DE3904032A1

DE3904032A1 - Elektronenmikroskop zur untersuchung von festkoerperoberflaechen

Info

Publication number: DE3904032A1
Application number: DE3904032A
Authority: DE
Inventors: Helmut Dipl Phys Dr Liebl; Bertold Dipl Phys Senftinger
Original assignee: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
Current assignee: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
Priority date: 1989-02-10
Filing date: 1989-02-10
Publication date: 1990-08-16
Also published as: GB2230643B; GB2230643A; JPH063726B2; GB9003080D0; JPH02242555A; US4978855A; FR2644291A1; GB9001717D0; DE3904032C2

Description

Die vorliegende Erfindung geht aus von einem Elektronenmikroskop mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Anspruchs 1, die aus der Veröffentlichung von W. Telieps und E. Bauer, Ultramicroscopy 17 (1985) S. 57 bekannt sind.

Bei dem gattungsgemäßen, bekannten Elektronenmikroskop wird ein von einer Elektronenquelle gelieferter Elektronenstrahl auf 15 bis 20 keV Energie beschleunigt, durch ein Magnetfeld umgelenkt und mittels einer Elektronenlinse in die hintere Brennebene einer Emissionslinse fokussiert. Im elektrischen Feld der Emissionslinse wird der Elektronenstrahl gebremst, so daß er annähernd als Parallelstrahl mit niedriger Energie, die auf Werte von einigen bis zu einigen 100 Elektronenvolt einstellbar ist, auf eine zu untersuchende Probenoberfläche trifft. Die von den Atomen an der Probenoberfläche elastisch reflektierten Elektronen werden durch das Feld der Emissionslinse wieder auf die Primärenergie beschleunigt, gleichzeitig inter ferieren sie infolge ihrer Wellennatur miteinander, so daß in der hinteren Brennebene der Emissionslinse ein Beugungsmuster (LEED = Low Energy Electron Diffraction) entsteht, welches die Gitterordnung der Oberflächenatome repräsentiert. Im Magnetfeld wird der rücklaufende reflektierte Elektronenstrahl vom einlaufenden Primärstrahl getrennt. Durch eine nachfolgende Elektronen-Optik kann mittels des reflektierten Elektronen strahles auf einem Leuchtschirm entweder das Beugungsmuster vergrößert sichtbar gemacht werden oder aber die Probenoberfläche selbst sehr stark vergrößert abgebildet werden. Im letzteren Falle werden die Elektronen eines einzigen LEED-Reflexes ausgeblendet, so daß das auf dem Leuchtschirm entstehende Bild der Probenoberfläche die örtliche Verteilung der jeweiligen Kristallstruktur wiedergibt.

Die in den Ansprüchen gekennzeichnete und im folgenden erläuterte Erfindung löst die Aufgabe, die Abbildungsschärfe eines gattungs gemäßen Elektronenmikroskops zu verbessern und seine Anwendungs möglichkeiten zu erweitern.

Bei den bekannten gattungsgemäßen Elektronenmikroskop bewirkt das Magnetfeld, das zur Trennung von Primär- und Sekundärstrahl erforderlich ist, nicht nur die gewünschte Ablenkung des Primärstrahles, sondern auch eine Energiedispersion, das heißt Elektronen mit Energien, die etwas niedriger bzw. höher als die mittlere Energie der Primärstrahlelektronen ist, werden etwas stärker bzw. weniger stark abgelenkt. Bei dem bekannten Elektronenmikroskop ist daher die Abbildung der Elektronenquelle in die Brennebene der Emissionslinse nicht scharf, sondern weist eine laterale Energiedispersion auf, selbst wenn die Abbildung durch die Elektronenlinse aberrations frei ist, da die von der Quelle gelieferten Elektronen eine natürliche Energieunschärfe aufweisen. Die Energieunschärfe beträgt bei Feldemissionsquellen ca. 0,3 eV und bei thermischen Elektronenquellen ca. 0,4 bis 0,6 eV. Zwischen der Schärfe des Primärstrahlfokus in der Brennebene der Emissionslinse und der Schärfe der LEED-Reflexe in derselben Ebene besteht ein 1 : 1 Zusammenhang, d. h. daß ein unscharfer Primärstrahlfokus entsprechend unscharfe LEED-Reflexe zur Folge hat.

Ein ähnliches Problem besteht auch beim reflektierten Elektronen strahl. Die Primärelektronen können bei der Reflexion Energie verluste erleiden und sie lösen auch Sekundärelektronen aus. Beide Effekte resultieren in Elektronen, welche im Strahlen gang der elastisch reflektierten "Nutz"-Elektronen mitlaufen, aber geringere Energie haben als diese. Sie können daher, wenn ihr Anteil merklich ist, den Kontrast und die Schärfe sowohl des LEED-Musters als auch die des Oberflächenbildes verschlechtern.

Diese Probleme werden erfindungsgemäß dadurch vermieden, daß dem Magnetfeld sowohl für den Primärstrahl als auch für den Sekundärstrahl jeweils ein energiedispersives elektro statisches Ablenkfeld zugeordnet ist. Das elektrostatische Ablenkfeld im Primärstrahl lenkt letzteren in der entgegen gesetzten Richtung ab wie das Magnetfeld und die geometrischen und elektrischen Daten des elektrostatischen Ablenkfeldes sind so gewählt, daß die Energiedispersion des Primärstrahls in der Brennebene der Emissionslinse zu null wird. Das Bild der Elektronenquelle in der Brennebene und damit auch die LEED-Reflexe werden daher schärfer als im bekannten Falle.

In entsprechender Weise werden die schädlichen Elektronen aus dem Sekundärstrahl durch ein dispersives Energiefilter eliminiert, welches nur einen Energiebereich von z. B. weniger als 1 eV passieren läßt, ohne die elektronenoptische Abbildung zu beeinträchtigen.

Eine zusätzliche Verbesserung betrifft die Emissionslinse. Die erreichbare Lateralauflösung hängt wesentlich ab von dem durch das Beschleunigungsfeld vor der ebenen Probenoberfläche verursachten Bildfehler. Dieser Bildfehler ist umgekehrt proportional zur herrschenden Feldstärke (siehe H. Liebl, Optik 80 (1988) 4). Bei dem vorliegenden Elektronenmikroskop ist die Emissionslinse vorzugsweise so konstruiert, daß die Feldstärke vor der Probenoberfläche und damit auch die Lateral auflösung wesentlich höher sind als bei dem bekannten Elektronen mikroskop.

Eine weitere Verbesserung ist die konstruktive Integration eines optischen Spiegelmikroskopobjektivs ("Schwarzschild-Optik") in die Emissionslinse. Dadurch ist erstens die mikroskopische Betrachtung der Probenoberfläche in situ möglich, zweitens kann durch das Spiegelobjektiv UV-Licht in sehr effizienter Weise auf die Probenoberfläche gestrahlt werden, so daß das vorliegende Elektronenmikroskop auch zum Zwecke der Photo emissionsmikroskopie verwendet werden kann.

Im folgenden wird die Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert.

Es zeigen:

Fig. 1 bestehend aus den Fig. 1a und 1b schematisch ein Elektronenmikroskop gemäß einer bevorzugten Ausführungs form der Erfindung;

Fig. 2a eine schematische Darstellung eines Teiles eines Primärstrahlenganges des Elektronenmikroskops gemäß Fig. 1, der ein elektrostatisches und ein elektro magnetisches Ablenkfeld enthält, und Gleichungen zur Erläuterung der Energiefokussierung im Primärstrahlengang;

Fig. 2b eine schematische Darstellung des elektrostatischen Ablenkfeldes und die zugehörigen Gleichungen;

Fig. 2c eine schematische Darstellung des magnetischen Ablenk feldes, und die zugehörigen Gleichungen;

Fig. 3a und 3b einen Axialschnitt bzw. eine Draufsicht einer elektrostatischen Elektronenlinse;

Fig. 4 einen Axialschnitt eines an eine zu untersuchende Probe angrenzenden Teiles des Elektronenmikroskops gemäß Fig. 1;

Fig. 5 einen Axialschnitt einer Abbremslinse; und

Fig. 6 einen Axialschnitt einer Beschleunigungslinse.

Das in Fig. 1 schematisch dargestellte Elektronenmikroskop ist in einem nicht dargestellten Vakuumgefäß angeordnet und enthält eine Elektronenstrahlquelle (10), die nur schematisch dargestellt ist und in bekannter Weise ausgebildet sein kann. Die Elektronenstrahlquelle (10) liefert einen Primärstrahl (12) mit einer Energie von etwa 15 bis 20 keV. Der Primärstrahl (12) durchläuft der Reihe nach eine Aperturblende (14), eine Elektronenlinse (16), ein zur Energiefokussierung dienendes elektrostatisches Ablenkfeld, das durch zwei gebogene Konden satorplatten erzeugt wird, ein magnetisches Ablenkfeld (20), einen Stigmator (24), ein lichtoptisches System (22), das noch genauer erläutert werden wird, und eine Emissionslinse (26) zur Oberfläche einer Probe (28), die auf einer Proben halterung (29) gehaltert ist.

Die von der Oberfläche der Probe zurücklaufenden Elektronen bilden einen Sekundärstrahl (30), der der Reihe nach die Emissionslinse (26), das lichtoptische System (22) und den Stigmator (24) auf dem gleichen Wege wie der Primärstrahl zum Magnetfeld (20) durchläuft, wo er durch die entgegengesetzt gerichtete Ablenkung vom Primärstrahl getrennt wird. Der Sekundärstrahl durchläuft dann eine 5 : 1 Abbremslinse (32), die die Energie des Sekundärstrahls um den Faktor 5 verringert, anschließend eine Kontrastblende (34), ein Energiefilter (36), eine 1 : 5 Beschleunigungslinse (38), die den Sekundärstrahl um den Faktor 5 wieder beschleunigt, zwei Projektionslinsen (40 a, 40 b), die ein Projektionsobjektiv (42) bilden. In der Bildebene des Projektionsobjektivs ist die Eintrittsebene eines Detektorsystems (44) angeordnet, welches zwei Kanal platten-Sekundärelektronenvervielfacher, einen Lumineszenzschirm, ein faseroptisches Fenster oder irgendein anderes bekanntes System zur Erfassung der in der Bildebene des Projektions objektivs erzeugten Elektronenverteilung enthält.

Das elektrostatische Ablenkfeld (18) wird durch einen sphärischen Kondensator erzeugt und lenkt den Primärstrahl (12) in der entgegengesetzten Richtung ab, wie das magnetische Ablenkfeld (20), und es ist bezüglich des magnetischen Ablenkfeldes so bemessen, daß eine Energiefokussierung der Elektronen des Primärstrahls in der Eintrittsebene der Emissionslinse (26) stattfindet. Die Bedingung für die Energiefokussierung lautet:

(D/L′′) = D/f _m ) - 1 + (ν/λ).

Die Ableitung dieser Gleichung ist aus den Fig. 2a bis 2c ersichtlich. Es bedeuten:

U
= Mittlere Beschleunigungsspannung der Primärstrahlelektronen;
Δ U	= Abweichung von U
X	= x-Koordinate bezogen auf das Zentrum des betreffenden Feldes
Y	= y-Koordinate bezogen auf das Zentrum des betreffenden Feldes
α	= Eintrittswinkel
δ	= Relative Energieunschärfe der Elektronen
λ	= Dispersionsfaktor des elektrischen Feldes
ν	= Dispersionsfaktor des magnetischen Feldes
D	= Mitte-Mitte-Abstand elektrisches Feld-magnetisches Feld
L′	= Objektweite;
L′′	= Bildweite
Φ	= Sektorwinkel
f	= Brennweite.

Die Indizes "e" bzw. "m", die in der obigen Aufstellung weg gelassen wurden, bedeuten, daß sich die betreffende Größe auf das elektrische bzw. das magnetische Ablenkfeld bezieht.

Für Φ _m = 20°; r _m = 12 cm; L′′ = 13,5 cm ergibt sich als Lösung der obigen Gleichung D = 5 cm; Φ _e = 8°.

Die Elektronenlinse (16) bildet die Elektronenquelle in die eintrittsseitige Brennebene der Emissionslinse (26) ab. Die Gegenstandsebene der Emissionslinse (26) fällt im wesentlichen mit der austrittsseitigen Brennebene dieser Linse zusammen. Der Stigmator (24) erzeugt ein elektrostatisches Oktopolfeld und dient in bekannter Weise zur Kompensation des Astigmatismus des Sekundärstrahls.

Das Energiefilter (36) enthält ein energiedispersives elektro statisches Ablenkfeld (46), das durch einen sphärischen Konden sator mit zwei gebogenen Kondensatorplatten erzeugt wird, und eine Energieblende (48), die zusammen einen Energieanalysator zur Selektion des gewünschten, z. B. 1 eV breiten Energie bereiches bilden.

Das lichtoptische System (22) enthält als erstes ein Schwarz schild-Spiegelobjektiv (50), einen aus dem Strahlengang heraus klappbaren Umlenkspiegel (52), der ebenso wie das Spiegelobjektiv eine zentrale Durchbrechung für die Elektronenstrahlen (12, 30) aufweist, und ein Okular (54). Das optische System enthält ferner eine aktinische Strahlungsquelle (56) z. B. eine Duo plasmatron-UV-Strahlungsquelle (siehe z. B. J.A.R. Samson und Helmut Liebl, Rev. Sci. Instr., 33, No. 12, 1340-1343, Dec. 1962) in Kombination mit einer Kollimator-Linse, die ein kollimiertes UV-Strahlungsbündel (58) liefert, welches durch einen zweiten, zentral durchbohrten Ablenkspiegel (60) in den gemeinsamen Teil der Strahlengänge der Elektronenstrahlen (12, 30) eingespiegelt werden kann, so daß es, wenn der Spiegel (52) aus dem Strahlengang herausgeklappt ist, auf die Oberfläche der Probe (28) fällt und dort Photoelektronen auszulösen vermag. Das Mikroskop (50, 54) erlaubt andererseits bei in den Strahlengang eingeklapptem Spiegel (52) eine optische Betrachtung und Justierung der Oberfläche der Probe (28). Es sind ferner noch eine weitere Projektionslinse (62) und ein Lumineszenzschirm (64) oder irgendein anderer Elektronen bildempfänger vorgesehen, die in einem weiteren Stahlengang (66) liegen, der eine geradlinige Fortsetzung des gemeinsamen Teiles der Stahlengänge der Elektronenstrahlen (12, 30) bildet. Wenn das Magnetfeld (20) abgeschaltet ist und durch die UV-Strahlung von der UV-Strahlungsquelle (56) Photoelektronen an der Oberfläche der Probe (28) ausgelöst werden, kann ein Photoelektronenbild der Oberfläche der Probe (28) mittels der Projektionslinse (62) in Kombination mit der Emissionslinse (26) auf dem Lumineszenzschirm (64) mit mäßiger Vergrößerung (z. B. 400x) erzeugt werden.

Die Elektronenlinsen (16, 40 a, 40 b, 62) sind bei dem beschrie benen Ausführungsbeispiel elektrostatische Einzellinsen. Eine typische, bevorzugte Konstruktion ist in Fig. 3a und 3b dargestellt. Sie enthält ein becherförmiges Metallteil (410), dessen ebener Boden ein mittiges Loch aufweist. In das offene Ende des Bechers ist eine blendenartige Scheibe (414) im Preßsitz eingesetzt. Im Inneren des Bechers ist eine etwa hohlzylinderförmige Mittelelektrode (416), die außen einen Ringwulst hat, durch sechs isolierende Kugeln (418) aus Saphir oder dergl. zwischen Boden und Scheibe (414) gehaltert. Die Mittelelektrode hat einen elektrischen Anschluß (420), der durch ein Loch in der Wand des Metallteiles (410) herausgeführt ist.

In Fig. 4 ist der Teil des Elektronenmikroskops genauer darge stellt, der den Spiegel (52), den Stigmator (24), das Schwarz schild-Spiegelobjektiv (50) und die Emissionslinse (26) enthält.

Das Schwarzschild-Objektiv (50) enthält einen sphärischen Konkavspiegel (50 a) und einen sphärischen Konvexspiegel (50 b). Die Emissionslinse (26) enthält eine Beschleunigungselektrode (26 a), die annähernd auf Erdpotential liegt und zur Beschleuni gung der Elektronen von der auf ca. -15 kV liegenden Probenober fläche dient. Die Emissionslinse (26) enthält ferner eine auf Erdpotential liegende Endelektrode (26 b), die einen becher förmigen äußeren Teil und einen hohlzylinderförmigen inneren Teil aufweist. Der äußere und der innere Teil sind durch einen konischen Teil verbunden, der Durchbrechungen (26 c) für den Strahlengang des Schwarzschild-Objektivs aufweist. Zwischen den Elektroden (26 a) und (26 b) ist eine auf etwa -15 kV liegende, trichterförmige Mittelelektrode (26 d) durch zwei Sätze von je drei Saphirkugeln (26 e) gehaltert. Bezüglich der Emissionslinse wird auf die Veröffentlichung von H. Liebl in Optik 80, No. 1 (1988) 4-8 verwiesen.

Wie Fig. 5 zeigt, enthält die Abbremslinse (32) zwei rohrförmige Elektroden (32 a, 32 b), die an einem Isoliermaterialstab (32 c) gehaltert sind. Das Linsenfeld entsteht zwischen den einander zugewandten Enden der Elektroden (32 a, 32 b). Die Elektrode (32 b) ist relativ lang und enthält eine verschiebbare Halterung (48) für eine Platte mit mehreren schlitzförmigen Öffnungen, die wahlweise in den Sekundärstrahlengang (30) eingeschaltet werden können und die Kontrastblende (34) bilden. Die in Fig. 6 dargestellte Beschleunigungslinse (38) enthält drei rohrförmige Elektroden (38 a, 38 b, 38 c). Die eigentliche Be schleunigungslinse wird durch das elektrische Feld zwischen der mittleren Elektrode (38 b) und den benachbarten Enden der Elektroden (38 a, 38 c) gebildet. Die Elektrode (38 a) ist relativ lang und enthält eine Halterung für die Energieblende (48), die ähnlich ausgebildet sein kann, wie die Kontrastblende (32).

Die Energieauflösung des elektrostatischen Sektorfeldes (46) bei symmetrischem Strahlengang (Ein- und Austrittsspalt in gleichen Abständen zum Sektorfeld) ergibt sich in bekannter Weise zu

Δ U = Us/2r _e,

wobei U die Passierenergie, s die Weite der Ein- und Austritts spalte (die durch die Kontrastblende (34) bzw. die Energieblende (48) gebildet werden) und r _e den mittleren Sektorfeldradius bedeuten.

Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel sind die Passierenergie U = 3 keV), die Spaltweiten s = 20 µm und der Sektorfeldradius r _e = 36 mm. Mit diesen Werten ergibt sich eine Energieauflösung von Δ U = 0,83 eV.

Um zu vermeiden, daß durch die Ablenkung in den beiden Ablenkfel dern, dem Magnetfeld (20) und dem elektrischen Feld (46), die Bildqualität leidet, ist das bekannte Prinzip des "verfloch tenen Strahlengangs" angewandt: Die Emissionslinse (26) bildet die Probenoberfläche ab in das Ablenkzentrum des Magnetfeldes (20), die Abbremslinse (32) bildet dieses erste Bild ab in das Ablenkzentrum des Ablenkfeldes (46) und die Beschleunigungs linse (38) bildet dieses zweite Bild ab in die Eintrittsebene der Projektionsoptik (42). Auf diese Weise werden durch die beiden Ablenkfelder keine Bildfehler 1. und 2. Ordnung dem Bild der Probenoberfläche aufgeprägt.

Gleichzeitig wird durch das Magnetfeld (20) und die Abbremslin se (32) die Brennebene der Emissionslinse mit dem LEED-Muster abgebildet in die Ebene der Kontrastblende (34) und diese ihrerseits durch das elektrische Ablenkfeld (46) in die Ebene der Energieblende (48).

Soll auf dem Detektor (44) nicht das Bild der Probenoberfläche, sondern das LEED-Muster sichtbar gemacht werden, dann wird die Beschleunigungslinse (38), die die drei Elektroden (38 a, 38 b, 38 c; Fig. 6) enthält, so eingestellt, daß sie nicht das Ablenkzentrum von (46), sondern die Energieblende (48) in die Eintrittsebene der Projektionsoptik (42) abbildet.

Die Elektronenlinse (16) kann ohne Beeinträchtigung der Energie fokussierung weggelassenwerden, dann sollte aber die Richtungs fokussierung des Primärstrahles durch eine andere elektronen optische Anordnung bewirkt werden, z. B. durch größere Sektorwinkel der Ablenkfelder, die ja auch Linsenwirkung haben.

Claims

1. Elektronenmikroskop mit

a) einem Primärstrahlengang (12) längs dem der Reihe nach
b) eine Elektronenstrahlquelle (10),
c) ein magnetisches Ablenkfeld (20) und
d) eine Elektronenlinse (26), die eine Gegenstandsebene hat, angeordnet sind, ferner mit
e) einer Vorrichtung (29) zur Halterung der Oberfläche einer Probe (28) im wesentlichen in der Gegenstandsebene der Elektronenlinse;
f) einem Sekundärstrahlengang (30) längs dem der Reihe nach die Elektronenlinse (26), das magnetische Ablenkfeld (20),
g) eine abbildende elektronenoptische Einrichtung (42) und
h) eine Elektronen-Nachweiseinrichtung (44) angeordnet sind, gekennzeichnet durch
i) ein energieselektives elektrostatisches Ablenkfeld (18), das im Primärstrahlengang (12) vor dem magnetischen Ablenkfeld (20) angeordnet und so ausgebildet ist, daß es den Primär strahl in einer Richtung ablenkt, die der Ablenkrichtung des magnetischen Ablenkfeldes (20) entgegengesetzt ist und die durch das magnetische Ablenkfeld bewirkte Energie dispersion kompensiert.

2. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenlinse (26) eine Emissionslinse ist.

3. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß im Primärstrahlengang eine elektronenoptische Anordnung zur Richtungsfokussierung angeordnet ist.

4. Elektronenmikroskop nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die elektronenoptische Anordnung zur Richtungsfokussierung eine zweite Elektronenlinse (16) enthält.

5. Elektronenmikroskop nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das energieselektive elektrostatische Ablenkfeld (18) zwischen der zweiten Elektronenlinse (16) und dem magnetischen Ablenkfeld (20) angeordnet ist und daß die zweite Elektronenlinse (16) die Elektronenstrahlquelle (10) in die eintrittsseitige Brennebene der ersten Elektronenlinse (26) abbildet.

6. Elektronenmikroskop nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Aperturblende (14) im Primärstrahlen gang (12) zwischen der Elektronenstrahlquelle (10) und der zweiten Elektronenlinse (16) angeordnet ist.

7. Elektronenmikroskop nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das energieselektive Ablenkfeld (46) im Sekundärstrahlengang (30) zwischen dem magnetischen Ablenkfeld (20) und der abbildenden elektronenoptischen Ein richtung (42) angeordnet ist.

8. Elektronenmikroskop nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß dem energieselektiven elektrostatischen Ablenkfeld (46) im Sekundärstrahlengang (30) eine die Elektronen im Sekundär strahlengang abbremsende Einrichtung (32) vorgeschaltet und eine die Elektronen im Sekundärstrahlengang beschleunigende Einrichtung (38) nachgeschaltet ist.

9. Elektronenmikroskop nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekenn zeichnet, daß eine Energieblende (48) im Sekundärstrahlengang hinter dem energieselektiven elektrostatischen Ablenkfeld (46) angeordnet ist.

10. Elektronenmikroskop nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die abbildenden elektronenoptische Einrichtung (42) im Sekundärstrahlengang ein Projektionsobjektiv (40 a, 40 b) enthält.

11. Elektronenmikroskop nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Quelle (56) für ein Bündel (58) elektromagnetischer Strahlung einer Energie, die Photoelektronen an der zu untersuchenden Oberfläche der Probe (28) auszulösen vermag und eine lichtoptische Vorrichtung (60) zum Einspiegeln des Strahlenbündels (58) in einen gemeinsamen Teil des Primär- und Sekundärstrahlenganges.

12. Elektronenmikroskop nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem magnetischen Ablenkfeld (20) und der ersten Elektronenlinse (26) ein Objektivsystem (50) eines lichtoptischen Mikroskops zur lichtoptischen Untersuchung der Oberfläche der Probe angeordnet ist.

13. Elektronenmikroskop nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Objektivsystem (50) ein Schwarzschild-Spiegelobjektiv ist.

14. Elektronenmikroskop nach Anspruch 12 oder 13, gekennzeichnet durch einen Spiegel (52), der im Strahlengang des lichtoptischen Mikroskops zwischen dem Objektivsystem (50) und einem Okular (52) angeordnet ist und ein Loch zum Durchtritt der Elektronen strahlengänge aufweist.

15. Elektronenmikroskop nach Anspruch 14, dadurch gekennzeich net, daß der Spiegel (52) zur wahlweisen Entfernung aus dem gemeinsamen Teil des Primär- und Sekundärstrahlenganges beweg lich gelagert ist.

16. Elektronenmikroskop nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen Abbildungsstrahlengang (62), der eine Elektronenoptik (62) und einen Elektronenbildempfänger, wie einen Lumineszenzschirm (64) zur Abbildung der Probenober fläche mit relativ geringer Vergrößerung enthält.