DE4342505C1 - Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Dielektrizitätskonstante von Probenmaterialien - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Dielektrizitätskonstante von ProbenmaterialienInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur
Messung der komplexen Dielektrizitätskonstante eines Stoffes
durch Auswertung der durch die Anwesenheit des Stoffes verur
sachten Verstimmung eines HF-Resonators, wobei eine HF-Sendeein
richtung zum Senden hochfrequenter elektromagnetischer Felder
mit variierbarer Frequenz in den HF-Resonator, eine Empfangsein
richtung für das Resonatorfeld und eine mit der Empfangseinrich
tung verbundene Meßschaltung vorhanden sind, wobei mit der Meßschaltung die Amplitu
de der empfangenen Hochfrequenzsignale bestimmbar ist.
Es sind verschiedene Verfahren zur Bestimmung von dielektrischen
Eigenschaften von Stoffen, die typischerweise als Dielektrizi
tätszahl εr und Verlustwinkel tan(δ) oder als komplexe Dielek
trizitätskonstante ε = ε′ - iε′′ angegeben werden, bekannt. Sol
che Verfahren finden zum Beispiel bei der Bestimmung der Feuchte
von Stoffen Anwendung. Diese Verfahren beruhen auf der großen
Dielektrizitätskonstante und dem großen Verlustfaktor des Was
sers in dem Stoff und haben im industriellen Bereich große Be
deutung, beispielsweise bei der Feuchtemessung von Chemikalien,
Nahrungsmitteln, Tabak, Kaffee, etc. Bei den Resonanzverfahren
zur Bestimmung der Feuchte mit Hilfe von Mikrowellen wird der zu
untersuchende Stoff in einen Hohlraumresonator eingebracht und
die durch die Anwesenheit des Stoffes bedingte Verstimmung des
Hohlraumresonators gemessen, indem durch Variieren der einge
strahlten Frequenz die Resonanzkurve abgefahren und ausgemessen
wird. Aus der Verschiebung der Resonanzfrequenz und der Vergrö
ßerung der Resonanzhalbwertsbreite bzw. Güteänderung des Resona
tors läßt sich bei bekannter Stoffzusammensetzung und -dichte
die Dielektrizitätskonstante und damit auch der Wassergehalt des
Stoffes ableiten. Dazu bedarf es in der Regel Kalibrationskur
ven, die durch vorherige Messung der jeweiligen Substanz mit
verschiedenen bekannten Feuchtegraden gewonnen werden. Bei den
meisten bekannten Verfahren ist überdies eine gesonderte Messung
der Materialdichte erforderlich.
Aus der DE 40 04 119 A1 ist ein Verfahren zur Bestimmung der
Materialfeuchte mit Hilfe eines Hohlraumresonators bekannt, das
durch eine bestimmte Auswahl des Feldverlaufs des Hohlraumreso
nators im Bereich der zu untersuchenden Probe gestattet, Materi
alfeuchte und Materialdichte unabhängig voneinander für ein
bekanntes Material unter Verwendung einer Kalibrationskurve zu
bestimmen, wobei die durch Abfahren der Resonanzkurve ermittelte
Resonanzfrequenz und die Halbwertsbreite der Resonanzlinie be
stimmt und ausgewertet werden. Auch hier ist es notwendig, daß
der zu untersuchende Stoff in Form einer Probe in den Hohlraum
resonator eingebracht wird.
Aus dem Artikel "Ein Dielektrizitätskonstanten-Meßplatz zur
Untersuchung optischer Kristalle im Mikrowellenbereich" in:
Kristall und Technik, Bd. 10, Nr. 6, 1975, S. 695-700, von E.
Wehrsdorfer et al., ist ein ähnliches Verfahren wie das obige
bekannt, bei dem die Dielektrizitätskonstante einer Probe durch
die Belastung eines im Mikrowellenbereich betriebenen Hohlraum
resonators durch die Probe bestimmt wird. Die durch die Anwe
senheit der Probe in dem Hohlraumresonator bedingte Resonanz
frequenz- und Güteänderung wird durch Ausmessen der Resonanzkur
ve nach Einbringen der Probe in den Hohlraumresonator bestimmt.
Für die meisten industriellen Anwendungen sind die bekannten
Resonanzverfahren zur Bestimmung dielektrischer Eigenschaften
eines Stoffes jedoch in der Hinsicht nachteilig, daß der zu
untersuchende Stoff jeweils als Probe unter genau definierten
Bedingungen in einen Hohlraumresonator eingebracht werden muß.
Bei kontinuierlichen Herstellungs- und Verarbeitungsverfahren
können daher jeweils nur von Zeit zu Zeit Stichproben entnommen
und unter relativ großem Aufwand in dem Hohlraumresonator gemes
sen werden. Eine solche stichprobenartige Messung erlaubt einen
Zugriff auf die gewünschten Meßgrößen nur mit Zeitverzögerung,
ferner ist nicht sichergestellt, daß die Materialeigenschaften
sich bei der Entnahme der Probe und anschließenden Messung nicht
gegenüber denen in dem eigentlich zu messenden Materialstrom
verändern. In einem kontinuierlichen Herstellungs- oder Verar
beitungsprozeß wäre es dagegen vielmehr erwünscht, kontinuier
lich den Momentanwert bestimmter dielektrischer Meßgrößen oder
daraus abgeleitete Größen wie etwa die Feuchte eines Stoffes zur
Verfügung zu stellen. Dies ist aber bei Verfahren, die mit ge
schlossenen Hohlraumresonatoren arbeiten, grundsätzlich nicht
möglich.
Aus der DD-PS 1 38 468 ist ein Verfahren zur Messung der komple
xen Dielektrizitätskonstanten von dielektrischen Platten be
kannt, die einseitig metallisiert sind. Zur Messung wird ein
dielektrischer Resonator auf die nichtmetallisierte Seite der
Platte aufgelegt und in dem Resonator die E₀₁₁-Mode angeregt. Die
metallisierte Seite der Platte wirkt als Abschluß des resonanz
fähigen Systems. Aus der Änderung der Resonanzfrequenz gegen
über dem Fall, bei dem der dielektrische Resonator auf eine
Metallplatte aufgelegt ist, kann die Dielektrizitätskonstante
des Plattenmaterials bei bekannter Dicke bestimmt werden. Nach
teilig an diesem Verfahren ist, daß nur einseitig metallisierte
Platten bekannter Dicke gemessen werden können; ferner muß die
Resonanzkurve für jede Messung durchgefahren werden, um die
Resonanzfrequenz zu bestimmen.
Versuche mit "offenen" Hohlraumresonatoren, z. B. Kammern mit
schlitzartigen Öffnungen, die es ermöglichen könnten, das Reso
natorfeld mit einem außerhalb des Hohlraums befindlichen Stoff
wechselwirken zu lassen, haben zu keinen befriedigenden Ergeb
nissen geführt, da einerseits die Sensitivität relativ gering
ist und andererseits die Abstrahlung von Mikrowellenleistung
relativ hoch ist.
Zudem weisen alle bekannten Sensorvorrichtungen den Nachteil
auf, daß viele Meßpunkte bei verschiedenen in den Resonator
eingestrahlten Frequenzen gemessen werden müssen, um aus dieser
Vielzahl von Meßpunkten die Resonanzkurve zu erhalten, deren
Mittelwert und Halbwertsbreite anschließend bestimmt werden
müssen. Diese Vorgehensweise bedingt einen nicht unerheblichen
Schaltungsaufwand, da eine Vielzahl von Meßwerten bei verschie
denen Frequenzen aufgenommen, abgespeichert und anschließend
ausgewertet werden müssen.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur Bestimmung dielektrischer Eigenschaften eines Stoffes durch
Auswertung der durch die Anwesenheit des Stoffes verursachten
Verstimmung eines Hochfrequenzresonators zu schaffen, die es
ermöglichen, die gewünschten dielektrischen Eigenschaften des
Stoffes kontinuierlich und ohne Zeitverzögerung und mit geringem
schaltungstechnischem Aufwand zu messen.
Zur Lösung dieser Aufgabe dient die Vorrichtung mit den kenn
zeichnenden Merkmalen des Patentanspruchs 1 in Verbindung mit
dessen Oberbegriff und das Verfahren mit den kennzeichnenden
Merkmalen des Patentanspruchs 12 in Verbindung mit dessen Ober
begriff. Vorteilhafte Ausführungsformen sind in den Unteransprü
chen aufgeführt.
Erfindungsgemäß sind zur Messung der dielektrischen Eigenschaf
ten des zu untersuchenden Stoffes zwei baugleiche HF-Resonatoren
vorhanden, die jeweils durch einen dielektrischen Festkörperre
sonator gebildet werden. Es wurde gefunden, daß Festkörperre
sonatoren Eigenschaften haben, die sie zur Verwendung in Hoch
frequenz-Meßvorrichtungen für dielektrische Stoffeigenschaften
geeignet machen. Das elektromagnetische Feld ist nämlich nicht
in dem dielektrischen Material des Resonators eingeschlossen,
sondern es existiert auch außerhalb des Resonators ein nicht
verschwindendes Feld. Dieses Feld außerhalb des Resonators fällt
sehr schnell ab, so daß keine Probleme durch Abstrahlung elek
tromagnetischer Energie auftreten, andererseits aber durch das
nicht verschwindende Feld außerhalb des Resonators genügend
Sensitivität für die Anwesenheit eines Stoffes in der Nähe gege
ben ist. Gemessen werden die in einer Empfängereinrichtung nahe
an den Festkörperresonatoren durch die Resonatorfelder induzier
ten Signale, die über bekannte Meßschaltungen, beispielsweise
mit Spitzenwertgleichrichtung gewandelt werden.
Die Festkörperresonatoren sind jeweils in einem Gehäuse unterge
bracht, das in einem ersten Abschnitt, welcher wenigstens eine
Hemisphäre überdeckt, aus leitfähigem Material und in einem
zweiten Abschnitt aus für elektromagnetische Felder durchlässi
gem Material besteht. Die beiden HF-Resonatoren werden so zuein
ander positioniert, daß ihre leitfähigen Gehäuseabschnitte die
Festkörperresonatoren gegen eine gegenseitige Beeinflussung
durch das Feld des jeweils anderen Resonators abschirmen und die
für elektromagnetische Felder durchlässigen Abschnitte auf den
zu messenden Stoff gerichtet sind; eine Abschirmung der Festkör
perresonatoren gegeneinander durch leitfähige Gehäuseabschnitte
ist erforderlich, da beide HF-Resonatoren relativ nahe beiein
ander liegen müssen, um auf denselben oder eng benachbarte Be
reiche des zu messenden Stoffes gerichtet zu sein.
In die beiden HF-Resonatoren werden die gleichen Hochfrequenz
felder eingekoppelt, d. h. beide Resonatoren werden mit der glei
chen Frequenz betrieben, wobei diese Frequenz so ausgewählt ist,
daß sie bei Abwesenheit des zu messenden Stoffes genau in der
Mitte zwischen der voreingestellten Resonanzfrequenz des ersten
Resonators und der davon verschieden voreingestellten Resonanz
frequenz des zweiten Resonators liegt. Die durch die Anwesenheit
des zu messenden Stoffes verursachte Verstimmung der HF-Resona
toren wirkt sich dahingehend aus, daß sich aufgrund der Ver
schiebung der Resonanzkurve bei konstanter eingekoppelter Fre
quenz jeweils der Arbeitspunkt des HF-Resonators auf der Reso
nanzkurve verschiebt und sich die Resonanzkurven verbreitern
(Güteänderung), wobei beides eine Änderung der gemessenen Am
plituden der Resonatorfelder zur Folge hat. Jedoch lassen sich
aus der Summe und der Differenz der an den beiden Resonatoren
gemessenen Resonatorfelder bei Anwesenheit des Stoffes dessen
dielektrische Eigenschaften vollständig bestimmen; diese Aus
wertung erfolgt in einer Steuer- und Auswerteeinheit, die die
gemessenen Amplitudenwerte der Resonatorfelder aufnimmt, Summen-
und Differenzwerte bildet und entweder analytische Formeln für
deren Zusammenhang mit der komplexen Dielektrizitätskonstante
oder empirisch ermittelte Eichkurven verwendet.
Es ist bemerkenswert, daß bei der erfindungsgemäßen Vorgehens
weise auf ein Durchfahren oder Abtasten der Resonanzkurven voll
ständig verzichtet werden kann und beide Resonatoren während des
ganzen Meßvorgangs mit der gleichen, konstanten Frequenz betrie
ben werden können. Dadurch ergibt sich eine erhebliche Verein
fachung der Vorrichtung. Auch ist eine überaus einfache Justie
rung der Frequenzen der erfindungsgemäßen Vorrichtung möglich,
indem bei Abwesenheit des zu messenden Stoffes die Betriebsfre
quenz oder die Resonanzfrequenzen der HF-Resonatoren so einge
stellt werden, daß beide HF-Resonatoren Ausgangssignale gleicher
Höhe liefern, wodurch sichergestellt ist, daß die Betriebsfre
quenz genau in der Mitte zwischen den Resonanzfrequenzen der HF-
Resonatoren liegt, da die Resonatoren gleiche, aber gegenein
ander verschobene Resonanzkurven haben.
Gemäß der Erfindung lassen sich Materialuntersuchungen kontinu
ierlich und ohne gesonderte Probenentnahme vornehmen, indem die
beiden HF-Resonatoren so nebeneinanderliegend angeordnet werden,
daß ihre leitfähigen Gehäuseabschnitte sie gegeneinander ab
schirmen und sie mit ihren für elektromagnetische Felder durch
lässigen Abschnitten auf einen Materialstrom gerichtet sind, der
dadurch kontinuierlich und ohne Zeitverzögerung auf seine die
lektrischen Eigenschaften untersucht wird.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung besteht in dem, verglichen
mit Hohlraumresonatoren, kompakten und robusten Aufbau mit die
lektrischen Resonatoren.
Die Erfindung hat besondere Bedeutung für die Bestimmung des
Feuchtegehalts von Stoffen, der sich aus den dielektrischen
Eigenschaften ableiten läßt. Daneben ist das Verfahren aber auch
für alle anderen Meß- und Überwachungsverfahren geeignet, die
die dielektrischen Eigenschaften eines Stoffes zu Auswertezwec
ken heranziehen, beispielsweise die Bestimmung von Schichtdicken
eines bekannten Materials.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen
in den Zeichnungen erläutert, in denen:
Fig. 1 einen einzelnen HF-Resonator im seitlichen Schnitt
zeigt, der als dielektrischer Resonator in einem Gehäu
se ausgebildet ist;
Fig. 2 einen Schnitt durch den HF-Resonator aus Fig. 1 ent
lang der Linie II-II zeigt;
Fig. 3A-C Ersatzschaltbilder für den Resonatorstromkreis
zeigen;
Fig. 4 eine schematische Darstellung von zwei symmetrisch über
dem Meßgut angeordneten dielektrischen Resonatoren
zeigt;
Fig. 5 die Resonanzkurven des ersten (gestrichelt) und des
zweiten Resonators (durchgezogen) ohne das zu messende
Material (fette Linien) und mit dem zu messenden Mate
rial (dünne Linien) zeigt, wobei Δε′′ = 0 ist; und
Fig. 6 die Resonanzkurven des ersten (gestrichelt) und des
zweiten Resonators (durchgezogen) ohne das zu messende
Material (fette Linien) und mit dem zu messenden Mate
rial (dünne Linien) zeigt, wobei Δε′ = 0.
In Fig. 1 ist ein einzelner HF-Resonator für die erfindungs
gemäße Vorrichtung gezeigt. Der HF-Resonator weist ein zylindri
sches Gehäuse mit einem ersten Abschnitt 2 aus Kupfer und mit
einem zweiten, eine der Grundflächen des Zylinders bildenden
Abschnitt 3 auf, der für elektromagnetische Wellen durchlässig
ist und z. B. aus Keramik oder Kunststoff besteht. In dem Gehäuse
2, 3 befindet sich ein scheibenförmiger dielektrischer Resonator
1, der in dem gezeigten Ausführungsbeispiel auf der Grundfläche
3 aufliegt, aber auch mit Abstandshaltern in dem Gehäuse gehal
ten sein kann. Zur Einkopplung eines elektromagnetischen HF-Fel
des in den dielektrischen Resonator 1 bzw. zum Empfang des Reso
natorfeldes sind Koaxialkabel 4a bzw. 4b vorgesehen, die an ge
genüberliegenden Punkten in das Gehäuse eingeführt sind und an
ihren dem dielektrischen Resonator 1 zugewandten Enden Koppel
schleifen 5a und 5b aufweisen, die durch eine einfache Leiter
schleife zwischen dem Mittelleiter und der Abschirmung des Koa
xialkabels 4a bzw. 4b gebildet sind.
Für die Auslegung eines rotationssymmetrischen Festkörperresona
tors, insbesondere eines scheibenförmigen Resonators mit dem
Radius a und der Höhe h, kann folgende Betrachtung dienen. Für
die z-Komponente des magnetischen Feldes kann innerhalb des
Resonators die Form
Hz ∝ J₀(kdr)
und außerhalb
Hz ∝ K₀(hr)
angenommen werden, wobei kd und ih die Grenzwellenzahlen inner
halb und außerhalb des Resonators und J₀ und K₀ die Besselfunk
tionen 0-ter Ordnung für reelle und imaginäre Argumente sind.
Die Grenzwellenzahlen sind mit der Resonatorwellenzahl β und der
Vakuumwellenzahl k durch die Beziehung verknüpft:
βc² = k²-β²
In r- und z-Richtung müssen folgende Randbedingungen näherungs
weise erfüllt sein:
wobei p₀₁ die erste Wurzel von J₀ ist. Weiterhin gilt:
Setzt man nun L = a, eine Frequenz von 2.5 GHz, einen typischen
Wert εr von 38 für den Resonator und p₀₁ = 2.405 an, so ergibt
sich aus
eine Resonatordimensionierung von a = L = 12.25 mm.
In den HF-Resonatoren sind ferner Einrichtungen zum Verstellen
der Resonanzfrequenz (nicht gezeigt) vorgesehen; solche Einrich
tungen können z. B. aus Abstimmkörpern bestehen, deren Lage rela
tiv zu dem dielektrischen Resonator 1 verstellbar ist. Im ein
fachsten Fall kann dies eine Metallschraube sein, die auf eine
gewünschte Tiefe in das Resonatorgehäuse 2, 3 eingedreht und
damit in einen gewünschten Abstand zu dem dielektrischen Resona
tor gebracht wird. Allgemein können jedoch auch dielektrische
oder magnetische Abstimmkörper verwendet werden, deren Lage
manuell oder durch einen Antriebsmechanismus und gesteuert durch
externe Signale aus der Steuer- und Auswerteeinheit eingestellt
wird. Es können auch fest angebrachte Abstimmkörper vorgesehen
werden, deren dielektrische, magnetische oder metallische Eigen
schaften sich durch Anlegen von elektrischen Steuersignalen
variieren lassen, wodurch ebenfalls eine Verstellung der Reso
nanzfrequenz des HF-Resonators erreicht wird.
Zur Einkopplung eines elektromagnetischen HF-Feldes in den die
lektrischen Resonator 1 bzw. zum Empfang des Resonatorfeldes
vorgesehene Koppelschleifen 5a und 5b sind symmetrisch ausge
bildet, wonach die Auswahl als Sende- und Empfängerschleife
willkürlich ist. Betrachtet man die Koppelschleife 5b als Emp
fänger, so werden die darin durch das Resonatorfeld des Festkör
perresonators 1 induzierten Signale über das Koaxialkabel 4b
abgeleitet und einer Meßschaltung zugeführt, die z. B. über eine
Spitzenwertgleichrichtung ein der Amplitude des Resonatorfeldes
entsprechendes Signal erzeugt. Dieses Signal wird anschließend
nach Analog/Digital-Wandlung in der Steuer- und Auswerteeinheit
weiterverarbeitet, wobei es sich typischerweise um einen Mikro
prozessor handeln wird.
Die folgende Beschreibung soll zur Erläuterung der Zusammenhänge
dienen, aus denen sich ergibt, daß sich aus der Summe und der
Differenz der Signale einer symmetrischen Gruppe von zwei HF-
Resonatoren die dielektrischen Eigenschaften eines, wie in Fig.
4 gezeigt, vor die Resonatorgruppe gebrachten Stoffes eindeutig
bestimmen lassen. Zu diesem Zweck wird das Ersatzschaltbild
eines einzelnen HF-Resonators betrachtet. In Fig. 3A ist ein
Ersatzschaltbild des HF-Resonators als RLC-Schwingkreis darge
stellt. Die Ankopplung der HF-Felder über Leiterschleifen kann
im Ersatzschaltbild durch eine äquivalente Transformatorschal
tung berücksichtigt werden. Da die Leiterschleifen zur Ein- und
Auskopplung des Feldes in den Resonator an diametral gegenüber
liegenden Positionen bezüglich des Festkörperresonators angeordnet sind,
können sie als parallele Transformatoren betrachtet werden.
Kombiniert man diese zu einer Gegeninduktivität M, so ergibt
sich das in Fig. 3A gezeigte Ersatzschaltbild. Im übrigen wer
den für die an den Schaltsymbolen angezeigten Impedanzen folgen
de Größen benutzt:
RG Innenwiderstand des HF-Generators (Konstantstromquelle)
L₀ Induktivität der Koppelschleife
L Induktivität des Resonators
M Gegenseitige Kopplungsinduktivität
C Kapazität des Resonators
Ri Innenwiderstand des Resonators
Rout Ausgangswiderstand.
L₀ Induktivität der Koppelschleife
L Induktivität des Resonators
M Gegenseitige Kopplungsinduktivität
C Kapazität des Resonators
Ri Innenwiderstand des Resonators
Rout Ausgangswiderstand.
Da die Koppelschleife 5a vollständig im Streufeld des dielek
trischen Resonators 1 liegt und die Anzahl ihrer Windungen 1
ist, kann man annehmen, daß
M ≈ L₀
Weiterhin kann man annehmen:
Rout » ωM
RG » ωM.
Unter diesen Annahmen vereinfacht sich das Ersatzschaltbild zu
dem in Fig. 3B gezeigten.
Als nächstes wird die parallele Impedanz auf der rechten Seite
von Fig. 3B unter der Annahme:
ω · C · Ri = Qi » 1
in folgende äquivalente Reihenimpedanz transformiert
Damit ergibt sich das in Fig. 3C gezeigte Ersatzschaltbild. Die
Eingangsimpedanz dieses Kreises ist:
In der Nähe der Resonanzfrequenz kann der erste Summand dieses
Ausdrucks gegen den zweiten vernachlässigt werden, so daß sich
folgender Absolutwert für die Eingangsimpedanz ergibt:
wobei ausgenutzt worden ist, daß
ist. Dies ist einerseits durch den hohen Qi-Wert des unbelasteten
dielektrischen Resonators bedingt; andererseits ist in der Nähe
der Resonanzfrequenz 1/ωC nahe an dem Wert von ωL. Die letztere
Größe läßt sich leicht bestimmen, da die Induktivität eines
scheibenförmigen dielektrischen Resonators mit dem Radius a und
der Höhe h durch
gegeben ist, was bei typischen Werten, a = 6 mm, h = 4 mm und
einer Frequenz von 2.5 GHz folgenden Wert ergibt:
ωL ≈ 225 Ω
Entwickelt man den obigen Ausdruck für die Eingangsimpedanz |Zin|
in eine Taylor-Reihe um die Resonanzfrequenz ω₀, erhält man
wobei
Qi = ω₀CRi
benutzt wurde.
Weiterhin wird ein Kopplungskoeffizient k eingeführt, der defi
niert ist als
wobei die obige Näherung M ≈ L₀ benutzt worden ist. Die Indukti
vität der Kopplungsschleife L₀, deren Schleifenradius als b und
deren Leiterradius als r bezeichnet wird, ist gegeben durch
Bei einer Frequenz von 2.5 GHz, b = 1.5 mm, r = 0.5 mm ist ωL₀ =
39 Ω. Der Kopplungskoeffizient beträgt dann etwa k ≅ 0.177.
Setzt man die Definition von k in die Formel für |Zin| ein,
erhält man
Schließlich wird der Ausgangswiderstand Rout im Nachhinein be
rücksichtigt. Da Ri einen sehr hohen Wert hat, der gegeben ist
als
wird der Gesamtfaktor vor der Klammer in der obigen Gleichung
für |Zin| gleich dem Ausgangswiderstand, wenn dieser klein genug
ist. Damit erhält man schließlich:
Mit Hilfe dieser Beziehung kann man nun den Einfluß eines zu
messenden Materials in der Nähe des Festkörperresonators ablei
ten. Der Einfluß von kleinen Änderungen in ε′ auf |Zin| in der
Nähe der Resonanzfrequenz ω₀, d. h. Δω = ω-ω₀«ω₀, wie er
durch die Anwesenheit des zu untersuchenden Stoffes in der Nähe
des Resonators verursacht wird, läßt sich beschreiben durch:
Mit den Beziehungen
erhält man schließlich:
Dabei ist zu beachten, daß das Vorzeichen der Änderung von |Zin|
mit ansteigendem ε′ davon abhängt, ob die Resonanzfrequenz ω₀
oberhalb oder unterhalb der Betriebsfrequenz ω liegt. D.h. im
Fall von zwei symmetrisch oberhalb und unterhalb der Betriebs
frequenz betriebenen Resonatoren ist die Differenz der Signale
von den beiden Resonatoren F1-F2 proportional zu Δε′.
Nun wird der Einfluß von Änderungen im Imaginärteil der Dielek
trizitätskonstanten betrachtet. Der Imaginäranteil ε′′ ist in der
oben schon angegebenen Gleichung
in Qi verborgen, das als
angegeben werden kann, womit sich
ergibt. Daraus erhält man schließlich die Änderung von |Zin| mit
ε′′:
Hier ist nun zu beachten, daß im Gegensatz zu der obigen Abhän
gigkeit von Δ|Zin| von ε′, das Vorzeichen von Δ|Zin| bei Änderung
von ε′′ nicht davon abhängt, ob der Resonator oberhalb oder un
terhalb seiner Resonanzfrequenz ω₀ betrieben wird. Daraus ergibt
sich die Schlußfolgerung, daß im Fall von zwei symmetrisch ober
halb und unterhalb der Resonanzfrequenz betriebenen Resonatoren
die Summe der Signale des ersten und des zweiten Resonators
proportional zu Δε′′ ist; in der Summe heben sich, wie oben gese
hen, aufgrund gegenläufiger Vorzeichen die Effekte von Änderun
gen in ε′ auf, so daß die Summe ausschließlich auf Änderungen in
ε′′ sensitiv ist.
Auf die Differenz, die wie gesehen proportional zu Δε′ ist,
wirken sich hingegen Änderungen von ε′′ nicht aus, da sie mit
gleichen Vorzeichen für den ersten und den zweiten Resonator
auftreten und sich somit in der Differenz wegheben.
Zusammenfassend ergibt sich daraus, daß bei einem symmetrischen
Resonatorpaar Summe und Differenz der gemessenen Signale F1 und
F2 "orthogonal" zueinander sind und die durch ε′ und ε′′ bedingten
Effekte entkoppeln. Sinnvolle Normierungen der Summen und Diffe
renzen sind:
wobei F1₀ und F2₀ die im Leerlauf, d. h. in Abwesenheit des zu
messenden Stoffes erhaltenen Signale des ersten und des zweiten
Resonators sind.
Fig. 4 zeigt nebeneinanderliegend zwei HF-Resonatoren, die mit
ihren für elektromagnetische Felder durchlässigen Gehäuseab
schnitten 3 dem zu messenden Stoff 10 zugewandt sind, während
ihre leitfähigen Gehäuseabschnitte sie gegen wechselseitige
Beeinflussung ihrer Resonatorfelder abschirmen. Durch die metal
lischen Gehäuseabschnitte 2 wird die oberhalb der Resonatoren 1
liegende Hemisphäre abgeschirmt; ferner wird eine gewisse Richt
wirkung erzielt, durch die das aus dem dielektrischen Resonator
1 austretende Resonatorfeld auf den darunter befindlichen zu
messenden Stoff gerichtet wird.
In die HF-Resonatoren 8, 8′ wird das gleiche HF-Feld mit der
Frequenz ω über die Koppelschleifen (4a in Fig. 1) eingespeist.
Die beiden HF-Resonatoren 8, 8′ sind so ausgelegt bzw. voreinge
stellt, daß sie im Leerlaufbetrieb (in Abwesenheit des zu mes
senden Stoffes) unterschiedliche Resonanzfrequenzen ω₀₁ bzw. ω₀₂
haben. Für eine solche Voreinstellung dienen die oben beschrie
benen Einrichtungen zum Verstellen der Resonanzfrequenz. Die
einheitliche Frequenz ω, mit der beide Resonatoren betrieben
werden, ist so eingestellt, daß die Betriebsfrequenz ω in der
Mitte zwischen den Resonanzfrequenzen ω₀₁ und ω₀₂ liegt. Diese
Verhältnisse sind in Fig. 5 gezeigt, wobei die fett gezeichnete
gestrichelte bzw. durchgezogene Kurve die Resonanzkurve des 1.
bzw. 2. HF-Resonators bei Abwesenheit des Materials vor den HF-
Resonatoren zeigt. Die Betriebsfrequenz ω liegt genau in der
Mitte zwischen den Resonanzfrequenzen ω₀₁ und ω₀₂.
Wird das zu messende Material, wie in Fig. 4 dargestellt, vor die
HF-Resonatoren gebracht, stellen sich die in den dünn gezeichne
ten Linien gezeigten Verhältnisse ein. Dabei ist zur Vereinfa
chung der Darstellung zunächst angenommen, daß lediglich eine
Änderung im Realanteil der komplexen Dielektrizitätskonstanten
auftritt, d. h. Δε′′ = 0. Die Wirkung des vor die Resonatorgruppe
auf Fig. 4 gebrachten Materials besteht in diesem Fall darin,
daß beide Resonanzkurven sich aus der symmetrischen Lage um die
Betriebsfrequenz ω verschieben. Dies hat zur Folge, daß die
beiden Resonatoren bei Einspeisung der Betriebsfrequenz ω nicht
mehr bei symmetrischen Arbeitspunkten, d. h. in gleicher Entfer
nung von ihrer jeweiligen Resonanzfrequenz betrieben werden,
sondern der Arbeitspunkt auf der einen Resonanzkurve aufwärts
zur Resonanzfrequenz (ω₀₂) hin und auf der anderen Resonanzkurve
abwärts vom Resonanzmaximum (bei ω₀₁) wegläuft. Dieses Verhalten
korrespondiert mit dem oben gefundenen Ergebnis, daß Δ|Zin| sich
für ober- und unterhalb der Betriebsfrequenz liegende Resonanz
frequenzen in entgegengesetzte Richtung ändert. Die ursprünglich
symmetrisch um die Betriebsfrequenz arbeitenden HF-Resonatoren
liefern nun unterschiedliche Ausgabesignale F1 und F2 (gemessen
wird z. B. die Amplitude des mit der Empfängerschleife 5b aufge
nommenen Resonatorfeldes). Diese durch die Anwesenheit eines
Materials vor der Resonatorgruppe bedingte Signaldifferenz der
beiden HF-Resonatoren ist in Fig. 5 als F2-F1 bezeichnet.
In Fig. 6 wird nun der Fall betrachtet, in dem die Anwesenheit
eines Materials ausschließlich eine Änderung im Imaginäranteil
der komplexen Dielektrizitätskonstante bewirkt, d. h. Δε′ = 0.
In diesem Fall tritt keine Verschiebung, sondern eine Verbreite
rung der Resonanzkurven, welche bei Anwesenheit des Materials
mit dünn gezeichneten Linien dargestellt sind, auf. Daher ergibt
sich auch keine Signaldifferenz zwischen den beiden HF-Resonato
ren, da beide weiterhin symmetrisch um die Betriebsfrequenz ω,
arbeiten. Dies entspricht dem oben gefundenen Ergebnis, daß
Δ|Zin| sich mit ε′′ für ober- und unterhalb der Betriebsfrequenz
liegende Resonanzfrequenzen in gleicher Richtung ändert. Es er
gibt sich jedoch eine Differenz der Summe der Ausgabesignale F1₀
+ F2₀ bei Abwesenheit eines zu messenden Stoffes und der Summe
der Signale F1 + F2 bei Anwesenheit des zu messenden Stoffes.
Die Differenz dieser beiden Summen F1₀ + F2₀ - (F1 + F2) ist
proportional zu der durch die Anwesenheit des untersuchten Mate
rials bedingten Änderung in ε′′.
Die oben angegebenen Beziehungen
gelten in guter Näherung nur in der Nähe der Resonanzfrequenz.
Sie deuten jedoch das qualitative Verhalten der Signale auch in
größerer Entfernung von der Resonanzfrequenz an. In Fällen, in
denen die obigen analytischen Beziehungen für Δε′ und Δε′′ keine
ausreichende Beschreibung liefern, können sie durch verfeinerte,
empirisch ermittelte Eichkurven ersetzt werden, die in der Steu
er- und Auswerteeinheit gespeichert bereitgehalten werden kön
nen.
Eine besonders nützliche Fortbildung der Erfindung weist neben
dem aus zwei HF-Resonatoren bestehenden Sensorpaar, wie es in
Fig. 4 gezeigt ist, ein weiteres Sensorpaar auf, das ebenfalls
mit dergleichen Betriebsfrequenz ω versorgt wird und Resonanz
frequenzen symmetrisch darum hat; während das erste Sensorpaar
wie in Fig. 4 gezeigt auf das zu messende Material gerichtet
ist, wird das zweite Sensorpaar auf ein Bezugsmedium gerichtet.
Das Signal des zweiten Sensorpaars wird dergleichen Auswertung
unterzogen wie das des ersten. Durch Vergleich des ersten, auf
das zu messende Material gerichteten Sensorpaars mit dem zwei
ten, auf das Bezugsmedium gerichteten Sensorpaar ergeben sich
sehr nützliche Bezugswerte. Als Bezugsmedium kann z. B. dienen:
- - Leerer Raum (Luft),
- - ein Bezugsmaterial mit bekannten Eigenschaften,
- - eine trockene Probe desgleichen Materials wie das zu messen de, wenn die Feuchte des letzteren zu bestimmen ist,
- - eine dielektrische Schicht bekannter Dicke, wenn die Schichtdicke einer Schicht aus dem gleichen Material gemessen werden soll,
- - einen bekannten Abstand zu einem dielektrischen Körper, wenn ein unbekannter Abstand gemessen werden soll.
Claims (19)
1. Vorrichtung zur Messung der komplexen Dielektrizitätskon
stante eines Stoffes durch Auswertung der durch die Anwesen
heit des Stoffes verursachten Verstimmung eines HF-Resona
tors, welche Vorrichtung eine HF-Sendeeinrichtung zum Senden
hochfrequenter elektromagnetischer Felder mit variierbarer
Frequenz in den HF-Resonator, eine Empfangseinrichtung für
das Resonatorfeld und eine mit der Empfangseinrichtung ver
bundene Meßschaltung aufweist, mit der die Amplitude der
empfangenen Hochfrequenzsignale bestimmbar ist, dadurch
gekennzeichnet,
- - daß zwei baugleiche HF-Resonatoren (8, 8′) vorhanden sind, die jeweils einen dielektrischen Festkörperresonator (1, 1′) in einem Gehäuse mit einem ersten Abschnitt (2, 2′), welcher den Festkörperresonator wenigstens in einer Hemisphäre mit leitfähigem Material umschließt, und mit einem zweiten Ab schnitt (3, 3′), der für elektromagnetische Wechselfelder durchlässig ist, und eine Einrichtung zum Verstellen der Resonanzfrequenz des HF-Resonators aufweisen,
- - daß die beiden HF-Resonatoren so zueinander positionierbar sind, daß ihre leitfähigen Gehäuseabschnitte (2, 2′) sie gegen wechselseitige Beeinflussung abschirmen und ihre für elektromagnetische Felder durchlässigen Abschnitte (3, 3′) dem zu messenden Stoff (10) zugewandt sind, und
- - daß eine Steuer- und Auswerteeinheit vorhanden ist, mit der die HF-Sendeeinrichtung und/oder die HF-Resonatoren so steuerbar sind, daß die beiden HF-Resonatoren mit HF-Feldern mit der gleichen Frequenz (ω) gespeist werden, welche in Abwesenheit des zu messenden Stoffes in der Mitte zwischen den unterschiedlich voreingestellten Resonanzfrequenzen (ω₀₁, ω₀₂) des ersten und des zweiten HF-Resonators (8, 8′) liegt, und die die gemessenen Amplitudenwerte der jeweils in den beiden HF-Resonatoren empfangenen HF-Signale aufnimmt und auf Grundlage von deren Summen- und Differenzwerten die komplexe Dielektrizitätskonstante des Stoffes bestimmt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
zweite Abschnitt (3) des Gehäuses aus einem dielektrischen
Material besteht.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
aus einem Dielektrikum bestehende zweite Abschnitt (3) des
Gehäuses aus Kunststoff oder Keramik besteht.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der erste Gehäuseabschnitt (2, 2′) jedes HF-Resonators
(8, 8′) aus einem Metallzylinder besteht, dessen eine Grund
fläche ganz oder teilweise offen ist, und der zweite Ab
schnitt (3, 3′) durch eine in der Öffnung der Grundfläche
liegende dielektrische Wandfläche gebildet wird.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß der dielektrische Festkörperresonator (1,
1′) direkt auf dem zweiten Gehäuseabschnitt (3, 3′) auflie
gend angebracht ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet,
daß der Durchmesser des zylindrischen Gehäuses kleiner als
die halbe Grenzwellenlänge des Gehäuses ist.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Verstimmen des HF-
Resonators einen in dem Gehäuse beweglich angeordneten die
lektrischen, magnetischen oder metallischen Abstimmkörper
aufweist, dessen Lage bezüglich des Festkörperresonators
manuell oder gesteuert durch die Steuer- und Auswerteeinheit
variierbar ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Einrichtung zum Verstimmen des HF-
Resonators einen in dem Gehäuse angebrachten dielektrischen,
magnetischen oder metallischen Körper aufweist, dessen die
lektrische, magnetische oder metallische Eigenschaften durch
von der Steuer- und Auswerteeinheit zugeführte Steuersignale
variierbar sind.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die beiden HF-Resonatoren (8, 8′) auf
gleicher Höhe so nebeneinanderliegend angeordnet sind, daß
ihre zweiten, für elektromagnetische Wechselfelder durch
lässigen Gehäuseabschnitte (3, 3′) dem zu messenden Stoff
(10) zugewandt sind.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß jeder dielektrische Resonator (1, 1′)
aus Metalloxid-Keramik, insbesondere BaO-PbO-Nd₂O₃-TiO₂,
Metalltitanaten, vorzugsweise Zinntitanat oder Zirkontita
nat, Mischoxiden, die neben Barium als weiteres Metall Zir
kon, Zinn oder Tantal enthalten, oder MgTiO₃-CaTiO₃ besteht.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß neben den beiden HF-Resonatoren (8, 8′)
eine baugleiche Gruppe von zwei weiteren HF-Resonatoren
vorgesehen ist, die in gleicher Weise wie die zwei HF-Reso
natoren (8, 8′) mit der HF-Sendeeinrichtung und der Steuer-
und Auswerteeinrichtung verbunden sind und unabhängig von
den beiden HF-Resonatoren auf ein Bezugsmedium ausrichtbar
sind.
12. Verfahren zur Messung der komplexen Dielektrizitätskonstante
eines Stoffes durch Auswertung der durch die Anwesenheit des
Stoffes verursachten Verstimmung eines HF-Resonators, wobei
hochfrequente elektromagnetischer Felder mit auswählbarer
Frequenz in den HF-Resonator eingekoppelt werden, das Reso
natorfeld über eine Empfangseinrichtung aufgenommen wird und
mit einer Meßschaltung die Amplitude der empfangenen Hoch
frequenzsignale bestimmt wird, dadurch gekennzeichnet,
- - daß zwei HF-Resonatoren (8, 8′), die jeweils einen dielek trischen Festkörperresonator (1, 1′) in einem Gehäuse mit einem ersten Abschnitt (2, 2′), welcher den Festkörperreso nator wenigstens in einer Hemisphäre mit leitfähigem Materi al umschließt, und mit einem zweiten Abschnitt (3, 3′), der für elektromagnetische Wechselfelder durchlässig ist, aufwei sen, so auf den zu messenden Stoff gerichtet werden, daß ihre zweiten Gehäuseabschnitte (3, 3′) dem Stoff (10) zuge wandt sind und ihre ersten Gehäuseabschnitte (2, 2′) eine direkte Beeinflussung der HF-Resonatoren untereinander durch die aus den zweiten Gehäuseabschnitten austretenden HF-Fel der abschirmen,
- - daß der erste bzw. zweite HF-Resonator mittels einer Ein richtung zum Abstimmen auf eine erste Resonanzfrequenz (ω₀₁) bzw. zweite, von der ersten Resonanzfrequenz (ω₀₁) verschiedene Resonanzfrequenz (ω₀₂) bei Abwesenheit des zu messenden Stof fes eingestellt wird, und in beide HF-Resonatoren HF-Felder mit einer mittleren Frequenz (ω) eingekoppelt werden, die in der Mitte zwischen der ersten (ω₀₁) und der zweiten Reso nanzfrequenz (ω₀₂) liegt, und
- - daß die gemessenen Amplituden der jeweils in den beiden HF-Resonatoren empfangenen HF-Signale von einer Steuer- und Auswerteeinheit aufgenommen werden, und auf Grundlage von deren Summen- und Differenzwerten in der Steuer- und Aus werteeinheit mittels vorgegebener Abhängigkeiten die Dielek trizitätskonstante des zu messenden Stoffes bestimmt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß als
vorgegebene Abhängigkeit die Beziehungen:
verwendet werden, wobei F1 bzw. F2 die Amplitude des empfan
genen HF-Signals des ersten bzw. zweiten HF-Resonators ist,
wenn diese auf den zu messenden Stoff gerichtet sind, und
F1₀ bzw. F2₀ die Amplitude des ersten bzw. zweiten HF-Resona
tors in Abwesenheit des zu messenden Stoffes ist.
14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß als
vorgegebene Abhängigkeit eine experimentell ermittelte Eich
kurve verwendet wird.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß neben den zwei Resonatoren (8, 8′) eine
zweite Gruppe von zwei baugleichen HF-Resonatoren, die mit
der gleichen Betriebsfrequenz (ω) versorgt werden und deren
HF-Signale in gleicher Weise in der Steuer- und Auswerteein
heit ausgewertet werden, auf ein Bezugsmedium gerichtet wird
und die Werte der zweiten Gruppe in der Steuer- und Auswerte
einheit als Bezugsgrößen verwendet werden.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die
zweite HF-Resonatorgruppe auf leeren Raum gerichtet wird.
17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die
zweite HF-Resonatorgruppe auf eine trockene Probe des zu
messenden Stoffes gerichtet wird.
18. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die
zweite HF-Resonatorgruppe auf eine Probe des zu messenden
Stoffes mit bekannter Feuchtigkeit gerichtet wird.
19. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die
zweite HF-Resonatorgruppe auf eine dielektrische Schicht des
zu messenden Stoffes mit bekannter Dicke gerichtet wird.
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