DE3786779T2

DE3786779T2 - Mit einem keramischen Träger versehene, nicht verdampfbare Gettervorrichtung und Herstellungsverfahren derselben.

Info

Publication number: DE3786779T2
Application number: DE87830452T
Authority: DE
Inventors: Claudio Boffito; Ettore Giorgi
Original assignee: SAES Getters SpA
Current assignee: SAES Getters SpA
Priority date: 1986-12-22
Filing date: 1987-12-21
Publication date: 1993-11-18
Anticipated expiration: 2007-12-22
Also published as: EP0275844A2; JPH0687402B2; DE3786779D1; IT1201540B; IT8622807A0; IN169971B; EP0275844B1; JPS63182283A; EP0275844A3

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine mit einem keramischen Träger versehene, nicht verdampfbare Gettervorrichtung und ein Herstellungsverfahren für eine derartige Vorrichtung.
Nicht verdampfbare Gettervorrichtungen sind bekannt. Sie bestehen üblicherweise aus einem Pulvermetall oder einer Legierung, die, wenn sie auf eine erhöhte Temperatur erhitzt werden, in die Masse einer Schutzschicht eindiffundieren, so daß die Oberfläche der Partikel in bezug auf eine große Zahl von Gasen reaktiv wird.
In diesen aktiven Zuständen sind sie in der Lage, einen hohen Unterdruck zu erzeugen oder aufrechtzuerhalten.
Üblicherweise wird das nicht verdampfbare Gettermaterial in einem Lager gehalten, in dem beispielsweise das Pulver in einen U-förmigen Metallringkanal gepreßt wird.
Eine andere Art Lager ist in der US-A-3 620 645 beschrieben. Hierbei wird das Gettermaterial mit der Oberfläche eines kontinuierlichen Metallstreifens durch Druckaufbringung verbunden. Die GB-A-2 157 486 beschreibt die elektrophoretische Abscheidung eines Gettermateriales auf eine große Vielzahl von Auflagen.
Eine hier kurz beschriebene spezielle Ausführungsform ist ein Draht, der vorher mit einem keramischen Isolationsmaterial, wie beispielsweise Aluminiumoxid, beschichtet wurde. Der mit Aluminiumoxid beschichtete Draht wird als eine Elektrode in einem elektrophoretischen Beschichtungsbad verwendet, in dem Partikel des Gettermateriales schweben. Das Gettermaterial wird elektrophoretisch auf den mit dem keramischen Material beschichteten Draht abgeschieden. Bedauerlicherweise hat die Verwendung einer derartigen Auflage diverse Nachteile. Als erstes muß die Aluminiumoxidschicht auf dem Draht sehr dünn sein, da es sonst äußerst schwierig ist, einen für die Abscheidung erforderlichen ausreichenden Stromfluß zu bewirken. Infolge des hohen elektrischen Widerstandes der Aluminiumoxidbeschichtung ist es ebenfalls äußerst schwierig, die Abscheidungsparameter zu steuern, was zu einer ungleichmäßigen Abscheidung führt. Eine weitere Schwierigkeit besteht darin, daß während eines nachfolgenden Sinterprozesses sich das elektrophoretisch abgeschiedene Gettermaterial von der keramischen Auflage löst, wodurch Flocken und unerwünschte lose Partikel erzeugt werden.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung zu schaffen, die eine keramische Unterlage besitzt, wobei das Gettermaterial während und nach eines Sinterprozesses fest an der Unterlage haften bleibt.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren für die Herstellung einer porösen nicht verdampfbaren Gettervorrichtung, die eine keramische Unterlage aufweist, zur Verfügung zu stellen, mit dem es möglich ist, die elektrophoretischen Abscheidungseigenschaften genau zu steuern.
Diese Aufgaben werden durch eine Gettervorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 und insbesondere der relevanten Unteransprüche 2 bis 7 sowie durch ein Verfahren gemäß Patentanspruch 8 und den möglicherweise relevanten abhängigen Ansprüchen 9 bis 10 gelöst.
Weitere Ziele, Vorteile und Eigenschaften der vorliegenden Erfindung sowie der entsprechenden Herstellverfahren werden für den Fachmann aus der nachfolgenden Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform, die in keiner Weise eine Beschränkung darstellt, in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen deutlich. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäß ausgebildeten Gettervorrichtung, bevor diese einem Sinterprozeß unterzogen wird;
Fig. 2 eine schematische Darstellung einer porösen nicht verdampfbaren Gettervorrichtung der vorliegenden Erfindung, nachdem diese einem Sinterprozeß unterzogen worden ist;
Fig. 3 einen Schnitt durch eine Gettervorrichtung des Standes der Technik, der das Ablösen des porösen nicht verdampfbaren Gettermateriales von einer keramischen Unterlage zeigt; und
Fig. 4 einen Schnitt durch eine poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung der vorliegenden Erfindung, der eine gute Haftung des nicht verdampfbaren Gettermateriales an der keramischen Unterlage zeigt.
Es wurde überraschenderweise festgestellt, daß dann, wenn eine metallische Schicht zwischen der keramischen Unterlage und dem elektrophoretisch abgeschiedenen nicht verdampfbaren Gettermaterial vorhanden ist, es nicht nur möglich ist, die Abscheidungseigenschaften des Gettermateriales genau zu steuern, sondern auch das poröse nicht verdampfbare Gettermaterial nach dem Sinterprozeß mit der keramischen Unterlage ohne jegliche Ablösung in festem Kontakt gehalten wird.
Um eine poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung der vorliegenden Erfindung herzustellen, wird eine keramische Unterlage mit einem dünnen elektrisch leitenden Film beschichtet. Die keramische Unterlage kann durch irgendein keramisches Material gebildet sein, das für einen Einsatz unter hohem Unterdruck geeignet ist, vorzugsweise Aluminiumoxid. Das Material kann irgendeine Form, Größe oder Dicke besitzen. Der dünne leitende Film kann aus irgendeinem leitenden Material, wie Zinnoxid oder anderen leitenden Oxiden, bestehen. Es wird jedoch bevorzugt, eine dünne Metallschicht, wie Aluminium oder Kupfer, zu verwenden. Das keramische Material kann über irgendein bekanntes Verfahren, wie beispielsweise Elektroplattieren oder durch Abscheidung im Vakuum, mit diesem dünnen Metallfilm beschichtet werden. Der dünne Metallfilm kann aus Ni, Cu, Ag, Mo oder Fe bestehen, wobei jedoch Aluminium bevorzugt wird. Seine Dicke beträgt vorzugsweise 0,1 um bis 5 um. Der dünne leitende Film wird dann zu einer Elektrode eines Elektroplattierungsbades gemacht. Auf diesen dünnen (vorzugsweise Aluminium) Film wird ein dickerer Metallfilm elektroplattiert, der eine Dicke von einigen um und vorzugsweise zwischen 5 um und 50 um besitzt. Der elektroplattierte Metallfilm kann aus irgendeinem Metall bestehen, das für den Einsatz unter hohem Unterdruck geeignet ist, wie beispielsweise Ti, Cr, Mo, Fe, Cu, Ag, Pt, Au, wobei jedoch Nickel bevorzugt wird.
Der dünne leitende Film und die dickere Metallschicht bilden eine elektrisch leitende Zwischenschicht, bei der es sich jedoch auch um eine einzige Metallschicht handeln kann.
Die elektroplattierte Unterlage wird mit einem Gemisch aus einem partikelförmigen nicht verdampfbaren Gettermaterial und einem Antisintermaterial beschichtet. Die elektrophoretische Beschichtung findet nach einem Verfahren statt, wie es beispielsweise in der GB-A-2 157 486 beschrieben ist.
Das spezielle nicht verdampfbare Gettermaterial ist irgendein Gettermaterial, das für die Sorption von aktiven Gasen bei Unterdruck geeignet ist. Es ist vorzugsweise aus der aus Titan, Zirkon und ihren Hydriden bestehenden Gruppe ausgewählt. Seine Partikelgröße sollte zwischen 20-60 um liegen. Vorzugsweise sollte es eine durchschnittliche Partikelgröße von 40 um besitzen.
Das Antisintermaterial ist partikelförmig und irgendein Material, das in der Lage ist, das Sintern des nicht verdampfbaren Gettermateriales zu behindern. Es ist vorzugsweise aus der Gruppe ausgewählt, die aus Graphit, feuerfesten Metallen und metallischen Getterlegierungen (vorzugsweise Legierungen auf der Basis von Zirkon) besteht. Wenn eine Legierung auf Zirkon-Basis als Antisintermaterial verwendet wird, dann wird sie vorzugsweise aus der Gruppe ausgewählt, die aus den folgenden Bestandteilen besteht:
A einer Legierung von Zirkon mit Aluminium, wobei Aluminium mit 5-30 Gew.% vorliegt;
B einer Legierung von Zirkon mit M&sub1; und M&sub2;, wobei M&sub1; aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Vanadium oder Niob besteht, und M&sub2; aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Eisen oder Nickel besteht;
C einer Legierung von Zr-V-Fe, deren Zusammensetzung in Gew.%, wenn sie in einem ternären Zusammensetzungsdiagramm in Gew.% Zr, Gew.% V und Gew.% Fe dargestellt ist, innerhalb eines Polygons liegt, das als Ecken die folgenden Punkte aufweist:
i) 75 % Zr - 20 % V - 5 % Fe
ii) 45 % Zr - 20 % V - 35 % Fe
iii) 45 % Zr - 50 % V - 5 % Fe.
Von besonderem Vorteil ist die Verwendung einer Legierung, die 70 % Zr, 24,6 % V und 5,4 % Fe enthält.
Das Antisintermaterial besitzt vorzugsweise eine Partikelgröße zwischen 20 und 60 um und eine durchschnittliche Partikelgröße von 40 um. Das Gewichtsverhältnis des partikelförmigen nicht verdampfbaren Gettermateriales zum partikelförmigen Antisintermaterial beträgt 1 : 4 bis 4 : 1. Nachdem die elektroplattierte keramische Unterlage bis zur gewünschten Dicke mit dem porösen nicht verdampfbaren Gettermaterial elektrophoretisch beschichtet worden ist, wird sie aus dem Beschichtungsbad genommen und mit einer geeigneten Flüssigkeit, wie beispielsweise Aceton, gespült, und dann getrocknet. Sie wird dann in einem Vakuumofen unter einem Druck, der vorzugsweise unter 10&supmin;&sup5; Torr (10&supmin;³ Pa) liegt, auf eine Temperatur zwischen etwa 350ºC und 450ºC erhitzt. Wenn ein Hydrid-Material als Gettermaterial verwendet wird, dann sollte diese Temperatur für eine ausreichende Zeit aufrechterhalten werden, um den gesamten Wasserstofffreizugeben. Die Gettervorrichtung wird dann auf eine höhere Temperatur, beispielsweise zwischen 900ºC und 1000ºC, erhitzt, um eine poröse, nicht verdampfbare Gettervorrichtung zu erzeugen, bei der die dickere Metallschicht in die keramische Unterlage und das elektrophoretisch beschichtete Gettergemisch diffundiert. Man läßt die Gettervorrichtung dann auf Raumtemperatur abkühlen, woraufhin sie aus dem Vakuumofen entfernt wird und fertig zum Gebrauch ist.
Der hier verwendete Begriff "Sintern" bezieht sich auf ein Verfahren zum Erhitzen von pulverisiertem Material auf eine Temperatur und über eine Zeitdauer, die ausreichend sind, um eine Massenübertragung zwischen benachbarten Partikeln ohne wesentliche Reduzierung des Flächenbereiches des pulverisierten Materiales sicherzustellen. Die Massenübertragung dient dazu, die Partikel aneinander zu binden und auf diese Weise die Festigkeit zu erhöhen und die Zahl der losen Partikel zu erniedrigen. Niedrigere Temperaturen erfordern längere Zeiten. Die Sintertemperatur eines Materiales ist diejenige Temperatur, bei der der vorstehend beschriebene Sinterprozeß in etwa einer Stunde stattfindet. Bei einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine Temperatur ausgewählt, die bei oder geringfügig über der Sintertemperatur des nicht verdampfbaren Gettermateriales und unter der Sintertemperatur des Antisintermateriales liegt.
Der hier verwendete Begriff "keramisch" bezeichnet irgendein Material, das bei der Betriebstemperatur nicht elektrisch leitend ist und umfaßt Glaskeramiken, Quarzglas, SiO&sub2;, feuerfeste Metalloxide im allgemeinen sowie Al&sub2;O&sub3; im speziellen.
Fig. 1 zeigt eine poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung 102, die ein keramisches Substrat 104 umfaßt. Eine der Flächen 106 des keramischen Substrates 104 ist mit einem dünnen Film 108 eines leitenden Materiales beschichtet. Auf dem Dünnfilm 108 aus dem leitenden Material ist eine dickere Metallschicht 110 galvanisch abgeschieden. Auf den dickeren Film 110 sind Partikel 112, 112' aus partikelförmigem nicht verdampfbaren Gettermaterial und Partikel 114, 114' aus Antisintermaterial elektrophoretisch abgeschieden.
Fig. 2 zeigt eine poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung 202, die der der Fig. 1 entspricht, mit der Ausnahme, daß sie nunmehr einem Sinterprozeß unterzogen worden ist. Die Gettervorrichtung 202 umfaßt ein keramisches Substrat 204, das Partikel des nicht verdampfbaren Gettermateriales 206, 206' und Partikel 208, 208' aus Antisintermaterial trägt. Infolge des Sinterprozesses sind die dünne und dicke leitende Schicht in die Keramik eindiffundiert, um eine Diffusionsschicht 210 zu erzeugen, und in die Getterund/oder Antisintermaterialpartikel eindiffundiert, um Diffusionszonen 212, 212' zu erzeugen. Wie vorstehend erläutert, können diese Diffusionszonen auch aus einer einzigen Metallschicht resultieren.

Beispiel 1

Dieses Vergleichsbeispiel wurde ausgeführt, um das Verhalten einer porösen nicht verdampfbaren Gettervorrichtung des Standes der Technik zu zeigen, die ein keramisches Substrat und eine poröse Schicht aus gesintertem Gettermaterial umfaßt. Ein Metalldraht wurde mit einer dünnen Schicht aus Aluminiumoxid versehen. Hierdurch wurde ein Rohr gebildet, das gemäß dem in der vorstehend erwähnten GB-A-2 157 486 beschriebenen Prozeß elektrophoretisch beschichtet wurde, wobei Gettermaterialpartikel aus Titanhydrid und Antisinterpartikel aus einer Zr-V-Fe-Legierung verwendet wurden, die beide eine Partikelgröße von etwa 40 um besaßen. Nach dem Sinterprozeß und der Abkühlung auf Raumtemperatur wurde ein metallurgisches Schnittprofil hergestellt, das in Fig. 3 gezeigt ist.
Um den elektrophoretischen Prozeß zu beginnen, war es erforderlich, eine Spannung von 50 V anzulegen. Um einen Stromfluß von 800 mA sicherzustellen, mußte die Spannung über eine Zeitdauer von etwa 5 sec rasch erhöht werden. Zu diesem Zeitpunkt begann die Entwicklung von H&sub2;-Gas, wodurch die abgeschiedene Getterschicht eine sehr rauhe unregelmäßige Erscheinungsform erhielt und Flecken aufwies, die überhaupt kein Gettermaterial besaßen. Die Abscheidung des Gettermateriales war unzureichend. Das Gettermaterial erfuhr eine unerwünschte Flockenbildung und erzeugte eine große Menge von unerwünschten losen Partikeln.
Fig. 3 zeigt das Querschnittsprofil 302, bei dem man das keramische Substrat 304 aus Aluminiumoxid erkennen kann. Das gesinterte nicht verdampfbare Gettermaterial 306, das Titan und Zr-V-Fe enthielt, war vom keramischen Substrat 304 durch einen Raum 308 getrennt, der ein Ablösen des Gettermateriales 306 vom keramischen Substrat 304 zeigte.

Beispiel 2

Dieses Beispiel wurde ausgeführt, um das Verhalten einer porösen nicht verdampfbaren Gettervorrichtung der vorliegenden Erfindung zu zeigen. Es wurde ein Aluminiumoxidrohr genommen, dessen Oberfläche in einer Vakuumabscheidungsvorrichtung mit Aluminium beschichtet wurde. Unter Verwendung des Aluminiumfilmes als Elektrode wurde eine dickere Ni- Schicht hierauf elektroplattiert. Die Ni-Schicht wurde dann als Elektrode in einem Bad für eine elektrophoretische Abscheidung verwendet, und zwar genauso wie in Beispiel 1. Das poröse nicht verdampfbare Gettermaterial umfaßte wiederum Ti-Hydrid und eine Zr-V-Fe-Legierung als Antisintermittel. Die Partikelgröße beider Komponenten betrug etwa 40 um. Nach dem Sintervorgang und der Abkühlung auf Raumtemperatur wurde ein Schnittprofil 402 der Gettervorrichtung hergestellt, das in Fig. 4 dargestellt ist. Es ist zu erkennen, daß das Aluminiumoxidsubstrat 404 und das Gettermaterial 406 deutlich entlang der Linie 408 aneinander haften. Man kann nicht erkennen, daß die Aluminium- und Nickelschicht in das Aluminiumoxid und das Gettermaterial eindiffundiert sind.
In diesem Fall fand die Abscheidung in einigen Sekunden bei einer angelegten Spannung von 15 V und einem Durchgang von 1 A statt. Es wurde keine H&sub2;-Bildung festgestellt, und die Abscheidung konnte 20 sec lang durchgeführt werden, so daß auf diese Weise eine ausreichende Menge an Gettermaterial mit glatter gleichmäßiger Oberflächenerscheinungsform hergestellt wurde.

Beispiel 3

Dieses Beispiel verdeutlicht diejenige Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei der die elektrisch leitende Zwischenschicht aus einem einzigen Metall besteht.
Es wurde das Verfahren nach Anspruch 2 wiederholt, mit der Ausnahme, daß das Aluminium durch Nickel ersetzt wurde, so daß die elektrisch leitende Zwischenschicht im wesentlichen vollständig aus Nickel bestand.
Obwohl die Erfindung vorstehend im Detail in bezug auf bestimmte bevorzugte Ausführungsformen und Anwendungsfälle beschrieben wurde, können Abweichungen und Änderungen innerhalb des Rahmens der Patentansprüche vorgenommen werden.

Claims

1. Poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung (102; 202) mit

I. einem keramischen Substrat (104; 204);

II. einer porösen gesinterten Gettermaterialschicht, die umfaßt:

A. ein partikelförmiges nicht verdampfbares Gettermaterial (112, 112'; 206, 206') und

B. ein partikelförmiges Antisintermaterial (114, 114'; 208, 208'), dadurch gekennzeichnet, daß sie des weiteren umfaßt:

III. eine elektrisch leitende Zwischenschicht (108, 110), die zumindest teilweise in das keramische Substrat und die poröse gesinterte Gettermaterialschicht eindiffundiert ist (210; 212, 212').

2. Gettervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das keramische Substrat (104; 204) Aluminiumoxid ist.

3. Gettervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das partikelförmige nicht verdampfbare Gettermaterial (112, 112'; 206, 206') aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Titan, Zirkon und ihren Hydriden besteht.

4. Gettervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das partikelförmige Sintermaterial (114, 114'; 208, 208') aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Graphit, hochschmelzenden Metallen und metallischen Getterlegierungen besteht.

5. Gettervorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Antisintermaterial eine Legierung auf Zirkonbasis ist.

6. Poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtung (102; 202) nach den Ansprüchen 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrisch leitende Zwischenschicht umfaßt:

A. einen Dünnfilm (108) aus Aluminium; und

B. eine dickere Schicht (110) aus Nickel, die zumindest teilweise in das Aluminiumsubstrat (104; 204) und die poröse gesinterte Gettermaterialschicht eindiffundiert ist.

7. Gettervorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung auf Zirkonbasis aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus folgendem besteht:

A. einer Legierung aus Zirkon mit Aluminium, wobei der Gewichtsprozentanteil von Aluminium 5-30 % beträgt;

B. einer Legierung aus Zirkon mit den Metallen M&sub1; und M&sub2;, wobei M&sub1; aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Vanadium und Niob besteht und M&sub2; aus der Gruppe ausgewählt ist, die Eisen und Nickel umfaßt; und

C. einer Legierung aus Zr-V-Fe, deren Zusammensetzung in Gew.%, wenn sie in einem ternären Zusammensetzungsdiagramm in Gew.% Zr, Gew.% V und Gew.% Fe eingetragen ist, innerhalb eines Polygons liegt, dessen Eckpunkte wie folgt definiert sind:

i) 75 % Zr - 20 % V - 5 % Fe,

ii) 45 % Zr - 20 % V - 35 % Fe,

iii) 45 % Zr - 50 % V - 5 % Fe.

8. Verfahren zum Herstellen einer porösen nicht verdampfbaren Gettervorrichtung, gekennzeichnet durch die folgenden Schritte:

I. Beschichten eines keramischen Substrates (104; 204) mit einem dünnen leitenden Film (108);

II. Elektroplattieren des dünnen leitenden Filmes (108) mit einer dickeren Metallschicht (110), um ein elektroplattiertes Substrat zu erzeugen;

III. elektrophoretisches Beschichten des elektroplattierten Substrates mit einem Gemisch aus:

A. einem partikelförmigen nicht verdampfbaren Gettermaterial (112, 112'; 206, 206'); und

B. einem partikelförmigen Antisintermaterial (114, 114'; 208, 208'), um ein beschichtetes Substrat herzustellen;

IV. Sintern des beschichteten Substrates bei Temperaturen über Raumtemperatur, um die poröse nicht verdampfbare Gettervorrichtunq zu erzeugen, wobei die dickere elektroplattierte Metallschicht (110) in das keramische Substrat (104; 204) und das elektrophoretisch beschichtete Gemisch diffundiert; und dann

V. Abkühlen der Gettervorrichtung auf Raumtemperatur.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß

A. das partikelförmige nicht verdampfbare Gettermaterial aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Titan, Zirkon und ihren Hydriden besteht; und

B. das partikelförmige Antisintermaterial aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus den folgenden Komponenten besteht:

a) einer Legierung aus Zirkon mit Aluminium, wobei der Gewichtsprozentanteil von Aluminium 5-30 % beträgt;

b) einer Legierung aus Zirkon mit den Metallen M&sub1; und M&sub2;, wobei M&sub1; aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Vanadium und Niob besteht, und M&sub2; aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Eisen und Nickel besteht; und

c) einer Legierung aus Zr-V-Fe, deren Zusammensetzung in Gewichtsprozent, wenn sie in einem ternären Zusammensetzungsdiagramm in Gew.% Zr, Gew.% V und Gew.% Fe eingetragen ist- innerhalb eines Polygons liegt, dessen Eckpunkte wie folgt definiert sind:

i) 75 % Zr - 20 % V - 5 % Fe,

ii) 45 % Zr - 20 % V - 35 % Fe,

iii) 45 % Zr - 50 % V - 5 % Fe.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß

A. das keramische Substrat Aluminiumoxid und der dünne leitende Film ein kontinuierlicher Film aus Aluminium mit einer Dicke zwischen 0,1 um und 5 um ist;

B. die dickere Metallschicht eine kontinuierliche Nickelschicht mit einer Dicke zwischen 5 um und 50 um ist;

C. das partikelförmige nicht verdampfbare Gettermaterial Titanhydrid mit einer Partikelgröße zwischen 20-60 um und einer durchschnittlichen Größe von 40 um ist; und

D. das partikelförmige Antisintermaterial eine Zr-V- Fe-Legierung ist, die eine Zusammensetzung mit 70 Gew.% Zr, 24,6 Gew.% V, 5,4 Gew.% Fe und eine Partikelgröße zwischen 20-60 um sowie eine durchschnittliche Partikelgröße von 40 um aufweist, wobei das Gewichtsverhältnis C:D der elektrophoretisch abgeschiedenen Schicht 1 : 4 bis 4 : 1 beträgt;

wobei das Verfahren die folgenden zusätzlichen Schritte aufweist:

I. Spülen des beschichteten Substrates mit Aceton; und dann

II. Trocknen des beschichteten Substrates; und dann

III. Halten des beschichteten Substrates unter einem geringeren Druck als 10&supmin;&sup5; Torr (10&supmin;³ Pa) bei einer Temperatur zwischen 350ºC und 450ºC über eine ausreichende Zeitdauer, um im wesentlichen den gesamten Wasserstoff vom Titanhydrid freizugeben und auf diese Weise metallisches Titan zu erhalten und ein beschichtetes Substrat zu erzeugen; wobei der nachfolgende Sinterschritt bei einer Temperatur zwischen 900ºC und 1000ºC durchgeführt wird.