JPH0754150A - 非晶質硬質炭素膜及びその製造方法 - Google Patents
非晶質硬質炭素膜及びその製造方法Info
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- JPH0754150A JPH0754150A JP6121047A JP12104794A JPH0754150A JP H0754150 A JPH0754150 A JP H0754150A JP 6121047 A JP6121047 A JP 6121047A JP 12104794 A JP12104794 A JP 12104794A JP H0754150 A JPH0754150 A JP H0754150A
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Abstract
特性(摩擦係数)のような潤滑特性が特に改善された非
晶質硬質炭素膜、その製造方法、及び非晶質硬質炭素膜
を用いた機械部品の提供。 【構成】 基材上に蒸着させた非晶質硬質炭素膜であっ
て、ケイ素及び窒素をさらに含有する非晶質硬質炭素
膜。炭素原料、ケイ素原料及び窒素原料を、基材を設置
した蒸着室内に導入し、前記基材上にケイ素及び窒素を
含有する非晶質硬質炭素膜を蒸着させる方法。摺動部分
を有する機械部品であって、少なくとも前記摺動部分を
前記非晶質硬質炭素膜で被覆した機械部品。
Description
その製造方法に関する。さらに詳しくは、基体との密着
性に優れ、かつ耐摩耗性と摺動特性(摩擦係数)のよう
な潤滑特性が特に改善された非晶質硬質炭素膜及びその
製造方法に関する。さらに本発明は、摺動部分を非晶質
硬質炭素膜で被覆した機械部品に関する。
等の蒸着法により形成される非晶質硬質炭素膜は、高い
硬度(ビッカース硬度が約2000〜5000)を有す
ることから、硬質被覆材として注目されている。非晶質
硬質炭素膜は、アモルファスカーボン膜、ダイヤモンド
様炭素膜、i−カーボン膜、a−C:H膜等とも呼ば
れ、アモルファス状のカーボンが主体である、高硬度の
炭素膜である。
類によっては基材との密着性が悪い場合がある。そこ
で、種々の改良法が提案されている。例えば、特開昭5
8−126972号には、基材と非晶質硬質炭素膜との
間に中間層を設けることで、密着性を改良することが開
示されている。しかるに、中間層の形成は、成膜方法を
煩雑化するという問題がある。また、特開平4−300
287号には、非晶質硬質炭素膜中の水素濃度を制御す
ることにより、密着性の向上を図る方法が開示されてい
る。しかるに、この方法により得られた炭素膜でも、機
械部品の被覆材として使用した場合には、基材との密着
性が不十分であった。
号には、ケイ素等の金属元素を含有する非晶質炭素膜が
開示されている。この非晶質炭素膜は、機械部品の被覆
材として十分な特性を有するものであった。即ち、ケイ
素を含有することにより、摩擦係数が減少して、その結
果、摺動特性が向上した。しかし、一方で、膜の耐摩耗
性が低下して摩耗量が増大し、長期間摩耗に曝される機
械部品の被覆材としては不適当であった。そこで、耐摩
耗性を向上させるために、例えば原料組成を変化させて
膜中のケイ素含有量を表面に向かって徐々に減少させる
等の方法により、表面層をケイ素を含まない非晶質炭素
膜とすることが考えられる。しかるに、そのような操作
は成膜方法を煩雑化することになり、また、膜の内部応
力を増加させて密着性を低下させる原因にもなる。
は、基材との密着性に優れ、かつ耐摩擦性と摺動特性
(摩擦係数)のような潤滑特性が特に改善された非晶質
硬質炭素膜を提供することにある。
素膜の製造方法を提供することにある。
性に優れ、かつ耐摩擦性と摺動特性(摩擦係数)のよう
な潤滑特性が特に改善された非晶質硬質炭素膜で摺動部
分を被覆した機械部品を提供することにある。
させた非晶質硬質炭素膜であって、ケイ素及び窒素をさ
らに含有する非晶質硬質炭素膜に関する。
び窒素原料を、基材を設置した蒸着室内に導入して、前
記基材上にケイ素及び窒素を含有する非晶質硬質炭素膜
を蒸着させる方法に関する。
品であって、少なくとも前記摺動部分を前記の非晶質硬
質炭素膜で被覆した機械部品に関する。
炭素膜は、一般に、炭素及び水素を含む。それ故、非晶
質硬質炭素膜は、a(アモルファス)−C(カーボ
ン):H(水素)膜とも呼ばれる。それに対して、本発
明の非晶質硬質炭素膜は、炭素及び水素に加えてケイ素
及び窒素を含有する。炭素膜が、非晶質の炭素膜である
ことは、ラマン分光光度計による測定又はX線回折試験
等の結果から判定できる。また、本発明の非晶質硬質炭
素膜は、ビッカース硬度が約2000〜5000の高硬
度を有するものである。
類や蒸着条件(高周波投入電力、反応圧力等)等によっ
て異なるが、例えば、約0.5〜5.0×1022原子/
cm3 である。この範囲であれば、基材との密着性も良
好である。炭素膜中のケイ素の含有量及び窒素の含有量
は、良好な密着性と耐磨耗性とを得るという観点から決
められる。このような観点から、炭素膜中のケイ素の含
有量は、下限が約10原子%、好ましくは約15原子
%、上限は約35原子%、好ましくは約25原子%とす
ることが適当である。また、炭素膜中の窒素の含有量
は、下限が約0.1原子%、好ましくは約1原子%、上
限は約10原子%、好ましくは約5原子%とすることが
適当である。
料、ケイ素原料及び窒素原料を、基材を設置した蒸着室
内に導入して、前記基材上にケイ素及び窒素を含有する
非晶質硬質炭素膜を蒸着させることで作製することがで
きる。
ることができ、炭化水素としてはメタン、アセチレン、
エチレン等を例示できる。特に好ましい炭素原料はメタ
ンである。ケイ素原料としては、例えば有機ケイ素化合
物を挙げることができ、有機ケイ素化合物としては、テ
トラメチルシラン(TMS)、SiH4 、Si2 H6、
SiCl4 、SiH2 F2 等を例示できる。特に好まし
いケイ素原料は、毒性及び腐食性が低くかつ操作性が良
好であるという観点から、テトラメチルシランである。
窒素原料としては、例えば窒素(N2 )及び窒素含有化
合物を挙げることができ、窒素含有化合物としてはアン
モニア、アミン等を例示できる。
は、一般にガス状のものを、蒸着室に導入する。従っ
て、常温で液体のものは、適当なキャリアーガスを用い
て蒸着室に導入する。例えば、ケイ素原料であるテトラ
メチルシラン(TMS)は、沸点が26℃である。その
ため、例えば、蒸気圧を一定に保ために、一定温度に維
持したテトラメチルシランに、キャリアーガスとして、
例えば窒素原料である窒素ガスを導入し、得られるテト
ラメチルシランと窒素の混合ガスを蒸着室に導入するこ
とができる。また、上記原料を蒸着室内に導入するに際
して、キャリアガスとしてヘリウムやアルゴン等の不活
性ガスを用いることもできる。また、原料化合物のガス
と不活性ガスとの混合物をキャリアガスとして用いこと
もできる。
比率は、C:Si:Nのモル(原子)比が5:0.05
〜1.0:0.4〜4.0の範囲になるようにすること
が、所望の組成の非晶質硬質炭素膜を形成するという観
点から適当である。特に、炭素原料としてメタンを用
い、ケイ素原料としてテトラメチルシランを用い、かつ
窒素原料として窒素を用いる場合、メタンとテトラメチ
ルシランと窒素とのモル比は、5:0.1〜1.0:
0.2〜2.0の範囲になるようにすることが、所望の
組成の非晶質硬質炭素膜を形成するという観点から適当
である。
した蒸着室内に前記原料を導入して、前記基材上に蒸着
させる。蒸着方法には特に限定はなく、常法により行う
ことができる。例えば、プラズマ(例えば、高周波CV
D法、ECR−CVD法、スパッタリング法(PV
D))又はイオンビーム(例えば、イオンプレーティン
グ法(PVD))を用いた蒸着方法を適宜用いることが
できる。
アルミニウム系合金製の機械部品等を例示できる。但
し、これらに限定されるものではなく、本発明の非晶質
硬質炭素膜の特性を利用し得るあらゆる物品を基材とす
ることができる。尚、鉄合金としては、例えば高速度工
具鋼、軸受鋼等を挙げることができる。また、アルミニ
ウム系合金としては、4000系、6000系等のアル
ミニウム系合金及びADC10、ADC12、A39
0、ASCM等の高シリコン含有アルミニウム合金等を
挙げることができる。
部品であって、少なくとも前記摺動部分を前記非晶質硬
質炭素膜で被覆した機械部品を提供できる。機械部品と
しては、摺動部分を有するものであれば、特に制限はな
い。摺動部分を有する機械部品としては、例えば、コン
プレッサや燃料噴射ポンプ等の摺動部品を挙げることが
できる。
条件を調整することにより適宜変化させることができ
る。また、必要とされる膜厚は、本発明の非晶質硬質炭
素膜の用途により異なり、特に制限はない。但し、約
0.1〜30μmの範囲であることが、良好な密着性と
耐磨耗性を得るという観点から好ましい。
密着性に優れかつ摩耗量が、従来の炭素膜の約半分であ
り、かつ摩擦係数も低く、かつ摩擦係数の変動も少ない
安定した摺動特性を示す。さらに、本発明の方法は、簡
便であり、上記非晶質硬質炭素膜を容易に製造すること
ができる。加えて、本発明によれば、摺動部分を有する
鉄合金又はアルミニウム系合金製の機械部品であって、
前記のような優れた特性を有する非晶質硬質炭素膜で記
摺動部分を被覆した機械部品を提供できる。
る。
原料ガスとしてメタン、及び0℃に保ったTMSを窒素
ガスでバブリングすることにより得られるTMSと窒素
の混合ガスを、プラズマ中に導入した。基材としては高
速度工具鋼(SKH51)を用いた。メタン流量は5s
ccm、窒素流量は1sccm、反応圧力は8Pa、投
入電力は100Wとした。この条件で、非晶質硬質炭素
膜を形成した。成膜速度は5.54μm/hrであっ
た。この条件で、90分間成膜を行い、膜厚8.31μ
mの炭素膜を得た。
クトルを測定した。結果を図2に示す。この結果から、
得られた炭素膜は非晶質炭素膜であることが判明した。
また、この炭素膜のビッカース硬度は2700であっ
た。よって、得られた炭素膜は、非晶質硬質炭素膜であ
ることが判明した。さらに、非晶質硬質炭素膜中の水素
含有量は、FT−IRによって定量した結果、1×10
22原子/cm3 であった。非晶質硬質炭素膜中のケイ素
含有量は、オージェ分光分析法によって定量した結果、
20原子%であった。また、得られた非晶質硬質炭素膜
中の窒素の含有量は、X線光電子分光分析法(ESC
A)によって定量した結果、5.0原子%であった。
スの代わりにヘリウムガスを用いて行った他は、実施例
1と同様に操作して、膜厚8μmの炭素膜を得た。この
炭素膜をラマン分光により分析した結果、非晶質炭素膜
であった。また、この炭素膜のビッカース硬度は250
0であった。よって、得られた炭素膜は、非晶質硬質炭
素膜であることが判明した。さらに、非晶質硬質炭素膜
中の水素含有量は、FT−IRによって定量した結果、
1×1022原子/cm3 であった。この非晶質硬質炭素
膜中のケイ素含有量は、オージェ分光分析法によって定
量した結果、21原子%であった。また、得られた非晶
質硬質炭素膜中には、オージェ分光分析法による分析の
結果、窒素は存在しなかった。
基材として高シリコンアルミニウム合金を用いた他は、
実施例1と同様に操作して、膜厚2μm及び0.5μm
の炭素膜を得た。これらの炭素膜をラマン分光により分
析した結果、非晶質炭素膜であった。また、これらの炭
素膜のビッカース硬度は約3000であった。よって、
得られた炭素膜は、いずれも、非晶質硬質炭素膜である
ことが判明した。さらに、非晶質硬質炭素膜中の水素含
有量は、FT−IRによって定量した結果、1.2×1
022原子/cm3 であった。さらに、FT−IRによっ
てこの非晶質硬質炭素膜を分析した結果、ケイ素は含ま
れていなかった。また、得られた非晶質硬質炭素膜中に
は、EPMA及びFT−IRによって確認した結果、窒
素は存在しなかった。
て、比較例1の非晶質硬質炭素膜と比較して検討した。
ボールオンディスク摩耗試験機を用い、相手材には6m
mφSUJ2ボールを用い、荷重5N、摺動速度60m
m/sec、摺動距離200m、大気中(RH〜50
%)、無潤滑の条件で行った。その結果、実施例1の炭
素膜は、比較例1の炭素膜に比べて、摩擦係数が約0.
02減少した。さらに、実施例1の炭素膜は、摩擦係数
の変動も少なく、摺動特性にも優れていることが分か
る。
1及び比較例1の各炭素膜表面の摩耗痕の断面プロファ
イルをそれぞれ示す。その結果、比較例1の炭素膜表面
の摩耗痕は、約0.5μmであるのに対して、実施例1
の炭素膜表面の摩耗痕は、約0.3μmであり、本発明
の非晶質硬質炭素膜は摩耗特性に優れていることが分か
る。
について、比較例2の非晶質硬質炭素膜と比較して検討
した。
は、基材として高シリコンアルミニウム合金を用いたに
もかかわらず、成膜時に剥離を起こしており、明らかに
密着性に劣るものであった。また、比較例2の膜厚0.
5μmの非晶質硬質炭素膜は、成膜時に剥離を起こすこ
とはなかった。しかし、高圧雰囲気摩耗試験機により、
HFC−134a+PAGオイル中で摩耗試験を行った
ところ、面圧の低い段階(5MPa程度)で焼付きを起
こしてしまい、密着性に劣るものであった。
と同様に高圧雰囲気摩耗試験機で高面圧(40MPa程
度)まで焼付きを起こさず、剥離や焼付きを起こすこと
がなく、密着性に優れたものであった。
D法の装置の概略説明図である。
分光光度計により測定したスペクトルを示す。
ついての摩耗試験結果を示す。
硬質炭素膜表面の摩耗痕の断面プロファイルを示す。
Claims (6)
- 【請求項1】 基材上に蒸着させた非晶質硬質炭素膜で
あって、ケイ素及び窒素をさらに含有する非晶質硬質炭
素膜。 - 【請求項2】 炭素膜中の水素の含有量が、約0.5〜
5.0×1022原子/cm3 である請求項1記載の非晶
質硬質炭素膜。 - 【請求項3】 炭素膜中のケイ素の含有量が、約10〜
35原子%である請求項1又は2記載の非晶質硬質炭素
膜。 - 【請求項4】 炭素膜中の窒素の含有量が、約0.1〜
10原子%である請求項1〜3のいずれか1項に記載の
非晶質硬質炭素膜。 - 【請求項5】 炭素原料、ケイ素原料及び窒素原料を、
基材を設置した蒸着室内に導入して、前記基材上にケイ
素及び窒素を含有する非晶質硬質炭素膜を蒸着させる方
法。 - 【請求項6】 摺動部分を有する機械部品であって、少
なくとも前記摺動部分を請求項1記載の非晶質硬質炭素
膜で被覆した機械部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6121047A JP2889116B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-06-02 | 非晶質硬質炭素膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-166439 | 1993-06-11 | ||
JP16643993 | 1993-06-11 | ||
JP6121047A JP2889116B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-06-02 | 非晶質硬質炭素膜及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0754150A true JPH0754150A (ja) | 1995-02-28 |
JP2889116B2 JP2889116B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=26458512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6121047A Expired - Lifetime JP2889116B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-06-02 | 非晶質硬質炭素膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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-
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- 1994-06-02 JP JP6121047A patent/JP2889116B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2889116B2 (ja) | 1999-05-10 |
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