DE4335685A1 - Glasurzusammensetzung - Google Patents

Glasurzusammensetzung

Info

Publication number
DE4335685A1
DE4335685A1 DE19934335685 DE4335685A DE4335685A1 DE 4335685 A1 DE4335685 A1 DE 4335685A1 DE 19934335685 DE19934335685 DE 19934335685 DE 4335685 A DE4335685 A DE 4335685A DE 4335685 A1 DE4335685 A1 DE 4335685A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
oxide
weight
glaze
glaze composition
strontium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19934335685
Other languages
English (en)
Other versions
DE4335685C2 (de
Inventor
Masashi Tsuzuki
Masahiko Okuyma
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP22461993A external-priority patent/JPH0781974A/ja
Priority claimed from JP22462093A external-priority patent/JPH0781972A/ja
Priority claimed from JP25702193A external-priority patent/JP3153690B2/ja
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to DE4345516A priority Critical patent/DE4345516C2/de
Priority claimed from DE4345516A external-priority patent/DE4345516C2/de
Publication of DE4335685A1 publication Critical patent/DE4335685A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4335685C2 publication Critical patent/DE4335685C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/003Thick film resistors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C03C3/066Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C03C3/068Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing rare earths
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/14Silica-free oxide glass compositions containing boron
    • C03C3/145Silica-free oxide glass compositions containing boron containing aluminium or beryllium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/16Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
    • C03C3/19Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/08Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/006Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for manufacturing resistor chips
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

Hintergrund der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Glasurzusammensetzung zur Ver­ besserung der Oberflächenglätte beispielsweise für ein Keramiksubstrat und insbesondere eine Glasurzusammenset­ zung, die für die Herstellung von Dünnfilm-Hybridteilen unter Verwendung von Dünnfilm- oder Dünn-/Dickfilm-Tech­ niken geeignet ist, wie Chip-Kondensatoren, Chip-Wider­ ständen und Chip-Induktivitäten.
Eine Glasurzusammensetzung ist in bekannter Weise dazu geeignet, die Oberflächenglätte eines Keramiksubstrats deutlich zu verbessern. Die Glasurzusammensetzung besitzt wärmespeichernde, elektrisch isolierende und andere her­ vorragende glasartige Eigenschaften. Diese Eigenschaften werden bei Thermoköpfen und verschiedenen anderen Teilen verwendet.
(1) Die Glasurzusammensetzung mit hervorragender Ober­ flächenglätte für Thermoköpfe enthielt im allgemeinen ein Alkalimetall und Blei zur Anhebung der Herstellungseffi­ zienz der Glasurzusammensetzung.
(2) Vor kurzem wurde eine Glasurzusammensetzung für einen Hochgeschwindigkeits- oder Fotodruck-Thermokopf hauptsächlich aus thermisch beständigem Siliciumdioxid hergestellt, ohne Verwendung eines Alkalimetalls oder Blei. Eine derartige Hochtemperatur-Glasurzusammensetzung wurde beispielsweise in den japanischen geprüften und ver­ öffentlichten Patentanmeldungen Nr. 60-55453 und 61-24345 sowie in der japanischen offengelegten Patentanmeldung Nr. 60-118648 veröffentlicht.
Jetzt wurden Glasurzusammensetzungen zur Verwendung für Chips zusätzlich zur Verwendung für Thermoköpfe entwickelt. Um den Ansprüchen nach leichten, dünnen, kurzen, kleinen, jedoch hochpräzisen elektronischen Teilen zu genügen, ersetzt ein Keramiksubstrat mit einer auf seiner Oberfläche gebildeten Glasurschicht derzeit konven­ tionelle Chip-Substrate. Dieses glasierte Substrat hat eine hervorragende Oberflächenglätte, und Dünn- oder Dickfilmstrukturen können auf der Oberfläche des Substrats mit feinen Strukturteilungen gebildet werden.
Wenn die vorstehend beschriebene bekannte Glasurzusammen­ setzung (1), die einen großen Anteil Alkalimetall und Blei enthält, für ein Chip-Substrat verwendet wird, verschlech­ tert das Alkalimetall zum Zeitpunkt einer Spannungsbeauf­ schlagung die elektrische Isolierfähigkeit, während es sich durch das Glas bewegt und dabei die elektrische Zu­ verlässigkeit verschlechtert. Wenn die Glasurzusammen­ setzung in einer reduzierenden Atmosphäre gebrannt wird, macht die Reduktion von Bleioxiden das Glas schwarz, und die hohe elektrische Isolierfähigkeit, das heißt ein spe­ zifischer volumetrischer Widerstand von 1014 Ohm× cm oder mehr kann nicht aufrechterhalten werden. Zusätzlich ist die Verwendung von Blei nicht erwünscht, weil Blei eine giftige Substanz ist.
Die vorstehend erwähnte Hochtemperatur-Glasurzusammen­ setzung (2), die hauptsächlich aus Silikat besteht, wurde zur Erzielung des hohen Wärmewiderstands entwickelt. Wenn der Wärmeausdehnungskoeffizient der Zusammensetzung nicht exakt mit dem des Keramiksubstrats übereinstimmt, würde sich das Keramiksubstrat krümmen. Da das hochschmelzende Glas eine hohe Fixiertemperatur beim integralen Aufbringen auf das Substrat benötigt, würde schon ein geringer Unter­ schied des Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen dem des Glases und dem des Substrates ein Krümmen des Substrats bewirken. Da das Keramiksubstrat eine ausreichende Dicke benötigt, um beständig gegen ein solches Krümmen zu sein, ist die Bildung eines wünschenswert dünnen Chip-Substrats schwierig.
Zum Zeitpunkt des Brennens der Glasur entwickelt das hoch­ schmelzende Glas eine so hohe Viskosität, daß die End­ bereiche der Glasurzusammensetzung merkbare Vorsprünge relativ zu der gesamten dünnen Glasurzusammensetzung be­ kommen. Dies ist nicht vorteilhaft für das partielle Gla­ sieren, sondern erzeugt eine unzureichende Glattheit auf dem gesamten Oberflächenüberzug oder bandförmige Glasur­ muster auf dem Chip-Substrat.
Der Wärmewiderstand des glasierten Substrats ist eine wesentliche Eigenschaft für Thermoköpfe, jedoch eine un­ nötige Eigenschaft für Dünnfilm-Hybridteile. Das glasierte Substrat für die Hybridteile muß bei hohen Temperaturen kalziniert werden. Daher ist ein glasiertes Substrat mit hohem Wärmewiderstand unökonomisch für die Verwendung bei Dünnfilm-Hybridteilen.
Die gewünschte Glasurdicke des glasierten Substrats für Dünnfilm-Hybridteile liegt zwischen ungefähr 5 µm und 25 µm, während die von konventionellen glasierten Substra­ ten für Faksimile-Thermoköpfe zwischen 60 µm und 80 µm liegt. Wenn eine bekannte Glasurzusammensetzung dünn aus­ gebildet und die Glasurviskosität hoch ist, wird die Zu­ sammensetzung durch die unregelmäßige Oberfläche des Keramiksubstrats beeinflußt. Daher bildet sich bei der Glasurzusammensetzung eine ungenügende Oberflächenglätte aus. Eine derartig verschlechterte Veränderung der Glasur­ fläche ist nicht wünschenswert. Heutzutage ist eine Gla­ surzusammensetzung gefragt, die eine sehr dünne und flache Glasurfläche mit jedoch hoher Qualität erzeugt.
Kurzdarstellung der Erfindung
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung, eine Glasurzu­ sammensetzung zu schaffen, die für glasierte Substrate für Dünnfilm-Hybridteile oder für andere Chip-Substrate geeig­ net ist. Die Glasurzusammensetzung sollte auch die Glasur­ temperatur verringern und eine überragende elektrische Isolierfähigkeit und chemische Stabilität aufweisen. Dar­ über hinaus sollte die Glasurzusammensetzung selten zu Irregularitäten an der Oberfläche von Substraten und zu vielen Erhebungen an den Endbereichen der Glasurzusammen­ setzung führen.
Ein anderes Ziel der Erfindung ist es, eine Glasurzusam­ mensetzung zu schaffen, die besonders vorteilhaft sogar bei einem dünnen Substrat ein Krümmen verhindert.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine Gla­ surzusammensetzung zu schaffen, die leicht eine äußerst glatte Glasurschicht ohne Verschlechterung einer dünnen Glasurfläche bilden kann.
Um diese und andere Ziele zu erreichen, sieht ein erstes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung eine Gla­ surzusammensetzung vor, die unerläßliche Komponenten auf der Basis von Oxid-Gewichtsbestandteilen enthält. Die un­ erläßlichen Komponenten sind 20 bis 50 Gew.-% Boroxid, 5 bis 35 Gew.-% Aluminiumoxid und 15 bis 55 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids, ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid, Magnesiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe. Der Gesamtanteil dieser Komponenten entspricht oder übersteigt 90 Gew.-% der gesamten Zusammensetzung.
Ein zweites Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung betrifft eine Glasurzusammensetzung, die auf der Basis des Oxidgewichts 20 bis 50 Gew.-% Boroxid, 5 bis 35 Gew.-% Alu­ miniumoxid, 0 bis 40 Gew.-% Siliciumdioxid, 0 bis 8 Gew.-% Zinkoxid und 15 bis 55 Gew.-% wenigstens eines Erdalkali­ oxids enthält, ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Stron­ tiumoxid, Magnesiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe. Der Gesamtanteil dieser unverzichtbaren Komponenten macht wenigstens 90 Gew.-% der gesamten Zusammensetzung aus.
Ein drittes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sieht eine Glasurzusammensetzung vor, die auf der Basis des Oxidgewichts 20 bis 50 Gew.-% Boroxid, 5 bis 35 Gew.-% Aluminiumoxid, 0 bis 40 Gew.-% Siliciumdioxid und 15 bis 55 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids enthält, ausge­ wählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid, Magnesium­ oxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe. Der Gesamtanteil dieser unverzichtbaren Komponenten macht wenigstens 90 Gew.-% der gesamten Zusammensetzung aus.
Gemäß einem vierten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung beträgt die Zusammensetzung der Erdalkalioxide auf der Basis des Oxidgewichts gemäß dem ersten, zweiten oder dritten Ausführungsbeispiel vorzugsweise 1,5 bis 30 Gew.-% Kalziumoxid, 0 bis 30 Gew.-% Strontiumoxid, 0 bis 10 Gew.-% Magnesiumoxid und 0 bis 45 Gew.-% Bariumoxid.
Ein fünftes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung betrifft eine Glasurzusammensetzung, die auf der Basis des Oxidgewichts 15 bis 40 Gew.-% Boroxid, 10 bis 30 Gew.-% Alu­ miniumoxid, bis zu 40 Gew.-% Siliziumdioxid, 10 bis 40 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids, ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe, und 3 bis 30 Gew.-% insgesamt wenigstens eines Oxids enthält, das aus der aus bis zu 30 Gew.-% Lanthan­ trioxid, bis zu 20 Gew.-% Yttriumoxid und bis zu 10 Gew.-% Zirkondioxid enthält. Der Gesamtanteil dieser Komponenten entspricht oder übersteigt 90 Gew.-% oder mehr der gesamten Zusammensetzung.
Ein sechstes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfin­ dung sieht vor, daß die Zusammensetzung der Erdalkalioxide gemäß dem fünften Ausführungsbeispiel vorzugsweise 1,5 bis 30 Gew.-% Kalziumoxid, bis zu 20 Gew.-% Strontiumoxid und bis zu 10 Gew.-% Bariumoxid aufweist.
Ein siebtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sieht eine Glasurzusammensetzung vor, die auf der Basis des Oxidgewichts 15 bis 40 Gew.-% Boroxid, 10 bis 30 Gew.-% Aluminiumoxid, 0,5 bis 17 Gew.-% Phosphorpentoxid, bis zu 40 Gew.-% Siliciumdioxid und 15,5 bis 40 Gew.-% wenigstens seines Erdalkalioxids enthält, das aus der aus Kalzium­ oxid, Strontiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe ausgewählt ist. Der Gesamtanteil dieser Komponenten ent­ spricht oder übersteigt 90 Gew.-% oder mehr der gesamten Zusammensetzung.
Ein achtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sieht eine Zusammensetzung der Erdalkalioxide gemäß dem siebten Ausführungsbeispiel von vorzugsweise 1,5 bis 25 Gew.-% Kalziumoxid, bis zu 20 Gew.-% Strontiumoxid und bis zu 10 Gew.-% Bariumoxid vor.
Wie vorstehend ausgeführt, ist der Anteil jeder Komponente der Glasurzusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung aus den folgenden Gründen spezifiziert oder begrenzt.
  • 1. Boroxid ist ein notwendiges glasbildendes Oxid bei der vorliegenden Erfindung. Wenn der Anteil von Boroxid weniger als die spezifizierte untere Begrenzung beträgt, kann leicht Kristallisation auftreten, und der Schmelz­ punkt der Glaszusammensetzung erhöht sich. Wenn der Anteil des Boroxids den festgelegten oberen Grenzwert übersteigt, besitzt die Glasurzusammensetzung einen un­ zureichenden Wärmewiderstand und eine unzureichende Wasserdichtigkeit.
  • 2. Zusätzlich zu Boroxid ist Aluminiumoxid ein weiteres glasbildendes Oxid. Wenn der Anteil von Aluminiumoxid unterhalb des festgelegten unteren Grenzwerts liegt, wird die chemische Beständigkeit der Glasurzusammen­ setzung deutlich verringert. Wenn der Anteil von Alu­ miniumoxid den festgelegten oberen Grenzwert über­ steigt, weist die Glasurzusammensetzung einen hohen Schmelzpunkt auf und kristallisiert leicht.
  • 3. Phosphorpentoxid ist eine charakteristische Komponente der vorliegenden Erfindung. Der Zusatz von Phosphor­ pentoxid verbessert die Oberflächenglätte. Phosphor­ pentoxid erhöht den Wärmeausdehnungskoeffizienten, ver­ mindert jedoch die chemische Beständigkeit. Wenn der Anteil an Phosphorpentoxid unter dem angegebenen unte­ ren Grenzwert liegt, kann keine bemerkenswerte Ober­ flächenglätte erreicht werden. Wenn der Anteil an Phosphorpentoxid den angegebenen oberen Grenzwert über­ steigt, tritt leicht Kristallisation ein, und die Ober­ flächenglätte geht verloren.
  • 4. Der Zusatz von Siliciumdioxid verbessert die Oxidations- und Wasserbeständigkeit der Glasurzusammen­ setzung. Wenn der Anteil an Siliciumdioxid 40 Gew.-% übersteigt, erhöht sich der Schmelzpunkt der Glasur­ zusammensetzung, wodurch die Anwendung der vorliegenden Erfindung scheitert.
  • 5. Der Zusatz von Erdalkalioxiden, wie Kalziumoxid, Strontiumoxid und Bariumoxid, stellt den Wärmeausdeh­ nungskoeffizienten ein und fördert die Verglasung.
    Wenn der Anteil an Erdalkalioxiden unter dem ange­ gebenen unteren Grenzwert liegt, erfolgt die Vergla­ sung nicht ohne weiteres, und wenn der Erdalkalioxid- Anteil die angegebene obere Grenze überschreitet, tritt leicht Kristallisation auf.
    Unter den Erdalkalioxiden ist Kalziumoxid das am meisten erwünschte, weil es die Verglasung stark fördert. Die Effektivität kann jedoch nicht bemerkens­ wert sein, wenn der Anteil an Kalziumoxid unterhalb der angegebenen unteren Begrenzung liegt. Wenn der Kalziumoxid-Anteil die angegebene obere Begrenzung übersteigt, wird der Wärmeausdehnungskoeffizient stark verringert, und es tritt leicht Kristallisation auf.
    Durch Ersetzen eines Teils des Kalziumoxids mit Stron­ tiumoxid und Bariumoxid kann der Wärmeausdehnungs­ koeffizient eingestellt werden. Die kombinierte Wir­ kung der Erdalkalioxide kann erreicht werden. Weiterhin wird das Maß der Verglasung verbessert. Wenn der An­ teil an Strontiumoxid und Bariumoxid den angegebenen oberen Grenzwert überschreitet, tritt starke Kristal­ lisation auf.
  • 6. Dioxide, wie Lanthantrioxid, Yttriumoxid und Zirkon­ dioxid, sind charakteristische Beimengungen gemäß der vorliegenden Erfindung. Diese Beimischungen erhöhen den Wärmeausdehnungskoeffizienten der Verglasung, ohne die Verglasungseigenschaften der übrigen Komponenten stark zu verändern. Wenn der Gesamtanteil der Oxide 30 Gew.-% übersteigt, tritt Kristallisation auf.
    Wenn der Anteil an Yttriumoxid 20 Gew.-% und der des Zirkondioxids 10 Gew.-% übersteigt, wird die Tendenz zur Kristallisation in unerwünschter Weise intensiviert.
  • 7. Andere erwünschte Beimengungen sind Magnesiumoxid, Zinkoxid, Wismuttrioxid, Titandioxid u. dgl.
    Wenn nur ein kleiner Anteil an Magnesiumoxid zugefügt wird, bringt dies die erwünschte Effektivität eines Erdalkalioxids (nachfolgend als RO bezeichnet, soweit erforderlich), in der gleichen Weise wie Kalziumoxid, Strontiumoxid und Bariumoxid.
    Der Zusatz eines nur kleinen Anteils an Zinkoxid fördert die Verglasung, jedoch intensiviert ein grober Zusatz bemerkenswert die Tendenz zur Kristallisation.
    Der Zusatz von nur einem kleinen Anteil an Wismut­ trioxid und Titandioxid verbessert die chemische Be­ ständigkeit, jedoch intensiviert ein großer Zusatz die Tendenz zur Kristallisation.
  • 8. Ein Alkalimetall, Blei und andere Oxide sind uner­ wünscht, weil sie die Zuverlässigkeit von elektroni­ schen Teilen verschlechtern. Obwohl sie die chemische Beständigkeit verringern, verbessern sie die Produk­ tivität. Deshalb können sie verwendet werden, wenn sie nicht nachfolgende Prozeßschritte nachteilig beein­ trächtigen.
Die Glasurzusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung unterscheidet sich deutlich von der bekannten, wie nach­ folgend erläutert.
  • 1. Bekannte Glasurzusammensetzungen unterscheiden sich voneinander durch den Gehalt an Blei und Alkalimetal­ len, den Wärmewiderstand und andere Faktoren. Alle be­ stehen jedoch aus Silikatglas. Der Anteil an Silicium­ dioxid wird 50 Mol-% oder mehr, wenn die Glaszusammen­ setzung in Mol-%-Therme des Oxids konvertiert wird. Der übliche Anteil von Siliciumdioxid liegt zwischen 60 und 75 Mol-%. Bei einer bekannten Glasurzusammensetzung ist das Oxid zur Bildung eines Glasnetzwerks als glas­ bildendes Gerüst das Ion des Siliciumtetroxids.
    Die chemische Beständigkeit, der Wärmewiderstand und die anderen Grundeigenschaften von Silikatglas werden vermutlich bei der bekannten Glasurzusammensetzung verwendet. Wie vorstehend beschrieben, kann die bekann­ te Zusammensetzung jedoch nicht die Erfordernisse für ein glasiertes Substrat für die derzeitigen Dünnfilm- Hybridteile befriedigen.
  • 2. Das Gerüst der B2O3-Al2O3-RO-System-Glasurzusammen­ setzung gemäß der vorliegenden Erfindung ist ein Bor­ tretroxid-Anion- und Aluminiumtetroxid-Anion-Tetraeder. Alternativ hierzu weist die B2O3-Al2O3-P2O5-RO-System- Glasurzusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung ein Phosphortetroxid-Trianion-Tetraeder-Gerüst auf. Die Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung unter­ scheidet sich von der bekannter Glasurzusammensetzun­ gen.
    Insbesondere führt das glasbildende Netzwerk des Bor­ tetroxid-Anion- und Aluminiumtetroxid-Anion-Tetraeders zu überragenden charakteristischen Eigenschaften. Da das Glas gemäß der vorliegenden Erfindung einen kleinen Anteil an Siliciumdioxid und ein geeignetes Verhältnis von Erdalkalimetallen aufweist, können sowohl Bor als auch Aluminium eine stabile Tetraeder-Koordination bilden: Bor hat eine Koordinationszahl von 3 oder 4 relativ zum Sauerstoff, und Aluminium hat eine Ko­ ordinationszahl von 4 oder 6. Die Kombination von nied­ rigen thermischen Eigenschaften, überragender Ober­ flächenglätte und Zuverlässigkeit wird dadurch erreicht.
    Die bekannte System-Glasurzusammensetzung von Alkali­ metall oder Erdalkalimetall kombiniert mit B2O3, be­ kannt als niedrigschmelzendes Glas, ist schlechter bezüglich der chemischen Beständigkeit und der elektri­ schen Isolierfähigkeit, die nicht mit den Zielen der vorliegenden Erfindung übereinstimmen. Weil Bor eine Koordinationszahl von 3 relativ zu Sauerstoff aufweist, bildet es ein unstabiles Gerüst. Um folglich die Effek­ tivität gemäß der vorliegenden Erfindung zu erzielen, ist Aluminiumoxid oder Phosphorpentoxid eine weitere unverzichtbare Komponente zusammen mit dem Boroxid und dem Erdalkalioxid.
  • 3. Die vorliegende Erfindung wurde basierend auf der Er­ kenntnis entwickelt, daß die vorstehend genannte Glasurzusammensetzung eine geeignete Glasur für Dünn­ film-Hybridteile bildet, die die Kombination von Niedertemperatureigenschaften, Oberflächenglätte, hohe chemische Beständigkeit und andere Eigenschaften be­ züglich der Zuverlässigkeit aufweist. Weiterhin wurde die vorliegende Erfindung basierend auf der Erkenntnis vervollständigt, daß der Zusatz von speziellen Oxiden effektiv verhindert, daß sich ein glasiertes Substrat verbiegt bzw. krümmt auf Grund von unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten des Keramiksubstrats und einer Glasurzusammensetzung.
    Insbesondere ermöglicht die Glasurzusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung ein Niedertemperaturglasie­ ren, führt zu hervorragender chemischer Beständigkeit und hoher elektrischer Isolierfähigkeit wie bei be­ kannten Silikatgläsern und kann in geeigneter Weise den Wärmeausdehnungskoeffizienten der Glasurzusammensetzung durch Einstellen des Anteils spezieller additiver Oxide kontrollieren, ohne daß die exzellenten Eigenschaften der Glasurzusammensetzung verändert würden. Der Wärme­ ausdehnungskoeffizient wird dadurch kontrolliert, so daß selbst bei einem dünnen Keramiksubstrat ein Krümmen oder Verbiegen verhindert werden kann. Weiterhin wurde die vorliegende Erfindung basierend auf der Erkenntnis entwickelt, daß sogar eine dünne Glasurschicht eine glatte Oberfläche und andere überragende Eigenschaften haben kann.
Ausführliche Beschreibung der bevorzugten Ausführungs­ beispiele Erstes Ausführungsbeispiel
Um die Schmelze mit der in Tabelle 1 gezeigten Zusammen­ setzung zu erhalten, wurden Orthoborsäure, Aluminium­ hydroxid, Kalziumkarbonat, Strontiumkarbonat, Bariumkarbo­ nat, Magnesiumkarbonat, Siliciumdioxid, Zinkoxid, Ortho­ phosphorsäure, Natriumkarbonat, Kaliumkarbonat und Blei­ tetroxid individuell gewogen und in einer Mühle vermischt. Die Mischung wurde in einem Platin-Rhodium-Tiegel bei 1200 bis 1450°C (2192-2642°F) während 3 bis 5 Stunden geschmolzen und dann schnell wassergekühlt. In der Folge wurden die in Tabelle 1 gezeigten Glasurzusammensetzungen Nr. 1 bis 13 gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellt.
Erstes Referenzbeispiel 13
In der gleichen Weise wie beim ersten Ausführungsbeispiel wurden die außerhalb des Bereichs der vorliegenden Erfin­ dung liegenden Glasurzusammensetzungen der Nr. 14 bis 16, eine bekannte Hochtemperatur-Glasurzusammensetzung Nr. 17, die hauptsächlich aus Siliciumdioxid besteht, ohne Alkali­ metall- oder Bleibestandteile, und eine bekannte Glasur­ zusammensetzung Nr. 18, die Alkalimetall und Blei enthält, gemäß Tabelle 1 hergestellt.
Tabelle 1
Messung
Der Glaserweichungspunkt und der Wärmeausdehnungskoeffi­ zient der Glasurzusammensetzungen Nr. 1 bis 18 wurden ge­ messen. Die Meßergebnisse sind in Tabelle 2 dargestellt. Da die Referenzzusammensetzungen gemäß den Nr. 15 bis 16 beim Schmelzen nicht verglast wurden, konnten die thermi­ schen Eigenschaften des Glases nicht gemessen werden. Der in Tabelle 2 aufgeführte Glaserweichungspunkt ist die Temperatur, die der zweiten endothermen Spitze entspricht, die erreicht wurde, wenn eine differentielle thermische Analyse durchgeführt wurde. Der Wärmeausdehnungskoeffi­ zient wurde aus dem Wärmeausdehnungsgradienten eines zylindrischen Glases ermittelt, das einen Durchmesser von ungefähr 3 bis 5 mm und eine Länge von 20 mm besitzt. Der Ausdehnungsgradient wurde ermittelt basierend auf den Längenmessungen des zylindrischen Glases während des Erhitzens von einer Raumtemperatur auf 400°C.
Tabelle 2
Nachfolgend wurden die Glasurzusammensetzungen Nr. 1 bis 18 jeweils in einer Aluminiumoxid-Topfmühle naßgeschliffen bzw. -gemahlen. Die feingemahlenen Glaspartikeln wurden mit einem Ethylcellulose-Systembinder und einem organischen Lösungsmittel vermischt, um eine Druckglaspaste herzustel­ len.
Die Druckglaspaste wurde auf die Oberfläche eines Alumi­ niumoxid-Substrats aufgedruckt, das aus Aluminiumoxid bestand mit einer Reinheit von 97% und einer Größe von 50 mm × 50 mm × 0,635 mm. Danach wurden die gedruckten Substrate thermisch behandelt bei den jeweils geeigneten Temperaturen, wie sie in Tabelle 2 aufgeführt sind. Dadurch wurden Substrate hergestellt, die auf ihrer Ober­ fläche ein Glasurband von 5 mm Breite und 20 um Dicke aufwiesen.
Als Ergebnis der Beobachtung der glasierten Substrate wurde festgestellt, daß die Glasurzusammensetzungen Nr. 1 bis 13 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel jeweils bevor­ zugt eine glänzende Glasurfläche aufwiesen, obwohl die Dicke der Glasur 20 µm betrug. Die Referenz-Glasurzusam­ mensetzungen Nr. 14 bis 16 konnten keine bevorzugte Glasurschicht erzielen, weil sie kristallisierten oder nicht zur Verglasung gelangten, selbst bei Variation der Temperatur, der Verweilzeit oder der anderen Einbrenn­ bedingungen.
Die bekannte Glasurzusammensetzung Nr. 17 war in uner­ wünschter Weise mit einer unzureichenden Oberflächenglätte versehen, weil die Endbereiche des Glasurmusters Erhebun­ gen aufwiesen. Unter dem Einfluß der Eigenschaften des Keramiksubstrats krümmte sich das glasierte Substrat be­ trächtlich.
Da die Glasurzusammensetzung Nr. 18 einen groben Anteil an Blei enthält, ist das Substrat für Dünnfilm-Hybridteile bei Verwendung dieser Zusammensetzung einer unerwünschten Begrenzung in der Anwendung unterworfen, um die Reduktion und die Auflösung des Bleis zu vermeiden.
Die Referenz-Glasurzusammensetzungen weisen beträchtliche Unterschiede in der Erscheinung gegenüber den Glasurzusam­ mensetzungen gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel auf.
Bei der Verwendung der Glasurzusammensetzungen Nr. 1, 2, 17 und 18 wurden die folgenden Aufdruckschritte ausge­ führt: Eine Druckglaspaste wurde auf ein Aluminiumoxid- Substrat aufgedruckt, das eine Größe von 100 mm × 100 mm × 0,5 mm aufwies. Dann wurde das Aluminiumoxid-Substrat bei den in Tabelle 2 aufgeführten Temperaturen gebrannt, so daß 70% der Oberfläche des Aluminiumoxid-Substrats mit einer 20 µm dicken Glasur überdeckt war. Tabelle 3 zeigt die Erhebungsabmessungen, die durchschnittliche Ober­ flächenrauhigkeit und die Substratkrümmung. Die Erhebungs­ abmessungen, also die Höhe der Erhebungen an den Endbe­ reichen der Glasurschicht, wurde durch Messung der Diffe­ renzhöhe zwischen dem flachen Oberflächenbereich der Gla­ surschicht und dem höchsten Punkt der Endbereiche der Glasurschicht erhalten. Die Substratkrümmung erhielt man durch Messung der maximalen Höhe der gekrümmten Oberfläche als Ergebnis der Krümmung des Substrats.
Tabelle 3
Zweites Ausführungsbeispiel
Um die Schmelze mit der in Tabelle 4 angegebenen Zusammen­ setzung zu erhalten, wurden Orthoborsäure, Aluminium­ hydroxid, Siliciumdioxid, Kalziumkarbonat, Strontiumkarbo­ nat, Bariumkarbonat, Magnesiumkarbonat, Lanthantrioxid, Zirkondioxid, Orthophosphorsäure, Natriumkarbonat, Kalium­ karbonat und Bleitetroxid individuell gewogen und in einer Mühle vermischt. Die Mischung wurde in einem Platin-Rho­ dium-Tiegel bei 1300 bis 1450°C drei bis fünf Stunden lang geschmolzen und wurde dann schnell mit Wasser abge­ kühlt. In der Folge wurden die Glasurzusammensetzungen Nr. 21 bis 31 gemäß Tabelle 4, die Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind, hergestellt.
Zweites Referenzbeispiel
In der gleichen Weise wie beim zweiten Ausführungsbeispiel wurden die Glasurzusammensetzungen Nr. 32 bis 35, die außerhalb des Bereichs der Erfindung liegen, und die be­ kannten Glasurzusammensetzungen Nr. 36 bis 39 gemäß Tabelle 4 hergestellt.
Tabelle 4
Messung
Der Glaserweichungspunkt und der Wärmeausdehnungskoeffi­ zient der Glasurzusammensetzungen Nr. 21 bis 39 wurden in derselben Weise gemessen wie beim ersten Ausführungsbei­ spiel und dem Referenzbeispiel. Die Meßergebnisse sind in Tabelle 5 dargestellt.
Tabelle 5
Danach wurden aus den Glasurzusammensetzungen Nr. 21 bis 39 in der gleichen Weise wie beim ersten Ausführungsbei­ spiel und dem Referenzbeispiel die glasierten Substrate hergestellt.
Der Glasurzustand und die Substratkrümmung der glasierten Substrate wurden beobachtet.
Wie klar in den Tabellen 4 und 5 gezeigt wird, weisen die Glasurzusammensetzungen Nr. 21 bis 3 : 1 gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel niedrigschmelzende Gläser mit einem Glaserweichungspunkt von 840°C oder weniger auf. Daher kann die Einbrenntemperatur ungefähr 980°C oder weniger betragen. Der vorstehend spezifizierte Anteil der Oxide wird den Zusammensetzungen zugefügt. Daher wurde der Wärmeausdehnungskoeffizient des Glases von 5,6 bis 7,7 × 10-6 nahe an den Wärmeausdehnungskoeffizienten der Alumi­ niumoxidsubstrate von ungefähr 7 bis 8 × 10-6 gelegt. Es wurde eine nur geringe Krümmung der glasierten Substrate beobachtet, und ein solcher Krümmungsgrad beeinträchtigt nicht die praktische Anwendung. Der glasierte Bereich des glasierten Substrats hatte eine große Fläche, aber nur geringe Erhebungen, wodurch eine Oberflächenglätte ge­ schaffen wurde. Weiterhin hatten die glasierten Substrate gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel eine glänzende Glasurfläche und sind geeignet für die Anwendung bei Dünn­ film-Hybridteilen.
Die Glasurzusammensetzungen Nr. 32 bis 35, die außerhalb des Umfangs der Erfindung liegen, erhielten keine bevor­ zugte Glasurfläche, weil sie kristallisierten oder nicht verglasten, selbst bei Variation der Temperatur, der Ver­ weilzeit oder der anderen Einbrennkonditionen. Insbesonde­ re die Referenz-Glasurzusammensetzung Nr. 35 führt in un­ erwünschter Weise zu einer starken Krümmung des glasierten Substrats. Die bekannten Glasurzusammensetzungen Nr. 36 bis 38 erforderten eine hohe Einbrenntemperatur von 1020° oder darüber während des Glasierens. Weiterhin wiesen die Enden des Glasurmusters Erhebungen auf, und die glasierten Substrate krümmten sich stark.
Drittes Ausführungsbeispiel
Um die Schmelze mit der in Tabelle 6 gezeigten Zusammen­ setzung zu erhalten, wurden Orthoborsäure, Aluminium­ hydroxid, Kalziumkarbonat, Strontiumkarbonat, Barium­ karbonat, Magnesiumkarbonat, Siliciumdioxid, Orthophos­ phorsäure, Natriumkarbonat, Kaliumkarbonat und Blei­ tetroxid individuell gewogen und in einer Mühle vermischt. Die Mischung wurde in einem Platin-Rhodium-Tiegel bei 1200°C bis 1450°C während drei bis fünf Stunden ge­ schmolzen und dann schnell mit Wasser gekühlt. Nachfolgend wurden die Glasurzusammensetzungen Nr. 41 bis 51 gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellt, wie sie in Tabelle 6 gezeigt sind.
Drittes Referenzbeispiel
In der gleichen Weise wie beim dritten Ausführungsbeispiel wurden Referenz-Glasurzusammensetzungen Nr. 52 bis 56, die außerhalb des Schutzumfangs der Erfindung liegen, und die bekannten Glasurzusammensetzungen Nr. 57 bis 58 gemäß Tabelle 6 hergestellt.
Tabelle 6
Messung
Der Glaserweichungspunkt und der Wärmeausdehnungskoeffi­ zient der Glasurzusammensetzungen Nr. 41 bis 58 wurden in der gleichen Weise wie beim ersten Ausführungsbeispiel und dem Referenzbeispiel gemessen. Die Meßergebnisse sind in Tabelle 7 dargestellt.
Tabelle 7
Danach wurden aus den Glasurzusammensetzungen Nr. 41 bis 58 in der gleichen Weise wie beim ersten Ausführungsbei­ spiel und dem Referenzbeispiel die glasierten Substrate hergestellt.
Der Glasurzustand und die Substratkrümmung der glasierten Substrate wurden beobachtet.
Wie klar aus den Tabellen 6 und 7 hervorgeht, sind die Glasurzusammensetzungen Nr. 41 bis 51 gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel niederschmelzende Gläser mit einem Glaserweichungspunkt von ungefähr 830°C oder niedriger. Daher kann die Einbrenntemperatur ungefähr 980°C oder weniger betragen. Keine bemerkenswerte Krümmung war bei den glasierten Substraten zu sehen. Der Glasurbereich der glasierten Substrate hatte eine grobe Fläche, wies jedoch nur geringe Erhebungen auf, wodurch eine glatte Oberfläche erzeugt wurde. Weiterhin hatten die glasierten Substrate gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel eine glänzende Glasurfläche und wiesen in bevorzugter Weise keine Irre­ gularitäten oder Erhebungen an ihrer Oberfläche auf.
Die Glasurzusammensetzungen Nr. 52 bis 56, die außerhalb des Schutzumfangs der Erfindung liegen, erreichten keine bevorzugte Glasurfläche, weil sie kristallisierten oder nicht verglasten, selbst nicht bei Variation der Tempera­ tur, der Verweilzeit oder der anderen Einbrennkonditionen. Die bekannte Glasurzusammensetzung Nr. 57, ein hoch­ schmelzendes Glas, das hauptsächlich aus Silikat besteht, erforderte eine hohe Einbrenntemperatur, die 1240°C oder mehr während des Glasierens betrug. Weiterhin führte die Glasurzusammensetzung Nr. 57 in ungünstiger Weise zu einem vorspringenden Glasurmuster und zu einem stark gekrümmten glasierten Substrat. Die bekannte Glasurzusammensetzung Nr. 58 erhielt eine gewünschte Glasurfläche, wies jedoch in ungünstiger Weise unstabile elektrische und chemische Eigenschaften auf, weil Blei und ein Alkalimetall ent­ halten waren.
Die Erfindung wurde vorstehend unter Bezugnahme auf bevor­ zugte Ausführungsbeispiele beschrieben, wie sie in den Tabellen aufgeführt sind. Modifikationen und Abänderungen werden dem Fachmann beim Lesen und Verstehen der Beschrei­ bung deutlich. Trotz der Verwendung der Ausführungsbei­ spiele zu Illustrationszwecken sollen alle Modifikationen und Abänderungen umfaßt sein, die innerhalb der Gedanken und des Schutzumfangs der beigefügten Ansprüche liegen.
Wie vorstehend beschrieben, kann die vorliegende Erfindung eine niedrigschmelzende B2O3-Al2O3-RO-System- oder eine B2O3-Al2O3-P2O5-RO-System-Glasurzusammensetzung aufweisen, die bezüglich der chemischen Stabilität, der elektrischen Isolierfähigkeit und der Oberflächenglätte überlegen ist, selbst wenn die Glasurschicht dünn ist. Verglichen mit bekannten Glasurzusammensetzungen kann die Glasurzusam­ mensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung die Herstel­ lung eines glasierten Substrats bei einer niedrigen Tem­ peratur gewährleisten. Weiterhin enthält die Glasurzu­ sammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung einen spezifizierten Anteil an Oxiden, wie vorstehend be­ schrieben. Daher wird der Unterschied zwischen den Wärme­ ausdehnungskoeffizienten der Glasurzusammensetzung und des Keramiksubstrats verringert. Beim glasierten Substrat wird weiterhin ein Krümmen verhindert. In bemerkenswert vorteilhafter Weise können gemäß der vorliegenden Erfin­ dung Dünnfilm-Chips und andere elektronische Teile leicht hergestellt werden. Die Glasurerhebungen am glasierten Substrat können ebenfalls reduziert werden.
Wenn die Glasurzusammensetzung gemäß der Erfindung einen spezifischen Anteil an Phosphorpentoxid enthält, kann die Oberflächenglätte der Glasurfläche verbessert werden. Das glasierte Substrat, das sich aus der Glasurzusammensetzung gemäß der Erfindung ergibt, ist zur Anwendung für Chips geeignet.
Die Glasurzusammensetzung gemäß der Erfindung kann auch für die konventionellen Faksimile-Thermoköpfe, Thermo­ druckerköpfe oder andere Komponenten verwendet werden, wenn nicht ein besonders hoher Wärmewiderstand erforderlich ist. Wenn die Glasurzusammensetzung gemäß der Erfindung einen niedrigen Schmelzpunkt aufweist, kann sie bei glasartigen Materialien zur Beschichtung oder zum Ver­ gießen von Multilayer-Keramiksubstraten verwendet werden.

Claims (10)

1. Glasurzusammensetzung, die die folgenden unerläß­ lichen Komponenten auf der Basis des Oxidgewichts auf­ weist:
20 bis 50 Gew.-% Boroxid;
5 bis 35 Gew.-% Aluminiumoxid; und
15 bis 55 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids,
ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid, Magnesiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe, wobei der Gesamtanteil dieser unerläßlichen Kompo­ nenten wenigstens 90 Gew.-% der gesamten Glasur­ zusammensetzung ausmacht.
2. Glasurzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Erdalkalioxid auf der Basis des Oxidgewichts 1,5 bis 30 Gew.-% Kalziumoxid, 0 bis 30 Gew.-% Strontiumoxid, 0 bis 10 Gew.-% Magnesiumoxid und 0 bis 45 Gew.-% Bariumoxid enthält.
3. Glasurzusammensetzung, die die folgenden unerläß­ lichen Komponenten auf der Basis des Oxidgewichts enthält:
20 bis 50 Gew.-% Boroxid;
5 bis 35 Gew.-% Aluminiumoxid;
0 bis 40 Gew.-% Siliciumdioxid;
0 bis 8 Gew.-% Zinkoxid; und
15 bis 55 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids,
ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid, Magnesiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe, wobei der Gesamtanteil dieser unerläßlichen Kompo­ nenten wenigstens 90 Gew.-% der gesamten Glasurzu­ sammensetzung ausmacht.
4. Glasurzusammensetzung nach Anspruch 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Erdalkalioxid auf der Basis des Oxidgewichts 1,5 bis 30 Gew.-% Kalziumoxid, 0 bis 30 Gew.-% Strontiumoxid, 0 bis 10 Gew.-% Magnesiumoxid und 0 bis 45 Gew.-% Bariumoxid enthält.
5. Glasurzusammensetzung, die die folgenden unerläß­ lichen Komponenten auf der Basis des Oxidgewichts enthält:
20 bis 50 Gew.-% Boroxid;
5 bis 35 Gew.-% Aluminiumoxid;
O bis 40 Gew.-% Siliciumdioxid; und
15 bis 55 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids,
ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid, Magnesiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe, wobei der Gesamtanteil dieser unerläßlichen Kompo­ nenten wenigsten 90 Gew.-% der gesamten Glasurzu­ sammensetzung ausmacht.
6. Glasurzusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Erdalkalioxid auf der Basis des Oxidgewichts 1,5 bis 30 Gew.-% Kalziumoxid, 0 bis 30 Gew.-% Strontiumoxid, 0 bis 10 Gew.-% Magnesiumoxid und 0 bis 45 Gew.-% Bariumoxid enthält.
7. Glasurzusammensetzung, die auf der Basis des Oxid­ gewichts die folgenden Komponenten aufweist:
15 bis 40 Gew.-% Boroxid;
10 bis 30 Gew.-% Aluminiumoxid;
40 oder weniger Gew.-% Siliciumdioxid;
10 bis 40 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids,
ausgewählt aus der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe; und
3 bis 30 Gew.-% wenigstens eines Oxids, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus 30 oder weniger Gew.-% Lanthantrioxid, 20 oder weniger Gew.-% Yttriumoxid und 10 oder weniger Gew.-% Zirkondioxid besteht, wobei diese Komponenten zusammen wenigstens 90 Gew.-% der gesamten Glasurzusammensetzung ausmachen.
8. Glasurzusammensetzung nach Anspruch 7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Erdalkalioxid wenigstens 1,5 bis 30 Gew.-% Kalziumoxid, 20 oder weniger Gew.-% Strontiumoxid und 10 oder weniger Gew.-% Bariumoxid enthält.
9. Glasurzusammensetzung, die auf der Basis des Oxid­ gewichts, die folgenden Komponenten aufweist:
15 bis 40 Gew.-% Boroxid;
10 bis 30 Gew.-% Aluminiumoxid;
0,5 bis 17 Gew.-% Phosphorpentoxid;
40 oder weniger Gew.-% Siliciumdioxid; und
15,5 bis 40 Gew.-% wenigstens eines Erdalkalioxids,
ausgewählt als der aus Kalziumoxid, Strontiumoxid und Bariumoxid bestehenden Gruppe, wobei diese Kompo­ nenten zusammen wenigstens 90 Gew.-% der gesamten Glasurzusammensetzung ausmachen.
10. Glasurzusammensetzung nach Anspruch 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Erdalkalioxid wenigstens 1,5 bis 25 Gew.-% Kalziumoxid, 20 oder weniger Gew.-% Strontiumoxid und 10 oder weniger Gew.-% Bariumoxid enthält.
DE19934335685 1992-10-27 1993-10-20 Glasurzusammensetzung Expired - Fee Related DE4335685C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4345516A DE4345516C2 (de) 1992-10-27 1993-10-20 Verwendung eines glasierten Keramiksubstrats zur Herstellung von Dünnfilm-Hybridteilen

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28886492 1992-10-27
JP22461993A JPH0781974A (ja) 1993-09-09 1993-09-09 グレーズ組成物
JP22462093A JPH0781972A (ja) 1993-09-09 1993-09-09 グレーズ組成物
JP25702193A JP3153690B2 (ja) 1992-10-27 1993-10-14 グレーズドセラミック基板
DE4345516A DE4345516C2 (de) 1992-10-27 1993-10-20 Verwendung eines glasierten Keramiksubstrats zur Herstellung von Dünnfilm-Hybridteilen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4335685A1 true DE4335685A1 (de) 1994-04-28
DE4335685C2 DE4335685C2 (de) 2003-04-03

Family

ID=27511721

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19934335685 Expired - Fee Related DE4335685C2 (de) 1992-10-27 1993-10-20 Glasurzusammensetzung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4335685C2 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0658521A1 (de) * 1993-11-25 1995-06-21 Cerdec Aktiengesellschaft Keramische Farben Blei- und cadmiumfreie Glasfrittenzusammensetzung
EP1047554A1 (de) * 1997-12-22 2000-11-02 Ferro Corporation Porzellan-emailzusammensetzung für elektronische anwendungen
DE10025324B4 (de) * 1999-05-24 2009-05-20 Denso Corp., Kariya-shi Herstellungsverfahren für eine Zündkerze
WO2012075002A3 (en) * 2010-11-30 2012-10-04 Corning Incorporated Alkali-free high strain point glass

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4385127A (en) * 1981-11-23 1983-05-24 Corning Glass Works Glass-ceramic coatings for use on metal substrates
US5153070A (en) * 1990-08-01 1992-10-06 Corning Incorporated Coated refractory article and method

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0658521A1 (de) * 1993-11-25 1995-06-21 Cerdec Aktiengesellschaft Keramische Farben Blei- und cadmiumfreie Glasfrittenzusammensetzung
EP1047554A1 (de) * 1997-12-22 2000-11-02 Ferro Corporation Porzellan-emailzusammensetzung für elektronische anwendungen
EP1047554A4 (de) * 1997-12-22 2005-05-25 Ferro Corp Porzellan-emailzusammensetzung für elektronische anwendungen
DE10025324B4 (de) * 1999-05-24 2009-05-20 Denso Corp., Kariya-shi Herstellungsverfahren für eine Zündkerze
DE10025324C5 (de) * 1999-05-24 2019-07-04 Denso Corporation Herstellungsverfahren für eine Zündkerze
WO2012075002A3 (en) * 2010-11-30 2012-10-04 Corning Incorporated Alkali-free high strain point glass

Also Published As

Publication number Publication date
DE4335685C2 (de) 2003-04-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3151206C2 (de) Glasiertes, keramisches Trägermaterial
DE60318517T2 (de) Bleifreies niedrigschmelzendes Glas
DE2453665C3 (de) Fur Körper aus Keramik, Glas oder Metall geeignetes pulverformiges Dichtungsmaterial, bestehend aus der Mischung zweier Pulverkomponenten
DE4013392C2 (de)
EP0262565A1 (de) Email-Zusammensetzung und mit dieser beschichtete Substrate
DE2755935A1 (de) Dielektrische zusammensetzung, siebdruckpaste mit einer derartigen zusammensetzung und durch diese erhaltene erzeugnisse
DE3026200A1 (de) Nichtlinearer widerstand und verfahren zu seiner herstellung
DE2719250A1 (de) Glasansatz fuer optisches glas
DE19534172A1 (de) Nichtkristallisierendes Glaslot
DE1596851A1 (de) Widerstandsmaterial und aus diesem Widerstandsmaterial hergestellter Widerstand
DE4014928C1 (de)
DE1923729C3 (de) Lötglas des Systems ZnO-B2 O3 -V2 O5 mit Fasererweichungstemperaturen zwischen 525 und 575 Grad C und Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen 44 und 48 χ 10-7/CnKl C (O-300 Grad C)
EP1008563A1 (de) Alkalifreie Glaskeramiken als Fügematerial für den Hochtemperatureinsatz
DE2946753A1 (de) Widerstandsmaterial, elektrischer widerstand und verfahren zur herstellung desselben
DE10141105C1 (de) Optisches Farbglas und seine Verwendung
EP0232767A2 (de) Überglasurpaste
DE2000733A1 (de) Loetglaszusammensetzung
DE4335685C2 (de) Glasurzusammensetzung
DE19833252C2 (de) Komposit-Lotglas mit niedriger Aufschmelztemperatur, ein Füllstoff hierfür, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie deren Verwendung
DE2917791A1 (de) Elektrischer widerstand, der ein metallisches hexaborid enthaelt, sowie verfahren zur herstellung desselben
DE1496544B2 (de) Elektrischer widerstand aus einem keramischen koerper und einer glasigen widerstandsschicht
DE1596949A1 (de) Entglasendes Loetglas
DE4345516C2 (de) Verwendung eines glasierten Keramiksubstrats zur Herstellung von Dünnfilm-Hybridteilen
DE3727644A1 (de) Fluorfreie superopakemailfritten
DE2946679A1 (de) Widerstandsmaterial, elektrischer widerstand und verfahren zur herstellung desselben

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8172 Supplementary division/partition in:

Ref country code: DE

Ref document number: 4345516

Format of ref document f/p: P

Q171 Divided out to:

Ref document number: 4345516

Ref country code: DE

AH Division in

Ref country code: DE

Ref document number: 4345516

Format of ref document f/p: P

8304 Grant after examination procedure
AH Division in

Ref document number: 4345516

Country of ref document: DE

Kind code of ref document: P

8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee