DE4442293A1

DE4442293A1 - Trocken entwickelbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung wasserlos druckender Offsetplatten

Info

Publication number: DE4442293A1
Application number: DE19944442293
Authority: DE
Inventors: Claus-Peter Dr Niesert; Willi-Kurt Dr Gries; Georg Dr Pawlowski; Klaus Juergen Dr Przybilla
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1994-11-28
Filing date: 1994-11-28
Publication date: 1996-05-30

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft Polysiloxane, ein trocken entwickelbares Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Silikonschicht sowie ein Verfahren zur Herstellung wasserlos druckender Offsetplatten.

Wasserlos druckende Offsetplatten sind ebenso bekannt wie Verfahren zu ihrer Herstellung, in denen kein flüs siger Entwickler benötigt wird. In der DE-A 37 04 394 (= US-A 4 755 445) ist ein Aufzeichnungsmaterial und in der DE-A 36 05 120 das entsprechende Herstellungsverfahren beschrieben. Das Aufzeichnungsmaterial umfaßt einen Trä ger, eine Schicht aus Mikrokapseln, die eine photopoly merisierbare Verbindung enthalten, und eine darüber be findliche Silikongummischicht. Beim bildmäßigen Bestrah len härtet der Inhalt der Mikrokapseln in den von der Strahlung getroffenen Bereichen aus. Die Mikrokapseln in den nichtbestrahlten Bereichen lassen sich durch mecha nischen Druck aufbrechen. Dadurch wird ihr Inhalt frei gesetzt und dringt in die Silikongummischicht ein. Nach einer anschließenden vollflächigen Bestrahlung ist die aus den Mikrokapseln stammende Verbindung in der Sili kongummischicht polymerisiert. Die auf diese Weise ver änderten Bereiche der Silikongummischicht ergeben ein lipophiles, Druckfarbe annehmendes Bild.

In der DE-A 25 23 758 (= GB-A 1 471 083) ist ein Verfah ren zur Herstellung einer wasserlos druckenden Offset platte beschrieben, bei dem eine auf einen Träger aufge brachte Schicht aus einem speziellen Silikon bildmäßig betonert wird. Durch Erhitzen wird die Silikonschicht vollständig ausgehärtet. Gleichzeitig werden die Toner partikel mit der Silikonschicht verschmolzen. Die beto nerten Bereiche sind anschließend farbannehmend, während die tonerfreien Bereiche die Druckfarbe abstoßen.

In dem Verfahren zur Herstellung einer wasserlos druckenden Offsetplatte gemäß der DE-A 24 56 539 (US-A 3 951 060) wird ebenfalls eine spezielle Silikonschicht verwendet. Diese wird bildmäßig betonert und dann er hitzt. Dabei zersetzt sich das Silikon in den betonerten Bereichen. Nach dem Entfernen der Tonerpartikel und der zersetzten Bestandteile der Silikonschicht sind allein diese Bereiche farbannehmend, die übrigen Schichtberei che nicht.

Ein ähnlicher Weg wurde in der DE-A 24 12 595 (US-A 4 019 437) eingeschlagen, wo durch bildmäßig aufge brachte Tonerpartikel, die man später wieder entfernt, Vertiefungen in einer Silikonschicht erzeugt werden. Nur die Bereiche der Schicht, die diese Vertiefungen aufwei sen, nehmen die Druckfarbe an.

Der wesentliche Nachteil all dieser Verfahren ist, daß sie zur Herstellung der Druckform mehrere Schritte er fordern und damit sehr aufwendig sind.

Ein mehrschichtiges Aufzeichnungsmaterial zur Herstel lung von wasserlos druckenden Flachdruckplatten ist in der DE-A 24 49 172 (= GB-A 1 454 017) beschrieben. Es umfaßt auf einem (Aluminium-)Trägermaterial eine Sili kongrundierung, eine Silikonkautschukschicht und eine weitere Schicht, die eine photopolymerisierbare Verbin dung und einen Photoinitiator enthält. Auf die oberste Schicht ist eine Polymerfolie, beispielsweise eine Polypropylenfolie, laminiert. Zur Herstellung der Druckplatte wird das Aufzeichnungsmaterial bildmäßig be strahlt. Durch die dadurch induzierte Polymerisation haften die bestrahlten Bereiche der weiteren Schicht fest an der darunterliegenden Silikonkautschukschicht. Die nicht bestrahlten und dementsprechend nicht polyme risierten Bereiche der Schicht lassen sich zusammen mit der Polymer-Deckfolie abziehen.

Ein "peel-apart"-Verfahren zur Herstellung von wasserlos druckenden Offsetplatten ist auch in der DE-A 28 02 085 (GB-A 1 588 063) beschrieben. Als Ausgangsmaterial dient hier jedoch ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger, einer Schicht aus einem photohärtbaren Organopolysiloxan und einer transparenten Deckfolie. Nach dem bildmäßigen Bestrahlen haften die bestrahlten und damit gehärteten Bereiche der Organopolysiloxanschicht am Träger, während die nicht-bestrahlten Bereiche an der Deckfolie - bei spielsweise einer Polypropylenfolie - haften und zusam men mit ihr abgezogen werden können. Der wesentliche Nachteil bei den Peel-apart-Verfahren ist, daß dafür Aufzeichnungsmaterialien mit einem mehrschichtigen Auf bau notwendig sind. Zudem bleibt dabei stets eine Folie mit anhaftenden Schichtresten zurück.

Es bestand daher die Aufgabe, ein Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von wasserlos druckenden Flachdruck platten zur Verfügung zu stellen, das möglichst einfach im Aufbau ist und nach dem bildmäßigen Bestrahlen auf einfache Weise entwickelt werden kann. Bei der Entwick lung sollen möglichst keine flüssigen oder festen Ab fallprodukte entstehen.

Gelöst wird die Aufgabe durch ein trocken entwickelbares Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strah lungsempfindlichen Silikonschicht, das dadurch gekenn zeichnet ist, daß die Silikonschicht mindestens

- eine Verbindung, die unter der Einwirkung aktini scher Strahlung eine Säure hervorbringt, und
- ein Polydiorganosiloxan, das mindestens 15 mol-% an Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten

enthält.

Vorzugsweise enthält die Silikonschicht noch mindestens einen vernetzbaren Silikonkautschuk.

Unter Polydiorganosiloxanen sind hier kettenförmige Polymere zu verstehen, in denen organische Reste direkt oder über Sauerstoffatome an die Siliciumatome gebunden sind.

Die Polydiorganosiloxane mit den Di-tert.-butoxy-sila nyloxy-Einheiten können Homo- oder Copolymere sein. Die Homopolymere sind bereits bekannt (Sakata et al., J. Photopolym. Sci. Technol. 5 [1993] 181-190). Sie las sen sich beispielsweise aus Diacetoxy-di-tert.-butoxy silan herstellen. Solche Homopolymere wurden bisher nur in der Mikrolithographie (Chem. Abstr. 119 [1993] Ab stract No. 170341) verwendet. Ihre Verwendung in wasser los druckenden Offsetplatten ist dagegen neu und Teil der vorliegenden Erfindung.

Die Copolymere sind neu und ebenfalls Teil der vorlie genden Anmeldung. Sie enthalten mindestens 15 mol-%, be vorzugt 25 bis 95 mol-%, besonders bevorzugt 25 bis 90 mol-%, an Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten. Daneben enthalten sie bis zu 85 mol-%, bevorzugt 5 bis 75 mol-%, besonders bevorzugt 10 bis 75 mol-%, an weiteren Sila nyloxy-Einheiten, die anstelle der Butoxygruppen Wasser stoffatome oder gegebenenfalls substituierte Kohlenwas serstoffreste enthalten. Dies sind insbesondere solche Silanyloxy-Einheiten, in denen Wasserstoff, (C₁-C₁₂)- Alkyl-, (C₁-C₁₂)Halogenalkyl-, (C₁-C₁₂)Alkenyl- oder Phenylreste an die Siliciumatome gebunden sind. Die Al kenylreste sind bevorzugt Vinyl-, Propenyl- oder Allyl reste. Die Phenylgruppen können substituiert sein, vor allem mit Halogenatomen. Besonders geeignet sind Copoly mere, die neben den Einheiten mit tert.-Butoxy-Substi tuenten nur noch Einheiten mit (C₁-C₁₂)Alkylresten tra gen. Die (C₁-C₁₂)Alkylreste sind bevorzugt (C₁-C₄)- Alkylreste, insbesondere Methylreste. Das mittlere Molekulargewicht M_w der Homo- und Copolymere beträgt allgemein mindestens 1.000, bevorzugt 1.000 bis 50.000, besonders bevorzugt 2.000 bis 20.000.

Durch das Herstellungsverfahren bedingt, tragen die Polydiorganosiloxane, die Di-tert.-butoxy-silanyloxy- Einheiten enthalten, an den Kettenenden OH-Gruppen. In einem weiteren Verfahrensschritt können diese OH-Gruppen jedoch mit Chlorsilanen oder anderen reaktiven Silanen umgesetzt werden, um spezifische Endgruppen an die Poly siloxane anzufügen. Im einfachsten Fall wird dazu mit Trimethyl-chlorsilan umgesetzt. Die so hergestellten Polymere tragen dann Trimethylsilyl-Endgruppen. Ebenso lassen sich auch andere funktionelle Chlorsilane verwen den, z. B. Dimethyl-vinyl-chlorsilan, Phenyl-methyl chlorsilan [C₆H₅-SiHCl(CH₃)], Di-tert.-butyl-chlorsilan ([(CH₃)₃C]₂SiHCl), (2-Chlor-ethyl)-dimethyl-chlorsilan oder Triethoxychlorsilan [(C₂H₅O)₃SiCl]. Die so modifi zierten Polysiloxane tragen an den Endgruppen entspre chend Wasserstoff, Vinyl-, Chloralkyl-, Alkoxy- oder an dere der genannten Reste.

Die Silikonschicht des erfindungsgemäßen Aufzeichnungs materials enthält bis zu 85 Gew.-%, bevorzugt 20 bis 75 Gew.-%, des vernetzbaren Silikonkautschuks, der in Gegenwart eines Katalysators bei erhöhter Temperatur zu einem Silikongummi härtbar ist. Der Silikonkautschuk kann durch die in der Silikonchemie üblichen Kondensa tions- oder Additionsreaktionen gehärtet werden.

Hochmolekulare, kettenförmige oder verzweigte Polydi organosiloxane werden allgemein als Silikonkautschuk (silicone gum) bezeichnet, während die gehärtete (ver netzte) Form als Silikongummi (silicone rubber) bezeich net wird.

Bevorzugt sind mindestens 80 mol-% der Polymereinheiten des vernetzbaren Silikonkautschuks Dimethylsilanyloxy- Einheiten [-Si(CH₃)₂-O-]. In den übrigen Silanyloxy-Ein heiten können beispielsweise Wasserstoff, (C₁-C₁₂)- Alkyl-, (C₁-C₁₂)Alkenyl-, (C₁-C₁₂)Halogenalkyl- oder Phenylreste an die Siliciumatome gebunden sein. Die Phe nylreste können ihrerseits substituiert sein, bevorzugt mit Halogenatomen.

Kondensationshärtenden Silikonkautschuken werden übli cherweise ein Vernetzer und ein Katalysator zugesetzt. Solche Vernetzer sind beispielsweise Alkyl-trialkoxysi lane oder Alkyl-triacetoxysilane, wie Octyl-trimethoxy silan, (3-Amino-propyl)-trimethoxysilan oder Ethyl-tri acetoxysilan. Die Kondensationsvernetzung läßt sich durch Katalysatoren, insbesondere Organozinnverbindun gen, wie Dibutylzinndilaurat oder Zinnoctoat, beschleu nigen.

Additionsvernetzende Systeme bestehen in der Regel aus Polysiloxan-Gemischen, die sowohl Si-H als auch Si-Al kenyl-Reste, bevorzugt Si-Vinylreste, entlang der Poly merketten tragen. Die Additionsvernetzung läßt sich be sonders gut durch Platinverbindungen katalysieren.

Der höheren mechanischen Stabilität wegen sind Schichten mit vernetzten Silikonen bevorzugt. Über geeignete Sub stituenten an den Kettenenden können gegebenenfalls auch die Polydiorganosiloxane, die Di-tert.-butyl-silanyloxy- Einheiten enthalten, in die Kondensations- oder Addi tionsreaktion eingehen.

Der vernetzbare Silikonkautschuk ist insbesondere dann entbehrlich, wenn ein Polydiorganosiloxan-Copolymer mit 15 bis 50 mol-% an Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten und 85 bis 50 mol-% an den oben genannten anderen Silanyloxy-Einheiten gewählt wird. Bevorzugt sind hier Copolymere mit 20 bis 45 mol-% an Di-tert.-butoxy silanyloxy-Einheiten.

Die Endgruppen der Copolymere sind frei wählbar. Um der Schicht eine ausreichende, mechanische Stabilität zu verleihen, werden jedoch bevorzugt Copolymere verwendet, die an den Endgruppen Reste tragen, die durch eine Kon densations- oder Additionsreaktion miteinander oder mit Vernetzern reagieren. Dabei erfolgt eine Molekular gewichtserhöhung und gegebenenfalls eine Vernetzung der Schicht. Solche Reste sind insbesondere OH-Gruppen, de ren Ether und Ester, aber auch Wasserstoff- und Vinyl- Substituenten. Um die Kondensations- beziehungsweise Additionsreaktion zu unterstützen, können dem Gemisch die bereits oben erwähnten Vernetzer und Vernetzungs katalysatoren zugegeben werden.

Die Verbindung, die unter der Einwirkung aktinischer Strahlung eine (Brönstedt-)Säure bildet, kann aus ver schiedenen Verbindungsklassen stammen. Vorzugsweise wer den α-Arylsulfonyloxymethyl-benzoine, α-Alkylsulfonyl oxymethyl-benzoine, N-Arylsulfonyloxy-pyridin-2-one, N- Alkylsulfonyloxy-pyridin-2-one, Ester aus Aren- oder Al kansulfonsäuren und Hydroxyaromaten, Trihalogenmethyl-s triazine, Triarylsulfoniumsalze und Diaryliodoniumsalze eingesetzt, speziell Trihalogenmethyl-s-triazine wie 2- (4-Styryl-phenyl)-4,6-bis-trichlormethyl-[1,3,5]triazin. Der Anteil der säurebildenden Verbindung(en) beträgt allgemein 0,5 bis 15 Gew.-%, bevorzugt 1 bis 10 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nicht-flüchti gen Bestandteile der Silikonschicht.

Die säurebildende Verbindung, die idealerweise nur bei Bestrahlung Säure bildet, setzt in der Praxis oft auch beim Erwärmen eine geringe Menge an Säure frei. Dies kann zu einer schlechteren Bilddifferenzierung führen. Deshalb enthält die strahlungsempfindliche Schicht in einer bevorzugten Ausführungsform noch eine basische Verbindung, die diese unerwünschten Säurespuren abfängt. Der Anteil der basischen Verbindung soll dabei gerade so groß sein, daß Spuren von Säure neutralisiert werden können. Die Menge der durch Bestrahlung freigesetzten Säure soll dadurch nur unwesentlich vermindert werden.

Darüber hinaus kann die strahlungsempfindliche Schicht Farbstoffe oder Pigmente enthalten. Diese können als Indikatoren wirken, die unter der Einwirkung von Strah lung oder Säure ihre Farbe ändern, oder als Sensibilisa toren, die die spektrale Empfindlichkeit der säurebil denden Verbindung verschieben. Schließlich kann die Schicht noch mechanisch verstärkend wirkende Füllstoffe, wie hochdisperse Kieselsäure, oder andere Polymere, die mit den übrigen Bestandteilen der Schicht mischbar sind, enthalten.

Zur Beschichtung eines Substrats wird allgemein eine Lö sung der obengenannten Bestandteile in einem organischen Lösemittel verwendet. Das Lösemittel ist beispielsweise ein aromatischer oder aliphatischer Kohlenwasserstoff, ein Halogenkohlenwasserstoff, ein Ester, ein Keton oder ein Aldehyd. Bevorzugte Lösemittel sind Toluol, Hexan, Heptan, Butanon und Methylisobutylketon.

Der Anteil des Lösemittels an der Beschichtungslösung richtet sich nach dem Beschichtungsverfahren, dem ange strebten Schichtgewicht und dem Molekulargewicht der einzelnen Komponenten. In dem erfindungsgemäßen Auf zeichnungsmaterial beträgt das Schichtgewicht allgemein 0,5 bis 20 g/m², bevorzugt 1 bis 10 g/m².

Der Träger (= Substrat) ist allgemein flächenförmig und besteht aus Metall, Kunststoff oder gegebenenfalls be schichtetem Papier. Das Metall ist gewöhnlich Kupfer, Aluminium, Eisen oder Zink. Aluminium ist besonders be vorzugt. Der Träger kann mit einem Haftvermittler vorbe handelt sein.

Nach dem Aufbringen der Beschichtungslösung auf das Sub strat wird für einige Minuten auf 80 bis 110°C erwärmt. Dabei entweicht der überwiegende Teil des organischen Lösemittels aus der Schicht. Gegebenenfalls vernetzt da bei auch der Silikonkautschuk. Die Oberfläche der strah lungsempfindlichen Schicht fühlt sich danach trocken an. Um die strahlungsempfindliche Silikonschicht vor Beschä digung zu schützen, kann anschließend eine weitere Schicht aus einem transparenten Material aufgebracht werden. "Transparent" bedeutet in diesem Zusammenhang, daß die zusätzliche Schicht durchlässig ist für die ver wendete Strahlung. Sie soll sich auf einfache Weise vollständig wieder entfernen lassen, beispielsweise durch Abziehen. Dafür geeignet sind besonders Folien aus Polyester oder Polypropylen, die durch Laminieren aufge bracht werden können.

Die Art der Strahlungsquellen hängt davon ab, in welchem Bereich des Spektrums die säurebildende Verbindung ihre maximale Empfindlichkeit hat. Eine sensibilisierende Verbindung kann die spektrale Empfindlichkeit "verschieben". Allgemein werden jedoch Quecksilber- Hochdruckdampflampen verwendet.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung der was serlos druckenden Offsetplatten ist dadurch gekenn zeichnet, daß das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial bildmäßig bestrahlt und dann für etwa 30 s bis 10 min (im allgemeinen einige Minuten) auf etwa 40 bis 200°C, bevorzugt 80 bis 160°C, erhitzt wird. Erst danach neh men die bestrahlten Bereiche die Druckfarbe an. Die Ur sache dieser chemischen Veränderung wurde noch nicht eindeutig geklärt. Infrarot-spektroskopisch läßt sich jedoch feststellen, daß die tert.-Butylgruppen in den bestrahlten Bereichen nicht mehr vorhanden sind. Sie werden offensichtlich in Isobuten umgewandelt, das aus der Schicht herausdiffundiert. Überraschend war es, daß auf diese Weise ein ausreichender Unterschied in der Affinität zu der Druckfarbe zwischen den bestrahlten und den unbestrahlten Bereichen der Schicht erzielt werden konnte.

Allgemeine Herstellungsvorschrift

Zu einer Lösung aus 1 mol Diacetoxy-silan-Monomer in der 15fachen Gewichtsmenge 4-Methyl-pentan-2-on ("Isobutyl methylketon") werden etwas mehr als 2 mol Triethylamin und 1 mol Wasser gegeben. Dabei erwärmt sich die Reak tionslösung. Anschließend wird noch etwa 4 Stunden lang bei etwa 80°C gerührt. Nach dem Abkühlen wird die Lö sung mit Wasser gewaschen, über Natriumsulfat getrock net, filtriert und dann im Vakuum eingeengt. Das poly mere Produkt bleibt dabei in fester oder öliger Form zu rück. Durch Änderung von Reaktionsdauer und -temperatur läßt sich das mittlere Molekulargewicht M_w beeinflussen.

Werden nach dem Abkühlen der Reaktionslösung und vor der wäßrigen Aufarbeitung noch eine kleine Menge (allgemein weniger als 1/10 mol) eines Halogensilans sowie minde stens 1 mol Triethylamin zugegeben und wird die so er haltene Lösung dann noch etwa eine Stunde bei Raumtempe ratur gerührt, bevor sie wie zuvor beschrieben aufgear beitet wird, so erhält man ein Polymer mit entsprechend modifizierten Endgruppen. War das Halogensilan Chlor trimethyl-silan, so enthält das Polymer -O-Si(CH₃)₃ End gruppen.

Herstellungsbeispiel 1

Zu einer Lösung aus 30 g Diacetoxy-di-tert.-butoxy-silan in 200 ml 4-Methyl-pentan-2-on werden 21,1 g Triethyl amin und 3,7 g Wasser gegeben. Danach wird gemäß allge meiner Herstellungsvorschrift verfahren. Man erhält als Produkt 11,6 g eines weißen Feststoffs der Formel H-(O- Si[O-C(CH₃)₃]₂)_n-OH [Poly(di-tert.-butoxy-siloxan)] mit einem mittleren Molekulargewicht M_w von 7.400 (ermittelt durch Gelpermeationschromatographie). Die Polydispersi tät, d. h. das Verhältnis M_w/M_n, beträgt 2,0.

Herstellungsbeispiel 2

Zu einer Lösung aus 45,3 g (155 mmol) Diacetoxy-di tert.-butoxy-silan und 9,3 g (53 mmol) Diacetoxy-dime thyl-silan in 200 ml 4-Methyl-pentan-2-on werden 58 ml Triethylamin und 7,2 g Wasser gegeben. Danach wird gemäß allgemeiner Herstellungsvorschrift verfahren. Man erhält als Produkt 16,7 g eines zähen, gelblichen Feststoffs mit einem mittleren Molekulargewicht M_w von 4.800 (ermittelt durch Gelpermeationschromatographie), M_w/M_n = 1,9. Aus dem ¹H-Kernresonanz-Spektrum (Lösemittel: deu teriertes Dimethylsulfoxid, DMSO-d₆) ergibt sich, daß das Verhältnis von tert.-Butoxy- zu Methylgruppen 1:1 beträgt.

Herstellungsbeispiel 3

Zu einer Lösung aus 30 g (103 mmol) Diacetoxy-di-tert.-butoxy-silan und 18,1 g (103 mmol) Diacetoxy-dimethyl silan in 200 ml 4-Methyl-pentan-2-on werden 58 ml Tri ethylamin und 7,2 g Wasser gegeben. Danach wird gemäß allgemeiner Herstellungsvorschrift verfahren. Man erhält als Produkt 15,9 g eines sehr zähen, gelblichen Öls mit einem mittleren Molekulargewicht M_w von 3.400 (ermittelt durch Gelpermeationschromatographie), M_w/M_n = 1,7. Aus dem ¹H-Kernresonanz-Spektrum (Lösemittel: DMSO-d₆) er gibt sich, daß das Verhältnis von tert.-Butoxy- zu Methylgruppen 1 : 2,7 beträgt.

Herstellungsbeispiel 4

Zu einer Lösung aus 20,0 g (68,4 mmol) Diacetoxy-di tert.-butoxy-silan und 24,1 g (136,8 mmol) Diacetoxy-di methyl-silan in 200 ml 4-Methyl-pentan-2-on werden 58 ml Triethylamin und 7,2 g Wasser gegeben. Danach wird gemäß allgemeiner Herstellungsvorschrift verfahren. Man erhält als Produkt 13,8 g eines gelblichen Öls mit einem mitt leren Molekulargewicht M_w von 2 870 (ermittelt durch Gelpermeationschromatographie), M_w/M_n = 1,5. Aus dem ¹H- Kernresonanz-Spektrum (Lösemittel: deuteriertes Di methylsulfoxid, DMSO-d₆) ergibt sich, daß das Verhältnis von tert.-Butoxy- zu Methylgruppen 1 : 5,5 beträgt.

Anwendungsbeispiel 1

Eine Lösung aus

11 Gt (= Gewichtsteilen) Poly(di-tert.-butoxysil oxan) des Herstellungsbeispiels 1,
66 Gt einer Lösung eines kondensationshärtenden Poly(dimethylsiloxans) (33gew-%ig in Toluol; Viskosität bei 25°C: 9.000 bis 15.000 mPa·s; Dehesive 810 der Wacker GmbH)
5 Gt n-Octyl-trimethoxy-silan,
2 Gt einer Lösung, die einen Organozinn-Katalysator enthält (Katalysator C80 der Wacker GmbH),
1,5 Gt 2-(4-Styryl-phenyl)-4,6-bis-trichlormethyl- [1,3,5]triazin und
190 Gt Toluol

wurde mit Hilfe einer Zugstange auf eine elektrochemisch aufgerauhte Aluminiumplatte aufgebracht und anschließend 3 min lang bei 105°C gehärtet. Auf die gehärtete Schicht wurde dann bei 100°C eine oPP-Folie [längs- und querverstreckte ("orientierte") und hitzefixierte Poly propylenfolie] laminiert. Das so hergestellte Aufzeich nungsmaterial wurde bildmäßig unter Verwendung einer Quecksilber-Hochdruckdampflampe bestrahlt und anschlie ßend 5 min lang auf 105°C erhitzt. Danach wurde die Schutzfolie abgezogen. Die so hergestellte Druckplatte wurde in eine Druckpresse gespannt und mit Wasserlos- Offsetfarbe eingefärbt. Sie lieferte originalgetreue Wiedergaben der Druckvorlage. Die bestrahlten Bereiche übertrugen dabei die Druckfarbe, während die nicht be strahlten Bereiche sie abstießen und dadurch den Bild hintergrund (die "Nichtbildstellen") ergaben.

Anwendungsbeispiel 2

Es wurde ein Aufzeichungsmaterial gemäß Anwendungs beispiel 1 hergestellt mit der einzigen Abweichung, daß die Beschichtungslösung 150 statt 190 Gt Toluol, 33 statt 66 Gt der Poly(dimethylsiloxan)-Lösung und 22 Gt des Copolymers aus Herstellungsbeispiel 2 statt 11 Gt des Homopolymers aus Herstellungsbeispiel 1 enthielt. Auch aus diesem Aufzeichungsmaterial ließ sich eine was serlos druckende Offsetplatte mit gutem Bildkontrast herstellen.

Anwendungsbeispiel 3

Es wurde ein Aufzeichungsmaterial gemäß Anwendungs beispiel 1 hergestellt mit der einzigen Abweichung, daß die Beschichtungslösung 150 statt 190 Gt Toluol, 33 statt 66 Gt der Poly(dimethylsiloxan)-Lösung und 33 Gt des Copolymers aus Herstellungsbeispiel 3 statt 11 Gt des Homopolymers aus Herstellungsbeispiel 1 enthielt. Die aus diesem Aufzeichungsmaterial hergestellte wasser los druckende Offsetplatte nahm die Druckfarbe in den belichteten Bereichen etwas weniger gut an, der Bildkon trast war geringer.

Claims

1. Polysiloxan-Copolymere mit mindestens 15 mol-% an Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten und bis zu 85 mol-% an weiteren Silanyloxy-Einheiten, die an stelle der Butoxygruppen Wasserstoffatome oder gegebenenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste enthalten.

2. Copolymere gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß sie 25 bis 95 mol-%, bevorzugt 25 bis 90 mol-%, an Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten so wie 5 bis zu 75 mol-%, bevorzugt 10 bis 75 mol-%, an weiteren Silanyloxy-Einheiten enthalten, die an stelle der Butoxygruppen Wasserstoffatome oder gegebenenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste haben.

3. Copolymere gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn zeichnet, daß in den weiteren Silanyloxy-Einheiten anstelle der Butoxygruppen Wasserstoff, (C₁-C₁₂)- Alkyl-, (C₁-C₁₂)Halogenalkyl-, (C₁-C₁₂)Alkenyl- oder Phenylreste an die Siliciumatome gebunden sind.

4. Copolymere gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ihr mittleres Molekulargewicht M_w mindestens 1.000, bevorzugt 1.000 bis 50.000, besonders bevorzugt 2.000 bis 20.000, beträgt.

5. Trocken entwickelbares Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Silikonschicht, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Silikonschicht mindestens

- eine Verbindung, die unter der Einwirkung aktinischer Strahlung eine Säure hervorbringt und
- ein Polydiorganosiloxan mit mindestens 15 mol-% an Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten enthält.

6. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 5, dadurch ge kennzeichnet, daß die Silikonschicht zusätzlich einen vernetzbaren Silikonkautschuk enthält.

7. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 5, dadurch ge kennzeichnet, daß das Polydiorganosiloxan ein Homo polymer aus Di-tert.-butoxy-silanyloxy-Einheiten ist.

8. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 5, dadurch ge kennzeichnet, daß das Polydiorganosiloxan ein Copo lymer gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4 ist.

9. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Silikonschicht bis zu 85 Gew.-%, bevorzugt 20 bis 75 Gew.-%, des vernetzbaren Silikonkautschuks ent hält.

10. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 6, dadurch ge kennzeichnet, daß der vernetzbare Silikonkautschuk mindestens 80 mol-% an Dimethylsilanyloxy-Einheiten enthält.

11. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil der säurebildenden Verbindung(en) 0,5 bis 15 Gew.-%, bevorzugt 1 bis 10 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nicht-flüchtigen Bestand teile der Silikonschicht, beträgt.

12. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 5 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß als säurebildende Verbindungen α-Arylsulfonyloxymethyl benzoine, α-Alkylsulfonyloxymethyl-benzoine, N- Arylsulfonyloxy-pyridin-2-one, N-Alkylsulfonyloxy pyridin-2-one, Ester aus Aren- oder Alkansulfon säuren und Hydroxyaromaten, Trihalogenmethyl-s-tri azine, Triarylsulfoniumsalze und Diaryliodonium salze, speziell Trihalogenmethyl-s-triazine wie 2- (4-Styryl-phenyl)-4,6-bis-trichlormethyl-[1,3,5] triazin eingesetzt werden.

13. Verfahren zur Herstellung einer wasserlos drucken den Offsetplatte, dadurch gekennzeichnet, daß das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial bildmäßig bestrahlt und dann einige Minuten lang auf etwa 40 bis 200°C, bevorzugt 80 bis 160°C, erhitzt wird.

14. Verfahren gemäß Anspruch 13, dadurch gekennzeich net, daß das Aufzeichnungsmaterial auf 80 bis 160°C erhitzt und gegebenenfalls anschließend die Schutzfolie abgezogen wird.

15. Verwendung von Poly(di-tert.-butoxy-siloxan) zur Herstellung von wasserlos druckenden Offsetplatten.