DE3813279C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein hochfestes keramisches Si₃N₄-
Verbundmaterial aus einem Sinterkörper aus Si₃N₄ und SiC-
Whiskern mit einem kleinen Aspektverhältnis, sowie ein
Verfahren zu seiner Herstellung.
Es ist bekanntlich außerordentlich schwierig, Sinterkörper
aus Si₃N₄ mit einer hohen Dichte herzustellen. Dies ist
darauf zurückzuführen, daß die Atome, die das Molekül Si₃N₄
aufbauen, einen kleinen Selbstdiffusionskoeffizienten auf
weisen und Si₃N₄ stark kovalente Eigenschaften hat. Es wurde
daher bisher zur Erzielung von Si₃N₄-Sinterkörpern mit einer
hohen Dichte ein Sinterhilfsmittel, wie z. B. MgO, Y₂O₃ oder
Al₂O₃, zugesetzt. Dies hat jedoch den Nachteil, daß sich
das zugesetzte Sinterhilfsmittel bei den beim Pressen auf
tretenden hohen Drucken und Temperaturen als Glasphase ent
lang den Korngrenzen abscheidet, was viele Probleme mit
sich bringt, beispielsweise eine Abnahme der Härte und
Festigkeit des Si₃N₄-Sinterkörpers in einem Hochtemperatur
bereich von 1000°C oder mehr als Folge des Weichwerdens
der Glasphase.
Aus "Sprechsaal", 118 (1985), Seiten 1152-1155 ist es zwar
bereits bekannt, daß Si₃N₄-Sinterkörper mit einer hohen Dich
te aus einer pulverförmigen Mischung, die hauptsächlich aus
Si₃N₄ besteht, ohne Zugabe eines Sinterhilfsmittels durch
HIP-Pressen hergestellt werden können, die darin beschrie
benen konkreten Ausführungsbeispiele enthalten jedoch alle
zusätzliche Sinterhilfsmittel, da nur diese eine ausrei
chend hohe Verdichtung gewährleisten.
Um die Hochtemperatureigenschaften derartiger verdichteter
Si₃N₄-Sinterkörper zu verbessern, wurden bereits verschie
dene Wege der Herstellung von Si₃N₄-Sinterkörpern mit einer
hohen Dichte ohne Zugabe eines Sinterhilfsmittels unter
sucht.
So berichten beispielsweise Shimada et al. in "Yogyo Kyokai
shi", Band 89, Nr. 4, Seiten 197-203 (1981), daß Si₃N₄-
Sinterkörper mit einer relativen Dichte von 99% oder höher
erhalten werden können durch Anwendung eines Superhochdruck-
Sinterverfahrens. Über derartige Sinterkörper mit hoher
Dichte berichten auch Honma et al. in "Yogyo Kyokai-shi",
Band 95, Nr. 2, Seiten 229-234 (1987), und Nezuka et al.
in "Digest of 25th Basic Ceramic Symposium", Seite 29
(1987), zu deren Herstellung ein isostatisches Warmpressen
(HIP) angewendet wird. In diesen Berichten ist angegeben,
daß bei diesen sinterhilfsmittelfreien Si₃N₄-Sinterkörpern
keine Verschlechterung ihrer Eigenschaften bei hohen Tem
peraturen auftritt. Si₃N₄-Sinterkörper, die ohne Zugabe
von Sinterhilfsmitteln hergestellt worden sind, haben je
doch den Nachteil, daß sowohl ihre Festigkeit als auch ihre
Zähigkeit verhältnismäßig gering sind. In Si₃N₄-Sinter
körpern, die ein Sinterhilfsmittel enthalten, wächst
β-Si₃N₄ in Form von nadelförmigen Körnchen und die auf
diese Weise gewachsenen Körnchen verfilzen untereinander
unter Bildung von Sinterkörpern mit einer hohen Festigkeit
und einer hohen Zähigkeit. Im Gegensatz dazu wäschst in
Sinterkörpern, die kein Sinterhilfsmittel enthalten,
β-Si₃N₄ in körniger Form und es werden keine nadelförmigen
Körnchen gebildet. Daher sind ihre Festigkeit und Zähigkeit
gemindert.
Aus der DE-OS 34 45 766 ist bereits ein Verfahren zur Herstel
lung kurzfaserverstärkter Keramikformkörper bekannt, deren
keramische Matrix aus Si₃N₄ besteht, in der SiC-Whisker
mit einem kleinen Aspektverhältnis dispergiert sind. Bei
Anwendung eines normalen Formgebungsprozesses ist bei den
nach dieser Druckschrift hergestellten Si₃N₄-Sinterkörpern
die Erzielung einer ausreichenden Verdichtung aber er
schwert, weil die in der Si₃N₄-Matrix dispergierten SiC-
Whisker eine ausreichende Verdichtung hemmen. Als Ergebnis
wird ein Sinterkörper mit einer großen Anzahl von Poren er
halten, die ein Anzeichen für den erzielten geringen Grad der Ver
dichtung sind. Eine ausreichende Verdichtung kann nach den
Angaben in dieser Druckschrift nur dann erzielt werden,
wenn die in der Si₃N₄-Matrix dispergierten SiC-Whisker
vorher ausgerichtet werden und gleichzeitig ein Sinter
hilfsmittel vorhanden ist. Ein solches Verfahren ist je
doch technisch umständlich und das vorhandene Sinterhilfs
mittel bringt die weiter oben geschilderten Nachteile unter
Hochtemperaturbedingungen mit sich.
Nach den bisher bekannten Verfahren ist es daher nicht
möglich, SiC-Whisker enthaltende Si₃N₄-Sinterkörper her
zustellen, die frei von einem Sinterhilfsmittel sind und
deren physikalische Eigenschaften, insbesondere deren
Dichte, Zähigkeit und Festigkeit, bei erhöhten Temperaturen
nicht beeinträchtigt werden.
Aufgabe der Erfindung war es daher, Si₃N₄-Sinterkörper zur
Verfügung zu stellen, die sowohl hohe Festigkeit als
auch eine hohe Zähigkeit insbesondere bei hohen Temperaturen
von 1000°C und mehr aufweisen und sich auf technisch ein
fache, wirtschaftliche Weise herstellen lassen.
Die vorliegende Erfindung beruht nun darauf, daß von Sinter
hilfsmitteln freie Si₃N₄-Sinterkörper gefunden wurden,
die SiC-Whisker mit einem kleinen Aspektverhätnis enthal
ten und dennoch frei von den vorstehend geschilderten
Nachteilen sind.
Gegenstand der Erfindung ist ein hochfestes Si₃N₄-Verbund
material aus einem Sinterkörper aus Si₃N₄ und SiC-Whiskern
mit einem kleinen Aspektverhältnis, das dadurch gekenn
zeichnet ist, daß die SiC-Whisker ein durchschnittliches
Aspektverhältnis von 15 bis 100 haben und daß der Sinter
körper frei von einem Sinterhilfsmittel ist.
Das erfindungsgemäße hochfeste Si₃N₄-Verbundmaterial ent
hält die SiC-Whisker vorzugsweise in einer Menge von 5 bis
40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht von Si₃N₄ und
SiC-Whiskern.
Die erfindungsgemäßen hochfesten Si₃N₄-Verbundmaterialien
haben gegenüber den bekannten vergleichbaren Si₃N₄- und
Si₃N₄/SiC-Verbundmaterialien die folgenden technischen
Vorteile:
- - da sie keine Sinterhilfsmittel enthalten, werden ihre physikalischen Eigenschaften, insbesondere ihre Zähigkeit und Festigkeit, selbst bei erhöhten Temperaturen nicht beeinträchtigt;
- - da sie kein Sinterhilfsmittel enthalten, weisen sie eine hohe Wärmeleitfähigkeit auf;
- - dadurch, daß sie frei von einem Sinterhilfsmittel sind, ist nicht nur ihre Zähigkeit, sondern auch ihre Festig keit stark verbessert, was besonders überraschend ist, da nach den Angaben in der vorveröffentlichten Literatur die Gegenwart von SiC-Whiskern in einer Si₃N₄-Matrix die Erzielung hochfester Sinterkörper hemmt.
Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Her
stellung des vorstehend beschriebenen hochfesten Si₃N₄-
Verbundmaterials, das dadurch gekennzeichnet ist, daß
SiC-Whisker mit einem Aspektverhältnis von 15 bis 100 mit
Si₃N₄-Pulver gemischt und die resultierende Mischung dann
durch isostatisches Warmpressen (HIP) ohne Verwendung eines
Sinterhilfsmittels bei Temperaturen von 1800 bis 2000°C
gesintert wird.
Vorzugsweise werden die SiC-Whisker in einer Menge von 5 bis
40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht von Si₃N₄ und
SiC-Whiskern, verwendet.
Das erfindungsgemäße Verfahren bietet gegenüber den bekann
ten vergleichbaren Verfahren die folgenden technischen
Vorteile:
- - ohne Verwendung irgendeines Sinterhilfsmittels können stark verdichtete Sinterkörper erhalten werden, obgleich in der Literatur bisher die Meinung vorherrschte, daß SiC-Whisker, die in einer Si₃N₄-Matrix enthalten sind, die Verdichtung des Verbundkörpers hemmen;
- - erfindungsgemäß können hochfeste Sinterkörper mit einer hohen Verdichtung in den verschiedensten Formen und Größen auf technisch einfache und wirtschaftliche Weise aus einer gleichmäßigen Mischung aus Si₃N₄-Pulver und SiC-Whiskern mit einem spezifischen Aspektverhältnis erhalten werden durch Anwendung eines einfachen Druckverfahrens, ohne daß ein spezieller Formgebungsprozeß zur Erzielung einer bestimmten Ausrichtung der Whisker und ohne daß die Zugabe eines Sinterhilfsmittels erforderlich ist;
- - die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Sinterformkörper weisen keine Anisotropie ihrer mechani schen Eigenschaften auf, weil die darin enthaltenen SiC- Whisker mit einem spezifischen Aspektverhältnis keine bevorzugte Orientierungsrichtung der gleichmäßigen Dis persion aufweisen, während die gemäß Stand der Technik hergestellten Sinterkörper eine ausgeprägte Anisotropie aufweisen;
- - die Zähigkeit und Festigkeit der erfindungsgemäß herge stellten Sinterkörper sind stark verbessert als Folge der fehlenden Anisotropie der darin gleichmäßig dispergier ten SiC-Whisker. Da diese keinerlei bevorzugte Orientie rung aufweisen, sind die erfindungsgemäß hergestellten Sinterformkörper sowohl in ihren mechanischen als auch in ihren thermischen Eigenschaften frei von jeder Aniso tropie;
- - das erfindungsgemäß anwendbare Formgebungsverfahren ist nicht auf irgendein spezielles Verfahren, beispiels weise auf die Anwendung des HIP-Sinterverfahrens, be schränkt, das auch bei hohen Temperaturen (1800 bis 2000°C) und hohen Drucken (beispielsweise 1800 bar) die gewünschten Sinterkörper ergibt, deren physikalische Eigenschaften, insbesondere deren Dichte, Zähigkeit und Festigkeit, selbst bei erhöhten Temperaturen und Drucken nicht beeinträchtigt sind;
- - nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können kompliziert geformte, großflächige Sinterkörper leichter hergestellt werden als nach dem Stand der Technik und die dabei er haltenen Sinterkörper, die keinerlei Anisotropie in bezug auf ihre mechanischen und thermischen Eigenschaften auf weisen, können in allen Richtungen beansprucht werden, so daß in großem Umfang in verschiedenen Bauelementen von Maschinen, Werkzeugen und dgl. eingesetzt werden können.
Als Folge seines Gehaltes an SiC-Whiskern weist das er
findungsgemäße gesinterte Si₃N₄-Verbundmaterial im Ver
gleich zum Stand der Technik eine sehr hohe Festigkeit und
Zähigkeit bzw. Härte sowie eine hohe Beständigkeit gegen
mechanischen Schock auf. Nach dem erfindungsgemäßen Ver
fahren können leicht sinterhilfsmittelfreie Si₃N₄-Sinter
körper hergestellt werden, die eine hohe Festigkeit bei
hohen Temperaturen aufweisen. Die vorliegende Erfindung
liefert daher ein sehr wertvolles neues Verbundmaterial,
das insbesondere als keramisches Baumaterial verwendbar
ist.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die bei
liegende Zeichnung näher erläutert, die ein Diagramm zeigt,
in dem die Hochtemperatur-Härte-Eigenschaften eines Sinter
körpers gemäß einem Beispiel der vorliegenden Erfindung und
eines Vergleichs-Sinterkörpers dargestellt sind.
Die erfindungsgemäß verwendeten SiC-Whisker weisen ein klei
nes Aspektverhältnis von 15 : 1 bis 100 : 1 auf und der Grund
dafür ist folgender: In dem Sinterkörper entsteht als
Folge der unterschiedlichen Wärmeausdehnung zwischen den
SiC-Whiskern und der Si₃N₄-Matrix an den Korngrenzen da
zwischen ein Spannungsfeld und es wird angenommen, daß
sich um die SiC-Whisker herum mit einem größeren Durch
messer eine größere Spannungsenergie anreichert. Anderer
seits wird in bezug auf den Mechanismus der Verbesserung
der Zähigkeit der Si₃N₄-Keramikmaterialien, die darin
dispergierte SiC-Whisker enthalten, angenommen, daß eine
Verteilung und Absorption der Spannungsenergie an der Rißbil
dungsfront auftritt als Folge der Unterdrückung der Rißbildung
durch die SiC-Whisker und als Folge der Verbiegung, Ver
drehung und Verzweigung der Risse, die hervorgerufen sein
kann durch eine bevorzugte Ausbreitung der Risse in Rich
tung auf die Korngrenzen zwischen den SiC-Whiskern und
der Si₃N₄-Matrix. Deshalb sind bei Berücksichtigung dieser
Effekte SiC-Whisker mit einem größeren Durchmesser, die
eine Anreichung der hohen Spannungsenergie erlauben,
erwünscht.
In den weiter unten beschriebenen Beispielen werden SiC-
Whisker mit einem Durchmesser von 0,1 bis 1,0 µm verwen
det, es können aber auch SiC-Whisker mit einem Durchmesser
in dem Bereich von 0,05 bis 10 µm verwendet werden, je
nach Teilchendurchmesser der Si₃N₄-Matrix. Whisker mit einer
großen Länge sind vom Standpunkt der Festigkeit aus betrach
tet unerwünscht, weil es schwierig ist, sie gleichmäßig zu
dispergieren, und sie die Neigung haben, Aggregate zu bilden,
die zu einer Zerstörung führen. Um eine erhöhte mechanische
Festigkeit zu erzielen, beträgt die Länge der Whisker vor
zugsweise das Mehrfache des Teilchendurchmessers der Matrix.
In den weiter unten beschriebenen Beispielen wurden SiC-
Whisker mit einer Länge von 10 bis 50 µm verwendet, mit
denen gute Ergebnisse erzielt wurden. Je nach dem Teilchen
durchmesser der Matrix können auch Whisker mit einer Länge
in der Größenordnung von 0,5 bis 500 µm verwendet werden.
Es ist daher wesentlich, daß die erfindungsgemäß verwendeten
SiC-Whisker ein kleines Aspektverhältnis in der Größenord
nung von 15 bis 100 aufweisen.
Die Zugabemenge der SiC-Whisker beträgt zweckmäßig minde
stens 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht von Si₃N₄
und SiC-Whisker, und eine Zugabemenge von 30 Gew.-% führt
zu einer deutlich verbesserten Festigkeit und Zähigkeit bzw.
Härte. Die Zugabe der SiC-Whisker in einer Menge von mehr
als 40 Gew.-% erschwert jedoch die Herstellung von Sinterkör
pern mit isotrop ausgerichteten Whiskern und eine solche
Zugabemenge ist daher ungünstig. Die SiC-Whisker werden
daher vorzugsweise in Mengen von 5 bis 40 Gew.-%, bezogen
auf das Gesamtgewicht von Si₃N₄ und SiC-Whiskern, zugegeben.
Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Si₃N₄-Sinterkör
per kann das Si₃N₄ als eine Hauptkomponente nicht leicht ver
dichtet werden als Folge seines schlechten Sintervermögens,
wenn Si₃N₄-Pulver allein verwendet wird und weil SiC-Whisker
die Sinterung hemmen. Wenn das Sintern jedoch unter Anwendung
eines isostatischen Warmpressens (HIP) durchgeführt wird,
können Si₃N₄-Sinterkörper mit der theoretischen Dichte er
halten werden, ohne daß die Zugabe von Sinterhilfsmitteln
erforderlich ist.
Die Sintertemperatur kann vorzugsweise in dem Bereich von
1800 bis 2000°C und insbesondere in dem Bereich von
1850 bis 1950°C liegen. Der Grund dafür ist der, daß gute
Sinterkörper mit einer hohen Dichte bei Temperaturen unter
1800°C erhalten werden können und daß das Sintern
bei Temperaturen über 2000°C zu einer Zersetzung von
Si₃N₄ und zu einem ungünstigen Kornwachstum führt, woraus
eine verminderte Dichte resultiert.
Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen näher erläu
tert.
Ein α-Si₃N₄-Pulver wurde gemischt mit (1) SiC-Whiskern mit
einem durchschnittlichen Durchmesser von 0,5 µm und einer
Länge von 100 µm (durchschnittliches Aspektverhältnis 200)
oder (2) SiC-Whiskern mit einem durchschnittlichen Durchmes
ser von 0,4 µm und einer Länge von 25 µm (Aspektverhältnis
15-100, durchschnittliches Aspektverhältnis 60) in Mengen
von 30 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge von α-Si₃N₄
und SiC-Whiskern, und geformt. Nach dem Einsiegeln der geform
ten Körper in Pyrexglas (eingetragenes Warenzeichen) wurde
das HIP-Verfahren unter einem Druck von 1800 bar 3 Stun
den lang bei 1900°C durchgeführt. Die Festigkeit und Zähig
keit bzw. Härte der so erhaltenen Sinterkörper sind in der
folgenden Tabelle I angegeben. Zum Vergleich sind die Eigen
schaften eines Sinterkörpers, der ohne Zugabe von SiC-Whiskern
hergestellt wurde, in der gleichen Tabelle ebenfalls angegeben.
Wie aus der Tabelle I ersichtlich, hatte dann, wenn die
SiC-Whisker (2) mit einem kleinen Aspektverhältnis zuge
geben wurden, der resultierende Sinterkörper eine deutlich
verbesserte Festigkeit und Zähigkeit bzw. Härte. Die Zugabe
der SiC-Whisker (1) mit einem großen Aspektverhältnis führ
te zu einer Abnahme der Festigkeit.
Unter Verwendung von SiC-Whiskern mit einem durchschnittli
chen Aspektverhältnis von 60 in den in der folgenden Tabelle
II angegebenen Mengen wurden Sinterkörper unter den gleichen
Verfahrensbedingungen wie in Beispiel 1 beschrieben herge
stellt und es wurden ihre Härte, Zähigkeit und Festigkeit
bestimmt. Die Ergebnisse sind in der Tabelle II angegeben.
Die beiliegende Zeichnung zeigt die Hochtemperatur-Härte-
Eigenschaften des Sinterkörpers, der unter Zugabe von 30
Gew.-% SiC-Whiskern hergestellt wurde, im Vergleich zu denjenigen
eines von SiC-Whiskern freien Vergleichs-Sinterkörpers.
Wie aus der Tabelle II hervorgeht, wiesen die erfindungsgemäßen
Sinterkörper verbesserte mechanische Eigenschaften
auf. Insbesondere die Zugabe von 30 Gew.-% der SiC-Whisker
ist sehr wirksam in bezug auf die Verbesserung der Eigenschaften.
Aus der Zeichnung geht ferner hervor, daß die
mechanischen Eigenschaften bei hohen Temperaturen ebenfalls
verbessert sind.
Claims (4)
1. Hochfestes Si₃N₄-Verbundmaterial aus einem Sinterkörper
aus Si₃N₄ und SiC-Whiskern mit einem kleinen Aspektverhältnis,
dadurch gekennzeichnet, daß die
SiC-Whisker ein durchschnittliches Aspektverhältnis von 15
bis 100 haben und daß der Sinterkörper frei von einem Sinterhilfsmittel
ist.
2. Hochfestes Si₃N₄-Verbundmaterial nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß es die SiC-Whisker in einer Menge
von 5 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht von
Si₃N₄ und SiC-Whiskern, enthält.
3. Verfahren zur Herstellung eines hochfesten Si₃N₄-
Verbundmaterials nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß SiC-Whisker mit einem Aspektverhältnis von
15 bis 100 mit Si₃N₄-Pulver gemischt und die resultierende
Mischung dann durch isostatisches Warmpressen ohne
Verwendung eines Sinterhilfsmittels bei einer Temperatur
von 1800 bis 2000°C gesintert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die SiC-Whisker in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht von Si₃N₄ und SiC-Whiskern,
verwendet werden.
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