DE4003119A1 - Automatische entwicklungsvorrichtung und -verfahren - Google Patents

Automatische entwicklungsvorrichtung und -verfahren

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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0578505A3 (en) * 1992-07-10 1994-05-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Method of adjusting concentration of developer
EP0605095A1 (en) * 1992-12-28 1994-07-06 Sumitomo Chemical Company, Limited Apparatus and method for preparing a developer solution
US5476320A (en) * 1992-12-28 1995-12-19 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Developer preparing apparatus and developer preparing method

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2651282B2 (ja) * 1990-12-14 1997-09-10 シーケーディ株式会社 流体制御装置
CN103207538A (zh) * 2012-01-13 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种显影液自动添加装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3531252A (en) * 1966-10-17 1970-09-29 Calgon C0Rp Methods of analyzing conductive solutions
US4102756A (en) * 1976-12-30 1978-07-25 International Business Machines Corporation Nickel-iron (80:20) alloy thin film electroplating method and electrochemical treatment and plating apparatus
ATE49066T1 (de) * 1982-10-21 1990-01-15 Vickers Plc Verarbeitung von lichtempfindlichen vorrichtungen.
US4497692A (en) * 1983-06-13 1985-02-05 International Business Machines Corporation Laser-enhanced jet-plating and jet-etching: high-speed maskless patterning method
JPS61251135A (ja) * 1985-04-30 1986-11-08 Toshiba Corp 自動現像装置
JPS62158327A (ja) * 1986-01-07 1987-07-14 Toshiba Corp 電極構成体
JPS63175425A (ja) * 1987-01-16 1988-07-19 Toshiba Corp 電極構成体
JPH067910B2 (ja) * 1987-02-10 1994-02-02 日立プラント建設株式会社 現像原液の希釈装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP-OS 135 838-87 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0578505A3 (en) * 1992-07-10 1994-05-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Method of adjusting concentration of developer
US5843602A (en) * 1992-07-10 1998-12-01 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method of adjusting concentration of developer through load cell utilization and wet nitrogen gas atmosphere
EP0605095A1 (en) * 1992-12-28 1994-07-06 Sumitomo Chemical Company, Limited Apparatus and method for preparing a developer solution
US5476320A (en) * 1992-12-28 1995-12-19 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Developer preparing apparatus and developer preparing method

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