis 5°C/min, ein Hoch
ziehverfahren mit 1 bis 5 mm/h, ein Zonenschmelzverfahren,
ein Bridgeman-Verfahren oder ein anderes Verfahren durchge
führt. Ein so erhaltener Kristall weist eine kubische Kri
stallstruktur auf.
Die Erfindung wird nun durch Beispiele ausführlicher be
schrieben.
Die in Tabelle 1 angegebenen Materialien wurden so her
gestellt, daß sich das in Tabelle 2 angegebene Atomverhält
nis ergab, und dann vermischt und geformt. Ein Formkörper
wurde in einen Molybdänschmelztiegel gegeben, bei einer in
Tabelle 2 angegebenen Schmelztemperatur geschmolzen und dann
in einer 5 Vol.-% Wasserstoff enthaltenden Argongasatmosphä
re verfestigt. Die Fig. 1-4 zeigen charakteristische Bei
spiele für Ergebnisse der Röntgenbeugung an so hergestellten
Kristallen (Beispiele 1, 5, 29 und 33). Die Ergebnisse der
Röntgenbeugung zeigten, daß jeder Kristall eine fehlgeord
nete Einkristallphase der in Tabelle 3 angegebenen allgemei
nen Zusammensetzung aufwies. Tabelle 3 gibt auch die Gitter
konstanten an. (Jeder der in den Beispielen 13, 17 und 29
hergestellten Kristalle war vom fehlgeordneten Sm-Mischkri
stall-Typ, d. h. er wies wie bei den anderen Beispielen eine
Einkristallphase vom Mischkristall-Typ auf.) Die Fig. 5-8
zeigen charakteristische Beispiele für Absorptionsspektren
von hergestellten Kristallen (Beispiele 1, 5, 29 und 33).
Die Spektren zeigen eine starke Absorption aufgrund des f-d-
Überganges von Sm2+, was bestätigt, daß die Kristalle Sm2+
enthielten.
Die Kristalle wurden auf folgende Art und Weise PHB-Be
stimmungen unterworfen. Die bei 293 K gehaltenen Proben wur
den 1-300 s mit einem Laserstrahl eines DCM-Lasers (etwa
100 mW) bestrahlt. Die Wellenlänge des Lasers wurde so ein
gestellt, daß sie eine Resonanz mit dem ⁵D₀-⁷F₀-Übergang be
wirkte. Durch Aufzeichnung des Emissionslichtes bei 720 nm,
entsprechend dem 5DD0-7FF2-Übergang, wurde ein Anregungsspek
trum mit einer Anregung durch einen wellenlängenvariablen
Laserstrahl aus einem DCM-Farbstofflaser (pulsierende Be
strahlung) erhalten.
Die Fig. 9-12 zeigen charakteristische Beispiele für
Anregungsspektren, von denen jedes nach 300 s Bestrahlung
einer Probe mit einem Laserstrahl mit 692 nm aus dem DCM-
Farbstofflaser erhalten wurde (Beispiele 1, 5, 29 und 33).
In jedem Spektrum wurde ein permanentes Lochbrennen festge
stellt. Die bei Raumtemperatur erhaltenen Lochweiten sind in
Tabelle 3 angegeben. Es tritt keine Erscheinung der Lochauf
füllung auf, und es ist möglich, 10 bis 20 Löcher zu erzeu
gen. Bei den durch die photochemische Lochbrennreaktion er
zeugten Elektronenfallen handelt es sich um Sm3+. Das heißt,
die photochemische Reaktion wird als: Sm2+ + (Falle) → Sm3+ + (Falle)-
ausgedrückt.
Fig. 13 zeigt eine Beziehung zwischen der Zeit zur Loch
erzeugung und der Lochtiefe bei Raumtemperatur in Beispiel
33.
Die in den Fig. 9-12 gezeigten Anregungsspektren sind
keine Spektren vom Spalt-Typ (die gewählte Anregungswellen
länge λ₁ entspricht der Spaltwellenlänge
λ₂). Daher kann durch Verkürzung der Spaltwellenlänge die
Lochbrennleistung verbessert oder die Zeit zur Locherzeugung
verringert werden.
Materialien | |
Bsp. 1 | |
SmF₃, CaF₂, NaF, YF₃ | |
Bsp. 5 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, YF₃ |
Bsp. 9 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, GdF₃, YF₃ |
Bsp. 13 | SmF₃, CaF₂, SrBr₂, NaF, NaBr, GdBr₃, YF₃ |
Bsp. 17 | SmF₃, CaF₂, SrBr₂, NaF, KBr, GdBr₃, YF₃ |
Bsp. 21 | SmF₃, CaF₂, NaF, KF, YF₃ |
Bsp. 25 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, CeF₃, GdF₃ |
Bsp. 29 | SmF₃, CaF₂, CaBr₂, NaF, BaBr, YF₃, YBr₃ |
Bsp. 33 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, KF, LaF₃ |
Die in Tabelle 4 angegebenen Materialien wurden so her
gestellt, daß sich das in Tabelle 5 angegebene Atomverhält
nis ergab, und dann vermischt und geformt. Ein Formkörper
wurde in einen Kohleschmelztiegel gegeben, bei einer in Ta
belle 5 angegebenen Schmelztemperatur in einer durch Mischen
von Wasserstoffgas und Kohlendioxidgas in ein Argongas her
gestellten Atmosphäre mit einem Volumenverhältnis von 1 : 500
durch Hitze geschmolzen und dann durch ein langsames Kühl
verfahren verfestigt. Durch die gleiche Röntgenbeugungsmes
sung wie in Beispiel 1 wurde bestätigt, daß die hergestell
ten Kristalle Einphasenkristalle waren. Durch Messung des
Absorptionsspektrums wurde auch bestätigt, daß die Kristalle
Sm2+ enthielten.
Die PHB-Bestimmung mit den Kristallen wurde auf die
gleiche Art und Weise durchgeführt wie in Beispiel 1. Nach
der Durchführung eines Brennvorganges bei Raumtemperatur
wurde bestätigt, daß in den gemessenen Spektren Löcher vor
handen waren. Die Lochweiten bei Raumtemperatur sind in Ta
belle 5 dargestellt.
Die Fig. 14 und 15 zeigen Anregungsspektren vor und
nach dem Lochbrennvorgang bei Raumtemperatur und eine Bezie
hung zwischen der Zeit zur Locherzeugung und der Lochtiefe
in Beispiel 34.
Materialien | |
Bsp. 2 | |
SmF₂, CaF₂, NaF, YF₃ | |
Bsp. 6 | SmF₂, CaF₂, SrF₂, NaF, YF₃ |
Bsp. 10 | SmF₂, CaF₂, SrF₂, NaF, GdF₃, YF₃ |
Bsp. 14 | SmF₂, CaF₂, SrCl₂, NaF, NaCl, GdCl₃, YF₃ |
Bsp. 18 | SmF₂, CaF₂, SrCl₂, NaF, KCl, GdCl₃, YF₃ |
Bsp. 22 | SmF₂, CaF₂, SrF₂, NaF, KF, YF₃ |
Bsp. 26 | SmF₂, CaF₂, SrF₂, NaF, CeF₃, LaF₃ |
Bsp. 30 | SmF₂, CaF₂, CaCl₂, NaF, BaCl, YF₃, YCl₃ |
Bsp. 34 | SmF₂, CaF₂, KF, LaF₃ |
Die in Tabelle 6 angegebenen Materialien wurden so her
gestellt, daß sich das in Tabelle 7 angegebene Atomverhält
nis ergab, und dann vermischt und geformt. Ein Formkörper
wurde in einen Kohleschmelztiegel gegeben und in einer
1 Vol.-% Wasserstoff einschließenden Argonatmosphäre durch
Hitze geschmolzen. Aus den geschmolzenen Materialien wurde
durch ein Zonenschmelzverfahren mit einer in Tabelle 7 ange
gebenen Wachstumsgeschwindigkeit ein Kristall gezüchtet.
Durch die Röntgenbeugungsmessung wurde bestätigt, daß die
hergestellten Kristalle Einphasenkristalle waren. Anregungs
spektren der Kristalle wurden nach Bestrahlung mit einem La
serstrahl aus dem DCM-Farbstofflaser gemessen. Das Ergebnis
bestätigte, daß, wie bei der Gruppe in Beispiel 1, bei Raum
temperatur mit Erfolg Löcher in den Kristallen erzeugt wur
den.
Materialien | |
Bsp. 3 | |
SmF₃, CaF₂, NaF, YF₃ | |
Bsp. 7 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, YF₃ |
Bsp. 11 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, GdF₃ |
Bsp. 15 | SmF₃, CaF₂, SrI₂, NaF, NaI, GdI₃, YF₃ |
Bsp. 19 | SmF₃, CaF₂, SrI₂, NaF, RbI, YF₃, YI₃ |
Bsp. 23 | SmF₃, CaF₂, NaF, KF, YF₃ |
Bsp. 27 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, CeF₃ |
Bsp. 31 | SmF₃, CaF₂, CaI₂, NaF, NaI, YF₃, YI₃ |
Bsp. 35 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, RbF, LaF₃ |
Die in Tabelle 8 angegebenen Materialien wurden so her
gestellt, daß sich das in Tabelle 9 angegebene Atomverhält
nis ergab, und dann vermischt und geformt. Ein Formkörper
wurde in einem Molybdänschmelztiegel durch Hochfrequenzin
duktion erhitzt und in einer 2 Vol.-% Wasserstoff ein
schließenden Argonatmosphäre geschmolzen, wobei Sm2+ einge
schlossen wurde. Ein Kristall wurde entlang der [100]-Achs
richtung mit in Tabelle 9 angegebener Kristallrotationsge
schwindigkeit und Hochziehgeschwindigkeit herausgehoben. Auf
diese Weise wurde ein Kristall mit etwa 20 mm Durchmesser
und etwa 50 mm Länge gezüchtet. Durch die Röntgenbeugungs
messung wurde bestätigt, daß die hergestellten Kristalle
Einphasenkristalle waren.
Anregungsspektren zeigten, daß die Kristalle Sm2+ ent
hielten. PHB-Bestimmungen wurden auf die gleiche Art und
Weise durchgeführt wie in Beispiel 1. Nach Bestrahlung mit
einem Laserstrahl wurden in den Absorptionsspektren bei
Raumtemperatur beständige Löcher festgestellt. Die Lochweite
und die Anzahl der Löcher entsprachen annähernd den Werten
der Gruppe aus Beispiel 1.
Materialien | |
Bsp. 4 | |
SmF₂, CaF₂, NaF, YF₃ | |
Bsp. 8 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, YF₃ |
Bsp. 12 | SmF₃, CaF₂, SrF₂, NaF, GdF₃, YF₃ |
Bsp. 16 | SmF₃, CaF₂, SrBr₂, NaF, NaBr, GdF₃, YF₃ |
Bsp. 20 | SmF₃, CaF₂, SrBr₂, NaF, KBr, GdF₃, YF₃ |
Bsp. 24 | SmF₃, CaF₂, NaF, KF, YF₃ |
Bsp. 28 | SmF₃, CaF₂, NaF, CeF₃, LaF₃ |
Bsp. 32 | SmF₃, CaF₂, CaBr₂, NaF, NaBr, GdF₃, GdBr₃ |
Bsp. 36 | SmF₃, CaF₂, RbF, LaF₃ |
Der Sm2+ enthaltende Kristall vom Fluorit-Typ gemäß der
vorliegenden Erfindung besitzt eine geringere Lochweite als
die anderen Halogenatome einschließenden Kristalle (Sm2+
enthaltendes Glas vom SrFCl0,5Br0,5:Sm2+- und HfF₄-BaF₃-Typ)
und Boratglas. Ferner kann ein größerer Kristall erhalten
werden als in anderen Halogeniden. Mit der stabilen Loch
brennwirkung bei Raumtemperatur kann der Kristall der vor
liegenden Erfindung ein überlegenes optisches Aufzeichnungs
material für eine Handhabung bei Raumtemperatur darstellen.
Da der Kristall vom Fluorit-Typ der vorliegenden Erfin
dung eine äußerst große Zahl von Anteilen mit geringfügig
unterschiedlichen Arten der Ionenbindung zwischen einem
Sm2+-Ion und einem Fa⁻-Ion (Sm-F) einschließt, zeigt er einen
mit der Wellenlänge des Lichtes variierenden Brechungsin
dex. Es wird daher erwartet, daß der Kristall der Erfindung
unter Verwendung der Lichtbrechungswirkung als holographi
sches Mehrfachaufzeichnungsmaterial oder ähnliches verwendet
werden kann.
Durch das Vorhandensein einer großen Zahl verschiedener
Arten von Sm-F-Bindungen, die durch Laserstrahlen mit unter
schiedlichen Wellenlängen angeregt werden, ist es möglich,
durch Bestrahlung mit Laserstrahlen unterschiedlicher Wel
lenlängen Löcher zu erzeugen, deren Weiten der Wellenzahl
angepaßt sind. Wenn ferner eine Spannung zwischen auf dem
Kristall zum Lochbrennen erzeugten ITO-Filmen angelegt wird,
werden für entsprechende Wellenlängen der Laserstrahlen
Löcher erzeugt. Diese Löcher können für verschiedene Span
nungsniveaus erzeugt werden. Daher kann der Kristall zum
Lochbrennen der vorliegenden Erfindung als in einem elektri
schen Feld arbeitender optischer Mehrfachspeicher verwendet
werden.
Claims (10)
1. Sm2+ als aktive Ionen enthaltender Kristall vom fehlge
ordneten Fluorit-Typ zum photochemischen Lochbrennen, in
dem die Zusammensetzung, mit Ausnahme von Sm2+, die all
gemeine Formel
α-(MALn)F6-vXvaufweist, in der 0 v 1 ist und M ein Element aus
der Gruppe Ca, Sr und Ba bedeutet, A ein Element aus der
Gruppe Na, K, Rb und Cs bedeutet, Ln ein Element aus der
Gruppe Y, La, Gd und Ce bedeutet und X ein Element aus
der Gruppe Cl, Br und I bedeutet.
2. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmxCa1-xNaYF₆, wobei 0,001 x 0,5 ist.
3. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmxCa1-x-ySr1-x-zNaYF₆, wobei 0,001 x 0,5, 0 y 0,5
und 0 z 0,5 ist.
4. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmxCa1-x-ySr1-x-zNaqGdpY1-pF₆, wobei 0,001 x 0,5,
0 y, z 1 und 0,5 p, q < 1 ist.
5. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmpCa1-p-qSrp+qNatRe1-rRe′rF6-vXv, wobei Re und Re′ Y
oder Gd bedeuten und X ein Element aus der Gruppe Cl, Br
und I bedeutet und wobei 0,001 p 0,5, 0 q 0,5,
0,5 t 1, 0 r 0,5 und 0 v 1 ist.
6. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmpCa1-p-qSrp+qAtNa1-tRe1-rRe′rF6-vXv, wobei A K oder Rb
bedeutet, Re und Re′ Y oder Gd bedeuten und X ein Ele
ment aus der Gruppe Cl, Br und I bedeutet und wobei
0,001 p 0,5, 0 q 0,5, 0 < t 0,5, 0 r 0,5
und 0 v 1 ist.
7. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmXM1-x-ySr1-x-zApNa1-pReqRe′1-qF₆, wobei M Ca oder Ba
bedeutet, A K oder Rb bedeutet, Re und Re′ Y oder Gd be
deuten und wobei 0,001 x 0,5, 0 y, z 1 und 0,5
p, q 1 ist.
8. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmxCa1-x-ySr1-x-zNaCepRe1-pF₆, wobei Re Gd oder La be
deutet und wobei 0,001 x 0,5, 0 y, z 1 und 0,5
p 1 ist.
9. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmpCa1-pNaReF6-qXq, wobei Re Y oder Gd bedeutet und X
ein Element aus der Gruppe Cl, Br und I bedeutet und
wobei 0,001 p 0,5 und 0 q < 1 ist.
10. Kristall nach Anspruch 1, mit der Zusammensetzung
SmxM1-x-yM′x+yA1-tLnzLn′1-zF6-t, wobei M und M′ Elemente
aus der Gruppe Ca, Sr und Ba bedeuten, A ein Element aus
der Gruppe K, Rb und Cs bedeutet und Ln und Ln′ Elemente
aus der Gruppe La, Y und Gd bedeuten und wobei 0,001 x 0,2,
0 y 0,5, 0 z 1 und 0 t 1 ist.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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JP973494 | 1994-01-31 | ||
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DE4443001A1 true DE4443001A1 (de) | 1995-06-08 |
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Family Applications (1)
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DE4443001A Withdrawn DE4443001A1 (de) | 1993-12-03 | 1994-12-02 | Sm·2·+ als aktive Ionen enthaltender Kristall vom fehlgeordneten Fluorit-Typ zum photochemischen Lochbrennen |
Country Status (2)
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---|---|
US (1) | US5478498A (de) |
DE (1) | DE4443001A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2840926A1 (fr) * | 2002-06-12 | 2003-12-19 | Saint Gobain Cristaux Detecteu | Utilisation d'un creuset comprenant du carbone pour la croissance de cristaux comprenant un halogenure de terre rare |
US7067816B2 (en) | 2000-02-17 | 2006-06-27 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Scintillator crystals, method for making same, user thereof |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2941199B2 (ja) * | 1995-08-25 | 1999-08-25 | セントラル硝子株式会社 | レーザー結晶育成用原料組成物 |
US6342312B2 (en) * | 1996-03-22 | 2002-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Calcium fluoride crystal, optical article and exposure apparatus for photo-lithography using the same |
AU1579799A (en) * | 1998-11-25 | 2000-06-13 | Eugen Pavel | Three-dimensional optical memory with fluorescent photosensitive material |
US6528234B1 (en) | 1999-03-05 | 2003-03-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | II-VI compounds as a medium for optical data storage through fast persistent high density spectral holeburning |
US6514435B1 (en) | 1999-03-05 | 2003-02-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | High density and fast persistent spectral holeburning in II-VI compounds for optical data storage |
FR2847594B1 (fr) * | 2002-11-27 | 2004-12-24 | Saint Gobain Cristaux Detecteu | Preparation de blocs d'halogenure de terre rare |
US20050240734A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Batson Brannon J | Cache coherence protocol |
US20070284534A1 (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | General Electric Company | Scintillators for detecting radiation, and related methods and articles |
-
1994
- 1994-12-02 US US08/348,298 patent/US5478498A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-02 DE DE4443001A patent/DE4443001A1/de not_active Withdrawn
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7067816B2 (en) | 2000-02-17 | 2006-06-27 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Scintillator crystals, method for making same, user thereof |
US7067815B2 (en) | 2000-02-17 | 2006-06-27 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Scintillator crystal, method for making same use thereof |
US7233006B2 (en) | 2000-02-17 | 2007-06-19 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Scintillator crystals, method for making same, use thereof |
US7250609B2 (en) | 2000-02-17 | 2007-07-31 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Scintillator crystals, method for making same, use thereof |
US7479637B2 (en) | 2000-02-17 | 2009-01-20 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Scintillator crystals, method for making same, use thereof |
FR2840926A1 (fr) * | 2002-06-12 | 2003-12-19 | Saint Gobain Cristaux Detecteu | Utilisation d'un creuset comprenant du carbone pour la croissance de cristaux comprenant un halogenure de terre rare |
WO2003106741A2 (fr) * | 2002-06-12 | 2003-12-24 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Procede de manipulation d'un chlorure ou bromure ou iodure de terre rare dans un creuset comprenant du carbone |
WO2003106741A3 (fr) * | 2002-06-12 | 2004-04-15 | Saint Gobain Cristaux Et Detec | Procede de manipulation d'un chlorure ou bromure ou iodure de terre rare dans un creuset comprenant du carbone |
US7332028B2 (en) | 2002-06-12 | 2008-02-19 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Method for manipulating a rare earth chloride or bromide or iodide in a crucible comprising carbon |
AU2003255657B2 (en) * | 2002-06-12 | 2009-07-02 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Method for manipulating a rare earth chloride or bromide or iodide in a crucible comprising carbon |
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US5478498A (en) | 1995-12-26 |
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