DE4400980A1 - Oberflächenwellenbauelement - Google Patents
OberflächenwellenbauelementInfo
- Publication number
- DE4400980A1 DE4400980A1 DE4400980A DE4400980A DE4400980A1 DE 4400980 A1 DE4400980 A1 DE 4400980A1 DE 4400980 A DE4400980 A DE 4400980A DE 4400980 A DE4400980 A DE 4400980A DE 4400980 A1 DE4400980 A1 DE 4400980A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- substrate
- film
- ratio
- zno
- waves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 106
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 59
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 claims description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 48
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 48
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 48
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003327 LiNbO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005662 electromechanics Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02574—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of combined substrates, multilayered substrates, piezoelectrical layers on not-piezoelectrical substrate
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Oberflächenwellenbauelement, das mit Love-Wel
len arbeitet, insbesondere ein Oberflächenwellenbauelement mit einem Drei
schicht-Aufbau, der durch einen dünnen piezoelektrischen Film aus ZnO,
Ta2O5 oder dergleichen, Elektroden und ein piezoelektrisches einkristalli
nes Substrat gebildet wird.
Geräte wie beispielsweise ein tragbares VHF- oder UHF-Radiokommunika
tionsgerät sollten möglichst kleine Abmessungen, ein geringes Gewicht und
einen niedrigen Leistungsverbrauch aufweisen. Insbesondere sollte ein loka
ler Oszillator, der in einem solchen tragbaren Radiokommunikationsgerät zur
Kanalwahl verwendet wird, eine große Bandbreite besitzen, um Vielkanal
kommunikation zu ermöglichen. Somit muß ein spannungsgesteuerter Oszil
lator (VCO) der ein wesentlicher Bestandteil des lokalen Oszillators ist, eben
falls eine hohe Bandbreite aufweisen, und dies bei kleinen Abmessungen, ge
ringem Gewicht und geringer Leistungsaufnahme.
Im allgemeinen wird hierzu ein mit Rayleigh-Wellen arbeitender Oberflä
chenwellen-Resonator als eine Einrichtung eingesetzt, die akustische Ober
flächenwellen verwendet. Bei einem solchen Oberflächenwellen-Resonator,
der mit Rayleigh-Wellen arbeitet, ist es jedoch wegen seines kleinen elektro
mechanischen Kopplungsfaktors K schwierig, eine große Bandbreite zu erzie
len. Aus diesem Grund ist als Einrichtung mit einem großen elektromechani
schen Kopplungsfaktor K, die eine hohe Bandbreite erreichen kann, ein
Oberflächenwellen-Resonator auf Interesse gestoßen, der mit Love-Wellen ar
beitet.
Ein herkömmlicher Oberflächenwellen-Resonator, der mit Love-Wellen arbei
tet, weist ein Y-Schnitt X-Ausbreitungs LiNbO3-Substrat und einen Doppel
kamm-Wandler oder Interdigitalwandler (im folgenden als ITD bezeichnet)
auf, der aus einem dünnen Film aus Au, Ag oder Pt besteht, der auf dem Sub
strat ausgebildet ist. Der ITD wird durch zwei Kammelektroden mit mehre
ren ineinandergreifenden Elektrodenfingern gebildet. Bei diesem Aufbau be
stehen die Elektroden, die auf dem Substrat ausgebildet sind, aus einem Me
tall, das eine kleinere Schallgeschwindigkeit aufweist als das LiNbO3 Sub
strat, so daß durch einen solchen zweischichtigen Aufbau Love-Wellen ange
regt werden. Die Elektroden, die eine kleinere Schallgeschwindigkeit aufwei
sen müssen als das Substrat, bestehen aus einem Material wie etwa Au, Ag
oder Pt, wie oben beschrieben wurde.
Wenn beispielsweise ein solcher Oberflächenwellen- Resonator durch Au-
Elektroden und/oder ein Y-Schnitt X-Ausbreitungs LiNbO3-Substrat gebildet
wird (die Oberflächenwellen breiten sich längs der X-Achse aus, und der Kri
stall ist im wesentlichen längs der Y-Achse geschnitten), hat sein elektrome
chanischer Kopplungsfaktor K einen großen Wert von etwa 58%, so daß eine
hohe Bandbreite erzielt wird.
In diesem Fall ergeben sich jedoch hohe Kosten für den Oberflächenwellen-
Resonator, da Metalle wie Au, Ag oder Pt sehr teuer sind.
Bei dem herkömmlichen, mit Love-Wellen arbeitenden Oberflächenwellen-
Resonator, der den zweischichtigen Aufbau mit Elektroden auf einem
LiNbO3-Substrat aufweist, ist es außerdem schwierig, ein Bauelement mit ei
ner niedrigen Frequenz zu schaffen, wie nachfolgend erläutert wird. Wenn
beispielsweise die Metallelektroden aus Au bestehen und das Substrat durch
ein Y-Schnitt X-Ausbreitungs LiNbO3-Substrat gebildet wird, so werden kei
ne Love-Wellen angeregt, sofern das Verhältnis H(Au)/λ nicht wenigstens
0,025 beträgt, wobei H(Au) die Dicke jeder Elektrode ist und λ die Wellen
länge der erregten Love-Wellen ist. Aus diesem Grund muß bei kleiner Fre
quenz die Dicke der Elektroden so weit erhöht werden, so gilt H/λ = 0,025.
In diesem Fall ist es jedoch aufgrund von Seitenätzung und Eindringen der
Ätzlösung in Zwischenräume zwischen Resist-Schichten und den Elektroden
nicht möglich, die Elektrodenfinger mit den gewünschten Breiten herzustel
len und ein Oberflächenwellenbauelement mit der gewünschten Charakteri
stik zu erhalten.
Bei dem herkömmlichen Love-Wellenbauelement mit Au-Elektroden ist au
ßerdem die Temperaturabhängigkeit der Resonanzfrequenz relativ groß so
daß seine Charakteristik auch in relativ großem Ausmaß durch Temperatur
änderungen beeinflußt wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein mit Love-Wellen arbeitendes Oberflächen
wellenbauelement zu schaffen, das mit kostengünstigem Elektrodenmaterial
hergestellt und ohne Vergrößerung der Elektrodendicke bei niedriger Fre
quenz eingesetzt werden kann und daß außerdem eine geringe Temperatur
abhängigkeit der Resonanzfrequenz aufweist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein mit Love-Wellen arbei
tendes Oberflächenwellenbauelement, das ein piezoelektrisches Substrat, we
nigstens einen auf dem piezoelektrischen Substrat ausgebildeten IDT und
einen dünnen piezoelektrischen Film aufweist, der so auf dem piezoelektri
schen Substrat ausgebildet ist, daß er den IDT überdeckt, und der aus einem
Material besteht, für das die Ausbreitungsgeschwindigkeit der Oberflächen
wellen kleiner ist als für das Material des piezoelektrischen Substrats. In die
sem Bauelement liegt das Verhältnis H/λ zwischen der Dicke H des piezoe
lektrischen Films und der Wellenlänge λ der erregten Love-Wellen im Be
reich von 0,01 bis 0,2.
Bei dem piezoelektrischen Substrat handelt es sich beispielsweise um ein
LiNbO3-Substrat, vorzugsweise ein um 0 bis 30 gedrehtes Y-Schnitt X-Aus
breitungs LiNbO3-Substrat oder ein LiTaO3-Substrat, vorzugsweise ein um 36°
gedrehtes Y-Schnitt LiTaO3-Substrat (die Winkelangaben beziehen sich auf
den Winkel zwischen der Schnittfläche und der Y-Achse).
Die Erfinder haben festgestellt, daß es möglich ist, Love-Wellen anzuregen,
ohne daß strikte Begrenzungen hinsichtlich der Dicke der Elektroden und
der Masse des Elektrodenmaterials eingehalten werden müssen, wenn eine
Dreischichtstruktur verwendet wird, die man erhält, indem man Elektroden
auf einem LiNbO3-Substrat oder einem LiTaO3-Substrat ausbildet und außer
dem auf den Elektroden einen dünnen piezoelektrischen Film bildet, für den
die Ausbreitungsgeschwindigkeit der Oberflächenwellen kleiner ist als bei
dem piezoelektrischen Substrat.
Erfindungsgemäß ist wenigstens ein IDT auf dem vorgenannten piezoelektri
schen Substrat ausgebildet, und der erwähnte dünne Film überdeckt den
IDT. Das Verhältnis H/λ liegt im Bereich von 0,01 bis 0,2, so daß es möglich
ist, Love-Wellen zu erregen und einen ausreichend hohen elektromechani
schen Kopplungsfaktor selbst dann zu erreichen, wenn die Dicke der Elek
troden variiert (verringert) wird.
Das erwähnte Verhältnis H/λ liegt im Bereich von 0,01 bis 0,2, da keine Lo
ve-Wellen angeregt werden können, wenn das Verhältnis kleiner ist als 0,01,
während der elektromechanische Kopplungsfaktor so klein wird, daß sich
keine hohe Bandbreite erreichen läßt, wenn das Verhältnis größer wird als
0,2.
Der dünne piezoelektrische Film besteht beispielsweise aus ZnO, CdS oder
Ta2O5.
Wenn das piezoelektrische Substrat aus 36° gedrehtem Y-Schnitt LiTaO3 be
steht, liegt das Verhältnis H/X vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 0,13.
Andererseits liegt dieses Verhältnis H/λ vorzugsweise im Bereich von 0,02
bis 0, 13 wenn der dünne Film aus ZnO besteht, während das Verhältnis vor
zugsweise im Bereich 0,01 bis 0,10 liegt, wenn der dünne Film aus CdS be
steht.
Wenn das piezoelektrische Substrat aus um 0 bis 30° gedrehtem Y-Schnitt X-
Ausbreitungs LiNbO3 besteht, liegt das Verhältnis H/λ vorzugsweise im Be
reich von 0,05 bis 0,2.
Durch die Erfindung wird ein elektromechanischer Kopplungsfaktor K von
wenigstens 40% erreicht, so daß es möglich ist, einen Oberflächenwellen-
Resonator oder dergleichen mit großer Bandbreite zu erhalten. Außerdem ist
es möglich, die Resonanzfrequenz zu variieren, indem man das Verhältnis
H/λ variiert, während die Dicke der Elektroden konstant gehalten wird. So
mit ist es möglich, einen Oberflächenwellen-Resonator mit einer niedrigen
Resonanzfrequenz zu schaffen, was bei herkömmlichen Love-Wellen-Resona
toren mit zweischichtigem Aufbau aus Au-Elektroden und Y-Schnitt X-Aus
breitungs-LiNbO3 als Substrat kaum möglich war.
Bei dem erfindungsgemäßen Oberflächenwellenbauelement ist außerdem die
Temperaturabhängigkeit der Frequenzcharakteristik im Vergleich zu her
kömmlichen Oberflächenwellen-Resonatoren mit Love-Wellen verringert, so
daß auch ein Bauelement mit größerer Temperaturstabilität geschaffen wer
den kann.
Durch die Erfindung ist es somit möglich, ein Bauelement zu schaffen, das so
wohl hinsichtlich der Temperaturcharakteristik als auch hinsichtlich seiner
elektrischen Eigenschaften, insbesondere der Resonanz, hervorragende Ei
genschaften aufweist.
Vorzugsweise sind der IDT und der dünne Film auf einer Plus-Oberfläche ei
nes einkristallinen piezoelektrischen Substrats ausgebildet, wodurch ein grö
ßerer elektromechanischer Kopplungsfaktor K erreicht werden kann. Der
Ausdruck "Plus-Oberfläche des Substrats" bezeichnet eine Hauptfläche des
Substrats, die bei Ausübung einer mechanischen Spannung auf das Substrat
eine positive elektrische Ladung erhält. Die Erfinder haben die Unterschiede
in den Ausbreitungseigenschaften von Oberflächenwellen untersucht, die
durch die Polarität des Substrats bei einem Dreischicht-Aufbau mit einem
LiNbO3-Substrat, einem IDT und dem erwähnten dünnen Film auf dem Sub
strat verursacht wird. Dabei hat es sich als möglich erwiesen, einen größeren
elektromechanischen Kopplungsfaktor K zu erreichen, indem der IDT und
der dünne Film auf einer Plus-Oberfläche eines LiNbO3-Substrats ausgebildet
werden, und es hat sich außerdem herausgestellt, daß in diesem Fall die To
leranz des elektromechanischen Kopplungsfaktors K bezüglich der Dicke H
des dünnen Films ebenfalls größer ist. Somit sind der IDT und der dünne
Film vorzugsweise auf der Plus-Oberfläche des piezoelektrischen einkristalli
nen Substrats, beispielsweise eines LiNbO3-Substrats ausgebildet.
Die Erfindung ist nicht nur auf Oberflächenwellen-Resonatoren sondern auch
auf andere Arten von Oberflächenwellenbauelementen anwendbar, wie etwa
Oberflächenwellen-Filter, die mit Love-Wellen arbeiten.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand
der Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1A eine perspektivische Ansicht eines Oberflächenwellenbauele
ments gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 1B einen Schnitt längs der Linie B-B in Fig. 1A;
Fig. 2 die Abhängigkeit der Phasengeschwindigkeit von Oberflächen
wellen von dem Verhältnis H/λ bei Proben von Oberflächenwel
len-Resonatoren nach einem Versuchsbeispiel gemäß der Erfin
dung;
Fig. 3 die Abhängigkeit des elektromechanischen Kopplungsfaktors K
von dem Verhältnis H/λ bei Proben nach dem Versuchsbeispiel;
Fig. 4 ein Beispiel einer Impedanz/Frequenz-Charakteristik eines
Oberflächenwellen-Resonators nach dem Versuchsbeispiel ge
mäß der Erfindung;
Fig. 5 Änderungen der Resonanzfrequenz in Abhängigkeit von der
Temperatur bei Proben nach dem Versuchsbeispiel;
Fig. 6 die Abhängigkeit des elektromechanischen Kopplungsfaktors K
von dem Verhältnis H(ZnO)/λ für unterschiedliche Drehwinkel
des Y-Schnitt X-Ausbreitungs LiNbO3-Substrats;
Fig. 7 eine vergrößerte Teilansicht einer Elektrode zur Erläuterung
des Begriffs des Metallisierungsverhältnisses;
Fig. 8 die Abhängigkeit des elektromechanischen Kopplungsfaktors K
vom Metallisierungsverhältnis für Oberflächenwellen-Resonato
ren gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung und einem
Vergleichsbeispiel eines herkömmlichen Oberflächenwellen-Re
sonators;
Fig. 9 die Abhängigkeit der Phasengeschwindigkeit von Oberflächen
wellen vom Verhältnis H(Au)/λ für herkömmliche Love-Wellen-
Resonatoren;
Fig. 10 die Abhängigkeit des elektromechanischen Kopplungsfaktors K
von dem Verhältnis H(Au)/λ für herkömmliche Love-Wellen-Re
sonatoren;
Fig. 11 die Abhängigkeit der Phasengeschwindigkeit von Oberflächen
wellen von dem Verhältnis H/λ für Proben von Oberflächenwel
len-Resonatoren gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
Fig. 12 die Abhängigkeit des elektromechanischen Kopplungsfaktors K
von dem Verhältnis H/λ für dieses weitere Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
Fig. 13 die Beziehung zwischen der relativen Dicke H/λ des ZnO-Films
auf einem 36° Y-Schnitt LiTaO3-Substrat und der Schallge
schwindigkeit der Oberflächenwellen;
Fig. 14 die Beziehung zwischen dem elektromechanischen Kopplungs
faktor K und der Dicke H/λ des ZnO-Films auf dem 36° Y-
Schnitt LiTaO3-Substrat;
Fig. 15 die Beziehung zwischen der Dicke H/λ eines CdS-Films auf
einem 36° Y-Schnitt LiTaO3-Substrat und dem elektromechani
schen Kopplungsfaktor K; und
Fig. 16 eine perspektivische Ansicht eines Beispiels eines Oberflächen
wellenbauelements, bei dem die Erfindung eingesetzt wird.
Ein Oberflächenwellenbauelement 1 gemäß einem ersten Ausführungsbei
spiel der Erfindung ist in Fig. 1A in perspektivischer Ansicht und in Fig.
1B in einem Schnitt längs der Linie B-B in Fig. 1A gezeigt.
Die Oberflächenwellenbauelement 1 ist als Oberflächenwellen-Resonator aus
gebildet, der mit Love-Wellen arbeitet. Dieses Oberflächenwellenbauelement
1 umfaßt ein Y-Schnitt X-Ausbreitungs LiNbO3-Substrat 2 und einen IDT 5,
der so auf einer oberen Oberfläche des LiNbO3-Substrats 2 angeordnet ist,
daß mehrere Elektrodenfinger von Kammelektroden 3 und 4 derselben in
einandergreifen. Der IDT 5, der in diesem Ausführungsbeispiel aus Al herge
stellt ist, kann alternativ auch aus anderen metallischen Materialien wie etwa
Cu oder Ni hergestellt sein.
Ein dünner ZnO-Film 6 ist so auf dem LiNbO3-Substrat 2 angeordnet, daß er
den IDT bedeckt. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist das Verhältnis H/λ zwi
schen der Dicke H des ZnO-Films und der Wellenlänge λ der erregten Love-
Wellen in einem Bereich von 0,05 bis 0,2 gewählt, wie aus dem nachfolgend
beschriebenen Versuchsbeispiel hervorgeht.
Der Grund, weshalb das Verhältnis H/λ im Bereich von 0,05 bis 0,2 gewählt
werden sollte, wird nunmehr unter Bezugnahme auf das Versuchsbeispiel er
läutert.
LiNbO3-Substrate 2 von 2,0 mm Breite, 1,8 mm Länge und 0,5 mm Dicke
wurden vorbereitet, und verschiedene IDTs 5 und ZnO-Filme 6 mit unter
schiedlichen Elektrodenfinger-Rastern bzw. Dicken wurden darauf ausgebil
det, so daß eine Vielzahl von Typen von Oberflächenwellen-Resonatoren her
gestellt wurde. An den so erhaltenen Oberflächenwellen-Resonatoren wurden
die Oberflächenwellen-Phasengeschwindigkeiten und die elektromechani
schen Kopplungsfaktoren K gemessen. Die Resultate sind in Fig. 2 und 3
gezeigt. Bei den in Fig. 2 gezeigten Phasengeschwindigkeiten betrifft die
Kurve "offen" die Werte für Zustände mit offenem Stromkreis in der Ebene
des IDT, und die Kurve "kurz" betrifft Werte für kurzgeschlossene Zustände
in der Ebene des IDT.
In Fig. 2 und 3 ist deutlich zu erkennen, daß Love-Wellen erregt wurden,
wenn die Verhältnisse H(ZnO)/λ mehr als 0,05 betrugen. Es ist weiterhin zu
erkennen, daß die elektromechanischen Kopplungsfaktoren K, die bei einem
Verhältnis von 0,05 einen relativ hohen Wert von mindestens 50% hatten,
mit zunehmendem Verhältnis H(ZnO)/λ abnahmen, jedoch bei einem Ver
hältnis von 0,2 immer noch mehr als 40% betrugen. Somit sollte das Ver
hältnis H/λ gemäß der Erfindung im Bereich von 0,05 bis 0,2 gewählt wer
den.
Tabelle 1 zeigt elektromechanische Kopplungsfaktoren K und Werte der
Temperaturabhängigkeit von Frequenzen (Änderungsraten in Einheiten ppm
in der Form von Verhältnissen Δfr/fr pro Temperatureinheit, wobei fr Reso
nanzfrequenzen angibt und Δfr die Änderungen der Resonanzfrequenzen an
gibt), für Frequenzen in herkömmlichen Oberflächenwellen-Resonatoren, die
mit Love-Wellen und mit Rayleigh-Wellen arbeiten, und für Proben von mit
Love-Wellen arbeitenden Oberflächenwellen-Resonatoren gemäß dem Ausfüh
rungsbeispiel der Erfindung.
In Tabelle 1 bedeutet "LN" LiNbO3-Substrate und "Y-X" bedeutet Y-Schnitt X-
Ausbreitungs-Substrate.
Zum Vergleich zeigen Fig. 9 und 10 die Beziehungen zwischen Oberflä
chenwellen-Phasengeschwindigkeiten, elektromechanischen Kopplungsfak
toren und den Elektrodendicken H(Au)/λ für herkömmliche Love-Wellen-
Einrichtungen, die durch Au-Elektroden auf Y-Schnitt X-Ausbreitungs-
LiNbO3-Substraten gebildet wurden. In Fig. 9 zeigt die Kurve "offen" Werte
für Zustände mit offenem Stromkreis in der Ebene des IDT und die Kurve
"kurz" zeigt Werte für kurzgeschlossene Zustände in der Ebene des IDT.
Aus Tabelle 1 und Fig. 9 und 10 geht deutlich hervor, daß in den her
kömmlichen Oberflächenwellen-Resonatoren mit LiNbO3-Substraten und
darauf ausgebildeten Au-Elektroden keine Love-Wellen angeregt werden,
wenn die Verhältnisse H(Au)/λ nicht wenigstens 0,025 betrugen. Somit war
es nicht möglich, einen Oberflächenwellen-Resonator mit niedriger Frequenz
zu erhalten, wenn nicht die Dicke der Elektroden vergrößert wurde (ent
sprechend der Zunahme von λ).
Außerdem zeigt Tabelle 1, daß herkömmliche Oberflächenwellen-Resonato
ren, die mit Rayleigh-Wellen arbeiteten, nur kleine elektromechanische Kop
plungsfaktoren K von höchstens 30% aufwiesen, unabhängig von der Art des
Substrats, und daß es somit nicht möglich war, eine hohe Bandbreite zu er
reichen.
Bei den erfindungsgemäßen Oberflächenwellen-Resonatoren nach diesem
Ausführungsbeispiel war es dagegen möglich, eine hohe Bandbreite mit ho
hen elektromechanischen Kopplungsfaktoren K von wenigstens 40% bei bei
den H/λ-Verhältnissen von 0,09 und 0, 16 zu erhalten.
Außerdem geht aus Fig. 3 hervor, daß eine Vorrichtung mit kleiner Fre
quenz hergestellt werden kann, ohne daß die Elektrodendicke vergrößert
werden muß, da der elektromechanische Kopplungsfaktor sich mit der Dicke
des ZnO-Films ändert, und zwar auch dann, wenn die Dicke der Elektroden
konstant gehalten wird.
Im Zusammenhang mit dem Oberflächenwellen-Resonator nach dem oben
beschriebenen Ausführungsbeispiel wurde eine Probe mit einem IDT aus Al
mit 25 Paaren von Elektrodenfingern mit einem Rastermaß von Finger zu
Finger von 4,5 µm, einer Finger-Überdeckungsbreite von 526 µm und einem
Metallisierungsverhältnis von 0,51, wie unten beschrieben wird, und mit
einem dünnen ZnO-Film mit einer Dicke von 2,0 µm hergestellt, und an die
ser Probe wurden die Impedanz/Frequenz-Kennlinie und die Temperaturab
hängigkeit Δfr/fr der Resonanzfrequenz gemessen. Die Ergebnisse sind in Fig.
4 und 5 gezeigt.
Aus Fig. 5 geht deutlich hervor, daß der Oberflächenwellen-Resonator nach
diesem Ausführungsbeispiel einen Frequenz/Temperatur-Koeffizienten TCF
von -66 ppm/°C aufwies, was besser ist als der TCF-Wert von -112 ppm/°C bei
dem herkömmlichen Oberflächenwellen-Resonator mit Love-Wellen (siehe
Tabelle 1). Somit ermöglicht die Erfindung auch eine Verringerung der Tem
peraturabhängigkeit der Resonanzfrequenz.
Weiterhin wurden IDTs ähnlich dem obigen auf drei verschiedenen Arten von
LiNbO3-Substraten ausgebildet, die unterschiedliche Schnittwinkel aufwie
sen, und es wurden dann die Beziehungen zwischen den elektromechani
schen Kopplungsfaktoren K und den Verhältnissen H/λ untersucht. Die Er
gebnisse sind Fig. 6 gezeigt. Die Kurven für R = 0°, R = 15° und R = 30° zei
gen die Ergebnisse für ein Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substrat, ein um
5° gedrehtes Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substrat und ein um 30° ge
drehtes Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substrat.
Wie aus Fig. 6 hervorgeht, wiesen die Proben mit allen drei Substraten aus
reichende elektromechanische Kopplungsfaktoren K bei Verhältnissen
H(ZnO)/λ im Bereich von 0,05 bis 0,25 auf, bei Drehwinkeln von bis zu 30°.
Sodann wurden Änderungen der elektromechanischen Kopplungsfaktoren in
Abhängigkeit vom Metallisierungsverhältnis der IDTs experimentell über
prüft. Es wurden Proben von Oberflächenwellen-Resonatoren mit ZnO-Fil
men, IDTs aus Al und Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substraten herge
stellt, die unterschiedliche Verhältnisse zwischen der Elektrodenfinger-Brei
te a und dem Finger-zu-Finger-Abstand b, d. h., unterschiedliche Metallisie
rungsverhältnisse a/b aufwiesen, wie vergrößert in Fig. 7 gezeigt ist. An die
sen Proben wurden die elektromechanischen Kopplungsfaktoren K gemes
sen. Die ZnO-Filme hatten eine Dicke von 3 µm, und die IDTs aus Al hatten
eine Dicke von 0,3 µm (3000 Å).
Die Ergebnisse sind Tabelle 2 und in Fig. 8 dargestellt. Zum Vergleich zeigt
Fig. 8 auch die Beziehung zwischen dem elektromechanischen Kopplungs
faktor K und dem Metallisierungsverhältnis bei einem herkömmlichen Ober
flächenwellen-Resonator mit einem IDT, der durch einen 1,0 µm dicken Au-
Film auf einem Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substrat gebildet wurde
(Metallisierungsverhältnis = 0,5).
Aus Tabelle 2 und Fig. 8 geht deutlich hervor, daß elektromechanische Kop
plungsfaktoren K von mindestens 40% erhalten werden können, wenn das
Metallisierungsverhältnis im Bereich von 0, 1 bis 0,7 liegt. Insbesondere
nimmt der Kopplungsfaktor K bei den erfindungsgemäßen Proben zu, wenn
das Metallisierungsverhältnis innerhalb des Bereichs von 0,2 bis 0,7 verrin
gert wird.
Ein Love-Wellen-Resonator mit Au-Elektroden kann nicht angeregt werden,
sofern sein Metallisierungsverhältnis nicht wenigstens 0,5 beträgt. Bei dem
erfindungsgemäßen Love-Wellen-Resonator ist es dagegen möglich, den elek
tromechanischen Kopplungsfaktor K selbst dann auf mindestens 40% zu stei
gern, wenn das Metallisierungsverhältnis nicht mehr als 0,5 beträgt, wie
oben beschrieben wurde. Somit ist es möglich, einen breitbandigen Oberflä
chenwellen-Resonator zu erhalten, bei dem das Metallisierungsverhältnis auf
einen Wert von höchstens 0,5 eingestellt ist. Allerdings wird die Herstellung
des Resonators schwierig, wenn das Metallisierungsverhältnis weniger als 0,1
beträgt. Andererseits nimmt der elektromechanische Kopplungsfaktor K ex
trem ab oder es wird leicht ein Brummen oder eine Welligkeit verursacht,
wenn das Metallisierungsverhältnis 0,7 übersteigt. Aus diesem Grund wird
das Metallisierungsverhältnis vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 0,7 ge
wählt.
In Fig. 6 weist die Kennlinie für R = 15° in Nähe des Verhältnisses
H(ZnO)/λ von 0,11 einen beträchtlichen Sprung auf, da bei diesem Verhält
nis von H(ZnO)/λ eine Modenänderung vorgerufen wurde.
Die Erfinder haben erkannt, daß es möglich ist, bei dem in Fig. 1A und
1B gezeigten Love-Wellen-Resonator den elektromechanischen Kopplungsfak
tor K zu erhöhen, wenn der IDT und der ZnO-Film auf einer Plus-Oberfläche
eines Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substrats und nicht auf der Minus-
Oberfläche dieses Substrats ausgebildet werden.
Nunmehr sollen anhand eines Versuchsbeispiels die Unterschiede in den
Ausbreitungseigenschaften von Love-Wellen für die Fälle erläutert werden, in
denen der IDT und der ZnO-Film einmal auf der Plus-Oberfläche und einmal
auf der Minus-Oberfläche eines LiNbO3-Substrats ausgebildet sind.
Es wurden mehrere Typen von Oberflächenwellen-Resonatoren vorbereitet
unter Verwendung von LiNbO3-Substraten mit einer Breite von 2,0 mm, ei
ner Länge von 1,8 mm und einer Dicke von 0,5 mm, und verschiedenen IDTs
mit unterschiedlichen Finger-zu-Finger-Abständen und unterschiedlichen
ZnO-Filmdicken wurden auf den Plus- oder Minus-Oberflächen der Substrate
ausgebildet. An den so erhaltenen Oberflächenwellen-Resonatoren wurden
die Oberflächenwellen-Phasengeschwindigkeiten und die elektromechani
schen Kopplungsfaktoren K gemessen. Die Ergebnisse sind in Fig. 11 und
12 gezeigt.
In diesen Figuren betreffen die durchgezogenen Linien Proben, bei denen die
IDTs und die ZnO-Filme auf den Plus-Oberflächen der LiNbO3-Substrate aus
gebildet waren, und die gestrichelten Linien zeigen die Ergebnisse für Pro
ben, bei denen die IDTs und die ZnO-Filme auf den Minus-Oberflächen der
LiNbO3-Substrate ausgebildet waren. In Fig. 11 zeigen die Kurven "offen" die
Ergebnisse für Zustände mit offenem Stromkreis in der Ebene des IDT und
die Kurven "kurz" zeigen die Ergebnisse für kurzgeschlossene Zustände in
der Ebene des IDT.
Während die Werte in Fig. 2, 3, 6, 8, 9 und 10 nach der Finite-Elemente-
Methode unter Berücksichtigung des Vorhandenseins des IDT berechnet
wurden, wurden die Werte in Fig. 11 und 12 nach einem Verfahren be
rechnet, das von J.J. Campbell et al. vorgeschlagen wurde (J.J. Campbell, W.R.
Jone: " A method for estimating optimal crystal cuts and propagating direc
tions for excitation of piezoelectric surface waves", IEEE trans., su- 15,4, Seite
209 (Oktober 1968)). Die letzteren Werte sind etwas kleiner als die nach der
Finite-Elemente-Methode.
Aus Fig. 11 und 12 geht deutlich hervor, daß Love-Wellen sowohl bei der
Plus-Oberfläche als auch bei der Minus-Oberfläche angeregt wurden, sofern
das Verhältnis H/λ mindestens 0,05 betrug. Die elektromechanischen Kop
plungsfaktoren K betrugen etwa 48% auf der Plus-Oberfläche und etwa 46%
auf der Minus-Oberfläche, wenn das Verhältnis H/λ beispielsweise 0, 11 be
trug, und nahmen mit zunehmendem Verhältnis H/λ ab. Mit anderen Worten,
auf der Plus-Oberfläche des Substrats wurden höhere elektromechanische
Kopplungsfaktoren K erreicht. Bei der Plus-Oberfläche wurden elektrome
chanische Kopplungsfaktoren K, die den Sollwert von 40% überschritten, er
reicht, wenn die Verhältnisse H/λ bis zu 0,2 betrugen.
Es ist weiterhin zu erkennen, daß die Abhängigkeit des elektromechanischen
Kopplungsfaktors K von dem Verhältnis H(ZnO)/λ bei der Plus-Oberfläche
kleiner ist, so daß größere elektromechanische Kopplungsfaktoren K in Be
zug auf die Dicke des ZnO-Films ermöglicht werden.
Weiterhin zeigt Fig. 12, daß ein Oberflächenwellen-Resonator mit kleiner
Frequenz hergestellt werden kann, ohne daß die Elektrodendicke erhöht
werden muß, da der elektromechanische Kopplungsfaktor K auch bei unge
änderter Elektrodendicke verändert werden kann, indem die Dicke des
ZnO-Films variiert wird.
Es wurde außerdem bestätigt, daß die Temperaturabhängigkeit der Fre
quenzcharakteristik bei dem erfindungsgemäßen Oberflächenwellen-Resona
tor kleiner ist als bei herkömmlichen Oberflächenwellen-Resonatoren, die
mit Love-Wellen arbeiten.
Gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird als piezoelek
trisches Substrat ein um 36° gedrehtes Y-Schnitt-LiTaO3-Substrat (im folgen
den kurz als LiTaO3-Substrat bezeichnet) verwendet, und ein dünner Film aus
ZnO, CdS oder Ta2O5 wird auf dem LiTaO3-Substrat ausgebildet.
Für das um 36° gedrehte Y-Schnitt LiTaO3-Substrat wurde gefunden, daß es
einen Schnittwinkel besitzt, bei dem bei der Berechnung von Leck-Oberflä
chenwellen an der gedrehten Y-Schnittfläche keine Dämpfung auftritt, und
es wurde als ein Oberflächenwellen-Substrat für SH-Wellen beschrieben ("SH-
Type and Rayleigh Type Surface Acoustic Waves in LiTaO3" von Nakamura, In
mi und Shimizu, JEICE Tech. Report (Japan), US 77-42 (1077)). Es ist be
kannt, daß dieses LiTaO3-Substrat eine Temperaturcharakteristik TCF von
etwa -25 bis 35 ppm/°C hat.
Proben von piezoelektrischen Substraten wurden hergestellt, indem dünne
ZnO-Filme unterschiedlicher Dicke auf den oben erwähnten LiTaO3-Substra
ten mit ausgezeichneter Temperaturcharakteristik aufgebracht wurden, um
die Anregung von Love-Wellen zu untersuchen. Die Anregung von Love-Wellen
wurde sowohl für auf den Plus-Oberflächen als auch für auf den Minus-Ober
flächen der LiTaO3-Substrate ausgebildete ZnO-Filme untersucht.
Die folgende piezoelektrische Grundgleichung, Bewegungsgleichung und
Maxwell-Gleichung gelten sowohl für LiTaO3-Substrate als auch für die ZnO-
Filme:
Piezoelektrische Grundgleichung
T1 = CÿSj - RmiEm
Dn = RnhSh + εnmEm
Bewegungsgleichung
Maxwell-Gleichung
Div D = 0
Um Love-Wellen anzuregen, kann für eine solche Schallgeschwindigkeit ge
sorgt werden, daß diese Gleichungen jeweilige Randbedingungen an der
Oberfläche des ZnO-Films und an der Grenze zwischen dem ZnO-Film und
dem LiTaO3-Substrat erfüllen. Wenn der IDT auf dem piezoelektrischen Sub
strat ausgebildet wird, so ergibt sich der elektromechanische Kopplungsfak
tor K im Fall eines elektrischen Kurzschlusses in der Ebene des IDT aus ei
ner Oberflächenwellengeschwindigkeit Vm und im Fall eines offenen Strom
kreises in der Ebene des IDT aus einer Oberflächenwellengeschwindigkeit
Vf.
Fig. 13 zeigt die Ergebnisse der Messung der oben genannten Oberflächen
wellengeschwindigkeiten Vf und Vm an piezoelektrischen Substraten, die er
halten wurden durch Ablagerung von ZnO-Filmen unterschiedlicher Dicke auf
den zuvor erwähnten LiTaO3-Substraten. In Fig. 13 betreffen die Markie
rungen o und ⚫ die Schallgeschwindigkeiten Vf von Love-Wellen an freien
Grenzflächen bzw. die Schallgeschwindigkeiten Vm von Love-Wellen an me
tallisierten Grenzflächen der ZnO-Filme, die auf Plus-Oberflächen des
LiTaO3-Substrats ausgebildet wurden. Die Markierungen Δ und geben dage
gen die Schallgeschwindigkeiten Vf von Love-Wellen bzw. die Schallge
schwindigkeiten Vm von Love-Wellen an metallisierten Grenzflächen der
ZnO-Filme an, die auf Minus-Oberflächen des LiTaO3-Substrats ausgebildet
wurden.
Aus Fig. 13 geht deutlich hervor, daß die Schallgeschwindigkeiten für die
beiden ZnO-Filme, die auf der Plus- und der Minus-Oberfläche ausgebildet
waren, unverändert geblieben sind.
Weiterhin geben in Fig. 13 die Markierungen X und + die Schallgeschwin
digkeiten von Rayleigh-Wellen auf den ZnO-Filmen an, die auf der Plus- bzw.
Minus-Oberfläche des LiTaO3-Substrats ausgebildet waren. Es ist zu erken
nen, daß die Schallgeschwindigkeiten Vf und Vm auf den freien und metalli
sierten Grenzflächen im wesentlichen übereinstimmten, so daß der elektro
mechanische Kopplungsfaktor den Wert 0 hatte, und keine Rayleigh-Wellen
angeregt wurden. Es ist ebenso zu erkennen, daß die erfindungsgemäßen
piezoelektrischen Substrate kaum durch Rayleigh-Wellen-Komponenten be
einflußt wurden, da zwischen den Schallgeschwindigkeiten Vf und Vm der
Love-Wellen keine Rayleigh-Wellen-Komponenten existierten.
Fig. 14 zeigt elektromechanische Kopplungsfaktoren Ks von Proben, die
hergestellt wurden, indem dünne ZnO-Filme unterschiedlicher Dicken auf
den zuvor genannten LiTaO3-Substraten aufgebracht wurden. In Fig. 14 be
zeichnen die Markierungen o Ergebnisse von Proben, bei denen die ZnO-Fil
me auf den Plus-Oberflächen der LiTaO3-Substrate aufgebracht waren, und
die Markierungen Δ bezeichnen die Ergebnisse für Proben, bei denen die
ZnO-Filme auf den Minus-Oberflächen ausgebildet waren. Es geht deutlich aus
Fig. 14 hervor, daß die elektromechanischen Kopplungsfaktoren Ks für die
Proben mit den ZnO-Filmen auf den Plus-Oberflächen etwas größer waren als
bei den Proben mit den ZnO-Filmen auf den Minus-Oberflächen.
Außerdem ist zu erkennen, daß der elektromechanische Kopplungsfaktor
über 22% im Vergleich zu dem Fall ohne ZnO-Film gesteigert werden kann,
indem die relative Dicke H/λ des ZnO-Films im Bereich von 0,02 bis 0,13
eingestellt wird, egal, auf welcher Oberfläche der ZnO-Film ausgebildet wird.
Somit hat das erfindungsgemäße piezoelektrische Substrat eine ausgezeich
nete Temperaturcharakteristik TCF von etwa -25 bis -32 ppm/°C, da sowohl
der ZnO-Film als auch das LiTaO3-Substrat verhältnismäßig gute Temperatur
charakteristiken TCF (TCF = -30 ppm/°C bei dem ZnO-Film und TCF = -25
bis -32 ppm/°C bei dem LiTaO3-Substrat) aufweisen, und der elektromecha
nische Kopplungsfaktor kann relativ gesteigert werden, indem die Dicke des
ZnO-Films in den zuvor genannten speziellen Bereich gewählt wird.
Fig. 15 zeigt elektromechanische Kopplungsfaktoren Ks von Love-Wellen in
Proben, die hergestellt wurden, indem dünne CdS-Filme unterschiedlicher
Dicke anstelle der ZnO-Filme auf den Plus-Oberflächen der zuvor erwähnten
LiTaO3-Substrate aufgebracht wurden. Wie aus Fig. 15 hervorgeht, war es
möglich, die elektromechanischen Kopplungsfaktoren Ks auf wenigstens 24%
im Vergleich zu Substraten ohne CdS-Filme zu steigern, wenn die Dicken
(H/λ) der CdS-Filme in einem Bereich von 0,01 bis 0,10 gewählt wurden,
wodurch man piezoelektrische Substrate mit hohen elektromechanischen
Kopplungsfaktoren für Love-Wellen erhielt. Auch die piezoelektrischen Sub
strate nach diesem Ausführungsbeispiel zeichneten sich durch ausgezeichne
te Temperaturcharakteristiken TCF von etwa -25 bis -32 ppm/°C aus, da die
CdS-Filme und die LiTaO3-Substrate ausgezeichnete Temperaturcharakteri
stiken (TCF = -41 ppm/°C für die CdS-Filme) aufwiesen.
Auf den zuvor erwähnten LiTaO3-Substraten wurden dünne Filme aufge
bracht, die kleinere Schallgeschwindigkeiten für Love-Wellen aufwiesen als
die LiTaO3-Substrate. Solch ein dünner Film kann anstelle von ZnO oder CdS
auch aus einem Material wie etwa Ta2O5 hergestellt werden.
Das dritte Ausführungsbeispiel der Erfindung kann nach einem Verfahren re
alisiert werden, wie es grundsätzlich für ein Oberflächenwellenbauelement
bekannt ist, das das zuvor genannte piezoelektrische Substrat für einen kon
kreten Aufbau des Oberflächenwellenbauelements verwendet, wie etwa die
Bildung von Doppelkamm-Elektroden. Beispielsweise ist es möglich, einen
Resonator mit ausgezeichneten Temperatur- und Resonanz-Charakteristiken
zu schaffen, indem das piezoelektrische Substrat nach dem zuvor beschriebe
nen Ausführungsbeispiel in einem Oberflächenwellen-Resonator 1 des End-
Reflektionstyps verwendet wird, wie er in Fig. 16 gezeigt ist. Der Oberflä
chenwellen-Resonator 1 nach Fig. 16 umfaßt ein piezoelektrisches Substrat
2, das nach der vorliegenden Erfindung ausgebildet ist, und zwei Kammelek
troden 3a und 3b mit mehreren ineinandergreifenden Elektrodenfingern.
Es ist daran zu erinnern, daß die Werte in Fig. 11 und 12 nach dem Ver
fahren von J.J. Campbell et al. berechnet wurden.
Claims (11)
1. Oberflächenwellenbauelement, das mit Love-Wellen arbeitet mit:
einem Substrat (2) aus einem piezoelektrischen Einkristall und wenigstens einem Interdigitalwandler (5), der auf dem Substrat (2) aus gebildet ist, dadurch gekennzeichnet,
daß auf dem Substrat ein dünner piezoelektrischer Film (6) aus einem Material aufgebracht ist, in dem die Ausbereitungsgeschwindigkeit der Ober flächenwellen kleiner ist als in dem piezoelektrischen Einkristall-Substrat (2), und
daß das Verhältnis H/λ der Dicke H des Films (6) zur Wellenlänge λ der erregten Love-Wellen im Bereich von 0,01 bis 0,2 liegt.
einem Substrat (2) aus einem piezoelektrischen Einkristall und wenigstens einem Interdigitalwandler (5), der auf dem Substrat (2) aus gebildet ist, dadurch gekennzeichnet,
daß auf dem Substrat ein dünner piezoelektrischer Film (6) aus einem Material aufgebracht ist, in dem die Ausbereitungsgeschwindigkeit der Ober flächenwellen kleiner ist als in dem piezoelektrischen Einkristall-Substrat (2), und
daß das Verhältnis H/λ der Dicke H des Films (6) zur Wellenlänge λ der erregten Love-Wellen im Bereich von 0,01 bis 0,2 liegt.
2. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß der Film (6) aus einem oder mehreren der folgenden Materialien
hergestellt ist: ZnO, CdS, Ta2O5.
3. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß das piezoelektrische Einkristall-Substrat (2) ein um 0 bis 30
gedrehtes Y-Schnitt X-Ausbreitungs-LiNbO3-Substrat ist und das Verhältnis
H/λ im Bereich von 0,05 bis 0,2 liegt.
4. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich
net, daß der Film (6) aus ZnO besteht.
5. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Interdigitalwandler (5) und der Film (6) auf einer Plus-
Oberfläche des LiNbO3-Substrats (2) ausgebildet sind.
6. Oberflächenwellenbauelement nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Interdigitalwandler (5) zwei Kammelektro
den (3,4) mit mehreren ineinandergreifenden Elektrodenfingern aufweist
und daß das Verhältnis der Breite jedes Elektrodenfingers zu dem Finger-zu-
Finger-Rastermaß im Bereich von 0, 1 bis 0,7 liegt.
7. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß das piezoelektrische Einkristall-Substrat (2) ein um 36° gedrehtes Y-
Schnitt-LiTaO3-Substrat ist und daß das Verhältnis H/λ im Bereich von 0,01
bis 0, 13 liegt.
8. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeich
net, daß der Film (6) ein ZnO-Film ist und daß das Verhältnis H/λ im Bereich
von 0,02 bis 0,13 liegt.
9. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeich
net, daß der Film (6) aus CdS besteht und das Verhältnis H/λ im Bereich von
0,01 bis 0,10 liegt.
10. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeich
net, daß der Interdigitalwandler (5) und der dünne Film (6) auf einer Plus-
Oberfläche des LiTaO3-Substrats (2) ausgebildet sind.
11. Oberflächenwellenbauelement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeich
net, daß der Film (6) aus einem oder mehreren der folgenden Materialien
hergestellt ist: ZnO, CdS, Ta2O5.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP481593 | 1993-01-14 | ||
JP5216313A JPH0774586A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 表面波装置 |
JP29800093A JP3395298B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 表面波装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4400980A1 true DE4400980A1 (de) | 1994-07-21 |
DE4400980C2 DE4400980C2 (de) | 2000-09-07 |
Family
ID=27276468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4400980A Expired - Fee Related DE4400980C2 (de) | 1993-01-14 | 1994-01-14 | Oberflächenwellenbauelement |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5432392A (de) |
KR (1) | KR100200179B1 (de) |
DE (1) | DE4400980C2 (de) |
TW (1) | TW241397B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6163099A (en) * | 1997-08-27 | 2000-12-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Surface acoustic wave device having a langasite single crystal substrate |
DE19803791B4 (de) * | 1997-02-07 | 2004-12-30 | Murata Mfg. Co., Ltd., Nagaokakyo | Akustisches Oberflächenwellenbauelement |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW256966B (de) * | 1994-03-04 | 1995-09-11 | Murata Manufacturing Co | |
JPH07283682A (ja) | 1994-04-13 | 1995-10-27 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波共振子フィルタ |
JP3173300B2 (ja) * | 1994-10-19 | 2001-06-04 | 株式会社村田製作所 | ラブ波デバイス |
JP3407459B2 (ja) * | 1995-03-23 | 2003-05-19 | 株式会社村田製作所 | 表面波共振子フィルタ |
CN1078334C (zh) * | 1995-09-13 | 2002-01-23 | 布罗斯尔汽车零件两合公司 | 用于控制一可移动目标的方法和装置 |
US6283216B1 (en) | 1996-03-11 | 2001-09-04 | Schlumberger Technology Corporation | Apparatus and method for establishing branch wells from a parent well |
JP3233413B2 (ja) * | 1996-10-18 | 2001-11-26 | ティーディーケイ株式会社 | 弾性表面波装置 |
GB2328815B (en) * | 1997-08-27 | 1999-10-20 | Murata Manufacturing Co | Surface acoustic wave device having a langasite single crystal substrate |
JP3353742B2 (ja) | 1999-05-07 | 2002-12-03 | 株式会社村田製作所 | 表面波共振子、表面波装置、通信機装置 |
JP3568025B2 (ja) * | 1999-05-14 | 2004-09-22 | 株式会社村田製作所 | 表面波装置及び通信機装置 |
US6972508B2 (en) * | 2000-04-28 | 2005-12-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Surface acoustic wave device |
US6892444B1 (en) * | 2000-09-21 | 2005-05-17 | Axsun Technologies, Inc. | Optical system manufacturing and alignment system |
JP3435638B2 (ja) | 2000-10-27 | 2003-08-11 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
JP3918497B2 (ja) * | 2000-11-02 | 2007-05-23 | 株式会社村田製作所 | 端面反射型表面波装置 |
EP1239588A2 (de) * | 2001-03-04 | 2002-09-11 | Kazuhiko Yamanouchi | Akustisches Oberflächenwellensubstrat und akustischer Oberflächenwellenfunktionsbaustein |
US6717327B2 (en) * | 2001-04-23 | 2004-04-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Surface acoustic wave device |
AUPR511401A0 (en) * | 2001-05-21 | 2001-06-14 | Microtechnology Centre Management Limited | Surface acoustic wave device |
AUPR507601A0 (en) * | 2001-05-21 | 2001-06-14 | Microtechnology Centre Management Limited | Surface acoustic wave sensor |
AU2002308401B2 (en) * | 2001-05-21 | 2005-08-04 | Mnt Innovations Pty Ltd | Surface acoustic wave sensor |
JP3801083B2 (ja) * | 2001-06-06 | 2006-07-26 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
US20030042998A1 (en) * | 2001-08-24 | 2003-03-06 | Edmonson Peter J. | Leaky surface acoustic wave resonators |
FR2864618B1 (fr) * | 2003-12-24 | 2006-03-03 | Temex Sa | Capteur de temperature ou de temperature et de pression interrogeable a distance |
JP4419962B2 (ja) * | 2004-01-19 | 2010-02-24 | 株式会社村田製作所 | 弾性境界波装置 |
WO2005093949A1 (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性境界波装置の製造方法及び弾性境界波装置 |
US7439648B2 (en) * | 2004-08-27 | 2008-10-21 | Kyocera Corporation | Surface acoustic wave device and manufacturing method therefor, and communications equipment |
JP5213708B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2013-06-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置の製造方法 |
WO2007145057A1 (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性表面波装置 |
KR100820120B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-04-07 | 한국표준과학연구원 | Love 파를 이용한 유체 점도 측정용 표면 탄성파 센서 |
JP6288760B2 (ja) * | 2013-11-20 | 2018-03-07 | 日本電波工業株式会社 | 弾性表面波デバイス、共振子及び発振回路 |
FR3079667B1 (fr) * | 2018-03-28 | 2020-03-27 | Frec'n'sys | Dispositif d'onde acoustique de surface sur substrat composite |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5941602B2 (ja) * | 1978-04-18 | 1984-10-08 | 松下電器産業株式会社 | 表面弾性波素子 |
US4243960A (en) * | 1978-08-14 | 1981-01-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method and materials for tuning the center frequency of narrow-band surface-acoustic-wave (SAW) devices by means of dielectric overlays |
JPS56116317A (en) * | 1980-02-19 | 1981-09-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Material for elastic surface wave |
US4544857A (en) * | 1983-08-29 | 1985-10-01 | Nec Corporation | High electromechanical-coupling coefficient surface acoustic wave device |
US4978879A (en) * | 1988-07-27 | 1990-12-18 | Fujitsu Limited | Acoustic surface wave element |
JP2885349B2 (ja) * | 1989-12-26 | 1999-04-19 | 住友電気工業株式会社 | 表面弾性波素子 |
JP3225495B2 (ja) * | 1992-02-21 | 2001-11-05 | 住友電気工業株式会社 | 表面弾性波素子及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-01-12 TW TW083100189A patent/TW241397B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-01-13 US US08/180,604 patent/US5432392A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-14 KR KR1019940000626A patent/KR100200179B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-01-14 DE DE4400980A patent/DE4400980C2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19803791B4 (de) * | 1997-02-07 | 2004-12-30 | Murata Mfg. Co., Ltd., Nagaokakyo | Akustisches Oberflächenwellenbauelement |
US6163099A (en) * | 1997-08-27 | 2000-12-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Surface acoustic wave device having a langasite single crystal substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5432392A (en) | 1995-07-11 |
TW241397B (de) | 1995-02-21 |
DE4400980C2 (de) | 2000-09-07 |
KR100200179B1 (ko) | 1999-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4400980C2 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
DE112005001677B4 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
DE112004001841B4 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
DE19849782B4 (de) | Oberflächenwellenanordnung mit zumindest zwei Oberflächenwellen-Strukturen | |
DE3336281C2 (de) | SAW-Oberflächenwellenbauelement | |
DE69814205T2 (de) | Akustische Oberflächenwellenanordnung | |
DE10042915B9 (de) | Akustooberflächenwellenbauelement und Kommunikationsgerät | |
DE112012000503B4 (de) | Oberflächenschallwellen-Bauelement | |
DE10102153B4 (de) | Oberflächenwellenbauelement, sowie dessen Verwendung und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE19803791B4 (de) | Akustisches Oberflächenwellenbauelement | |
DE60008569T9 (de) | Akustischer Grenzflächenwellenfilter insbesondere für drahtlose Übertragungssysteme | |
DE2521290A1 (de) | Oberflaechenwellenresonatorvorrichtung | |
WO2011088904A1 (de) | Elektroakustischer wandler mit verringerten verlusten durch transversale emission und verbesserter performance durch unterdrückung transversaler moden | |
DE10147116A1 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
DE19839247A1 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
EP0879413A1 (de) | Oberflächenwellen-flüssigkeitssensor | |
WO2004066493A1 (de) | Saw-bauelement mit verbessertem temperaturgang | |
DE10196571B4 (de) | Oberflächenwellen-Bauelemente mit optimierten Schnitten eines piezoelektrischen Substrats und piezolektrisches Oberflächenleckwellen-Substrat | |
DE10022675B4 (de) | Akustisches Oberflächenwellenbauelement und Kommunikationsvorrichtung | |
DE10202856B4 (de) | Oberflächenakustikwellenvorrichtung | |
DE19648307B4 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
DE112020001723T5 (de) | Akustische oberflächenwellenvorrichtungen hoher ordnung | |
DE10152946A1 (de) | Oberflächenwellenbauelement und Herstellungsverfahren für dasselbe | |
DE10241981B4 (de) | Oberflächenwellenbauelement vom Kantenreflexionstyp und Verfahren zum Herstellen desselben | |
DE2820046C2 (de) | Akustisches Oberflächenwellen- Bauelement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20120801 |