DE3889392T2 - Schleudergiessbare Mischungen für die Herstellung von Schichten mit erhöhtem Kontrast im tiefen UV-Licht. - Google Patents
Schleudergiessbare Mischungen für die Herstellung von Schichten mit erhöhtem Kontrast im tiefen UV-Licht.Info
- Publication number
- DE3889392T2 DE3889392T2 DE3889392T DE3889392T DE3889392T2 DE 3889392 T2 DE3889392 T2 DE 3889392T2 DE 3889392 T DE3889392 T DE 3889392T DE 3889392 T DE3889392 T DE 3889392T DE 3889392 T2 DE3889392 T2 DE 3889392T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- spin
- alkyl
- photoresist
- castable
- radical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 31
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical group CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- -1 carbalkoxy Chemical group 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 claims description 4
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 4
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 3
- JECYNCQXXKQDJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylhexan-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(C)(C)OCC1CO1 JECYNCQXXKQDJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 1
- ZJXMGWFDMHIRRD-UHFFFAOYSA-N n-(2-cyano-2-methylpropanoyl)-2-methylpropan-1-imine oxide Chemical group CC(C)C=[N+]([O-])C(=O)C(C)(C)C#N ZJXMGWFDMHIRRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N Isopropylaldehyde Chemical compound CC(C)C=O AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- PIXNCFLCJBVYNJ-UHFFFAOYSA-N n-(2-cyanobutanoyl)-2-methylpropan-1-imine oxide Chemical compound CCC(C#N)C(=O)[N+]([O-])=CC(C)C PIXNCFLCJBVYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJGALSBBFTYSBA-UHFFFAOYSA-N oxaziridine Chemical compound C1NO1 SJGALSBBFTYSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- CWGBFIRHYJNILV-UHFFFAOYSA-N (1,4-diphenyl-1,2,4-triazol-4-ium-3-yl)-phenylazanide Chemical compound C=1C=CC=CC=1[N-]C1=NN(C=2C=CC=CC=2)C=[N+]1C1=CC=CC=C1 CWGBFIRHYJNILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIYPOGDTBXSMMS-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxyamino)-2-methylpropanenitrile Chemical compound ONC(C)(C)C#N HIYPOGDTBXSMMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWHNMIXUSPUHGO-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-5-nitrohexan-2-one Chemical compound CC(=O)CCC(C)(C)[N+]([O-])=O QWHNMIXUSPUHGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHYIQOBTIWVRZ-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylhydroxylamine Chemical compound CC(C)NO ODHYIQOBTIWVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09B—EDUCATIONAL OR DEMONSTRATION APPLIANCES; APPLIANCES FOR TEACHING, OR COMMUNICATING WITH, THE BLIND, DEAF OR MUTE; MODELS; PLANETARIA; GLOBES; MAPS; DIAGRAMS
- G09B9/00—Simulators for teaching or training purposes
- G09B9/02—Simulators for teaching or training purposes for teaching control of vehicles or other craft
- G09B9/08—Simulators for teaching or training purposes for teaching control of vehicles or other craft for teaching control of aircraft, e.g. Link trainer
- G09B9/30—Simulation of view from aircraft
- G09B9/32—Simulation of view from aircraft by projected image
- G09B9/326—Simulation of view from aircraft by projected image the image being transformed by optical means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15383—Applying coatings thereon
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Educational Technology (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Educational Administration (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
- Wie beschrieben in dem U.S. Patent No. 4,677,079, Griffing et al, werden Diarylnitrone als photobleichbare Verbindungen verwendet, um lithographische Kontrastvergrößerung-Zusammensetzungen nahe UV (350-450 nm) herzustellen. Mittlere UV-Abbildungsflächen (300-350 nm) sind mit bestimmten α-Aryl-N-Alkylnitronen befriedigt worden. Vor kurzem sind Anstrengungen unternommen worden, ein Kontrastvergrößerungsvermögen auf Photoresiste in den dunklen UV Bereichen von 200-300 nm anzuwenden.
- Die gegenwärtig einzig bekannten Nitrone, die in dem 200- 300 nm Bereich absorbieren, sind die Dialkylnitrone. Die meisten Dialkylnitrone hydrolysieren und/oder dimerisieren jedoch rasch. Es wäre daher wünschenswert, Organonitrone zu finden, die in dem dunklen UV Bereich verwendbar und in Lösung stabil sind.
- Die vorliegende Erfindung basiert auf der Entdeckung, daß bestimmte α-Alkyl-N-Alkylnitrone mit der Formel
- als photobleichbare Farbstoffe verwendet werden können, um dunkle UV-Kontrastvergrößerungsschichten (CEL) bei photolithographischen Anwendungen zu schaffen, worin R ausgewählt ist von Wasserstoff und einem C(1-8) Alkylradikal, X ein monovalentes Radikal ist, ausgewählt von Wasserstoff und einem Elektronen abziehenden Radikal, ausgewählt von der Klasse, bestehend aus Carbalkoxy, Acyl und Oxiran, Y eine monovalente aliphatische Gruppe ist, ausgewählt von R¹ und
- wobei R¹ ein C(1-8) Alkylradikal R² und R³ monovalente Radikale sind, ausgewählt von Wasserstoff und C(1-8) Alkyl, Z ein Glied ist, ausgewählt von Wasserstoff, C(1-8) Alkylradikal oder ein Elektronen abziehendes Radikal, ausgewählt von der Klasse, bestehend aus Nitril, Carbalkoxy und Acyl, und R und/oder Y ein C(3-5) bivalentes Alkylenradikal sein können, oder ein C(3-5) bivalentes Alkylenradikal substituiert mit einem bis drei monovalenten Radikalen, oder ein Gemisch davon, ausgewählt von der Klasse, bestehend aus Cyan, Halogen, Carboalkoxy, Nitro, Amino und Alkylamino, wobei die bivalenten Radikale zusammen einen C(5-7) heterozyklischen Ring bilden können.
- Durch die vorliegende Erfindung sind schleudergießbare Mischungen bereitgestellt, die für die Anbringung von Kontrastvergrößerungsschichten (CEL) an Photoresisten nützlich sind, welche für eine Absorption in dem 200-300 nm- Bereich fähig sind, bestehend aus
- (A) 100 Gewichtsteilen eines inerten Lösungsmittels,
- (B) 5 bis 20 Gewichtsteilen eines inerten organischen Bindemittels und
- (C) 5 bis 20 Gewichtsteilen eines α-Alkyl-N-Alkylnitrons der Formel (1) wie vorstehend definiert.
- Die Alkylradikale, welche durch R, R¹ und R² bei der Formel (1) eingeschlossen sind, sind bspw. Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl und Octyl. Elektronen abziehende Radikale, die bei X der Formel (1) eingeschlossen sind, sind bspw. Carbalkoxy und Carbonyl. Elektronen abziehende Radikale, die bei Z der Formel (1) eingeschlossen sind, sind bspw. Nitril, Carbalkoxy und Carbonyl.
- Einige der Dialkylnitrone, die in der Praxis der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind bspw.
- α-Isopropyl-N-α-Cyanbutyrylnitron,
- α-Methylpyruvat-N-Isopropylnitron,
- Isopropylglyoxalnitron-Oxaziridin,
- 2,2,5-Trimethyl-Δ¹-Pyrrolin-1-Oxid,
- Ethylglyoxalnitron-Oxaziridin,
- α-Ethylpyruvat-N-Methylnitron,
- α-Ethylpyruvat-N-Isopropylnitron,
- α-Methylpyruvat-N-Cyclohexylnitron,
- 2,5-Dimethyl-5-Carbethoxy-Δ¹-Pyrrolin-1-Oxid,
- 4,5,5-Trimethyl-Δ¹-Pyrroline-1-Oxid, und
- 2-Cyan-4,5,5-Trimethyl-Δ¹-Pyrrolin-1-Oxid.
- Unter den Lösemitteln, die zur Herstellung dieser schleudergießbaren Mischungen der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind bspw. Wasser und organische Lösemittel, wie bspw. Butanol, insbesondere 1-Butanol, und Ethylbenzol.
- Geeignete Bindemittel, die in der Praxis der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind bspw. Polyvinylpyrrolidon, Hydroxypropylzellulose, Polystyrol, Copolymere von Vinylpyrrolidon mit Vinylacetat, Copolymere von Styrol mit Vinylalkohol.
- Ein zusätzlicher Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf Verbundstoffe ausgerichtet, die für die Herstellung von gemusterten Photoresisten mit verbesserter Auflösung unter Verwendung einer dunklen UV-Bestrahlung nützlich sind, bestehend aus einem Photoresist und einer (CEL) Schicht darauf, wobei die Kontrastvergrößerungsschicht aus einer schleudergießbaren Mischung hergestellt ist, bestehend aus den vorbeschriebenen schleudergießbaren CEL-Zusammensetzungen. Die Verbundstoffe können eine Photoresistschicht mit einer Dicke von 0.2 bis 5 Mikron haben und vorzugsweise 0.5 bis 2 Mikron, während die CEL-Schicht von 0.1 bis 2 Mikron und vorzugsweise von 0.2 bis 1 Mikron dick sein kann.
- Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines gemusterten Photoresisten bereitgestellt, bestehend aus
- (i) einem Schleudergießen der schleudergießbaren Mischung wie oben definiert auf die Oberfläche eines Photoresisten zur Erzeugung eines CEL-Photoresistverbundstoffes,
- (ii) einer Projektion eines Luftbildes unter Verwendung von UV-Licht (200-300 nm) auf die Oberfläche des CEL- Photoresistverbundstoffes,
- (iii) einem Entstrippen der resultierenden photogebleichten CEL-Schicht von der Oberfläche des Photoresist und
- (iv) einem Entwickeln der Photoresistschicht.
- Techniken, die für die Projektion eines Luftbildes auf die Oberfläche des CEL-Photoresistverbundstoffes angewendet werden können, sind angegeben in dem U.S. Patent 4,677,049 (Griffing et al).
- Die Angabe "inert" in Bezug auf die oben erwähnten organischen Polymerbindemittel bedeutet die Fähigkeit des Bindemittels zur Ausbildung einer photobleichbaren Schicht mit dem Alkylnitron der Formel (1), welches nach einem erfolgten Photobleichen unmittelbar entfernt werden kann gleichzeitig mit oder getrennt von der Oberfläche des Photoresisten durch ein Entstrippen mit einem Lösemittel. In solchen Fällen, wo das Lösemittel, bspw. n-Butanol, den Photoresisten angreifen kann, kann eine Sperrbeschichtung, wie bspw. Polyvinylalkohol, zwischen dem Photoresisten und CEL benutzt werden.
- Das Entstrippen des photogebleichten CEL kann als eine getrennte Stufe vor dem Entwickeln des Photoresisten stattfinden. In dem letzteren Fall kann ein wasserlösliches inertes organisches Bindemittel als ein Teil einer wäßrigen schleudergießbaren Mischung verwendet werden. In den Fällen, wo ein organisches Lösemittel in der schleudergießbaren CEL Mischung verwendet wird, kann ein Entstrippen des CEL vor dem Entwickeln des Photoresisten erforderlich sein.
- Jedes geeignete organische Lösemittel, welches nicht die Photoresistoberfläche angreift, kann verwendet werden, um die Entfernung des photogebleichten CEL von dem Photoresisten zu bewirken. Bevorzugt wird jedoch die Verwendung eines organischen Lösemittels, wie bspw. Toluol, Trichlorethylen, Chlorbenzol oder Mischungen mit Anisol, wie angegeben von P.R. West in dem U.S. Patent No. 4,623,611.
- Weitere Photoresisten, die in der Praxis der vorliegenden Erfindung in Kombination mit den vorbeschriebenen schleudergießbaren Zusammensetzungen benutzt werden können, sind bspw. Shipley 2400 Reihen und die kürzlich beschriebenen dunklen UV Onium Salz Resiste.
- Die Erfindung schließt Verbundstoffe ein, bestehend aus einer Kontrastvergrößerungsschicht und einer Photoresistschicht, wobei die Kontrastvergrößerungsschicht von der schleudergießbaren Mischung wie vorstehend definiert erhalten ist.
- Damit die Fachleute auf dem vorliegenden Gebiet die Erfindung besser ausüben können, werden die folgenden Beispiele zur Darstellung und nicht zur Beschränkung angegeben. Alle Teile sind in Gewicht angegeben.
- Eine Lösung von 1.14 Gramm (10 Millimol) α-Hydroxyaminoisobutyronitril und 10 ml Methylenchlorid wurde mit 0.72 Gramm (10 Millimol) Isobutyraldehyd und 1.0 Gramm Natriumsulfat behandelt. Nach einem Umrühren für 16 Stunden wurde die Lösung gefiltert, das Lösemittel unter verringertem Druck verdampft und der Rest mit Äther trituriert. Erhalten wurde eine 1.02 Gramm (55%) Ausbeute eines weißen Feststoffes von 92 - 93ºC, λmax = 243, ε = 9800. Auf der Basis eines Herstellungsverfahrens und der vorerwähnten Spektraldaten war das Material α-Isopropyl-N-α-Cyanbutyrylnitron.
- Eine Mischung von 10 Teilen des vorerwähnten Nitrons, 10 Teilen eines Copolymers von Vinylacetat und Vinylpryrrolidon und 80 Teilen 1-Butanol wurde bei 3000 U/min für 25 Sekunden auf ein Shipley 2417 Photoresist mit einer Dicke von 0.5 Mikrons geschleudert, welches zuvor mit einer 500 Angström Polyvinylalkohol-Sperrschicht beschichtet worden war. Das Shipley Photoresist war zuvor auf ein Silizium-Wafer aufgebracht worden. Das behandelte Silizium- Wafer wurde für 14 Sekunden auf einem Suss MA-56 Drucker unter Verwendung des UV-250nm Modus belichtet. Das Wafer wurde dann in Wasser gespült und für eine Minute in einem Shipley 351 Entwickler verdünnt mit Wasser im Verhältnis 3 : 1 entwickelt. Ein ähnliches Wafer ohne das Nitron CEL wurde für 7 Sekunden belichtet, gespült mit Wasser und gleichartig entwickelt. Ein Vergleich der Wafer mittels eines Raster-Elektronenmikroskops zeigte, daß das CEL den Kontrast des Photoresisten verbessert hatte.
- Eine Lösung von 0.75 Gramm (10 Millimol) Isopropylhydroxylamin und 10 ml Methylenchlorid wurde mit 1.02 Gramm (10 Millimol) Methylpyruvat behandelt. Die Mischung wurde bei Raumtemperatur für 19 Stunden umgerührt und mit Magnesiumsulfat getrocknet. Nach der Verdampfung des Methylenchlorids unter verringertem Druck wurde ein flüssiges Produkt abgetrennt, welches 1.2 Gramm (75%) wog, λmax = 271 und ε = 12,700. Auf der Basis eines Herstellungsverfahrens und der vorerwähnten Spektraldaten war das Produkt α-Methylpyruvat-N-Isopropylnitron.
- Ein Ansatz von 10 Gew.-% des vorerwähnten Nitrons, 10 Gew.-% Hydroxypropylzellulose in 1-Butanol wurde auf eine Quarzscheibe bei 4000 U/min über eine Zeitdauer von 30 Sekunden gegossen. Der resultierende Film zeigte eine 0% Durchlassung von 253 - 289 nm, eine 1% Durchlassung von 248 - 293 nm und eine 5% Durchlassung von 240 - 296 nm. Der Film wurde gebleicht unter Verwendung einer 1000 Watt Lampe, die bei 10% des vollen Ausgangs arbeitete, und es folgte eine Filmdurchlassung als eine Funktion der Zeit bei 270 nm. Es wurde gefunden, daß das resultierende CEL ausgezeichnete Bleicheigenschaften hatte. Das Nitron wurde als stabil in einer Lösung für eine unbestimmte Zeitdauer bei Umgebungstemperaturen befunden.
- Die heftig umgerührte Mischung von 7.05 Gramm (44 Millimol) 5-Methyl-5-Nitro-2-Hexanon und 1.95 Gramm (36 Millimol) Ammoniumchlorid in 65 ml Wasser, gekühlt auf 0 - 10ºC, wurde mit 9.75 Gramm (149 Millimol) Zinkstaub über 1.5 Stunden behandelt, wobei die Reaktionstemperatur auf weniger als 10ºC gehalten wurde. Das Zinkoxid wurde gefiltert und mit 25 ml heißem Wasser gewaschen (kombinierte wäßrige Schichten wurden bei 70 - 75ºC entstrippt). Der resultierende Rest wurde mit Chloroform behandelt, gefolgt von Kaliumcarbonat und Magnesiumsulfat. Nach der Filtrierung wurde die Mischung entstrippt und das Produkt bei 60ºC destilliert, um 4.07 Gramm (73% von 2,2,5-Trimethyl-Δ¹-Pyrrolin-1-Oxid zu erhalten. Das Nitron hat ein λmax = 229 nm, ε = 8400.
- Ein Ansatz von 7.5% des vorerwähnten Nitrons und 5% Hydroxypropylzellulose und 2-Butanol wurden auf eine Quarzscheibe bei 4000 U/min / 30Sekunden geschleudert. Der resultierende Film zeigte eine 0% Durchlassung von 221 - 244 nm, weniger als 1% Durchlassung von 270 - 247 nm und weniger als 5% Durchlassung von 212 - 253 nm. Der Film wurde gebleicht bei 10% der vollen Bogenstärke, und die UV Filmdurchlassung wurde als eine Funktion der Zeit bei 230 nm gemessen. Es wurde gefunden, daß das resultierende CEL ausgezeichnete Bleicheigenschaften hatte.
- Obwohl die vorstehenden Beispiele nur auf wenige von sehr vielen Variablen ausgerichtet sind, die in der Praxis der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sollte verstanden sein, daß die vorliegende Erfindung auf eine viel größere Vielzahl von Dialkylnitronen in schleudergießbaren Mischungen ausgerichtet ist, die davon erhalten werden, wie es in der Beschreibung vor diesen Beispielen angegeben ist.
Claims (9)
1. Schleudergießbare Mischungen für die Anbringung von
Kontrastvergrößerungsschichten an Photoresisten, welche
für eine Absorption in dem 200 - 300 nm-Bereich fähig
sind, bestehend aus
(A) 100 Gewichtsteilen eines inerten Lösungsmittels,
(B) 2 bis 20 Gewichtsteilen eines inerten organischen
Bindemittels und
(C) 2 bis 20 Gewichtsteilen eines α-Akyl-N-Alkylnitrons
der Formel
worin R ausgewählt ist von Wasserstoff und einem C(1-8)
Alkylradikal, X ein monovalentes Radikal ist, ausgewählt
von Wasserstoff und einem Elektronen abziehenden Radikal,
ausgewählt von der Klasse, bestehend aus Carbalkoxy,
Acyl und Oxiran, Y eine monovalente aliphatische Gruppe
ist, ausgewählt von R¹ und
wobei R¹ ein C(1-8) Alkylradikal ist, R² und R³
monovalente Radikale sind, ausgewählt von Wasserstoff und
C(1-8) Alkyl, Z ein Glied ist, ausgewählt von Wasserstoff,
C(1-8) Alkylradikal oder ein Elektronen abziehendes
Radikal, ausgewählt von der Klasse, bestehend aus Nitril,
Carbalkoxy und Acyl, und R und/oder Y ein C(3-5)
bivalentes Alkylenradikal sein können, oder ein C(3-5) bivalentes
Alkylenradikalsubstituiert mit einem bis drei
monovalenten Radikalen-oder ein Gemisch davon, ausgewählt von der
Klasse, bestehend aus Cyan, Halogen, Carbalkoxy, Nitro,
Amino und Alkylamino, wobei die bivalenten Radikale
zusammen einen C(5-7) heterocyklischen Ring bilden
können.
2. Schleudergießbare Mischung nach Anspruch 1, bei welcher
das α-Alkyl-N-Alkylnitron
α-Isopropyl-N-α-Cyanisobutyrylnitron ist.
3. Schleudergießbare Mischung nach Anspruch 1, bei welcher
das α-Alkyl-N-Alkylnitron 2,2,5-Trimethyl-Δ¹-Pyrrolin-
1-Oxid ist.
4. Schleudergießbare Mischung nach Anspruch 1, bei welcher
das α-Alkyl-N-Alkylnitron
α-Methylpyruvat-N-Isopropylnitron ist.
5. Schleudergießbare Mischung nach Anspruch 1, bei welcher
das inerte organische Bindemittel Hydroxypropyl-Cellulose
ist.
6. Schleudergießbare Mischung nach Anspruch 1, bei welcher
das Lösemittel Wasser ist.
7. Schleudergießbare Mischung nach Anspruch 1, bei welcher
das Lösemittel 1-Butanol ist.
8. Verfahren zur Herstellung eines gemusterten Photoresisten,
bestehend aus
(i) einem Schleudergießen der schleudergießbaren
Mischung nach Anspruch 1 auf die Oberfläche eines
Photoresisten zur Erzeugung eines
Kontrastvergrößerungsschicht-Photoresist-Verbundes,
(ii) einer Projektion eines Luftbildes unter Verwendung
von UV-Licht (200-300 nm) auf die Oberfläche des
Verbundes nach (i),
(iii) Entstrippen der resultierenden photogebleichten
Kontrastvergrößerungsschicht von der Oberfläche
des Photoresist und
(iv) Entwickeln der Photoresistschicht.
9. Verbundstoffe, bestehend aus einer
Kontrastvergrößerungsschicht und einer Photoresistschicht, wobei die
Kontrastvergrößerungsschicht von der schleudergießbaren
Mischung des Anspruchs 1 erhalten ist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US7998887A | 1987-07-31 | 1987-07-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3889392D1 DE3889392D1 (de) | 1994-06-09 |
| DE3889392T2 true DE3889392T2 (de) | 1994-11-17 |
Family
ID=22154078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3889392T Expired - Fee Related DE3889392T2 (de) | 1987-07-31 | 1988-07-29 | Schleudergiessbare Mischungen für die Herstellung von Schichten mit erhöhtem Kontrast im tiefen UV-Licht. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0301559B1 (de) |
| JP (1) | JPH07109512B2 (de) |
| KR (1) | KR960005035B1 (de) |
| CA (1) | CA1328700C (de) |
| DE (1) | DE3889392T2 (de) |
| IE (1) | IE63705B1 (de) |
| MX (1) | MX170825B (de) |
| MY (1) | MY103752A (de) |
| TW (1) | TW224166B (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6162579A (en) * | 1996-04-19 | 2000-12-19 | Corning Incorporated | Nitrone compounds as photopolymer polymerization inhibitors and contrast enhancing additives |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3481739A (en) * | 1966-04-22 | 1969-12-02 | Horizons Research Inc | Increased speed in nonsilver light sensitive systems by incorporating therein organic n-oxides |
| US4677049A (en) * | 1983-09-28 | 1987-06-30 | General Electric Company | Spin castable photobleachable layer forming compositions |
| JPS61121050A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 新規なフオトレジスト組成物 |
| US4578344A (en) * | 1984-12-20 | 1986-03-25 | General Electric Company | Photolithographic method using a two-layer photoresist and photobleachable film |
| JPS6269259A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Toshiba Corp | パタ−ン形成方法 |
| JPH0688961B2 (ja) * | 1985-12-30 | 1994-11-09 | マイクロサイ，インコーポレイテッド | ニトロン類の製造方法 |
| IE59915B1 (en) * | 1986-07-25 | 1994-04-20 | Microsi Inc | Contrast enhancement layer compositions, alkylnitrones, and use |
-
1988
- 1988-07-29 TW TW077105223A patent/TW224166B/zh active
- 1988-07-29 CA CA000573386A patent/CA1328700C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-29 DE DE3889392T patent/DE3889392T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-29 EP EP88112295A patent/EP0301559B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-29 MX MX012485A patent/MX170825B/es unknown
- 1988-07-30 KR KR1019880009691A patent/KR960005035B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-07-30 MY MYPI88000865A patent/MY103752A/en unknown
- 1988-08-01 JP JP63192590A patent/JPH07109512B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-02 IE IE235588A patent/IE63705B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07109512B2 (ja) | 1995-11-22 |
| TW224166B (de) | 1994-05-21 |
| MX170825B (es) | 1993-09-20 |
| KR960005035B1 (ko) | 1996-04-18 |
| IE63705B1 (en) | 1995-05-31 |
| KR890002708A (ko) | 1989-04-11 |
| EP0301559A3 (en) | 1990-05-23 |
| IE882355L (en) | 1989-01-31 |
| CA1328700C (en) | 1994-04-19 |
| MY103752A (en) | 1993-09-30 |
| EP0301559B1 (de) | 1994-05-04 |
| DE3889392D1 (de) | 1994-06-09 |
| EP0301559A2 (de) | 1989-02-01 |
| JPH0250162A (ja) | 1990-02-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5196295A (en) | Spin castable mixtures useful for making deep-UV contrast enhancement layers | |
| DE19919795A1 (de) | Polymer und dessen Verwendung in einem Verfahren zur Bildung eines Mikromusters | |
| DE3415033A1 (de) | 4'-azidobenzal-2-methoxyacetophenon, verfahren zu seiner herstellung und es enthaltende, photoempfindliche masse | |
| EP0378067B1 (de) | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend einen mehrfunktionellen alpha-Diazo-beta-ketoester, Verfahren zu dessen Herstellung und strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial enthaltend dieses Gemisch | |
| DE3751745T2 (de) | Hochempfindliche Resiste mit Selbstzersetzungstemperatur grösser als etwa 160 Grad Celsius | |
| DE1963731A1 (de) | Photocyclomerisation von Bismaleimiden | |
| DE2948324A1 (de) | Lichtempfindliche masse und ihre verwendung | |
| DE3441041A1 (de) | Verfahren zur herstellung von squarainzusammensetzungen | |
| DE3134158A1 (de) | "zusammensetzung und verfahren zur ultrafeinen musterbildung" | |
| DE3518927A1 (de) | Schleudergiessbarer abdecklack, dessen verwendung und p-aminozimtsaeurederivate | |
| EP0369219A1 (de) | Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial | |
| DE1597614B2 (de) | Lichtempfindliche kopiermasse | |
| EP0337188B1 (de) | In wässrigem Alkali lösliche, Silanylgruppen in der Seitenkette enthaltende Bindemittel, Verfahren zu deren Herstellung sowie lichtempfindliches Gemisch, enthaltend diese Verbindungen | |
| DE3889392T2 (de) | Schleudergiessbare Mischungen für die Herstellung von Schichten mit erhöhtem Kontrast im tiefen UV-Licht. | |
| DE4116243C2 (de) | Neue Chinondiazidverbindung und lichtempfindliche Zusammensetzung, die diese enthält | |
| DE3324795A1 (de) | Negativ arbeitende fotoresistzusammensetzungen mit strahlungsabsorbierenden zusaetzen | |
| DE2810310A1 (de) | Lichtempfindliches hochmolekulares diazopolymerisat und seine verwendung zur herstellung von farbmischtafeln | |
| DE3341394A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer waessrigen pigmentdispersion | |
| DE3417607A1 (de) | Verfahren zur herstellung feiner muster | |
| EP0510446B1 (de) | Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
| DE1597759A1 (de) | Farbkorrektursystem | |
| DE69308403T2 (de) | Hitzebeständige, negativ-arbeitende Photoresistzusammensetzung, lichtempfindliches Substrat und Verfahren zur Herstellung eines negativen Musters | |
| WO1997027608A1 (de) | Black-matrix in farbbildröhren und verfahren zur herstellung der black-matrix | |
| EP0510444B1 (de) | Säurespaltbare, strahlungsempfindliche Verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
| EP0510445A1 (de) | Säurespaltbare strahlungsempfindliche Verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |