DE3914055A1 - Halbleiter-bauteil mit einer siliziumscheibe - Google Patents
Halbleiter-bauteil mit einer siliziumscheibeInfo
- Publication number
- DE3914055A1 DE3914055A1 DE3914055A DE3914055A DE3914055A1 DE 3914055 A1 DE3914055 A1 DE 3914055A1 DE 3914055 A DE3914055 A DE 3914055A DE 3914055 A DE3914055 A DE 3914055A DE 3914055 A1 DE3914055 A1 DE 3914055A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- disc
- circuits
- circuit
- sides
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0688—Integrated circuits having a three-dimensional layout
- H01L27/0694—Integrated circuits having a three-dimensional layout comprising components formed on opposite sides of a semiconductor substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
Die Erfindung geht aus von einem Halbleiter-Bauteil gemäß
dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Eur Herstellung sogenannter Chips ist es bekannt, auf eine
Seite einer Siliziumscheibe durch mehrere aufeinanderfolgen
de technologische Vorgänge mit Masken, Belichtung, Dif
fundierung und dgl. jeweils eine Schaltung mit einer Viel
zahl von Halbleiterfunktionen aufzubringen, die dann in ei
ner geringen Oberflächentiefe der Siliziumscheibe realisiert
ist. Die Siliziumscheibe, die auf einer Seite eine Vielzahl
derartiger vorzugsweise gleicher Schaltungen trägt, wird an
schließend zwischen den einzelnen Schaltungen gebrochen, so
daß einzelne sogenannte Chips aus je einem Teil der gesamten
Siliziumscheibe mit der aufgebrachten Schaltung entstehen.
Dieses Chip wird mit der nicht mit der Schaltung versehenen
Seite auf eine Trägerplatte aufgebracht. Auf der Trägerplat
te vorgesehene Anschlüsse werden über dünne Drähte mit den
einzelnen Anschlüssen des Chip verbunden, nämlich "gebond
et".
Die Zahl der Halbleiter-Funktionen, die auf einer Flächenein
heit untergebracht werden kann, ist dabei durch Grenzen in
den Maßen der einzelnen Halbleiter und der technologischen
Prozesse begrenzt. Je nach der angewandten Technologie kön
nen auf einem mm2 mehrere Hundert oder mehrere Tausend Halb
leiterfunktionen realisiert werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Zahl der pro
Flächeneinheit realisierbaren Halbleiterfunktionen zu erhö
hen.
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 angegebene Erfin
dung gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind
in den Unteransprüchen angegeben.
Durch die erfindungsgemäße Lösung wird somit die Zahl der
pro Flächeneinheit realisierbaren Halbleiterfunktionen ver
doppelt. Vorzugsweise sind auf die beiden gegenüberliegenden
Seiten der Siliziumscheibe oder des Teils der Siliziumschei
be, die später ein Chip bildet, identische Schaltungen aufge
bracht. Es können auch unterschiedliche Schaltungen einander
gegenüberliegend auf eine Scheibe aufgebracht sein. Die bei
den gegenüberliegenden Schaltungen arbeiten vorzugsweise un
abhängig voneinander. Durch die übliche Dicke der Silizium
scheibe von etwa 0,4 mm ist eine ausreichende Entkopplung
der auf beiden Seiten vorgesehenen Schaltungen gewährlei
stet. Das erfindungsgemäße Bauteil ist allgemein zur Bildung
von Chips und integrierten Schaltungen geeignet, insbesonde
re zur Realisierung von logischen Schaltungen wie EPROMs,
RAMs und dgl. Anstelle der Siliziumscheibe kann auch eine
Scheibe aus einem anderen Halbleiter-Material verwendet wer
den, das für die Herstellung von Schaltungen mit Halbleiter-
Funktionen in der beschriebenen Art geeignet ist.
Die Erfindung wird anhand der Zeichnung erläutert. Darin zei
gen
Fig. 1 eine erfindungsgemäß ausgebildete
Siliziumscheibe und
Fig. 2 die Anbringung eines erfindungsgemäß
ausgebildeten Chips an einer Trägerplatte.
Fig. 1 zeigt eine Siliziumscheibe 1 mit einer Dicke
von etwa 0,4 mm. Auf der oberen Seite der Scheibe 1 ist eine
Vielzahl von identischen Schaltungen 2 a mit bekannten techno
logischen Verfahren gebildet. Die einzelnen Schaltungen 2 a
haben z.B. eine Abmessung von 10 × 10 mm. Entsprechend ist auf
der unteren Seite der Scheibe 1 eine Vielzahl von Schaltun
gen 2 b gebildet, die deckungsgleich den Schaltungen 2 a gegen
über liegen. Durch die Dicke der Scheibe 1 ist eine ausrei
chende Trennung und Entkopplung zwischen den Schaltungen 2 a
und 2 b gewährleistet. Die Scheibe 1 ist so groß, daß auf je
der Seite eine Vielzahl von mehreren Hundert derartigen
Schaltungen vorgesehen sein kann. Nachdem die Scheibe 1 mit
der Vielzahl von Schaltungen versehen ist, wird die Scheibe
an Schnittstellen 3, 4 geritzt und dann gebrochen, so daß
einzelne Chips 5 je mit einer Schaltung 2 a auf der Oberseite
und einer Schaltung 2 b auf der Unterseite entstehen.
In Fig. 2 ist ein Chip 5, das gemäß Fig. 1 hergestellt wur
de, in eine Öffnung einer Trägerplatte 6 eingesetzt und am
Rand mit dieser verklebt. Die Trägerplatte 6 trägt auf der
Oberseite Anschlüsse 8 a und auf der Unterseite Anschlüsse
8 b, die über Drähte 7 a und 7 b mit den entsprechenden An
schlüssen der Schaltung des Chip 5 verbunden, nämlich "ge
bondet" sind.
Jeweils ein Chip 5 kann auch innerhalb der Trägerplatte 6
rahmenförmig eingespannt sein. Die Anordnung nach Fig. 2 bil
det einen sogenannten integrierten Schaltkreis, z.B. eine
logische Schaltung in Form eines EPROM oder RAM.
Claims (5)
1. Halbleiter-Bauteil mit einer Siliziumscheibe, auf deren
Oberfläche eine Schaltung mit einer Vielzahl von Halb
leiter-Funktionen ausgebildet ist, dadurch gekennzeich
net, daß auf beide Seiten der Scheibe (1) eine Schal
tung (2 a, 2 b) aufgebracht ist.
2. Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
auf beide Seiten einer gegenüber einer Schaltung (2)
großen Scheibe (1) deckungsgleich gegenüberliegend je
eine Vielzahl von Schaltungen (2 a, 2 b) aufgebracht ist,
derart, daß durch Brechung der Scheibe (1) einzelne
Chips (5) mit zwei getrennten Schaltungen (2 a, 2 b) auf
beiden Seiten entstehen.
3. Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Chip (5) in eine Öffnung einer Trägerplatte (6) ein
gesetzt ist (Fig. 2).
4. Bauteil nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schaltungen (2 a, 2 b) auf beiden Seiten identisch
sind.
5. Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schaltungen logische Schaltungen wie EPROMs, RAMs
darstellen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3914055A DE3914055A1 (de) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Halbleiter-bauteil mit einer siliziumscheibe |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3914055A DE3914055A1 (de) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Halbleiter-bauteil mit einer siliziumscheibe |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3914055A1 true DE3914055A1 (de) | 1990-10-31 |
Family
ID=6379675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3914055A Withdrawn DE3914055A1 (de) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Halbleiter-bauteil mit einer siliziumscheibe |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3914055A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4438640C1 (de) * | 1994-10-28 | 1996-02-01 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung, die auf einem Substrat zu beiden Seiten aktive Schichten aufweist |
DE10065664A1 (de) * | 2000-12-29 | 2002-07-11 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Halbleiterspeicheranordnung |
DE10136304A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-20 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen einer integrierten Speicherschaltung und integrierte Speicherschaltung |
DE10233760A1 (de) * | 2002-07-25 | 2004-02-19 | Infineon Technologies Ag | Halbleiter-Schaltungsstruktur sowie Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Schaltungsstruktur |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1240789A (en) * | 1969-12-18 | 1971-07-28 | Standard Telephones Cables Ltd | Improvements in or relating to electrical equipment |
EP0052309A1 (de) * | 1980-11-14 | 1982-05-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes |
GB2144911A (en) * | 1983-08-06 | 1985-03-13 | British Petroleum Co Plc | Memory devices |
DE3739985A1 (de) * | 1986-11-27 | 1988-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | Is-karte |
-
1989
- 1989-04-28 DE DE3914055A patent/DE3914055A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1240789A (en) * | 1969-12-18 | 1971-07-28 | Standard Telephones Cables Ltd | Improvements in or relating to electrical equipment |
EP0052309A1 (de) * | 1980-11-14 | 1982-05-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes |
GB2144911A (en) * | 1983-08-06 | 1985-03-13 | British Petroleum Co Plc | Memory devices |
DE3739985A1 (de) * | 1986-11-27 | 1988-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | Is-karte |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4438640C1 (de) * | 1994-10-28 | 1996-02-01 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung, die auf einem Substrat zu beiden Seiten aktive Schichten aufweist |
DE10065664A1 (de) * | 2000-12-29 | 2002-07-11 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Halbleiterspeicheranordnung |
US6603164B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-08-05 | Infineon Technologies Ag | Integrated semiconductor memory configuration |
DE10065664B4 (de) * | 2000-12-29 | 2005-07-28 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Halbleiterspeicheranordnung |
DE10136304A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-20 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen einer integrierten Speicherschaltung und integrierte Speicherschaltung |
DE10136304C2 (de) * | 2001-07-26 | 2003-07-24 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen einer integrierten Speicherschaltung und integrierte Speicherschaltung |
US6720663B2 (en) | 2001-07-26 | 2004-04-13 | Infineon Technologies Ag | Method for manufacturing an integrated memory circuit and an integrated memory circuit |
DE10233760A1 (de) * | 2002-07-25 | 2004-02-19 | Infineon Technologies Ag | Halbleiter-Schaltungsstruktur sowie Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Schaltungsstruktur |
US6849893B2 (en) | 2002-07-25 | 2005-02-01 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor circuit structure and method for fabricating the semiconductor circuit structure |
DE10233760B4 (de) * | 2002-07-25 | 2007-05-03 | Infineon Technologies Ag | SRAM-Speicherzelle mit Älzgräben und deren Array-Anordnung |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2625383C2 (de) | Verbindungsträger zur Bildung der elektrischen Verbindungen zwischen Anschlußleitern eines Packungsrahmens und Kontaktierungsstellen mindestens einer innerhalb des Packungsrahmens gelegenen integrierten Schaltung und Verfahren zur Herstellung eines solchen Verbindungsträgers | |
DE69013254T2 (de) | Halbleiter-IC-Bauelement mit verbesserter Interkonnektionsstruktur. | |
DE10164800B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements mit mehreren übereinander gestapelten und miteinander kontaktierten Chips | |
EP0107061B1 (de) | Informationskarte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2758140C2 (de) | Modul mit einer Anzahl jeweils auf Halbleiterplättchen integrierter Schaltkreise | |
DE69501195T2 (de) | Hybride halbleiteranordnung | |
DE69223906T2 (de) | Verfahren zur Herstellung invertierter IC's und IC-Moduln mit einem solcher IC's | |
DE4128603A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE19835840B4 (de) | Herstellungsverfahren für einen Halbleiterchip | |
DE60215019T2 (de) | Trennung von integrierten optischen modulen und strukturen | |
DE2418813A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer vielzahl von halbleiterchips | |
DE69313062T2 (de) | Chip-Direktmontage | |
DE202011051190U1 (de) | Sensorbaustein | |
DE2451211A1 (de) | Dichte packung fuer integrierte schaltungen | |
DE10297785T5 (de) | Elektronikbaugruppe mit einer dichteren Kontaktanordnung, die eine Zuleitungsführung zu den Kontakten erlaubt | |
DE102004037817B4 (de) | Elektrisches Bauelement in Flip-Chip-Bauweise | |
DE202013102632U1 (de) | Sensorbaustein | |
DE3914055A1 (de) | Halbleiter-bauteil mit einer siliziumscheibe | |
DE10255289A1 (de) | Elektronisches Bauteil mit gestapelten Halbleiterchips in paralleler Anordnung und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69509032T2 (de) | Verbinder für ein Substrat mit einer elektronischen Schaltung | |
DE69020878T2 (de) | In Harz eingekapselte elektronische Gegenstände. | |
DE3619636A1 (de) | Gehaeuse fuer integrierte schaltkreise | |
DE102020200817B3 (de) | Montageverfahren für eine integrierte Halbleiter-Waver-Vorrichtung und dafür verwendbare Montagevorrichtung | |
DE4222402A1 (de) | Anordnung für die Mehrfachverdrahtung von Mulichipmodulen | |
DE102016224586A1 (de) | Halbleiter-Package-System und damit verbundene Verfahren |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |