DE4304612C2 - Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum - Google Patents
Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im VakuumInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontinuierlichen Messung
der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials
im Vakuum, wie aus der GB-PS 1 189 680 bekannt.
Elektronenstrahlverfahren wie Elek
tronenstrahlverdampfen und Elektronenstrahlschmelzen,
finden in der Vakuummetallurgie und bei der Vakuumbe
schichtung, vor allem für die metallurgische Industrie, den
Maschinenbau, die Optik und die Glasindustrie Anwendung.
Elektronenstrahltechnologien, wie das Elektronenstrahlschmelzen
und das Elektronenstrahlverdampfen, können vorteilhaft mit
Hochleistungs-Elektronenstrahlerzeugern, sogenannten Elektro
nenkanonen ausgeführt werden, die axial aufgebaut sind und eine
Vakuumentkopplung zwischen Strahlerzeugungs- und Prozeßraum
aufweisen (Schiller et al., Elektronenstrahltechnologie, 1976,
VEB Verlag Technik). Werden derartige Elektronenstrahltechnolo
gien mit mehrkomponentigen Stoffen, z. B. mit Legierungen,
ausgeführt, so bildet die Kenntnis der stofflichen Zusammenset
zung des Dampfes über der Schmelze die wichtigste Information, um
das Verfahren zu überwachen und zu steuern. Die Zusammensetzung
des Dampfes stimmt beim Elektronenstrahlverdampfen weitgehend mit
der stofflichen Zusammensetzung der Schichten überein oder steht
in einer festen Relation dazu. Bei Kenntnis der stofflichen
Zusammensetzung des Dampfes kann durch Veränderung der Schmelz
badtemperaturen oder durch Materialzufuhr einer oder mehrerer
Komponenten in die Schmelze Einfluß auf die Zusammensetzung der
aufgedampften Schichten genommen werden.
Auch beim Umschmelzen mittels Elektronenkanonen bildet die
Kenntnis der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes über der
Schmelze eine wichtige Voraussetzung für die Prozeßführung. Durch
den Dampf entstehen Materialverluste, die für die einzelnen
Komponenten der Schmelze ungleich sind und durch Zufuhr definier
ter Mengen einzelner stofflicher Anteile ausgeglichen werden
müssen.
Es sind verschiedene Verfahren bekannt, um die stoffliche Zusam
mensetzung bei solchen Prozessen zu kontrollieren. Beim Schmelzen
wird z. B. durch geeignete Vorrichtungen in bestimmten Zeitinter
vallen eine Schmelzprobe entnommen und nach dem Ausschleusen aus
dem Schmelzofen durch chemische Analyse deren stoffliche Zusam
mensetzung analysiert. Diese Verfahrensweise ist aufwendig und
liefert nur diskontinuierlich Meßwerte. Es ist auch festgestellt
worden, daß die Zusammensetzung im Inneren der Schmelze und im
oberflächennahen Bereich der Schmelze nicht übereinstimmt. Vor
allem bei hoher Schmelztemperatur und damit hoher Verdampfungs
rate tritt ein Gradient für leichter flüchtige Komponenten
zwischen dem Inneren der Schmelze und dem oberflächennahen
Bereich der Schmelze auf. Ein Verfahren, das die Schmelzbadzusam
mensetzung mittels Röntgenstrahl-Monitorierung kontrolliert,
liefert zwar nahezu kontinuierlich Meßwerte. Es hat aber den
Nachteil, daß die Zusammensetzung des Dampfes und der Schmelze im
oberflächennahen Bereich nicht gemessen werden kann.
Auch für die Messung der stofflichen Zusammensetzung beim Elek
tronenstrahlverdampfen sind verschiedene Verfahren bekannt. So
wird z. B. ein Anteil des Dampfes in einer Ionisierungskammer zur
Plasmaemission angeregt, und aus dem Emissionsspektrum werden die
Intensitäten charakteristischer Spektrallinien ermittelt (Senti
nel III: Elektronen-Emissions-Spektrometer,
Firmenschrift Leybold AG, Impressum 015.9.60.61.038.21 L.5.01.89 Ko). Dieses Verfahren
liefert nur Meßwerte begrenzter Zuverlässigkeit, da sich die
Zusammensetzung des Dampfes über der Schmelze und an dem weit
entfernten und meist durch Blenden und Druckstufen entkoppelten
Meßort in der Ionisierungskammer in nicht definierter Weise
unterscheiden.
Es ist auch vorgeschlagen worden, die Absorption von Laserstrah
lung im Dampf zur Messung der stofflichen Zusammensetzung zu
nutzen. Dieses Verfahren ist jedoch sehr aufwendig und konnte
noch nicht zum Einsatz gebracht werden.
Weiterhin wurden Versuche unternommen, mit Hilfe indirekter
Verfahren die stoffliche Zusammensetzung zu ermitteln. Die
optischen, elektrischen, magnetischen und anderen Eigenschaften
der aus dem Dampf abgeschiedenen Schichten wurden herangezogen,
um aus experimentell ermittelten Zusammenhängen dieser Schichtei
genschaften zu deren stofflicher Zusammensetzung Meßgrößen zu
gewinnen. Auch solche indirekten Verfahren sind nicht allgemein
anwendbar und mit großen Fehlern behaftet. Für das Hochrate-Elek
tronenstrahlverfahren ist zudem durch Bedampfung der Meßanordnun
gen in der Bedampfungskammer nur eine kurze Betriebszeit erreich
bar.
Es ist auch bekannt, mit einer Elektronenkanone vom Typ trans
verse gun und einem Quermagnetfeld die Dampfzusammensetzung zu
bestimmen. Es wird die Dampfdichte einer charakteristischen Linie
des Emissionsspektrums gemessen. Es werden die Betriebsparameter
der Elektronenkanone derart geregelt, daß die Dampfdichte des
einen Elements konstant bleibt, indem die Anregung variiert wird.
Weitere stoffliche Bestandteile der Schmelze werden durch Messung
der Intensität weiterer Linien des Emissionsspektrums bestimmt
(siehe die eingangs genannte GB-PS 1 189 680). Dieses Verfahren hat den
Nachteil, daß es nicht für Prozesse geeignet ist, in denen
Axialkanonen eingesetzt werden. Diese können insbesondere beim
Elektronenstrahlverdampfen nicht verwendet werden, da keine
örtlich-zeitliche Ablenkung zur Regelung der Beschichtung möglich
ist.
In jüngster Zeit ist die Nutzung der optischen Emission eines
durch direkte Wechselwirkung des Elektronenstrahls mit dem Dampf
über der Schmelze entstehenden, optisch sehr dünnen Plasmas
vorgeschlagen worden, um Aufschlüsse über die Verdampfungsrate zu
erhalten. Man könnte dieses Verfahren im Prinzip getrennt für
mehrere stoffliche Komponenten durchführen und daraus auf die
stoffliche Zusammensetzung schließen. Versuche dazu scheiterten
jedoch an den prinzipiellen Grenzen, die durch die Meßgenauigkeit
gegeben sind. Ursachen für diese Genauigkeitsgrenzen liegen in
der geringen Plasmadichte und den großen zeitlichen Schwankungen
der Plasmaemission für die einzelnen Komponenten, die mit Insta
bilitäten der Plasmaerzeugung verbunden sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur
Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze
oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum
zu verbessern, wobei die Meßergebnisse eine hohe Genauigkeit
aufweisen sollen und das Meßverfahren einen relativ geringen Aufwand
erfordern soll.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit den Merkmalen des Anspru
ches 1 gelöst. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfah
rens sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß beim Elektronenstrahlver
dampfen oder beim Elektronenstrahlschmelzen unter Verwendung von
Elektronenkanonen vom Axialtyp über der heißen Schmelzbadoberflä
che durch Wahl eines geeigneten Verhältnisses zwischen Dampfdruck
und Beschleunigungsspannung der Elektronenkanone Bedingungen
eingestellt werden können, unter denen ein Umschlag von der
allgemein bekannten Erscheinungsform mit nur optisch schwach
emittierendem Plasma in einen anderen Zustand erreicht werden
kann, der durch eine erhöhte Absorption der Energie des Elektro
nenstrahls im Dampf und durch eine intensive optische Emission
gekennzeichnet ist. Dieses Verhältnis kann eingestellt werden,
indem bei konstanter Leistung des Elektronenstrahls eine hinrei
chend niedrige Beschleunigungsspannung eingestellt wird. Es ist
ebenso möglich, bei konstanter Beschleunigungsspannung den
Dampfdruck auf das erforderliche Maß zu erhöhen, z. B. durch
stärkere Fokussierung, höhere Leistung oder andere Parameterände
rungen. Während das bei niedriger Dampfdichte bzw. Beschleuni
gungsspannung entstehende Plasma weitgehend durch die temperatur
bestimmte Kontinuumstrahlung der Schmelze bestimmt wird, weist
die bei hoher Dampfdichte bzw. geringerer Beschleunigungsspannung
untersuchte Strahlung bei materialtypischen Wellenlängen einen
ausgeprägten Anteil eines Linienspektrums auf.
Es wird vermutet,
daß unter den speziellen Wechselwirkungsbedingungen zwischen
Elektronenstrahl und Dampf hoher Dichte sogenannte Langmuir-
Schwingungen im Plasma auftreten (Schiller, S., über Plasmaunter
suchungen mit einer Elektronenstrahlsonde von kleinem Durchmes
ser, 1960, Dissertation TH Dresden; Alekseev, A. M. et al., Proc.
4th Internat. Sympos. on Plasma Chemistry Zürich, 1979, Vol. 2,
S. 427-432).
Entsprechend den Merkmalen des erfindungsgemäßen Verfahrens kann
bei Messung der Intensität einer für eine stoffliche Komponente
des Dampfes charakteristischen Spektrallinie ein Meßsignal
gewonnen werden, mit dessen Hilfe ein Regelkreis aufgebaut wird,
welcher diese Intensität konstant hält. Als Stellgröße eignet
sich dafür besonders die Beschleunigungsspannung der Elektro
nenkanone. Diese Größe wirkt durch Änderung des Wechselwirkungs
querschnittes der Elektronen direkt auf die Plasmaemission ein.
Es hat sich gezeigt, daß auch der Strahlstrom und die Leistung
der Elektronenkanone geeignet sind, um eine solche Regelung der
Linienintensität zu bewirken. Weiterhin konnte bestätigt werden,
daß sich die erfindungsgemäße Regelung der Linienintensität für
eine charakteristische Spektrallinie einer Komponente des Dampfes
auch dadurch erreichen läßt, daß als Stellgröße die Fokussierung
des Elektronenstrahls oder im Falle einer periodischen örtlich
zeitlichen Ablenkung des Auftreffortes des Elektronenstrahls auf
die Schmelzbadoberfläche auch dessen Verweilzeit auf einem
Flächenelement benutzt werden kann. Offensichtlich wird damit
eine so geringe Zeitkonstante für die Änderung der Dampfdichte
und damit der Wechselwirkungsbedingungen mit dem Elektronenstrahl
erreicht, daß die Stabilisierung besagter Linienintensität
erreicht wird.
Die genannten Verfahrensmerkmale führen zu einem derart stabili
sierten Plasmazustand und zu einer so intensiven optischen
Emission des Plasmas, daß durch Messung anderer geeigneter
charakteristischer Linien, die den übrigen zu messenden stoffli
chen Komponenten des Dampfes zugeordnet werden können, Linienin
tensitäten gemessen werden, die den Anteilen dieser Komponenten
entsprechen. Proportionalitätsfaktoren für die material- und
wellenlängenabhängigen Intensitätswerte müssen jeweils durch
Kalibrierung ermittelt werden. Dazu sind erprobte Analyseverfah
ren an Schichten, die durch Kondensation des Dampfes abgeschieden
werden, geeignet.
Die Messung der Linienintensitäten soll entsprechend dem erfin
dungsgemäßen Verfahren in der nahen Umgebung der Schmelzbadober
fläche erfolgen. Es ist zweckmäßig, in bekannter Weise
dampfgeschützte Sensoren, Lichtfaseroptiken und optische Filter
sowie Absorber zur Reduzierung der reflektierten thermisch
bestimmten Kontinuumsstrahlung der Schmelze zu verwenden.
Die Auswirkungen des erfindungsgemäßen Meßverfahrens betreffen
die Prozeßführung der genannten Elektronenstrahlverfahren. Durch
eine kontinuierliche und präzise Messung der stofflichen Zusam
mensetzung des Dampfes über der Schmelze können für Gemische,
Legierungen und Verbindungen, auch wenn deren Komponenten stark
unterschiedliche Dampfdrücke aufweisen, Aufdampfschichten prä
ziser stofflicher Zusammensetzung hergestellt werden. Selbst
durch Veränderung von Prozeßparametern, die sich auf die Anre
gungswahrscheinlichkeit der Dampfatome auswirken, wird sich die
Meßgenauigkeit nur unwesentlich verschlechtern.
An einem Beispiel wird die Erfindung näher erläutert.
In einer an sich üblichen Vakuumbedampfungsanlage werden
Substrate mit 2 µm dicken Schichten mit einer Legierung NiCrTi
70/20/10 beschichtet. Die Verdampfung erfolgt aus einem langge
streckten wassergekühlten Tiegel in einer Größe von 400×200 mm2.
Das Verdampfungsgut wird in Form von Stäben zugeführt. Das
Verdampfungsgut wird mit einer Elektronenkanone mit einer
Beschleunigungsspannung von 30 bis 50 kV und einer maximalen
Leistung im Elektronenstrahl von 300 kW erhitzt. Der Elektro
nenstrahl wird in bekannter Weise mittels magnetischer Linsen
fokussiert und durch ein elektromagnetisches Ablenksystem auf der
Oberfläche des Verdampfungsgutes bzw. Schmelzgutes zeitlich und ört
lich programmiert abgelenkt. Unter der Wirkung des Elektro
nenstrahls bildet sich eine Schmelze des Verdampfungsgutes und
damit eine Quelle hoher Dampfdichte. Die Substrate werden gleich
mäßig linear relativ zum Verdampfungstiegel in einem Abstand von
250 mm bewegt und dabei beschichtet. Die Schmelze hat eine
Oberflächentemperatur von etwa 1850°C und zeigt folglich ein
ausgeprägtes Leuchten infolge ihrer Temperaturstrahlung. Mittels
eines optischen Spektrometers und eines Bündels von Lichtleitfa
sern in einem Abstand von 20 mm wird über der Schmelze und
senkrecht zum Dampfstrom die optische Emission des Dampfes
gemessen und als Meßkurve erfaßt bzw. aufgezeichnet. Ihr Verlauf
wird im wesentlichen durch die Kontinuumsstrahlung der Schmelze
bestimmt, obwohl die direkte Strahlung nicht vom Sensor der
Meßeinrichtung erfaßt wird, sondern durch reflektierte Strahlung
verursacht ist.
Wird bei einer Beschleunigungsspannung von 40 kV und einer
Leistung des Elektronenstrahls von 240 kW der Elektronenstrahl
stark fokussiert, so erhöht sich die Verdampfungsrate. Es tritt
eine Verstärkung der Lichtemission des Dampfes über der Schmelze
auf. Durch kalorische Messung im Kühlwasserkreislauf des Tiegels
wird eine so hohe Fokussierung des Elektronenstrahles einge
stellt, daß bei konstanter Leistung des Elektronenstrahls die an
den Kühlkreis abgeführte Leistung um 10 kW geringer ist. Ein
Anteil von etwa 4% der Elektronenstrahlleistung geht durch
Wechselwirkung im Dampf für den Verdampfungsprozeß verloren.
Für diese Betriebsweise wird wiederum die optische Emission des
Dampfes gemessen und als eine zweite Meßkurve aufgezeichnet.
Dabei zeigt sich, daß die Intensität der emittierten Lichtstrah
lung wesentlich höher ist. Charakteristisch ist dabei ein durch
diskrete Spektrallinien geprägter Kurvenverlauf. Bei den einzel
nen Wellenlängen entstehen Peaks, die unter den Bedingungen der
ersten Messung, d. h. bei verringerter Leistung des Elektro
nenstrahls, nur andeutungsweise zu erkennen sind. Die zweite
Kurve, die eine gut auswertbare Schärfe aufweist, läßt die Peaks
Emissionslinien der in der Spektroskopie tabellierten Funkenspek
tren zuordnen. Die Wellenlängen stimmen jedoch nicht vollständig
mit ihnen überein.
Die Nickel-Spektrallinie λ = 548 nm wird als
Führungsgröße für einen allgemein bekannten Regelkreis ausge
wählt. Das Intensitätssignal dieser Linie wird der Stromversor
gungseinheit für die magnetische Linse der Elektronenkanone
zugeführt. Der Regelkreis wird so betrieben, daß durch die
Regelung des Linsenstromes und damit der Fokussierung des Elek
tronenstrahls die Linienintensität konstant bleibt. Daraufhin
wird die Intensität der Spektrallinie von Chrom λ = 521 nm als
charakteristisches Signal für Chrom gemessen, um den Chromgehalt
zu bestimmen und schließlich auch die Spektrallinie für Titan
λ = 500 nm, um den Titangehalt zu bestimmen.
Es wurden folgende Elektronenstrahlparameter eingestellt, die für
die genannte Bedampfungsaufgabe im Prinzip geeignet sind und
einen stabilen Verdampfungsprozeß erwarten lassen: Leistung 240
kW, Beschleunigungsspannung 40 kV, Brennfleckdurchmesser ca. 15
mm. Eine kalorimetrische Messung der Wärmeverlustleistung im
Kühlwasserkreis des Tiegels ergibt einen Wert von 125 kW. Es
wurde unter diesen Bedingungen festgestellt, daß über eine
Meßzeit von 1 Stunde das Verhältnis der Linienintensitäten in
einem Schwankungsbereich von 40% liegt, während die Zusammenset
zung der in dieser Zeit aufgedampften Schichten nur Abweichungen
von 15% zeigen. Intensitäten der Dampfzusammensetzung korrelie
ren also ungenügend.
Daraufhin wurde bei konstanter Leistung der Elektronenkanone die
Beschleunigungsspannung auf 32 kV abgesenkt. Die Lichtemission in
der nahen Umgebung des Auftreffortes des Elektronenstrahls über
der Schmelze wird sichtbar intensiver, und die Intensität aller
gemessenen Spektrallinien steigt etwa um den Faktor 3. Dabei
verringerte sich die Wärmeverlustleistung im Kühlwasserkreis des
Tiegels auf 120 kW. Das bedeutet, daß mehr als 3% der Leistung
des Elektronenstrahls im Dampf absorbiert werden.
Bei dieser Prozeßführung konnte eine sehr gute Korrelation
zwischen den gemessenen Linienintensitäten und der Schichtzusam
mensetzung festgestellt werden. Das beschriebene Meßverfahren
wurde benutzt, um die Langzeitverdampfung der genannten Legierung
mit konstanter stofflicher Zusammensetzung wesentlich zu verbes
sern.
Die beschriebene beobachtete Schwankungsbreite der Dampfzusammen
setzung beim Elektronenstrahlverdampfen mit hoher Leistung wird
durch verschiedene Einflußfaktoren bewirkt. Z. B. verändert eine
Änderung des Wärmeüberganges zwischen Tiegel und Schmelze die
Verdampfungstemperatur und damit die stoffliche Zusammensetzung
des Dampfes. Auch die Bildung von oxidischer Schlacke auf der
Schmelzbadoberfläche wirkt in ähnlicher Weise.
Das beschriebene Meßverfahren eröffnet die Möglichkeit, solche
Schwankungen in situ mit guter Genauigkeit zu messen. Daraus
können kompensierende Gegenmaßnahmen abgeleitet werden. Im
beschriebenen Beispiel wurde unter Nutzung des Meßverfahrens die
Materialzufuhr in das Schmelzbad geeignet gesteuert. Im Langzeit
betrieb wurde damit die Schwankungsbreite für die stoffliche
Zusammensetzung auf Werte unter 1,5% begrenzt.
Claims (3)
1. Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des
Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im
Vakuum mit folgenden Schritten:
- - Erhitzen des zu schmelzenden oder zu verdampfenden Materials durch eine Elektronenkanone mittels eines auf die Oberfläche der Schmelze oder des zu verdampfenden Materials abgelenkten Elektro nenstrahls,
- - Messen der Intensität mindestens einer chrakteristischen Linie des Emissionsspektrums eines stofflichen Bestandteils der Schmelze, wobei die Anregung des Emissionsspektrums durch eine teilweise Absorption der Energie des Elektronenstrahls im Dampf erfolgt,
- - Regeln eines oder mehrerer Betriebsparameter, so daß die Intensität der mindestens einen charakteristischen Linie konstant bleibt,
- - Messen der Intensität mindestens einer charakteristischen Linie des Emissionsspektrums jedes weiteren interessierenden stofflichen Bestandteiles der Schmelze, dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Elektronenstrahl auf ein kleines Flächenelement der Oberfläche der Schmelze oder des zu verdampfenden Materials fokussiert und zeitlich und örtlich programmiert auf der Oberfläche abgelenkt wird,
- - daß die Betriebsparameter für die Regelung die Fokussierung und/oder die Verweilzeit des Elektronenstrahls auf dem Flächen element der Schmelze oder des zu verdampfenden Materials, und/oder die Beschleunigungsspannung und/oder der Elektro nenstrahlstrom und/oder die Elektronenstrahlleistung sind,
- - und daß das Verhältnis zwischen dem Dampfdruck in der nahen Umgebung über der Schmelze oder dem zu verdampfenden Material und der Beschleunigungsspannung der Elektronenkanone so eingestellt wird, daß der Anteil der vom Dampf absorbierten Energie des Elektronenstrahls mindestens 3% beträgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei
konstant eingestelltem Dampfdruck die Beschleunigungsspannung der
Elektronenkanone so weit reduziert wird, daß der Anteil der
absorbierten Energie des Elektronenstrahls mindestens 3%
beträgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei
konstanter Beschleunigungsspannung der Elektronenkanone der
Dampfdruck so hoch eingestellt wird, daß der Anteil der absor
bierten Energie des Elektronenstrahls mindestens 3% beträgt.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4304612A DE4304612C2 (de) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum |
PCT/DE1994/000162 WO1994019675A1 (de) | 1993-02-16 | 1994-02-11 | Verfahren zur messung der stofflichen zusammensetzung des dampfes einer schmelze im vakuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4304612A DE4304612C2 (de) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4304612A1 DE4304612A1 (de) | 1994-08-18 |
DE4304612C2 true DE4304612C2 (de) | 1995-03-16 |
Family
ID=6480555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4304612A Expired - Fee Related DE4304612C2 (de) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4304612C2 (de) |
WO (1) | WO1994019675A1 (de) |
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