DE4234238A1 - Beschleunigungssensor - Google Patents
BeschleunigungssensorInfo
- Publication number
- DE4234238A1 DE4234238A1 DE4234238A DE4234238A DE4234238A1 DE 4234238 A1 DE4234238 A1 DE 4234238A1 DE 4234238 A DE4234238 A DE 4234238A DE 4234238 A DE4234238 A DE 4234238A DE 4234238 A1 DE4234238 A1 DE 4234238A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plate
- acceleration sensor
- silicon
- sensor according
- cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P15/0802—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P15/125—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by capacitive pick-up
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P2015/0805—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
- G01P2015/0822—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass
- G01P2015/0825—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass
- G01P2015/0828—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass the mass being of the paddle type being suspended at one of its longitudinal ends
Description
Die Erfindung geht aus von einem Beschleunigungssensor nach der
Gattung des Hauptanspruchs. Aus der EP A1 369 352 ist bereits ein
Beschleunigungssensor mit einer mittleren und zwei äußeren Silizium
platten bekannt, wobei aus der mittleren Siliziumplatte ein durch
eine Beschleunigung bewegliches Element herausstrukturiert ist. Das
bewegliche Element ist dabei in einem von den drei Siliziumplatten
gebildeten Hohlraum eingeschlossen. Die Verbindung der mittleren
Siliziumplatte mit den beiden äußeren Siliziumplatten erfolgt durch
eine Vorbehandlung der Siliziumplatten, Aufeinanderlegen und einer
anschließenden Temperaturbehandlung bei einer Temperatur von
800-1100°C in Sauerstoff- oder Stickstoffatmosphäre.
Der erfindungsgemäße Beschleunigungssensor mit den kennzeichnenden
Merkmalen des Hauptanspruchs hat demgegenüber den Vorteil, daß durch
das Loch in der Wand und den gasdichten Verschluß durch die weitere
Platte ein definierter Druck im Hohlraum eingeschlossen ist.
Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vor
teilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des im Hauptanspruch
angegebenen Beschleunigungssensors möglich. Durch die Verwendung
einer Glasplatte oder einer Siliziumplatte mit oberflächlicher Glas
schicht wird die Reproduzierbarkeit des Drucks im Hohlraum erhöht.
Die dünnen Schichten aus Glas können durch Sputtern, Aufdampfen oder
Siebdruck aufgebracht sein. Die mechanischen Spannungen zwischen der
äußeren und der weiteren Platte werden besonders gering, wenn die
weitere Platte als Siliziumplatte mit einer metallischen Lotschicht
ausgebildet ist. Durch die beschriebene Schichtfolge können beim
Verlöten Niedertemperaturprozesse verwendet werden, die den Druck im
Hohlraum nicht verändern. Für einen möglichst kostengünstigen Aufbau
des Beschleunigungssensors wird die weitere Platte auch als Ver
bindungsplatte zum Gehäuseboden verwendet. Durch die Verwendung
eines kleinen Verbindungsbereiches, der nur das Loch umgibt, werden
mechanische Verspannungen in den Sensoren verringert. Dabei kann die
weitere Platte ebenso groß wie der Verbindungsbereich ausgestaltet
sein oder die weitere oder die äußere Platte weisen einen aus ihrer
Oberfläche hervorstehenden Verbindungsbereich auf.
Ausführungsbeispiele sind in den Zeichnungen dargestellt und in der
nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 einen
Beschleunigungssensor mit einer Glasplatte als weiteren Platte,
Fig. 2 einen Beschleunigungssensor mit einer Siliziumplatte als
weiteren Platte, Fig. 3 einen Beschleunigungssensor mit ver
kleinertem Verbindungsbereich, Fig. 4 einen Beschleunigungssensor
mit verkleinertem Verbindungsbereich, der aus der Oberfläche der
weiteren Platte hervorsteht und Fig. 5 einen Beschleunigungssensor
mit verkleinertem Verbindungsbereich, der aus der Oberfläche der
äußeren Platte hervorsteht.
In der Fig. 1 ist ein Beschleunigungssensor dargestellt, der aus
einer mittleren Siliziumplatte 2, zwei äußeren Siliziumplatten 1, 3
und einer weiteren Platte 10 aufgebaut ist. Aus der mittleren
Siliziumplatte 2 ist ein bewegliches Element 4 herausstrukturiert,
das hier als Biegezunge 30 mit seismischer Masse 31 ausgebildet ist.
Dieses bewegliche Element 4 ist in einem Hohlraum 5 angeordnet, der
durch die mittlere Siliziumplatte 2 und die beiden äußeren Silizium
platten 1, 2 gebildet ist. Eine der äußeren Siliziumplatten 3 weist
ein Loch 6 auf. Dieses Loch ist jedoch durch die weitere Platte 10
verschlossen, die mit der äußeren Siliziumplatte 3 verbunden ist.
Weiterhin ist der Beschleunigungssensor auf einem Gehäuseboden 7
angeordnet.
Bereits durch die mittleren Siliziumplatte 2 und die beiden äußeren
Siliziumplatten 1, 3 wird ein vollwertiger Beschleunigungssensor
gebildet. Solche Beschleunigungssensoren sind beispielsweise in der
eingangs zitierten EP A1 369 352 beschrieben. Durch eine Be
schleunigung wird das bewegliche Element 4 aus seiner hier gezeigten
Ruhelage ausgelenkt, d. h. die seismische Masse 31 nähert sich einer
der äußeren Siliziumplatten 1, 3. Die Siliziumplatten sind gegen
einander isoliert. Infolge der Annäherung der seismischen Masse 31
an eine der äußeren Siliziumplatten 1, 3 verändert sich die zwischen
der mittleren Platte 2 und den beiden äußeren Siliziumplatten 1, 3
meßbare Kapazität. Diese Kapazitätsänderung ist ein Maß für die an
liegende Beschleunigung. Die Bewegungen des beweglichen Elementes 4
werden durch im Hohlraum 5 eingeschlossene Luft gedämpft. Da die
Abstände zwischen der seismischen Masse 31 und
den äußeren Siliziumplatten 1, 3 gering ist, ist diese Luftdämpfung
der Bewegung des beweglichen Elementes 4 relativ groß. Es ist daher
wünschenswert, im Hohlraum 5 einen definierten Unterdruck einzu
schließen, da durch diesen Unterdruck die Dämpfungseigenschaften und
somit auch das dynamische Verhalten des Beschleunigungssensors be
stimmt wird. Dabei wird ein Unterdruck in der Größenordnung 0,01 bis
10 inbar mit einer Reproduzierbarkeit von kleiner 5% angestrebt: Bei
der Herstellung der Beschleunigungssensoren wird der Hohlraum 5 über
das Loch 6 entlüftet und dann mit der weiteren Platte 10 ver
schlossen. Bei einem direkten Verschluß des Hohlraumes 5 durch Zu
sammenfügen einer mittleren Siliziumplatte 2 mit äußeren Silizium
platten 1, 3, die kein Loch aufweisen, läßt sich kein definierter
Unterdruck im Hohlraum 5 einstellen. Dies liegt zum einen an der
hohen Temperatur, die zum direkten Verbinden von Siliziumplatten
notwendig ist. Bei Temperaturen in der Größenordnung von
800-1100°C können eventuell vorhandene Restgase im Hohlraum 5 mit
dem Silizium der Platten 1, 2, 3 reagieren oder aber Gasmoleküle,
die bereits mit dem Silizium reagiert haben wieder in den Hohlraum
ausgetrieben werden. Diese Reaktionen können nur schwer vorausgesagt
oder reproduziert werden. Eine Verringerung der Temperatur in einen
unkritischen Temperaturbereich unterhalb von 8000 ist in der Regel
mit einer Verschlechterung der Verbindungsqualität verbunden.
Weiterhin ist die direkte Verbindung von Siliziumplatten im Vakuum
schwierig und mit einer schlechten Ausbeute verbunden. Für die Ver
bindung der Siliziumplatten 1, 2, 3 werden diese vor der Verbindung
durch einen chemischen Vorbehandlungsprozeß so verändert, daß hydro
phile Oberflächen entstehen. In einem Vakuum verändern sich diese
Oberflächen derart, daß die Qualität der Verbindung der Silizium
platten 1, 2, 3 verringert wird.
Durch die Verwendung des Loches 6 in der äußeren Siliziumplatte 3
und der weiteren Platte 10 läßt sich ein gut reproduzierbarer Unter
druck im Hohlraum 5 problemlos einstellen. Zunächst werden die
beiden äußeren Siliziumplatten 1, 3 mit der mittleren Silizium
platte, aus der das bewegliche Element 4 heraus strukturiert ist,
verbunden. Diese Verbindung erfolgt durch einen Hochtemperaturprozeß
in der Größenordnung von 800-1100°C, so daß eine gute Qualität
dieser Verbindung sichergestellt wird. In einem weiteren Schritt
wird dann dieser Plattenverbund mit der weiteren Platte 10 ver
bunden. Bei der weiteren Platte 10 handelt es sich um eine Glas
platte, die durch sogenanntes anodisches Bonden mit dem Silizium
plattenstapel verbunden wird. Dazu wird der Plattenstapel auf die
weitere Platte 10 gesetzt, und die Umgebung des Beschleunigungs
sensors wird evakuiert. Durch das Loch 6 kann die Luft zwischen der
Siliziumplatte 3 und der weiteren Platte 10 entweichen, so daß ein
definierter Druck im Hohlraum 5 erreicht wird. Durch Anlegen einer
elektrischen Spannung in der Größenordnung zwischen 30 bis 1000 Volt
wird die Glasplatte 10 elektrostatisch gegen den Stapel der drei
Siliziumplatten 1, 2, 3 gezogen. Bei der Glasplatte 10 handelt es
sich um ein natriumhaltiges Glas, wie es beispielsweise unter dem
Handelsnamen Pyrex der Firma Corning Glass erhältlich ist. Durch
eine Temperaturbehandlung in der Größenordnung von 200 bis 400°C und
durch die Wirkung des elektrischen Feldes wird eine feste unlösbare
Verbindung zwischen der weiteren Platte 10 und der äußeren Silizium
platte 3 bewirkt.
In der Fig. 2 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel des Beschleuni
gungssensors, jedoch mit einer weiteren Platte 11, die eine dünne
oberflächliche Schicht 15 aufweist, gezeigt. Alle übrigen Be
zeichnungen 1 bis 7 entsprechen den Bezeichnungen aus der Fig. 1.
Die weitere Platte 1 besteht ebenfalls aus Silizium und weist auf
ihrer Oberfläche eine dünne Glasschicht 15 auf. Die dünne Glas
schicht 15 besteht ebenfalls aus einem Glasmaterial, das durch
anodisches Bonden mit der äußeren Siliziumplatte 3 verbunden werden
kann. Die dünne Glasschicht 15 ist durch Sputtern oder durch Sieb
druck einer glasgefüllten Paste und anschließendes Brennen herge
stellt. Neben den aus der Fig. 1 bereits bekannten Vorteilen wird
durch die Verwendung der weiteren Platte 11 aus Silizium eine Ver
ringerung der mechanischen Verspannungen im Beschleunigungssensor
erreicht, da die weitere Platte 11 nun den gleichen thermischen Aus
dehnungskoeffizienten aufweist, wie die drei Siliziumplatten 1, 2, 3.
In der Fig. 3 wird ein weiteres Ausführungsbeispiel des er
findungsgemäßen Beschleunigungssensors gezeigt. Die Ziffern 1 bis 7
bezeichnen wieder die gleichen Sensorteile wie die Fig. 1. Die
weitere Platte 12 besteht aus Silizium, weist auf ihrer Oberfläche
einen dünnen Lotfilm 16 auf und ist über einen Verbindungsbereich 20
mit der äußeren Siliziumplatte 3 verbunden. Durch die geringen geo
metrischen Abmessungen der weiteren Platte 12 wird sichergestellt,
daß sich der Verbund der drei Siliziumplatten 1, 2, 3 größtenteils
frei gegenüber dem Gehäuse 7 ausdehnen kann, ohne daß es dabei zu
Verspannungen zwischen dem Gehäuseboden 7 und den drei Silizium
platten 1, 2, 3. Durch diese Maßnahmen werden somit temperaturbe
dingte Verspannungen des Beschleunigungssensors verringert. Durch
die Wahl eines geeigneten Lötmittels für die Lötschicht 16 kann die
weitere Platte 12 mit Temperaturen in der Größenordnung von 200 bis
400° mit der äußeren Platte 3 verbunden werden. Ein geeignetes
Material ist beispielsweise Gold, das bei
Temperaturen um 370°C zum Löten von Silizium geeignet ist. Eine
solche Goldschicht zur Verbindung mit der äußeren Siliziumplatte 3
kann durch Zwischenschichten, beispielsweise aus Nickel und Chrom
auch bei einer Glasplatte als weiteren Platte 12 verwendet werden.
In der Fig. 4 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für einen Be
schleunigungssensor gezeigt, der nur geringe thermisch bedingte Ver
spannungen mit dem Gehäuse 7 zeigt. Die Ziffern 1 bis 7 bezeichnen
wieder die gleichen Sensorteile wie in der Fig. 1. Die weitere
Platte 13 weist einen aus ihrer Oberfläche vorstehenden Verbindungs
bereich 21 auf, mit dem die weitere Platte 13 mit der äußeren Platte
3 in der Umgebung des Loches 6 verbunden ist. Durch diesen Ver
bindungsbereich 21 wird das Loch 6 verschlossen. Durch den erhobenen
Verbindungsbereich 21 wird wieder erreicht, daß sich der Verbund der
drei Siliziumplatten 1, 2, 3 infolge von Temperaturänderungen aus
dehnen und zusammenziehen kann, ohne daß es dabei zu nennenswerten
mechanischen Verspannungen mit der weiteren Platte 13 bzw. dem Ge
häuseboden 7 kommt, sofern diese einen anderen thermischen Aus
dehnungskoeffizienten ausweisen. Durch den Verbindungsbereich 21,
der die weitere Platte 13 nur in der unmittelbaren Nähe des Loches 6
mit der äußeren Platte 3 verbindet wird somit eine temperaturbe
dingte Änderung der Sensorempfindlichkeit verringert.
In der Fig. 5 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für einen Be
schleunigungssensor dargestellt, der ebenfalls einen Verbindungs
bereich 22 in der unmittelbaren Umgebung des Loches 6 aufweist. Die
Ziffern 1 bis 7 bezeichnen wieder die gleichen Sensorteile wie in
der Fig. 1. Aus der äußeren Platte 3 ist hier ein Verbindungs
bereich 22 herausstrukturiert, mit dem die äußere Platte 3 mit der
weiteren Platte 10 verbunden ist. Durch diesen
Verbindungsbereich 22 werden wiederum die gleichen Vorteile be
züglich des thermischen Verhaltens der Sensoren erreicht wie bei den
Fig. 3 und 4. Bei der in Fig. 5 gezeigten Ausgestaltung des Be
schleunigungssensors sind jedoch die Anforderungen an die Justier
genauigkeit der weiteren Platte 10 gegenüber der äußeren Silizium
platte 3 äußerst gering. Durch diese Maßnahme wird somit der Her
stellungsprozeß zur Herstellung der Sensoren vereinfacht.
Claims (13)
1. Beschleunigungssensor mit einer mittleren (2) und zwei äußeren
(1, 3) Siliziumplatten, wobei aus der mittleren Siliziumplatte (2)
ein daran befestigtes, durch eine Beschleunigung des Sensors beweg
liches Element (4) herausstrukturiert ist, wobei das bewegliche
Element (4) in einem von den drei Siliziumplatten (1, 2, 3) gebil
deten Hohlraum (5) eingeschlossen ist, wobei die äußere Silizium
platte (1, 3) Wände des Hohlraums (5) bilden, dadurch gekenn
zeichnet, daß mindestens eine der äußeren Platten (1, 3) mit einer
weiteren Platte (10 bis 13) verbunden ist, und daß ein Loch (6) in
der durch eine der äußeren Platten (1, 3) gebildeten Wand des Hohl
raums (5) durch die weitere Platte (10 bis 13) gasdicht verschlossen
ist.
2. Beschleunigungssensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die weitere Platte (10) aus Glas besteht.
3. Beschleunigungssensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die weitere Platte (11) als Siliziumplatte mit einer dünnen
oberflächlichen Schicht (15) aus Glas ausgebildet ist.
4. Beschleunigungssensor nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Schicht (15) aus Glas durch Sputtern oder Aufdampfen
aufgebracht ist.
5. Beschleunigungssensor nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Schicht (15) aus Glas durch Siebdruck aufgebracht ist.
6. Beschleunigungssensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die weitere Platte (12) als Siliziumplatte mit einer metalli
schen Lötschicht (16) ausgebildet ist.
7. Beschleunigungssensor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Lötschicht (16) aus mehreren Schichten, insbesondere aus
einer Folge von Schichten aus Chrom, Nickel und Gold, aufgebaut ist.
8. Beschleunigungssensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die drei Siliziumplatten (1, 2, 3) durch
die weitere Platte (10 bis 13) mit einem Gehäuse (7) verbunden sind.
9. Beschleunigungssensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die weitere Platte (10 bis 13) nur mit
einem das Loch (6) umgebenden Verbindungsbereich (20, 21, 22) mit
der äußeren Platte (1, 3) verbunden ist.
10. Beschleunigungssensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die gesamte Oberfläche der weiteren Platte (12) den Verbindungs
bereich (20) bildet.
11. Beschleunigungssensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die weitere Platte (13) einen aus ihrer Oberfläche vorstehenden
Verbindungsbereich (21) aufweist.
12. Beschleunigungssensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die äußere Platte (1, 3), die mit der weiteren Platte (10 bis
13) verbunden ist, einen aus ihrer Oberfläche vorstehenden Ver
bindungsbereich (22) aufweist.
13. Beschleunigungssensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß im Hohlraum (5) ein Unterdruck einge
schlossen ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4234238A DE4234238A1 (de) | 1992-10-10 | 1992-10-10 | Beschleunigungssensor |
CH02663/93A CH687568A5 (de) | 1992-10-10 | 1993-09-07 | Beschleunigungssensor. |
US08/131,821 US5461917A (en) | 1992-10-10 | 1993-10-05 | Acceleration sensor |
JP5250432A JPH06201719A (ja) | 1992-10-10 | 1993-10-06 | 加速度センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4234238A DE4234238A1 (de) | 1992-10-10 | 1992-10-10 | Beschleunigungssensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4234238A1 true DE4234238A1 (de) | 1994-04-14 |
Family
ID=6470185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4234238A Ceased DE4234238A1 (de) | 1992-10-10 | 1992-10-10 | Beschleunigungssensor |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5461917A (de) |
JP (1) | JPH06201719A (de) |
CH (1) | CH687568A5 (de) |
DE (1) | DE4234238A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0783108A1 (de) * | 1996-01-08 | 1997-07-09 | Siemens Aktiengesellschaft | Mikromechanisches Bauteil mit planarisiertem Deckel auf einem Hohlraum und Herstellverfahren |
WO1999050913A1 (en) * | 1998-03-31 | 1999-10-07 | Honeywell Inc. | A method of making a wafer-pair having sealed chambers |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6035714A (en) | 1997-09-08 | 2000-03-14 | The Regents Of The University Of Michigan | Microelectromechanical capacitive accelerometer and method of making same |
US6718605B2 (en) | 1997-09-08 | 2004-04-13 | The Regents Of The University Of Michigan | Single-side microelectromechanical capacitive accelerometer and method of making same |
US6167757B1 (en) | 1997-09-08 | 2001-01-02 | The Regents Of The University Of Michigan | Single-side microelectromechanical capacitive accelerometer and method of making same |
US6871544B1 (en) * | 1999-03-17 | 2005-03-29 | Input/Output, Inc. | Sensor design and process |
WO2000055648A1 (en) * | 1999-03-17 | 2000-09-21 | Input/Output, Inc. | Hydrophone assembly |
JP2006226743A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Mitsubishi Electric Corp | 加速度センサ |
US7687126B2 (en) | 2005-08-22 | 2010-03-30 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive articles and release liners |
US8322216B2 (en) * | 2009-09-22 | 2012-12-04 | Duli Yu | Micromachined accelerometer with monolithic electrodes and method of making the same |
JP7087479B2 (ja) * | 2018-03-09 | 2022-06-21 | セイコーエプソン株式会社 | 物理量センサー、物理量センサーデバイス、物理量センサーデバイスを用いた傾斜計、慣性計測装置、構造物監視装置、及び移動体 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0369352A1 (de) * | 1988-11-15 | 1990-05-23 | Hitachi, Ltd. | Kapazitiver Beschleunigungsmesser und Verfahren zu seiner Herstellung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0340476B1 (de) * | 1988-04-11 | 1993-06-16 | Nippondenso Co., Ltd. | Beschleunigungsaufnehmer |
US4901570A (en) * | 1988-11-21 | 1990-02-20 | General Motors Corporation | Resonant-bridge two axis microaccelerometer |
US5228341A (en) * | 1989-10-18 | 1993-07-20 | Hitachi, Ltd. | Capacitive acceleration detector having reduced mass portion |
US5090254A (en) * | 1990-04-11 | 1992-02-25 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Polysilicon resonating beam transducers |
US5181156A (en) * | 1992-05-14 | 1993-01-19 | Motorola Inc. | Micromachined capacitor structure and method for making |
-
1992
- 1992-10-10 DE DE4234238A patent/DE4234238A1/de not_active Ceased
-
1993
- 1993-09-07 CH CH02663/93A patent/CH687568A5/de not_active IP Right Cessation
- 1993-10-05 US US08/131,821 patent/US5461917A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-06 JP JP5250432A patent/JPH06201719A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0369352A1 (de) * | 1988-11-15 | 1990-05-23 | Hitachi, Ltd. | Kapazitiver Beschleunigungsmesser und Verfahren zu seiner Herstellung |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0783108A1 (de) * | 1996-01-08 | 1997-07-09 | Siemens Aktiengesellschaft | Mikromechanisches Bauteil mit planarisiertem Deckel auf einem Hohlraum und Herstellverfahren |
WO1999050913A1 (en) * | 1998-03-31 | 1999-10-07 | Honeywell Inc. | A method of making a wafer-pair having sealed chambers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5461917A (en) | 1995-10-31 |
JPH06201719A (ja) | 1994-07-22 |
CH687568A5 (de) | 1996-12-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1648764B2 (de) | Kapazitiver druckwandler | |
EP0480170B1 (de) | Sensor für ein Kapazitäts-Manometer | |
DE4234238A1 (de) | Beschleunigungssensor | |
DE2926154C2 (de) | Drucksensor mit einer Halbleitermembran | |
DE4431478B4 (de) | Aufhängung für mikromechanische Struktur und mikromechanischer Beschleunigungssensor | |
DE3505926C2 (de) | Kapazitiver Druckmesser für Absolutdruck | |
DE2459612A1 (de) | Kapazitiver druckwandler | |
DE102009000167A1 (de) | Sensoranordnung | |
DE2556947B2 (de) | Auf Druck ansprechende Kapazität | |
EP0623824A1 (de) | Mikromechanische Beschleunigungsmessvorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE3505924C2 (de) | Kapazitiver Druckmesser | |
DE4200293A1 (de) | Miniatur-silizium-beschleunigungsmesser und verfahren zum messen der beschleunigung | |
DE102008016004A1 (de) | Mikroelektromechanischer Inertialsensor mit atmosphärischer Bedämpfung | |
EP1307750B1 (de) | Mikromechanisches bauelement | |
EP0373536A2 (de) | Überlastfester kapazitiver Drucksensor | |
EP0619494A1 (de) | Tunneleffekt-Beschleunigungssensor | |
DE3814950A1 (de) | Beschleunigungsaufnehmer | |
DE2624781B2 (de) | Elektronenemittierende Elektrode und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3008572A1 (de) | Druckmessdose | |
DE1288203C2 (de) | Elektronenstrahlroehre mit einer photoempfindlichen elektrode | |
DE3834531C2 (de) | ||
DE102018217841A1 (de) | Mikromechanischer Inertialsensor | |
EP0649538A1 (de) | Beschleunigungssensor | |
WO1992014161A1 (de) | Kapazitiver beschleunigungssensor | |
DE2824794A1 (de) | Druckfuehler |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |