DE4422756C1 - Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen - Google Patents

Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen

Info

Publication number
DE4422756C1
DE4422756C1 DE4422756A DE4422756A DE4422756C1 DE 4422756 C1 DE4422756 C1 DE 4422756C1 DE 4422756 A DE4422756 A DE 4422756A DE 4422756 A DE4422756 A DE 4422756A DE 4422756 C1 DE4422756 C1 DE 4422756C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tinning
electrolyte
aluminium alloys
acid electrolyte
regulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4422756A
Other languages
English (en)
Inventor
Dieter Dr Guhl
Frank Honselmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
TH Goldschmidt AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TH Goldschmidt AG filed Critical TH Goldschmidt AG
Priority to DE4422756A priority Critical patent/DE4422756C1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4422756C1 publication Critical patent/DE4422756C1/de
Priority to ES95109306T priority patent/ES2108518T3/es
Priority to DE59500940T priority patent/DE59500940D1/de
Priority to EP95109306A priority patent/EP0690146B1/de
Priority to US08/493,758 priority patent/US6183617B1/en
Priority to CA002152655A priority patent/CA2152655A1/en
Priority to BR9502972A priority patent/BR9502972A/pt
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft selbstregulierende halogenhaltige Zusätze für saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Substraten aus Aluminiumle­ gierungen.
Wie z. B. aus EP-A-0 278 752 bekannt ist, können mit sauren, halogen­ haltige Zusätze enthaltenden Zinnsalzelektrolyten Aluminiumlegierungen im Austauschverfahren verzinnt werden. Alle dort namentlich genannten Halogenverbindungen werden dabei deutlich unterhalb ihrer Löslichkeit im Elektrolyten angewendet. Dies bedeutet, daß diese Verbindungen bei laufendem Gebrauch der Elektrolyte regelmäßig analysiert (relativ auf­ wendige Analysen) und eingestellt werden müssen, um ihren Gehalt in den notwendigen Bereichen zu halten.
Die vorliegende Erfindung befaßt sich deshalb mit dem technischen Pro­ blem, halogenhaltige Zusätze zu finden, mit welchen es gelingt, den wirksamen Halogengehalt praktisch annähernd konstant zu halten, ohne daß hierzu relativ aufwendige Analysen und entsprechende Einstellungen nötig werden und so ohne großen Aufwand eine gleichbleibende Ver­ zinnungsqualität erzielt wird.
Dies ist gelungen, indem den Elektrolyten als halogenhaltige Zusätze Fluorokomplexe zugegeben wurden, bei welchen der optimal wirksame Ha­ logengehalt der maximalen Löslichkeit der Wirksubstanz im Elektrolyten entspricht. Damit erreicht man bei mäßiger Überdosierung des halogen­ haltigen Zusatzes durch Wahl einer Konzentration, die leicht oberhalb des Löslichkeitsproduktes unter Einsatzbedingungen liegt, einen rela­ tiv konstanten Wirkstoffgehalt im gewünschten Bereich. Bevorzugt sind die Fluorokomplexe Na₂SiF₆ und KBF₄.
Beispiele Elektrolyt 1
100 g/l H₂SO₄
 40 g/l SnSO₄
  2 g/l Gelatine
  0,1 g/l Polyoxyethylenether des Stearylalkohols mit 20 Oxyethylen­ einheiten
  8 g/l Na₂SiF₆, dies entspricht einem gelösten Gehalt von 7,5 g/l im Elektrolyten bei 20°C
Elektrolyt 2
100 g/l H₂SO₄
 40 g/l SnSO₄
  2 g/l Gelatine
  0,1 g/l Polyoxyethylenether des Stearylalkohols mit 20 Oxyethylen­ einheiten
  8 g/l KBF₄, dies entspricht einem gelösten Gehalt von 7 g/l im Elektrolyten bei 30°C
Elektrolyt 3 (Vergleichsbeispiel)
Als halogenhaltiger Zusatz wird HBF₄ eingesetzt, die deutlich unter­ halb ihrer Löslichkeit im Elektrolyten angewendet werden muß, um stö­ rende Nebenreaktionen zu vermeiden und befriedigende Abscheidungser­ gebnisse zu erhalten.
100 g/l H₂SO₄
 40 g/l SnSO₄
  2 g/l Gelatine
  0,1 g/l Polyoxyethylenether des Stearylalkohols mit 20 Oxyethylen­ einheiten
  3,5 g/l HBF₄
Hinweis: Es sind deutlich mehr als 300 g/l HBF₄ bei 30°C im Elektro­ lyten löslich.
Substrate
Probestücke aus einer Aluminiumlegierung mit 10 bis 15% Si, 1 bis 1,5% Cu, 1 bis 1,5% Mg und 1 bis 1,5% Ni.
Vorbehandlung
Die Substrate wurden in an sich bekannter Weise entfettet, bebeizt und gespült.
Verzinnung
Die Substrate wurden für die Dauer von 5 Minuten in den Elektrolyten getaucht.
Verzinnungsergebnisse 1. Elektrolyt 1 a) Verzinnung mit neu angesetzten Elektrolyten
Es wurde eine gleichmäßige, glatte, 1,8 µm dicke Zinnschicht abgeschieden.
b) Verzinnung in einem gebrauchten Elektrolyten
Es wurden nach entsprechenden Analysen insgesamt 80 g/l SnSO₄ und 20 g/l H₂SO4 zugegeben. Weiter wurden zusammen mit dem SnSO₄ insgesamt 16 g/l Na₂SiF₆ empirisch ergänzt (z. B. in Form einer krist. Zubereitung von SnSO₄ und Na₂SiF₆).
Es wurde eine gleichmäßige, glatte, 1,8 µm dicke Zinnschicht abge­ schieden.
2. Elektrolyt 2 a) Verzinnung im neu angesetzten Elektrolyten
Es wurde eine gleichmäßige, glatte, 1,4 µm dicke Zinnschicht abge­ schieden.
b) Verzinnung in einem gebrauchten Elektrolyten
Es wurden nach entsprechenden Analysen insgesamt 60 g/l SnSO₄ und 18 g/l H₂SO₄ zugegeben. Weiter wurden zusammen mit dem SnSO₄ insgesamt 12 g/l KBF₄ empirisch ergänzt (z. B. in Form einer krist. Zubereitung von SnSO₄ und K₂SO₄ und einer flüssigen Zubereitung von H₂SO₄ und HBF₄, so daß das KBF₄ im Elektro­ lyten gebildet wird).
Es wurde eine gleichmäßige, glatte, 1,3 µm dicke Zinnschicht abge­ schieden.
3. Elektrolyt 3 (Vergleichsbeispiel) a) Verzinnung im neu angesetzten Elektrolyten
Es wurde eine gleichmäßige, glatte, 2,1 µm dicke Zinnschicht abge­ schieden.
b) Verzinnung in einem gebrauchten Elektrolyten
Es wurden nach entsprechenden Analysen insgesamt 60 g/l SnSO₄, 17 g/l H₂SO₄ und 3,6 g/l HBF₄ ergänzt.
Es wurde eine gleichmäßige, glatte, 1,8 µm dicke Zinnschicht abge­ schieden.
Anders als in Beispiel Nr. 1 und Nr. 2 mußte der halogenhaltige Zu­ satz mehrmals relativ aufwendig analysiert werden.
Der HBF₄-Gehalt wurde insgesamt viermal analysiert und ergänzt und konnte so zwischen 2,8 und 3,8 g/l gehalten werden. Dies ist notwendig, da die Schichtdicke bei einem zu niedrigen HBF₄-Gehalt zu dünn wird bzw. bei einem zu hohen HBF₄-Gehalt unwirtschaft­ lich dick wird, bei Gehalten über 15 g/l HBF₄ außerdem nur noch sehr schlecht haftet.
Die Analysen erfolgten nach einem alkalischen Aufschluß der Badpro­ ben durch eine Fluoridbestimmung mit einer selektiven Elektrode.
Versuche, den HBF₄-Gehalt mit einfacheren Analysenmethoden, z. B. mit selektiven Fluoroboratelektroden, oder gravimetrisch, z. B. durch Fällung mit Nitron zu bestimmen, scheiterten, da das SnSO₄, die H₂SO₄ bzw. die Gelatine bei diesen Analysenmethoden störte.

Claims (3)

1. Saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen, enthaltend Zinnsalze, Tenside und Halogenionen lieferende Zusätze, dadurch gekennzeichnet, daß als Halogenionen liefernde Zusätze Fluorokomplexe, bei denen der optimal wirksame Halogengehalt der maximalen Löslichkeit entspricht, zugesetzt sind.
2. Saure Elektrolyte gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fluorokomplexe in Konzentrationen oberhalb des Löslichkeitspro­ duktes zugesetzt sind.
3. Saure Elektrolyte gemäß Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Fluorokomplexe Na₂SiF₆ und KBF₄ sind.
DE4422756A 1994-06-29 1994-06-29 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen Expired - Fee Related DE4422756C1 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4422756A DE4422756C1 (de) 1994-06-29 1994-06-29 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen
ES95109306T ES2108518T3 (es) 1994-06-29 1995-06-16 Electrolitos acidos de regulacion automatica para estañado por inmersion de aleaciones de aluminio.
DE59500940T DE59500940D1 (de) 1994-06-29 1995-06-16 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen
EP95109306A EP0690146B1 (de) 1994-06-29 1995-06-16 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen
US08/493,758 US6183617B1 (en) 1994-06-29 1995-06-22 Self-regulating, acidic electrolytes for dip-tin-plating aluminum alloys
CA002152655A CA2152655A1 (en) 1994-06-29 1995-06-26 Self-regulating, acidic electrolytes for dip-tin-plating aluminum alloys
BR9502972A BR9502972A (pt) 1994-06-29 1995-06-28 Eletrólitos ácidos para a estanhagem por imersao de ligas de alumínio

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4422756A DE4422756C1 (de) 1994-06-29 1994-06-29 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4422756C1 true DE4422756C1 (de) 1995-04-20

Family

ID=6521814

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4422756A Expired - Fee Related DE4422756C1 (de) 1994-06-29 1994-06-29 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen
DE59500940T Expired - Lifetime DE59500940D1 (de) 1994-06-29 1995-06-16 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59500940T Expired - Lifetime DE59500940D1 (de) 1994-06-29 1995-06-16 Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6183617B1 (de)
EP (1) EP0690146B1 (de)
BR (1) BR9502972A (de)
CA (1) CA2152655A1 (de)
DE (2) DE4422756C1 (de)
ES (1) ES2108518T3 (de)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0278752A1 (de) * 1987-02-10 1988-08-17 A.P.T. Advanced Plating Technologies, Ltd. Eintauchlösung zur Zinnabscheidung und Abscheidungsverfahren unter Verwendung derselben

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH224660A (de) * 1939-07-29 1942-12-15 Perner Leonhard Verfahren zur Erzeugung von festhaftenden Überzügen der Schwermetalle auf Gegenständen aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen.
US3785939A (en) * 1970-10-22 1974-01-15 Conversion Chem Corp Tin/lead plating bath and method
US4170525A (en) * 1978-04-28 1979-10-09 Gould Inc. Process for plating a composite structure

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0278752A1 (de) * 1987-02-10 1988-08-17 A.P.T. Advanced Plating Technologies, Ltd. Eintauchlösung zur Zinnabscheidung und Abscheidungsverfahren unter Verwendung derselben

Also Published As

Publication number Publication date
CA2152655A1 (en) 1995-12-30
BR9502972A (pt) 1996-06-25
EP0690146B1 (de) 1997-11-05
DE59500940D1 (de) 1997-12-11
US6183617B1 (en) 2001-02-06
EP0690146A1 (de) 1996-01-03
ES2108518T3 (es) 1997-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3048083C2 (de) Verfahren zur chemischen Entfernung von Oxidschichten von Gegenständen aus Titan oder Titanlegierungen
EP1344850B1 (de) Alkalisches Zink-Nickelbad
DE2947306C2 (de)
EP0878561B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren von Verzinnungslösungen
DE60310435T2 (de) Verfahren zur herstellung von feinem metallpulver
DE2845439A1 (de) Verfahren zur stabilisierung galvanischer baeder bei der herstellung von ueberzuegen aus zinn oder zinnlegierungen
DE3601698C2 (de)
EP1190118B1 (de) Badsystem zur galvanischen abscheidung von metallen
EP1230441A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum elektrolytischen behandeln von elektrisch gegeneinander isolierten, elektrisch leitfähigen strukturen auf oberflächen von elektrisch isolierendem folienmaterial sowie anwendungen des verfahrens
DE3320308C2 (de) Wäßriges Bad zur stromlosen Abscheidung von Gold und dessen Legierungen und seine Anwendung
DE60203050T2 (de) Regenerationsverfahren für eine plattierungslösung
DE2017858A1 (de) Verfahren zum Herstellen von mit einer Zinnlegierung beschichtetem Aluminium oder Aluminium-Legierungen
DD150082A5 (de) Verfahren zur herstellung einer hochaktiven silberkathode und deren verwendung zur herstellung von 2,3,5-trichlorpyridin
DE2947998A1 (de) Verfahren zur entfernung von kupferionen aus einem bad, insbesondere bei der galvanischen metallabscheidung
DE4422756C1 (de) Selbstregulierende, saure Elektrolyte zur Tauchverzinnung von Aluminiumlegierungen
DE10006128B4 (de) Plattierungsbad zum Abscheiden einer Sn-Bi-Legierung und dessen Verwendung
DE2025670A1 (de) Kontinuierlich durchgeführtes Plattierungsverfahren
DE3139757C2 (de) Verfahren zur Regenerierung von Palladium und Zinn enthaltenden wäßrigen Aktivatorlösungen
DE1771689A1 (de) Verfahren zum Behandeln von Aluminiumschweissdraht
WO2005045102A2 (de) Beschichten von substraten
DE2536516A1 (de) Verfahren zur stromlosen metallabscheidung auf einem peroxid bildenden substratmetall
DE2948999C2 (de) Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung
DE3736465A1 (de) Verfahren zum stromlosen abscheiden von kupferniederschlaegen hoher qualitaet
EP0139039B1 (de) Entmetallisierungsbad und Verfahren zum elektrolytischen Abziehen von Metallen von Titan als Grundmetall
DE4229917C1 (en) Electrolytic bath for meter coating - has sec. anode contg. alkaline or ammonium soln. with acid added to electrolyte to compensate for pH rise

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of the examined application without publication of unexamined application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: GOLDSCHMIDT AG, 45127 ESSEN, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee