DE4420262A1 - Amorpher harter Kohlenstoff-Film und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Amorpher harter Kohlenstoff-Film und Verfahren zu dessen Herstellung

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft amorphe harte Kohlen­ stoff-Filme und Verfahren zu deren Herstellung. Insbeson­ dere betrifft die vorliegende Erfindung amorphe harte Kohlenstoff-Filme, die gute Haftungseigenschaften an einem Substrat aufweisen und verbesserte tribologische Eigen­ schaften, Verschleißfestigkeit und verbesserten Reibungs­ koeffizienten haben, sowie Verfahren zur Herstellung der­ selben. Zudem betrifft die vorliegende Erfindung mechani­ sche Teile mit einer Oberfläche oder Oberflächen, die mit dem obigen amorphen harten Kohlenstoff-Film beschichtet sind.
Amorphe harte Kohlenstoff-Filme, die gebildet wurden durch Aufdampfverfahren, etwa CVD-Verfahren unter Anwendung eines Plasma- oder Ionenstrahls, sind als harte Beschich­ tungsmaterialien wegen ihrer hohen Härte bemerkenswert (Vickers-Härte: etwa 2000-5000). Die amorphen harten Koh­ lenstoff-Filme werden bezeichnet als amorphe Kohlenstoff- Filme, diamantartige Kohlenstoff-Filme, i-Kohlenstoff- Filme oder a-C:H-Filme und sind harte Kohlenstoff-Filme, die vorwiegend amorphen Kohlenstoff umfassen.
Je nach der Beschaffenheit eines Substrats haften die amorphen harten Kohlenstoff-Filme nicht an einem Substrat. Somit wurden verschiedene verbesserte Verfahren vorge­ schlagen.
Zum Beispiel offenbart die japanische ungeprüfte Patent­ veröffentlichung (JP-A-) Nr. 126972/1983, daß sich die Haftungseigenschaften verbessern durch Bereitstellen einer Zwischenschicht zwischen einem Substrat und einem amorphen harten Kohlenstoff-Film. Allerdings wird durch die Bildung der Zwischenschicht das filmbildende Verfahren in nach­ teiliger Weise langwierig.
Die japanische ungeprüfte Patentveröffentlichung (JP-A-) Nr. 300287/1992 offenbart ein Verfahren, bei dem die Haftungseigenschaften durch Kontrolle des Wasserstoff- Gehalts in einem amorphen harten Kohlenstoff-Film verbes­ sert werden. Der mit Hilfe dieses Verfahrens erhaltene Film hat keine ausreichende Haftung an einem Substrat, wenn er als Beschichtung für mechanische Teile verwendet wird.
Die japanische ungeprüfte Patentveröffentlichung (JP-A-) Nr. 157602/1987 offenbart amorphe harte Kohlenstoff-Filme, die Metallelemente enthalten, etwa Silicium oder derglei­ chen. Diese Filme zeigen hinreichende Eigenschaften, wenn sie als Beschichtungen für mechanische Teile verwendet werden. Das heißt, der Reibungskoeffizient des Films wird durch den Zusatz von Silicium herabgesetzt, so daß die Gleiteigenschaften verbessert werden. Allerdings ist solch ein Film wegen der verminderten Verschleißfestigkeit und dem erhöhten Verschleiß ungeeignet für die Verwendung als Beschichtung für mechanische Teile, die über einen länge­ ren Zeitraum Verschleiß unterworfen sind.
Es wird angenommen, daß zur Verbesserung der Verschleiß­ festigkeit ein amorpher harter Kohlenstoff-Film mit einer Oberflächenschicht, die frei von Silicium ist, zu bevor­ zugen wäre, und solch ein Film ist erhältlich mit Hilfe eines Verfahrens, bei dem der Silicium-Gehalt von unten nach oben in der Schicht durch Ändern der Zusammensetzung des Ausgangsmaterials allmählich verringert wird. Aller­ dings wären die obigen Arbeitsweisen langwierig, und die Haftungseigenschaften würden sich aufgrund der erhöhten inneren Spannung im Film verschlechtern.
Eine Aufgabe dieser Erfindung ist die Bereitstellung amor­ pher harter Kohlenstoff-Filme, die gute Haftungseigen­ schaften an einem Substrat aufweisen und verbesserte tri­ bologische Eigenschaften wie etwa Verschleißfestigkeit und Reibungskoeffizient haben.
Eine weitere Aufgabe dieser Erfindung ist die Bereitstel­ lung eines Verfahrens zur Herstellung der obigen amorphen harten Kohlenstoff-Filme.
Eine weitere Aufgabe dieser Erfindung ist die Bereitstel­ lung mechanischer Teile, bei denen ein verschiebbares Element(e) mit dem amorphen harten Kohlenstoff-Film be­ schichtet wird, der gute Haftungseigenschaften an einem Substrat aufweist und verbesserte tribologische Eigen­ schaften wie etwa Verschleißfestigkeit und Reibungskoeffi­ zient hat.
Gemäß vorliegender Erfindung wird ein amorpher harter Kohlenstoff-Film bereitgestellt, der auf einem Substrat abgeschieden ist, wobei der Film des weiteren Silicium und Stickstoff enthält.
Gemäß vorliegender Erfindung wird auch ein Verfahren bereitgestellt zur Abscheidung eines Silicium und Stick­ stoff enthaltenden amorphen harten Kohlenstoff-Films auf ein Substrat, wobei eine Kohlenstoff-Quelle, eine Silici­ um-Quelle und eine Stickstoff-Quelle in eine Bedampfungs­ kammer eingeführt werden, in die das Substrat gebracht wird, um darauf den Film abzuscheiden.
Gemäß vorliegender Erfindung werden weiterhin mechanische Teile mit einem verschiebbaren Element(en) bereitgestellt, wobei das verschiebbare Element mit dem vorstehend erwähn­ ten amorphen harten Kohlenstoff-Film beschichtet wird.
Fig. 1 ist eine Ansicht zur Erklärung eines Geräts, das verwendet wird für das in Beispiel 1 angewandte RF-Plasma- CVD-Verfahren mit parallelen Platten.
Fig. 2 ist ein Spektrum des amorphen harten Kohlenstoff- Films von Beispiel 1, gemessen mittels Raman-Spektros­ kopie.
Fig. 3 zeigt die Ergebnisse der Verschleißprüfung mit den amorphen harten Kohlenstoff-Filmen aus Beispiel 1 und Vergleichsbeispiel 1.
Fig. 4 zeigt Schnittprofile von Verschleißspuren auf den amorphen harten Kohlenstoff-Filmen von Beispiel 1 und Vergleichsbeispiel 1, gemessen nach der Verschleißprüfung.
Da amorphe harte Kohlenstoff-Filme im allgemeinen Kohlen­ stoff und Wasserstoff enthalten, werden die Filme als a (amorphe) -C (Kohlenstoff) :H (Wasserstoff) -Filme be­ zeichnet. Dagegen enthalten die amorphen harten Kohlen­ stoff-Filme der vorliegenden Erfindung Kohlenstoff und Wasserstoff sowie Silicium und Stickstoff. Aus den Ergeb­ nissen Raman-spektroskopischer Messungen oder von Röntgen­ beugungstests läßt sich abschätzen, ob Kohlenstoff-Filme amorph sind oder nicht. Die amorphen harten Kohlenstoff- Filme der vorliegenden Erfindung zeigen hohe Härte im Bereich von etwa 2000-5000 der Vickers-Härte.
Der Wasserstoff-Gehalt in den Kohlenstoff-Filmen schwankt je nach Art der Quellen und den Bedampfungsbedingungen, etwa Radiofrequenzenergie, Reaktionsdruck und dergleichen, und liegt zum Beispiel im Bereich von etwa 0,5 bis 5,0·10²² Atomen/cm³. Filme mit dem obigen Wasserstoff-Ge­ halt zeigen gute Haftungseigenschaften an einem Substrat. Vom Gesichtspunkt guter Haftung und Verschleißfestigkeit liegen die Silicium- und Stickstoff-Gehalte der Kohlen­ stoff-Filme geeigneterweise im Bereich von etwa 10- 35 Atom-% bzw. 0,1 bis 10 Atom-%.
Der amorphe harte Kohlenstoff-Film der vorliegenden Erfin­ dung wird hergestellt durch Einführen einer Kohlenstoff- Quelle, einer Silicium-Quelle und einer Stickstoff-Quelle in eine Bedampfungskammer, in die ein Substrat eingebracht wird, um einen Silicium- und Stickstoff-haltigen amorphen harten Kohlenstoff-Film auf dem Substrat abzuscheiden.
Zu den Beispielen für die Kohlenstoff-Quelle gehören Kohlenwasserstoffe wie etwa Methan, Acetylen und Ethylen. Bevorzugt ist insbesondere Methan. Zu den Beispielen für die Silicium-Quelle gehören organische Silicium-Verbindun­ gen wie etwa Tetramethylsilan (TMS), SiH₄, Si₂H₆, SiCl₄ und SiH₂F₂. Vom Gesichtspunkt geringer Toxizität und Korrosi­ vität sowie guter Verarbeitbarkeit wird insbesondere Tetramethylsilan bevorzugt. Zu den Beispielen für die Stickstoff-Quelle gehören Stickstoff (N₂) und Stickstoff­ haltige Verbindungen wie etwa Ammoniak und Amine.
Gasförmige Kohlenstoff-, Silicium- und Stickstoff-Quellen werden in eine Vakuum-Bedampfungskammer eingeführt. So werden Quellen, die bei Raumtemperatur in flüssigem Zu­ stand sind, unter Verwendung eines Trägergases in die Kammer eingebracht. Zum Beispiel beläuft sich der Siede­ punkt von Tetramethylsilan (TMS) als Silicium-Quelle auf 26°C. So wird Stickstoff-Gas als Stickstoff-Quelle in das Tetramethylsilan eingebracht, während die Temperatur kon­ stant gehalten wird, um dessen Dampfdruck konstant zu halten, und das resultierende Mischgas aus Tetramethyl­ silan und Stickstoff wird in die Kammer eingeführt. Zum Einführen der Gase in die Kammer können inaktive Gase wie etwa Helium und Argon als Trägergas verwendet werden. Als Trägergas können auch Mischungen aus Rohstoffgas und einem inaktiven Gas verwendet werden.
Von dem Gesichtspunkt aus, daß amorphe harte Kohlenstoff- Filme mit der gewünschten Zusammensetzung zu erhalten sind, liegt das Verhältnis von Silicium-Quelle, Kohlen­ stoff-Quelle und Stickstoff-Quelle geeigneterweise im Bereich von 5 : 0, 05-1, 0 : 0, 4-4, 0 als molares (molekulares) Verhältnis von C : Si : N. Wenn insbesondere Methan als Koh­ lenstoff-Quelle verwendet wird, Tetramethylsilan als Sili­ cium-Quelle verwendet wird und Stickstoff als Stickstoff- Quelle verwendet wird, so liegt von dem Gesichtspunkt aus, daß amorphe harte Kohlenstoff-Filme mit der gewünschten Zusammensetzung zu erhalten sind, das molare Verhältnis von Methan, Tetramethylsilan und Stickstoff geeigneter­ weise im Bereich von 5 : 0, 1-1, 0 : 0, 2-2, 0.
Der amorphe harte Kohlenstoff-Film der vorliegenden Erfin­ dung wird auf einem Substrat abgeschieden, indem die oben­ genannten Ausgangsstoffe in die Bedampfungskammer einge­ führt werden, in der sich das Substrat befindet. Es beste­ hen keine Beschränkungen hinsichtlich der Bedampfungs­ verfahren, und es sind alle herkömmlichen Verfahren an­ wendbar. Zum Beispiel können Bedampfungsverfahren ange­ wandt werden, bei denen ein Plasma eingesetzt wird, etwa das Radiofrequenzwellen-CVD-Verfahren, das ECR-CVD-Ver­ fahren und das Sputter-Verfahren (PVD) oder ein Ionen­ strahl, etwa ein Ionenplattierverfahren (PVD).
Zu den Beispielen für die Substrate dieser Erfindung ge­ hören mechanische Teile aus einer Eisen-Legierung oder Aluminium-Legierung, doch ist eine Beschränkung auf die obigen Beispiele nicht beabsichtigt. Ein jedes Produkt, das die Eigenschaften des amorphen harten Kohlenstoff- Films der vorliegenden Erfindung nutzen kann, läßt sich als Substrat anführen. Zu den Beispielen für die Eisen- Legierungen gehören Schnelldrehwerkzeugstahl und Lager­ stahl. Zu den Beispielen für die Aluminium-Legierungen gehören Aluminium-Legierungen wie etwa die 4000er und die 6000er Reihe sowie hochgradig Silicium-haltige Aluminium- Legierungen wie etwa ADC10, ADC12, A390 und ASCM.
Gemäß vorliegender Erfindung werden insbesondere mechani­ sche Teile mit einem verschiebbaren Element(en) bereit­ gestellt, wobei das verschiebbare Element(e) mit dem amor­ phen harten Kohlenstoff-Film beschichtet wird. Es besteht keine Beschränkung bezüglich der mechanischen Teile, und im Umfang der vorliegenden Erfindung sind alle Teile mit einem verschiebbaren Element(en) eingeschlossen. Zu den Beispielen für mechanische Teile mit verschiebbarem Ele­ ment(en) gehören die verschiebbaren Teile von Kompresso­ ren, Kraftstoff-Einspritzpumpen und dergleichen.
Die Dicke des amorphen harten Kohlenstoff-Films der vor­ liegenden Erfindung läßt sich verändern durch Regeln der Bedampfungsbedingungen. Die Dicke des Films ist nicht begrenzt und kann je nach Verwendung der Filme verändert werden. Von dem Gesichtspunkt aus, daß gute Haftung und Verschleißfestigkeit zu erhalten sind, liegt die Dicke geeigneterweise im Bereich von etwa 0,1 bis 30 µm.
Der amorphe harte Kohlenstoff-Film der vorliegenden Erfin­ dung hat gute Haftungseigenschaften an einem Substrat, und sein Verschleißverlust kann halb so groß sein wie der von herkömmlichen Kohlenstoff-Filmen. Da der Reibungskoeffi­ zient niedrig und die Schwankung des Koeffizienten klein ist, lassen sich stabile Gleiteigenschaften erhalten. Weiterhin ist das Verfahren der vorliegenden Erfindung einfach und zweckmäßig, und der amorphe harte Kohlenstoff- Film läßt sich mit Hilfe dieses Verfahrens in einfacher Weise herstellen. Zudem werden gemäß vorliegender Erfin­ dung mechanische Teile aus Eisen-Legierung oder Aluminium- Legierung mit verschiebbarem Element(en) bereitgestellt, die beschichtet sind mit dem amorphen harten Kohlenstoff- Film, der die vorstehend erwähnten ausgezeichneten Eigen­ schaften aufweist.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird nun näher erläutert.
Beispiel 1
Es wurde das in Fig. 1 skizzierte CVD-Verfahren mit paral­ lelen Platten angewandt. Als Ausgangsgase wurden Methan- Gas und ein Mischgas aus TMS und Stickstoff, das herge­ stellt wurde durch Einperlen von Stickstoff-Gas in TMS, das bei 0°C gehalten wurde, in ein Plasma eingeführt. Als Substrat wurde ein Schnelldrehwerkzeugstahl (SKH51) ver­ wendet. Die Methan-Strömungsgeschwindigkeit betrug 5 cm³/s, die Stickstoff-Strömungsgeschwindigkeit betrug 1 cm³/s, der Reaktionsdruck war 8 Pa, und die Eingangs­ leistung belief sich auf 100 W. Unter den obigen Bedingun­ gen wurde ein amorpher harter Kohlenstoff-Film herge­ stellt. Die Wachstumsgeschwindigkeit des Films betrug 5,54 µm/h. Der Film wurde 90 min lang unter den obigen Bedingungen gebildet, um einen Kohlenstoff-Film von 8,31 µm Dicke zu ergeben.
Ein Spektrum des erhaltenen Kohlenstoff-Films wurde mit­ tels Raman-Spektroskopie gemessen. Das Ergebnis ist in Fig. 2 gezeigt. Aus dem Ergebnis wurde errechnet, daß es sich bei dem resultierenden Kohlenstoff-Film um einen amorphen Kohlenstoff-Film handelte. Die Vickers-Härte des Kohlenstoff-Films belief sich auf 2700. Somit wurde der resultierende Kohlenstoff-Film als ein amorpher harter Kohlenstoff-Film identifiziert. Der aus dem FT-IR bestimm­ te Wasserstoff-Gehalt des amorphen harten Kohlenstoff- Films betrug 1·10²² Atome/cm³. Der aus der Auger-Spektro­ skopie bestimmte Silicium-Gehalt war 20 Atom-%, und der aus der Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (ESCA) be­ stimmte Stickstoff-Gehalt war 5,0 Atom-%.
Vergleichsbeispiel 1
Nach der gleichen Arbeitsweise wie der von Beispiel 1, außer daß Helium-Gas anstelle von Stickstoff-Gas zur Ein­ führung des TMS in das Plasma verwendet wurde, wurde ein Kohlenstoff-Film von 8 µm Filmdicke erhalten. Mittels Raman-Spektroskopie wurde der resultierende Kohlenstoff- Film als ein amorpher Kohlenstoff-Film bestimmt. Die Vickers-Härte des Kohlenstoff-Films belief sich auf 2500. Somit wurde der resultierende Kohlenstoff-Film als ein amorpher harter Kohlenstoff-Film identifiziert. Der aus dem FT-IR bestimmte Wasserstoff-Gehalt des amorphen harten Kohlenstoff-Films betrug 1·10²² Atome/cm³. Der aus der Auger-Spektroskopie bestimmte Silicium-Gehalt war 21 Atom-%, doch war im Film kein Stickstoff enthalten.
Vergleichsbeispiel 2
Nach der gleichen Arbeitsweise wie der von Beispiel 1, außer daß TMS nicht in das Plasma eingebracht und eine Hochsilicium-Aluminium-Legierung als Trägergas verwendet wurde, wurden Kohlenstoff-Filme mit 2 µm bzw. 0,5 µm Film­ dicke erhalten. Mittels Raman-Spektroskopie wurden die resultierenden Kohlenstoff-Film als amorphe Kohlenstoff- Filme bestimmt. Die Vickers-Härte der Kohlenstoff-Filme beliefen sich auf etwa 3000. Somit wurden die resultieren­ den Kohlenstoff-Filme als amorphe harte Kohlenstoff-Filme identifiziert. Der aus dem FT-IR bestimmte Wasserstoff- Gehalt der amorphen harten Kohlenstoff-Filme betrug 1,2·10²² Atome/cm³. Aus dem FT-IR wurde bestimmt, daß in den Filmen kein Silicium enthalten war. Laut Analysen mittels EPMA und FT-IR war zudem kein Stickstoff in den Filmen enthalten.
Testbeispiel 1 - Verschleißeigenschaften -
Die Verschleißeigenschaften des in Beispiel 1 erhaltenen amorphen harten Kohlenstoff-Films wurden verglichen mit denen des in Vergleichsbeispiel 1 erhaltenen Films.
Die Ergebnisse der Verschleißtests sind in Fig. 3 gezeigt. Der Verschleißtest wurde durchgeführt mit Hilfe einer Kugel-Scheibe-Verschleißprüfungsmaschine, und die Bedin­ gungen waren wie folgt:
Material des Gegenstücks: SUJ2-Kugeln, 6 mm ⌀
Last: 5 N
Gleitgeschwindigkeit: 60 mm/s
Gleitentfernung: 200 m
Atmosphäre: Luft (rel. Feuchtigk. ∼50%)
Gleitmittel: Keines
Im Ergebnis war der Reibungskoeffizient des Kohlenstoff- Films von Beispiel 1 im Vergleich zu dem von Vergleichs­ beispiel 1 um etwa 0,02 geringer. Zudem war, was den Koh­ lenstoff-Film von Beispiel 1 angeht, die Änderung des Reibungskoeffizienten gering, und die Gleiteigenschaften waren ausgezeichnet.
In Fig. 4 gezeigt sind die Schnittprofile der Verschleiß­ spuren auf den Kohlenstoff-Filmen von Beispiel 1 und Ver­ gleichsbeispiel 1, gemessen nach dem Verschleißtest. Im Ergebnis waren die Verschleißspuren auf der Oberfläche des Kohlenstoff-Films von Vergleichsbeispiel 1 etwa 0,5 µm, doch diejenigen von Beispiel 1 waren etwa 0,3 µm. Dies bedeutet, daß die Verschleißeigenschaften des amorphen harten Kohlenstoff-Films der vorliegenden Erfindung ausge­ zeichnet waren.
Testbeispiel 2 - Haftungseigenschaften -
Die Haftungseigenschaften des in Beispiel 1 erhaltenen amorphen harten Kohlenstoff-Films wurden verglichen mit denen des in Vergleichsbeispiel 2 erhaltenen Films.
Obwohl die Hochsilicium-Aluminium-Legierung als Substrat in Vergleichsbeispiel 2 verwendet wurde, schälte sich der amorphe harte Kohlenstoff-Film von Vergleichsbeispiel 2 mit einer Dicke von 2 µm nach der Filmbildung, und deshalb waren die Haftungseigenschaften des Film offenbar schlecht.
Ferner schälte sich der amorphe harte Kohlenstoff-Film von Vergleichsbeispiel 2 mit 0,5 µm Dicke während der Film­ bildung nicht. Dieser Film wurde einer Verschleißprüfung in Öl HFC-134a+PAG mit einer Hochdruck-Reibungsprüfungs­ maschine unterzogen. Im Ergebnis fraß der Film selbst bei einer niedrigeren Stufe des Oberflächendrucks (etwa 5 MPa) fest, und die Haftung des Films war schlecht.
Dagegen fraß der amorphe harte Kohlenstoff-Film der vor­ liegenden Erfindung (Beispiel 1) bei höherem Oberflächen­ druck (etwa 40 MPa) im Test mit der Hochdruck-Reibungs­ prüfungsmaschine nicht fest. Somit war der Film hinsicht­ lich Haftung ausgezeichnet.

Claims (13)

1. Amorpher harter Kohlenstoff-Film, abgeschieden auf einem Substrat, wobei der Film des weiteren Silicium und Stickstoff enthält.
2. Amorpher harter Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1, wobei der Wasserstoff-Gehalt in dem Kohlenstoff-Film im Bereich von etwa 0,5 bis 5,0·10²² Atome/cm³ liegt.
3. Amorpher harter Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1, wobei der Silicium-Gehalt in dem Kohlenstoff-Film im Bereich von etwa 10 bis 35 Atom-% liegt.
4. Amorpher harter Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1, wobei der Stickstoff-Gehalt in dem Kohlenstoff-Film im Bereich von etwa 0,1 bis 10 Atom-% liegt.
5. Amorpher harter Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1, wobei das Substrat eine mechanisches Teil aus Eisen- Legierung oder Aluminium-Legierung ist.
6. Amorpher harter Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1, wobei die Vickers-Härte des Kohlenstoff-Films im Be­ reich von 2000 bis 5000 liegt.
7. Amorpher harter Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1, wobei die Dicke des Kohlenstoff-Films im Bereich von 0,1 bis 30 µm liegt.
8. Verfahren zur Abscheidung eines Silicium- und Stick­ stoff-haltigen amorphen harten Kohlenstoff-Films auf einem Substrat, wobei eine Kohlenstoff-Quelle, eine Silicium-Quelle und eine Stickstoff-Quelle in eine Bedampfungskammer eingeführt werden, in die das Sub­ strat eingebracht wird, um den Film auf dem Substrat abzuscheiden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei die Kohlenstoff-Quel­ le ein Kohlenwasserstoff ist, die Silicium-Quelle eine organische Silicium-Verbindung ist, und die Stick­ stoff-Quelle Stickstoff oder eine Stickstoff-haltige Verbindung ist.
10. Verfahren nach Anspruch 8, wobei die Abscheidung unter Verwendung eines Plasmas oder eines Ionenstrahls durchgeführt wird.
11. Mechanisches Teil mit einem verschiebbaren Element oder verschiebbaren Elementen, wobei das verschiebbare Element(e) beschichtet ist mit dem amorphen harten Kohlenstoff-Film nach Anspruch 1.
12. Mechanisches Teil nach Anspruch 11, wobei das Teil ein Teil eines Kompressors oder einer Kraftstoff-Ein­ spritzpumpe ist.
13. Verfahren für die Verwendung des amorphen harten Koh­ lenstoff-Films nach Anspruch 1, wobei der Film auf die Oberfläche eines verschiebbaren Elements eines mecha­ nischen Teils aufbeschichtet wird.
DE4420262A 1993-06-11 1994-06-10 Amorphe harte Kohlenstoff-Schicht und Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung Expired - Lifetime DE4420262C2 (de)

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