DE4303981A1 - HDTV colour cathode ray tube shadow mask - has length of openings in mask equal to multiple of distance between adjacent scanning lines - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf Farbbildröhren eines Typs, der Lochmasken mit schlitzförmigen Öffnungen hat, wobei die Öffnungen in Spalten ausgerichtet sind und die Öffnungen in jeder Spalte durch (Verbindungs-) Stege in der Maske getrennt sind; insbesondere bezieht sich die Erfindung auf solche Röhren, die eine Lochmaske haben, bei der die Öffnungslängen (Schlitzausdehnungen) so gewählt sind, daß sie eine optimale Moir´-Unterdrückung am Sichtschirm der Röhre erlauben.

Eine Großzahl derzeit verwendeter Farbbildröhren hat Zeilenschirme und Lochmasken, die schlitzförmige Öffnungen aufweisen. Die Öffnungen sind in Spalten angeordnet und benachbarte Öffnungen in jeder Spalte sind voneinander durch Stege oder Zwischenstäbe (tie bars) in der Maske getrennt. Solche Stege sind wesentlich bei der Maske, um ihre Integrität zu gewährleisten, wenn sie in eine gewölbte Kontur geformt wird, die etwa parallel zu der Kontur des inneren Schirmträgers (faceplate) der Röhre verläuft. Die Stege in einer Spalte sind in Longitudinal-Richtung der Spalte (Vertikalrichtung) versetzt von den Stegen in den unmittelbar benachbarten Spalten. Wenn Elektronenstrahlen auf die Lochmaske einfallen (auftreffen), sperren die Stege Teile der Strahlen, wodurch Schatten auf den Schirm unmittelbar hinter den Stegen geworfen werden ("shadow mask").

Wenn die Elektronenstrahlen wiederholt in einer Richtung senkrecht zu den Öffnungs-Spalten (in horizontaler Richtung) gescannt (abgetastet) werden, resultiert diese Abtastung in einer Serie von hellen und dunklen Horizontal-Linien auf dem Schirm. Diese hellen und dunklen Horizontal-Linien stehen in Wechselwirkung mit den Schatten, die von den Stegen gebildet werden, wobei hellere und dunklere Bereiche entstehen und ein Wellen-Muster auf dem Schirm gebildet wird, das Moir´-Muster genannt wird. Solche Moir´-Muster haben großen Einfluß auf die Seh-Qualität der Bilder, die am Schirm angezeigt werden. Es ist deshalb wünschenswert, ein Moir´-Modus zu wählen, der das Moir´- Muster für jede Abtast-Bedingung, die in dem Fernsehempfänger auftreten kann oder dort verwendet wird, zu minimieren. Die beiden Abtastverfahren, die derzeit verwendet werden, sind interlaced-abtastend (zwischenzeilenabtastend) und noninterlaced-abtastend. Ein Moir´-Modus ist das Verhältnis des Abtast-Zeilenschrittes zu dem Steg-Schattenschritt (scan line pitch/tie bar shadow pitch). Wegen praktischer Begrenzungen des Helligkeits-Ausgangs und der Maskendicke wird der Moir´- Modus gewöhnlich zwischen 6/8 und 10/8 gewählt. Der Moir´-Modus, der häufig gewählt wird, ist 7/8. Ein solcher Modus kann mittels der Gleichung

Moir´-Modus = T_S/a_V

ausgedrückt werden, wobei T_S der Schritt oder die Periode der Abtastzeilen ist, welche der Vertikalhöhe H des Sichtschirmes geteilt durch die Anzahl n_e der effektiven Abtastzeilen eines gegebenen TV-Systems entspricht; a_V ist die Vertikalteilung (vertical repeat distance) der Maskenöffnungen auf dem Schirm.

Es gibt die Möglichkeit eines dritten Abtastverfahrens. Dieses dritte Abtastverfahren wird fortlaufendes Abtasten genannt (progressive scan) und kann in hochauflösenden Fernsehempfängern verwendet werden. Für das progressive Abtasten wird eine höhere Abtastfrequenz benötigt. In einem Spezialfall des progressiven Abtastens wird nur eine Abtastbedingung berücksichtigt, um das Moir´-Muster zu minimieren. Diese Abtastbedingung erzeugt geringeres Moir´ und ein weicheres Bild. Für diese Bedingung würde ein Moir´-Modus gewählt werden, der geringer als 6/8 oder größer als 10/8 ist. Der Moir´-Modus, der häufig für diese Bedingung eingesetzt wird, ist 5/8.

Viele Techniken sind vorgeschlagen worden, um das Moir´-Problem zu lösen bzw. zu reduzieren. Die meisten dieser Techniken verwenden eine Neuanordnung der Orte der Stege in der Maske, um die Möglichkeit zu reduzieren, daß die Elektronenstrahl- Abtastzeilen auf die Steg-Schatten einwirken. Selbst wenn viele dieser Techniken in der Vergangenheit einigermaßen erfolgreich waren, das Moir´ zu reduzieren, sind die meisten dieser Techniken nicht in der Lage, das Moir´-Problem in allen Bereichen des Schirmes zu lösen, so daß es nach wie vor erforderlich ist, verbesserte Moir´-Reduzierungs-Techniken zu schaffen. Eine solche verbesserte Technik wird speziell in den neueren Farbbildröhren mit höherer Qualität gefordert, die für hochauflösendes Fernsehen benötigt werden. Wenn - beispielsweise - die Qualität der Elektronenkanonen verbessert wird, um die Erfordernisse des höher auflösenden Fernsehens zu erfüllen, erzeugen diese verbesserten Elektronenkanonen kleinere Elektronenstrahl-Auftreffpunkte (spots) auf dem Schirm. Das verkleinern der Elektronenstrahl-Spots erzeugt optisch schärfere Abtastzeilen auf dem Schirm, die in Wechselwirkung mit den Stegschatten stehen und das Problem der Moire-Muster vergrößern.

Deshalb ist es eine Aufgabe der Erfindung entstehende Moir´- Muster - insbesondere bei Bildröhren für hochauflösendes Fernsehen - auf ein Minimum zu reduzieren. Dies wird erfindungsgemäß mit der technischen Lehre des Anspruchs 1 erreicht.

Dabei weist die Farbbildröhre auf: Einen Sichtschirm; eine Lochmaske, die benachbart dem Schirm angeordnet ist; und eine Elektronenkanone zum Erzeugen und zum Führen einer Mehrzahl von Elektronenstrahlen durch die Maske auf den Schirm. Die Maske hat eine (im wesentlichen) rechtwicklige Peripherie mit zwei Längsseiten (Längskanten) und zwei Schmalseiten (Schmalkanten). Eine Hauptachse verläuft durch die Mitte der Lochmaske und parallel zu den Längskanten; eine Nebenachse verläuft (ebenfalls) durch die Mitte der Maske und parallel zu den Schmalseiten. Die Maske beinhaltet schlitzförmige Öffnungen, die in Spalten ausgerichtet sind, welche im wesentlichen parallel zur Nebenachse verlaufen. Benachbarte Öffnungen in jeder Spalte sind durch Stege in der Maske getrennt. Mit den Strahlen kann die gesamte Schirmfläche in Abtastzeilen abgetastet werden, die parallel zur Hauptachse verlaufen. Dabei wird die Länge der Öffnungen - gemessen in Richtung der Nebenachse - etwa gleich einem Vielfachen des Mitte-Mitte-Abstandes zwischen benachbarten Abtastzeilen - gemessen in Richtung der Nebenachse - gestaltet.

Damit wird sichergestellt, daß ein Minimum an Moir´-Muster auf dem Schirm entsteht.

Die schlitzförmigen Öffnungen können quadratische Enden haben (Anspruch 2). Die Länge der Öffnungen kann auch dem (einen) Mitte-Mitte-Abstand (T_S) zwischen benachbarten Abtastzeilen entsprechen (Anspruch 3).

Das Verständnis der Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispiels vertieft.

Fig. 1 ist ein Axialschnitt in Seitenrichtung einer Farbbildröhre, die gem. der Erfindung gestaltet ist.

Fig. 2 ist eine rückseitige Ansicht auf einen Maskenrahmen- Aufbau für die Bildröhre gem. Fig. 1.

Fig. 3 ist eine vergrößerte Ansicht eines geringen Bereichs der Lochmaske in der Röhre gem. Fig. 1.

Fig. 4 ist eine Ansicht einer einzelnen Elektronenstrahl- Abtastzeile, die die Intensitätsverteilung an einer Mehrzahl von Punkten zeigt.

Fig. 5 ist eine vergrößerte Ansicht der Elektronenstrahl- Abtastzeile von Fig. 4.

Fig. 6 ist eine Funktion der Intensität von zwei benachbarten Elektronenstrahl-Abtastzeilen und ihrer kombinierten (resultierenden) Energieverteilung.

Fig. 7 ist eine Funktion einer kombinierten Energieverteilung - wie in Fig. 6 - mit großer Modulation.

Fig. 8 ist eine Funktion eines typischen Masken- Durchstrahlungs-Musters (transmission-pattern).

Fig. 9 ist eine Funktion eines typischen Vertikalausschnitts (y) von gleichförmigen Fernsehzeilen.

Fig. 10 ist eine Funktion, welche die Energie längs einer vertikalen Maskenspalte in Vertikalrichtung zeigt.

Fig. 11 ist eine Funktion der Energie längs einer Vertikalmaskenspalte, die benachbart der Spalte von Fig. 10 ist.

Fig. 12 ist eine Funktion des Modulationfaktors m über dem Verhältnis von Öffnungslänge zu Abtastzeilen-Abstand (scan line spacing).

Fig. 13 ist eine Funktion von Fourierkoeffizienten X_M(k) für eine Maske mit quadratisch endenden Öffnungen und eine Maske mit abgerundeten Innenenden der Öffnungen.

Fig. 14 ist ein (zweidimensionales) Bild der Öffnungslängen­ verteilung in einem Quadranten einer gemäß der Erfindung ausgeführten Lochmaske.

Fig. 1 zeigt eine rechteckige Farbbildröhre 10 mit einem Glasmantel 11, welcher einen rechtwinkligen Schirmträger 12 und einen röhrenförmigen Hals 14 aufweist, der über ein rechtwinkligen Trichter 15 verbunden ist. Der Trichter 15 hat eine interne leitfähige Beschichtung (sie ist nicht dargestellt), die von dem Anodenanschluß 16 zum Hals 14 reicht. Der Schirmträger 12 umfaßt eine Sichtscheibe 18 und ein peripheren Flansch oder Seitenwandbereich 20, der an dem Trichter 15 über eine Glasmasse 17 angebracht bzw. an ihm versiegelt ist. Ein phosphoreszierender Dreifarben-Schirm 22 ist auf der inneren Oberfläche des Schirmträgers 18 angeordnet. Der Schirm 22 ist ein Zeilenschirm, bei dem die Phosphorzeilen in Triaden angeordnet sind, wobei jede Triade eine phosphoreszierende Zeile mit jeder der drei Farben aufweist. Eine Lochmaske (Mehröffnungs-Farbwahl-Elektrode) ist lösbar mit konventionellen Halterungen in einem vorbestimmten Abstand vom Schirm 22 befestigt. Eine Elektrodenkanone 26 ist schematisch mit gestrichelten Linien in Fig. 1 dargestellt; sie ist zentral innerhalb des Halses 14 angeordnet zum Erzeugen und Bündeln von drei Elektronenstrahlen 28 längs Konvergenzpfaden durch die Maske 24 auf den Schirm 22.

Die Röhre von Fig. 1 ist so gestaltet, daß sie mit einem externen Magnet-Ablenkkern bzw. -Joch verwendbar ist, z. B. dem Joch 30, das in der Nähe des Übergangs vom Trichter zum Hals schematisch angedeutet ist. Wenn das Joch 30 aktiviert wird, beeinflußt es die drei Strahlen 28 mit Magnetfeldern, die verursachen, daß die Strahlen horizontal und vertikal in einem rechtwinkligen Raster über den Schirm 22 abtasten (scannen). Die anfängliche Ebene der Ablenkung (bei Null-Ablenkung) ist etwa in der Mitte des Jochs 30. Wegen Randfeldern (fringe fields) erstreckt sich die Ablenkzone der Röhre axial vom Joch 30 in den Bereich der Kanone 26. Zur Vereinfachung werden die tatsächlichen Krümmungen der abgelenkten Strahlpfade in der Ablenkzone nicht in Fig. 1 dargestellt.

Die Lochmaske 24 ist Teil eines Masken-Rahmen-Aufbaus 32, der auch den äußeren Rahmen 34 beinhaltet. Der Masken-Rahmen- Aufbau 32 ist in Fig. 1 dargestellt, wo er innerhalb des Schirmträger-Aufbaus 12 positioniert ist. Die Lochmaske 24 beinhaltet einen gekrümmten, mit Öffnung versehenen Bereich 25, einen nichtperforierten Randabschnitt 27, der den mit Öffnungen versehenen Bereich 25 umgibt und einen Einfassungsabschnitt 29 der rückwärts von dem Randbereich 27 weggebogen ist und sich vom Schirm 22 weg erstreckt. Die Maske 24 stößt von innen an den Rahmen oder liegt auf dem Rahmen 34 und der Einfassungsabschnitt 29 ist an dem Rahmen 34 angeschweißt.

Die Lochmaske 24 ist genauer in den Fig. 2 und 3 dargestellt; sie hat einen rechteckigen Randbereich mit zwei Längsseiten und zwei Schmalseiten. Die Maske 24 besitzt eine Hauptachse X, die durch das Zentrum und parallel zu den Längsseiten verläuft; sie hat eine Nebenachse Y, die durch das Zentrum der Maske und parallel zu den Schmalseiten verläuft. Die Maske 24 beinhaltet schlitzförmig ausgebildete Öffnungen 36, die in Spalten 37 ausgerichtet sind, die im wesentlichen parallel zu der Nebenachse Y verlaufen. Benachbarte Öffnungen 36 in jeder Spalte 37 sind über Verbindungsstege 38 (tie bars) in der Maske getrennt, wobei der Abstand zwischen benachbarten Verbindungsstegen 38 in einer Spalte als Stegteilung (tie bar pitch) oder Vertikalwiederholung a_V (Vertikalteilung) an einem bestimmten Ort der Maske bezeichnet wird, wie dies die Fig. 3 veranschaulicht. Die Länge der Öffnungen ist dabei mit h bezeichnet.

Das Verfahren, mit dem eine Lochmaske 24 hergestellt wird, beinhaltet die Konstruktion einer mit Öffnungen versehenen flachen Maske, die später in die gewölbte Konturmaske geformt wird. Zur Minimierung des Moir´-Musters wird in einer Bildröhre - die gem. der Erfindung konstruiert ist - die Beziehung zwischen der Länge h der schlitzförmig gestalteten Öffnungen und dem Abtast-Zeilenschritt (scanning line pitch) T_S des Elektronenstrahls verwendet. Eine solche Beziehung wird im Folgenden erläutert.

Die Elektronenstrahl-Energie, die durch die erläuterte Öffnungs- Spalte in der Maske hindurchtritt, ist eine periodische Funktion der Vertikalposition y, wobei in Horizontalrichtung x innerhalb einer Öffnungsspalten-Teilung von T_x integriert wird, wie dies die Gleichung (1) zeigt:

Die Strahlenergie E_M(Y) hat eine Vertikalperiode T_y, die gleich der Vertikalteilung a_V (vertical repeat) der Maskenöffnungen ist. Diese Strahlenergie E_M(Y) kann ausgedrückt werden durch eine diskrete Fouriereihe:

wobei
j = (-)^1/2
n = Koordinate eines Punktes in y-Richtung, innerhalb der a_v-Teilung (repeat);
N = Gesamtzahl der Abtastpunkte n, die verwendet wurden, um die a_v-Teilung festzulegen;
X_M(k) = Fouriekoeffizienten der k-ten Ordnung.

Die Gleichung (2) kann umgeschrieben werden, um die Fouriekoeffizienten X_M(k) zu erhalten.

Die Fig. 4 und 5 zeigen eine einzelne Elektronenstrahl- Abtastzeile 40, wie sie in x-Richtung längst der Maske abgetastet wird. Die Energieverteilung innerhalb der Abtastzeile 40 ist an einigen Punkten in Fig. 4 dargestellt und in Fig. 5 ist eine einzelne Position vergrößert herausgezeichnet. Die Energieverteilung ist etwa glockenförmig mit einem Maximum der Intensität etwa in der Mitte der Abtastzeile. Die Maske wird mit einer Folge von solchen Abtastzeilen gescannt, wobei diese parallel zu der Gezeigten verlaufen.

Geht man von gleichförmigen Abtastzeilen mit konstanter Intensität aus, wie die in Fig. 4 gezeigte Abtastzeile 40, haben drei aufeinanderfolgende benachbarte Abtastzeilen überlappende Energieverteilungen 41, 42, 43, wie in Fig. 6 dargestellt. Das Summieren dieser drei Energieverteilungen liefert als Ergebnis die resultierende Energieverteilung 44, die einen Modulationsfaktor m - der in Gleichung (4) beschrieben ist - aufweist, wobei I_MAX und I_MIN die Maximal- und Minimal- Intensitäten darstellen. Die resultierende Energieverteilung 44 ist in y-Richtung periodisch.

Fig. 7 zeigt ein Spezialfall einer resultierenden Energieverteilung 45, wobei der Modulationsfaktor m sehr hoch ist. Eine solche Energieverteilung kann mit einer Elektronenkanone hoher Qualität auftreten, die sehr fein fokussierte Elektronenstrahlen hat. Dieser Fall des großen Modulationsfaktors m stellt den kritischsten Zustand für das Entstehen von großen Moir´-Effekten auf dem Schirm der Bildröhre dar.

Wie jede periodische Funktion als Summe von Sinus- und Cosinus- Funktion dargestellt werden kann, kann hier angenommen werden, daß die Energieverteilung s(n) in y-Richtung eine cosinusförmige Funktion von Punkten n ist, wobei die Abtastpunkte n (in ihrer Gesamtheit N) zu einer Zeile in y-Richtung gehören:

s(n) = a + m cos (w_Sn + ϕ), (5)

wobei:
a = mittlere Intensität des Fernsehsignales;
m = Modulationsfaktor;
w_S= Puls des Signales in y-Richtung; die korrespondierende Teilungs-Periode (spatial period) ist T_S=2π/W_S ϕ = ein Phasenwert.

Wenn die beiden periodischen Effekte, d. h. die maskenperiodische Energie-Transmission E_M(n) und die Fernsehsignal- Energieverteilung s(n) überlagert werden, erhält man Gleichung (6).

Fig. 8 zeigt ein typisches Masken-Transmissionsmuster, wie es sich bei vertikaler Betrachtung längst einer Spalte mit Öffnungen ergibt. Die Öffnungen erlauben die Durchstrahlung (Transmission) und die Stege blockieren die Transmission. Der Spitze-zu-Spitze-Abstand in Fig. 8 ist die Steg-Teilung (Schrittweite) a_V, wie zuvor erläutert.

Fig. 9 zeigt einen typischen Vertikalschnitt in y-Richtung, wie er sich bei Betrachtung einer Spalte mit Öffnungen bei gleichförmigen Fernsehsignal-Abtastzeilen ergibt. Der Spitze-zu- Spitze-Abstand in Fig. 9 ist die Mitte-Mitte-Teilung T_S zwischen Abtastzeilen.

Fig. 10 zeigt die Elektronenstrahl-Energie, die durch eine spezielle Spalte mit Öffnungen hindurchtritt, wie sie sich bei vertikaler Betrachtung ergibt. Dabei ist erkennbar, daß einige Elektronenstrahl-Energie bei jedem Steg der Maske blockiert wird.

Fig. 11 zeigt die Elektronenstrahl-Energie, die durch eine Spalte mit Öffnungen hindurchtritt, welche benachbart zu der speziellen Spalte mit Öffnungen von Fig. 10 liegt. Durch Vergleich der Fig. 10 und 11 ist erkennbar, daß die Maximalwerte von transmittierter Energie durch benachbarte Spalten an verschiedenen vertikalen Orten auftreten.

Der Moir´-Effekt ist für gegebene Maskenstruktur-Periode T_y eine Funktion der Periode T_S des Fernsehsignals und seiner Phase ϕ. Das Ziel der Minimierung von Moir´-Effekten kann erreicht werden durch Auffinden eines Wertes T_S, der die durch die Maske passierende und von jeder Maskenöffnung transmittierte Energie unabhängig von der Phase ϕ des Fernsehsignales macht. In einem solchen Fall hat der Ort der Fernsehsignal-Abtastzeilen - relativ zu den Maskenöffnungen - keinen Einfluß auf die passierende oder transmittierte Energie.

Um die Energie, welche durch jede individuelle Maskenöffnung hindurchtritt, zu berechnen, muß ein Integral über eine Periode T_y mit der folgenden Funktion berücksichtigt werden:

Durch Verwenden der Ableitung von E (w_S, ϕ) nach ϕ wird der Wert von w_S, der die Energie minimiert, aus der folgenden Gleichung gefunden:

Weil die Ableitung in Gleichung 8 eine Funktion der Phase ϕ ist, kann sie Null nur dann sein, wenn der Koeffizient (Modulus) ihres Argumentes Null ist. Der Koeffizient dieses Argumentes ist gegeben durch die Summe der Produkte |X_M(k)||sin (w_Sn+ϕ)|. |sin (w_Sn+ϕ)| ist weder Null noch Eins für nur eine Frequenz f_S, welche sich berechnet aus w_S/2π. Dann müssen in der obigen Summe |X_M(k)||sin (w_sn+ϕ) nur die Werte |X_M(k)| berücksichtigt werden, die mit der Frequenz f_S= w_S/2π. Das Ziel des Minimierens von Gleichung (8) oder der Summe der Produkte |X_M(k)||sin (w_Sn+ϕ)| ist erreicht, wenn der Wert von f_S= w_S/2π so gewählt wird, daß |X_M(k)| minimal oder Null ist.

Für eine volle rechteckige Maskenöffnung ist der Koeffizient (Modulus) Null, wenn die Öffnungslänge h gleich oder einer vielfachen der Abtast-Zeilenperiode T_Sist. Daher ist diejenige Öffnungslänge h, die den Moir´-Effekt minimiert, anzugeben, und zwar mit dem Ausdruck der Periode T_S= 2π/w_S:

h = ein vielfaches von T_S oder vorzugsweise T_S. (9)

Wie oben festgestellt ist T_S bestimmt aus der vertikalen Höhe des Schirms geteilt durch die Anzahl der effektiven Abtastzeilen auf dem Schirm. Zum Beispiel ist T_S= H/550 für ein Tv-Signal mit 625 Abtastzeilen.

Fig. 12 ist eine Funktion, die die Modulation des Lichtes durch die Öffnungen darstellt, und zwar mit dem Ausdruck der absoluten Werte der Fouriekoeffizienten |X_M(k)| gegen das Verhältnis von vertikaler Länge h der Öffnungen zu T_S (Höhe des Sichtschirms geteilt durch die Anzahl der effektiven Abtastzeilen auf dem Schirm). Das Verhältnis von h zu T_S hat dieselben Werte auf einer geformten Maskenoberfläche wie auf der Front Seitenoberfläche.

Wenn die Maskenöffnungen nicht rechteckig oder quadratisch in ihren Ecken/Enden ist, wird die reale abgerundete Maskenöffnungsstruktur bei den Fouriekoeffizienten X_M(k) berücksichtigt. Durch Erarbeiten der Koeffizienten X_M(k) für die reale Maskenstruktur wird die Wahl von T_S dadurch getroffen, daß 1/T_S in Übereinstimmung mit dem Minimum des Koeffizienten (Modulus) von X_M(k) gebracht wird, wie dies in Fig. 13 veranschaulicht ist. Für eine gegebene konstant gemusterte Maske kann - zusammenfassend - ein ordnungsgemäßes T_S gewählt werden, welches gleich der Öffnungslänge h der schlitzförmigen Maskenöffnungen ist, wenn die Enden der Öffnungen rechtwinklig (quadratisch oder rechteckig) sind, jedoch wird T_S einen geringfügig abweichenden Wert haben, wenn die Enden der Öffnungen nicht rechtwinklig sind.

Fig. 14 ist eine Funktion, die die Öffnungslängen in dem oberen rechten Quadranten einer geformten Lochmaske zeigt, die in Übereinstimmung mit der Erfindung ausgeführt wurde. Diese Maske wird in einer Röhre verwendet, die ein Schirm mit 86 cm Diagonalmaß und mit einem Bildseiten-Verhältnis von 16:9 hat. Die Linien auf dem Schaubild, welche ähnlich zu den Konturlinien sind, zeigen Orte von gleicher Öffnungslänge auf der Maske an. Alle Dimensionen in Fig. 14 sind in Millimetern.

Claims (4)

1. Farbbildröhre

• - mit einem Sichtschirm;
• - mit einer Lochmaske (24), die benachbart zu dem Sichtschirm angeordnet ist;
• - mit einer Elektronenkanone zum Erzeugen und Ausrichten einer Mehrzahl von Elektronenstrahlen (28) durch die Maske (24) auf dem Schirm, wobei die Maske im wesentlichen rechteckförmig mit zwei Längsseiten und zwei Schmalseiten ausgebildet ist; eine Hauptachse verläuft maskenmittig und parallel zu den Längsseiten, eine Nebenachse verläuft maskenmittig und parallel zu den Schmalseiten;
• - mit schlitzförmigen Öffnungen (36), die in der Maske in Spalten angeordnet sind, die im wesentlichen parallel zu der Nebenachse (Y) verlaufen, wobei benachbarte Öffnungen in jeder Spalte durch Stege (38) in der Maske (24) getrennt sind;
• - wobei die Strahlen (28) über den gesamten Schirm in Abtastzeilen abtastbar sind, die parallel zu der Hauptachse (Y) verlaufen; dadurch gekennzeichnet, daß die Länge (h) der Öffnungen (36) etwa gleich einem vielfachen des Mitte-Mitte-Abstandes (T_S) zwischen benachbarten Abtastzeilen - gemessen in Richtung der Nebenachse (Y) - ist.

2. Farbbildröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die schlitzförmigen Öffnungen (36) rechtwinklige Enden - insbesondere quadratische Innenenden - haben und die Länge (h) der Öffnungen (36) gleich einem vielfachen des Mitte- Mitte-Abstandes (T_S) zwischen benachbarten Abtastzeilen - gemessen in Richtung der Nebenachse (Y) - ist.

3. Farbbildröhre nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Länge (h) der Öffnungen (36) gleich dem Mitte-Mitte- Abstand (T_S) zwischen benachbarten Abtastzeilen - gemessen in Richtung der Nebenachse (Y) - ist.

4. Lochmaske für eine Farbbildröhre nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der

• - schlitzförmige Öffnungen (36) in Spalten (37) angeordnet sind, die im wesentlichen parallel zu den Schmalkanten der Lochmaske (24) verlaufen;
• - zwischen den schlitzförmigen Öffnungen (36) - in Richtung der Spalten - Stege (38) angeordnet sind;
• - die Länge (h) der schlitzförmigen Öffnungen (36) etwa gleich dem oder einem vielfachen eines Mitte-Mitte- Abstandes (T_S) benachbarter Abtastzeilen eines Abtast- Elektronenstrahls (28) ist.