JPH02242555A - 電子顕微鏡 - Google Patents

電子顕微鏡

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JPH02242555A
JPH02242555A JP2031281A JP3128190A JPH02242555A JP H02242555 A JPH02242555 A JP H02242555A JP 2031281 A JP2031281 A JP 2031281A JP 3128190 A JP3128190 A JP 3128190A JP H02242555 A JPH02242555 A JP H02242555A
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electron
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deflection field
energy
electron microscope
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ヘルムート・リーブル
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/29Reflection microscopes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/248Components associated with the control of the tube
    • H01J2237/2482Optical means

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  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] この発明は、刊行物 W、Te1icps and E
、Bauer。
Ultramicroscoppy 17 (1985
) p、57.により既知の態様を有する電子顕微鏡の
改良に関するものである。
[従来の技術] 電子源によって供給される電子ビームが、15〜20 
KeVのエネルギーまで加速され、磁場によって偏向さ
れ、カソードレンズの後焦点面に設けられた電子レンズ
によって収束される電子顕微鏡か知られている。カソー
ドレンズの電場で、電子ビームは減速され、低いエネル
ギーを有する(数百evに調整された)平行ビームとし
て71111定試料表面に入射する。試料表面の原子か
ら弾力的に反射された電子は、前記カソードレンズの電
場によって、最初のエネルギーになるまで再び加速され
る。
同時にそれらの自然波のために干渉し、その結果カソー
ドレンズの後焦点面に、表面原子の格子配列による回折
縞(LEED−低エネルギー電子回折)か生じる。磁場
中において反射されて戻ってきた電子ビームは、最初の
電子ビームから分けられている。後述する電子光学装置
によって、拡大された回折縞、あるいは超拡大された試
料表面のいずれか一方をディスプレイスクリーンで見る
ことが出来る。後者の場合、単一のLEED反射からの
電子は選択され、ディスプレイスクリーン生しる像は、
適切な結晶構造の局部分布を再生する。
[発明が解決しようとする課題、課題を解決するための
手段、作用] この発明の目的は、クレームにおいて定義され、以下に
説明されているように、従来の電子顕微鏡の像の鮮明さ
を改良するという問題を解決するものである。
従来公知の電r−顕微鏡においては、第1の光路と第2
の光路を分けることを必要とする磁場は、第1ビームの
必要とされる偏向の影響たけでなくエネルギー分散の影
響までも受ける。これは、幾らか強く偏向された第1ビ
ームの電子のエネルギーより幾らか高いか低いエネルギ
ーを有する電子を意味する。公知の電子顕微鏡において
、カソードレンズの焦点面にある電子源の像は、たとえ
収差のない電子レンズを通過しても、鮮明でなく横への
エネルギー分散が生じる。なお、電子源によって供給さ
れる電子は、通常のエネルギー幅を有する。エネルギー
幅は、電界放射源の約0.3eVと熱電子源の約0.4
〜0.5eVの総計である。
カソードレンズの焦点面の第1光ビーム焦点の不鮮明さ
と同一焦点面のLEED反射の不鮮明さとの関係は、]
:1である。すなわち、不鮮明な第1光ビーム焦点は、
不鮮明なLEED反射に相当する結果となる。
反射された電子ビームについても同様の問題がある。第
1の電子は、反射の際エネルギー損失し、第2の電子を
発生することができる。その結果、生じた電子は、光路
において弾性的に反射された「使用できる」電子に付随
するが、エネルギーはこれらか有していたものより減る
。もしそれらの比率が重大であれば、LEED縞および
表面の像のコントラスj・と鮮明さが悪くなる。
上述した問題点は、この発明によって解決することがで
きる。好ましくは、エネルギー分散静電回折場において
、第1光ビームと第2光ビームとの両方か磁場と」(同
していれば良い。
第1光ビームの静電回折場は、遅れて磁場方向と反対側
に回IJ7シ、静電回折場の幾何学および電気に関する
パラメーターは、カソードレンズの焦点面の第1光ビー
ムのエネルギー分散かOになるまで選択される。焦点面
の電子源の像およびLEED反射は、これまでの場合よ
りもより鮮明となる。これに対応して不要な電子は、分
散エネルギーフィルターによって第2光ビームから排除
される。このフィルターは例えば1.eV以下のエネル
ギー幅を通過させ、電子光学の結像を損なうことのない
ようにしている。
加えて、カソードレンズについても改良がある。
横方向の解像度は、平面な試料表面の前方の加速場によ
って引き起こされるイメージエラーに本質的に依存して
いる。このイメージエラーは、場の強度に反比例してい
る(H,Ijcbl、f)ptjk 80(198g)
4参照)。この発明の電子顕微鏡に用いられるカソード
レンズは、試料表面の前の場の強度および横方向への解
像度が、従来の電子顕微鏡よりも実質的に高くなるよう
に構成されることが望ましい。
さらに、カソードレンズと光学ミラー顕微鏡対物レンズ
とを一体的に構成するように改良する。
こうすることによってまず第1に試料表面の顕微鏡観察
を可能にし、第2にU■ライトを非常に効率よく、ミラ
一対物レンズを介して試料表面に照射することができ、
したがって、この電子顕微鏡は、フォトエミッション(
photo−enlission)顕微鏡の目的として
も使用することができる。
[実施例、発明の効果] 第1図は電子顕微鏡を概略的に示した図であり、この電
子顕微鏡は、真空容器内(図示せず)に配置されており
、電子ビーム源10を有している。
この電子ビーム源10は、単に概略的に示されているだ
けであり、通常の方法によって形成され得る。電子ビー
ム源10は、はぼ15〜20cVのエネルギーの第1ビ
ーム12を発生ずる。この第1ビーム12はアパーチャ
ストップ14、電子レンズ16.2つのカーブしたコン
デンザープレ−1・によって形成されたエネルギー収束
を行う静電偏向場]8、第1ビームの光路をあらかじめ
定められた方に一定角Φをもって偏向する(曲げる)磁
界偏向場20、ステイグメーター(stigmator
)24、後述する光学システム22、そして、カッドレ
ンズ26を連続して通過し、試料固定装置29によって
固定された試料28の表面に向かう。
電子は、試料の表面から反射して第2ビーム30を形成
する。この第2ビーム30は、カソードレンズ26、第
1ビームと同一経路の光学システム22とステイグメー
ター(stigmator) 24、第1ビームと逆方
向に偏向させ、第1ビームと分する磁界偏向場20を連
続して通過する。第2ビーム30はそれから、第2ビー
ム30のエネルギーを減する5・1減速レンズ32、コ
ントラストストップ34、エネルギーフィルター36.
1:5加速レンズ38(第2ビームは元の速度まで加速
される)、投影対物レンズ42を形成する2つの投影レ
ンズ40a、40bを連続して通過する。
投影対物レンズの像面には、検出器44の入力平面か配
置されている。この検出器44は、2枚のチャンネル仮
、第2電子増信管、ルミネッセンススクリーン、光フア
イバー窓あるいは対物レンズの像面に発生する電子分布
を検出する公知の装置1、O 等を含んでいる。
静電偏向場]8は、球面コンデンサーによって構成され
ており、磁界偏向場20とは反対方向に第1ビームを偏
向し、第1ビーム中の電子のエネルギーフォーカシング
をカソードレンズ26の後焦点面に向けるように磁界偏
向場とあらかじめ関連している。
エネルギーフォーカシングの状態は次式で表される。
(D/L”  )  =  (D/ f m  )  
−1+  (υ/ λ)この方程式は第2A図乃至第2
C図によって導かれる。これらの式においてそれぞれの
文字は以下の内容を表す。
U:第1ビーム電子の平均加速電圧 ΔU:Uの偏差 X:X座標の関連基の中心 Y:Y座標の関連基の中心 α:入射角 δ:主電子相対的エネルギー分散量 λ:電場の分散係数 ] 1 υ:磁場の分散係数 り、電場の中心と磁場の中心との間の距離L′ :体物
距離 L゛ :像距離 Φ:扇形角 f:焦点距離 r:偏向ビームの曲率半径 」二連の説明では削除されている指数のeとmは、それ
ぞれ電場と磁場について表している。
ここで0m−20°  r、−1,2cm5L” =1
3゜5 amの場合、上述の方程式を解決するためにD
=5cm、(1)、=8°が与えられる。
電子レンズ]6は、カソードレンズ26の後焦点面の電
子源を映す。カソードレンズ26の物体面は、このレン
ズの射出側焦点面に実質上一致する。ステイグメーター
24は、静電オクタポール場を作り出し、第2ビームの
非点収差を補償する通常の方法を提供する。
エネルギーフィルター36は、2枚のカーブした球面コ
ンデンサーによって形成されるエネルギ一分散電界偏向
場46と、要求されるエネルギ幅(例えば1.eV)の
選択をするエネルギー分析器を形成するエネルギースト
ップ48とを含む。
光学システム22は、順にシュワルツシルト(Schw
arzschild)鏡対物しンス50、電子ビーム1
2.30およびアイピース54のための中央アパーチャ
を備えた鏡対物レンズのような光路を変えることのでき
るm52、を含む。光学システム22はさらに、化学ビ
ーム(例えばデュオプラズマトロンIJV(例えば、J
、A、+?、 Samson andHclmut I
jebl、Rev、Scj、 1nstr、、33.N
o、I2,13401343、Dec、]9G2参照)
)の放射ビーム源56と中央か開口し光路を変えるため
の鏡60とを含む。
前記放射ビーム源56は、規準され電子ビーム12.3
0の光路の共通部分で反射されることの出来るUV放射
のビーム58を与えるコリメーターレンズと共同する。
その結果、鏡52が光路から外れていて、フォトエレク
トロンが発生しているとき試料28の表面上にビーム5
8を照射することができる。他方、鏡52が揺動してい
る場合マイクロスコープ50.54は、光学観測と試料
28の表面の位置合わせを可能にする。電子ビーム12
.30の光路の共通部分の延長線上に形成された光路6
6には、さらに投影レンズ62とルミネッセンススクリ
ーン64あるいは電子像受容体が配置されている。磁場
20が解除され、Uv源56からのUV放射によってフ
ォトエレクトロンが試料28の表面から発生していると
き、中間倍率(例えば400倍)である試料28の表面
のフォトエレクトロン像は、カソードレンズ26と共同
する投影レンズ62によって、ルミネッセンススクリー
ン64に形成することができる。
この実施例では電子レンズ16,40a。
40bは、静電アインゼル(einzcl) レンズで
ある。第3a図及び第3b図に典型的でより好ましい構
造が示されている。このレンズは、カップ型のメタル部
分410を含んでおり、その底平部分は中央口412を
有している。カップの開口側には、ストップライクディ
スク4]4が圧接されている。カップの内部には、はぼ
中空円筒状に形成コ4 された中央電極416か位置している。底平部分とディ
スク414との間には、外環ビーズ状に6つの独立した
ザファイア等のボール418が保持されている。中央電
極は、メタル部分410の壁部にある穴から外部に通じ
る電気接続部分420を具備している。
第4図には、電子顕微鏡の一部分がより詳細に示されて
おり、鏡52、ステイグメーター24、シュワルツンル
ト鏡対物レンズ50、カソードレンズ26か示されてい
る。シュワルツシルト鏡対物レンズ50は、球面状の凹
面鏡50aと球面状の凸面鏡5.Obとを含んでいる。
カソードレンズ26は、はぼ地電圧に設定され、試料表
面からの電子を約−15Kvに加速する加速電極26a
を含んでいる。カソードレンズ26はさらに、外側部分
がカップ型で内側部分が中空円筒型で、地電圧に設定さ
れたある端電極26bを含んでいる。この外側部分及び
内側部分は、シュワルツンルト鏡対物レンズの光路へ向
くアパーチャ26cを具(6ifした円錐部分により接
続されている。電極26a1.5 と26bとの間には、1セツト3つのサファイアホール
26eが2セツト保持されており、じょうご型の中央電
極26dが約−1,5Kvに設定されている。なお、カ
ソードレンズについては、H、L i e bin 0
ptic 80.No、1(1988)4−8にその詳
細が記載されている。
第5図は減速レンズ32を示した図であり、この減速レ
ンズ32は、絶縁材料のロッド32cに取り付けられた
2つの管状電極32a、32bを有している。レンズ部
分は、電極32aと32bとの間の互いに向かい合った
部分のギャップ32dに存在する。電極32bは比較的
長く形成されており、第2光路30を選択的に切り替え
ることのできる複数の溝開口を具備した板状の可動ホル
ダー34を有している。これは、コントラストストップ
を形成する。第6図には、加速レンズ38か示されてお
り、この加速レンズ38は、3つの管状電極38a、3
8b、38cを有している。事実上加速レンズは中間の
電極38bとこれに隣接した電極38a、38cの端と
の間の電場に形成されている。電極38aは比較的長く
形成されており、前記コントラストストップと同様に形
成されるエネルギーストップであるホルダ48を含んで
いる。
対称的な光路(入射と射出とのギャップは扇形場から等
しい距離)を具備する静電扇形場46のエネルギー分解
度は、次式で与えられる。
ΔU = U S / 2 r e ここでUは通過エネルギーを表し、Sは入射と射出との
間のギャップ(場合によっては、コントラストストップ
あるいはエネルギーストップによって形成される)の幅
を表し、r8は扇形場の半径を表す。
この実施例では、通過エネルギーUは3 keVであり
、ギャップ幅Sは20μmであり、ビーム形陽の半径r
8は36mmである。この結果エネルギ分解度は0.8
3eVとなる。
2つの偏向場の偏向による不鮮明画像を避けるため、磁
場20と静電場46は、公知の光路の組み合わせの原理
が用いられている。すなわち、力]7 ソードレンズ26は、磁場20の偏向の中心で試料表面
を写し、減速レンズ32は、減速場46の偏向の中心で
この第1の像を写し、加速レンズ38は、投影光学装置
42の入射面でこの第2の像を写す。この方法によると
第1と第2の像の不鮮明はなくなり、2つの偏向場によ
る試料表面の像は鮮明なものとなる。
同時にLEED縞を伴うカソードレンズの焦点面は、静
電偏向場46、磁場20、コントラストストップの平面
の減速レンズ34、エネルギーストップの平面の一部分
により写し出される。
試料表面というよりはむしろLEED縞の像が検出器4
4によって検出されたなら、3つの電極38a、、38
b、38cを含む(第6図参照)加速レンズ38は、静
電偏向場46の中心よりむしろエネルギーストップ48
を投影光学系42の入射平面に写して調整される。
電子レンズ16を不要にしてもエネルギーフォカンング
には同等影響を与えないか、第1ビームの方向性フォー
カシングは、レンズと同様に偏白場の扇形角度をより大
きくする他の電子光学系によらなければならない。
【図面の簡単な説明】
m I A図および第1B図は、この発明に係る電子顕
微鏡の1実施例の概要を図式的に示す図;第2A図は、
第1図の電子顕微鏡において、静電および電磁回折場と
第1光ビーム路のエネルギーフォーカシングを説明する
ための方程式とを含む、第1光ビーム路を部分的に示す
図;第2B図は電磁回折場と連立方程式とを示す図:第
2C図は静電回折場と連立方程式とを示す図;第3a図
および第3b図は、それぞれ静電レンズを軸方向から見
た図;第4図は、第1図の電子顕微鏡において試料を取
付けた図;第5図は減速レンズを示す図、そして、第6
図は加速レンズを示す図である。 10・・・電子ビーム源、12.30・・・電子ビーム
。 ]8・・・静電偏向場、20・・・磁界偏向場、46・
・・静電扇形陽、54・・マイクロスコープ、56・・
・放射ビーム源。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 1つ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)電子ビーム源と、実質的に一定な磁気偏向場と、
    対物面を具備する電子レンズとが折曲した第1光路に沿
    って順次配置されており、前記電子レンズのほぼ対物面
    に試料の表面を保持する装置を有しており、 カソードレンズと、磁気偏向場と、映像電子−光学装置
    と、電子ディスプレイ装置とが第2光路に沿って順次配
    置されており、 前記第1光路上で磁気偏向場の前に設けられ、この磁気
    偏向場の偏向方向とは反対の方向に第1ビームを偏向す
    るように形成され、前記磁気偏向場によって起こるエネ
    ルギー分散を補償する実質上一定のエネルギー選択静電
    偏向場、を有することを特徴とする電子顕微鏡。 (2)前記電子レンズはカソードレンズであることを特
    徴とする請求項1に記載の電子顕微鏡。 (3)前記第1光路中に、指向性フォーカシングする電
    子−光学装置が配置されていることを特徴とする請求項
    1に記載の電子顕微鏡。(4)前記指向性フォーカシン
    グする電子−光学装置は、第2の電子レンズを含んでい
    ることを特徴とする請求項3に記載の電子顕微鏡。 (5)前記エネルギー選択静電偏向場は、前記第2の電
    子レンズと磁気偏向場との間に配置されており、前記第
    2の電子レンズは、前記電子レンズの入射側の焦点面に
    電子ビーム源を写すことを特徴とする請求項4に記載の
    電子顕微鏡。 (6)前記電子ビーム源と第2の電子レンズとの間の第
    1光路中にアパーチャストップが配置されていることを
    特徴とする請求項4に記載の電子顕微鏡。 (7)前記エネルギー選択静電偏向場は、前記磁気偏向
    場と映像電子−光学装置との間の第2光路中に配置され
    ていることを特徴とする請求項1に記載の電子顕微鏡。 (8)前記第2光路中において、前記エネルギー選択静
    電偏向場の前と後にそれぞれ、電子を加速する装置と、
    電子を減速する装置とを有することを特徴とする請求項
    7に記載の電子顕微鏡。 (9)前記エネルギー選択静電偏向場の後の第2光路に
    エネルギーストップが配置されていることを特徴とする
    請求項7に記載の電子顕微鏡。 (10)前記映像電子−光学装置は、第2光路に位置す
    る投影対物レンズを含んでいることを特徴とする請求項
    1に記載の電子顕微鏡。 (11)測定試料の表面からフォトエレクトロンを発生
    させ得るエネルギーを有する電磁放射ビーム源と、第1
    光路および第2光路の共通部分に放射ビームを反射する
    光学装置とを有することを特徴とする請求項1に記載の
    電子顕微鏡。 (12)前記磁気偏向場と電子レンズとの間に、試料表
    面の光学調査を行う光学マイクロスコープの対物レンズ
    システムが配置されていることを特徴とする請求項1に
    記載の電子顕微鏡。 (13)前記対物レンズシステムは、シュワルツシルト
    鏡対物レンズであることを特徴とする請求項12に記載
    の電子顕微鏡。 (14)前記対物レンズシステムとアイピースとの間の
    光路中に配置され、光路を通すアパーチャを具備した鏡
    を有することを特徴とする請求項12に記載の電子顕微
    鏡。 (15)前記鏡は、第1光路と第2光路の共通部分から
    選択的に移動するように可動可能に設けられていること
    を特徴とする請求項14に記載の電子顕微鏡。 (16)ルミネッセンススクリーンのような比較的小倍
    率で試料表面の像を写す電子光学装置と電子映像受像機
    とを含む、映像光路を有することを特徴とする請求項1
    に記載の電子顕微鏡。
JP2031281A 1989-02-10 1990-02-09 電子顕微鏡 Expired - Lifetime JPH063726B2 (ja)

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DE3904032A DE3904032A1 (de) 1989-02-10 1989-02-10 Elektronenmikroskop zur untersuchung von festkoerperoberflaechen
DE3904032.1 1989-02-10

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Publication Number Publication Date
JPH02242555A true JPH02242555A (ja) 1990-09-26
JPH063726B2 JPH063726B2 (ja) 1994-01-12

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